JP3030282B2 - Air purification system - Google Patents

Air purification system

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JP3030282B2
JP3030282B2 JP10219086A JP21908698A JP3030282B2 JP 3030282 B2 JP3030282 B2 JP 3030282B2 JP 10219086 A JP10219086 A JP 10219086A JP 21908698 A JP21908698 A JP 21908698A JP 3030282 B2 JP3030282 B2 JP 3030282B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、クリ−ン
ルームや局所クリーントンネルなどの電子部品の製造工
場で用いられる局所清浄化用の空気清浄化方法と空気清
浄化装置に係り、特に、設備コスト、ランニングコスト
が安価で、しかも常時一定の清浄化度を維持することを
可能とした空気清浄化システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air cleaning method and an air cleaning apparatus for local cleaning used in a factory for manufacturing electronic components such as a clean room and a local clean tunnel. The present invention relates to an air cleaning system which has low cost and running cost and can always maintain a constant degree of cleaning.

【0002】[0002]

【従来の技術】空気中の微小、微量不純物を除去する装
置としてエアーワッシャ−方式の空気清浄化装置が知ら
れている(平成10年4月16日、17日開催、第16
回空気清浄とコンタミネーションコントロール大会、
(A−2)エアーワッシャーの無機成分除去性能の実態
調査、(A−3)エアーワッシャーによる大気中ケミカ
ル物質の除去(その2)除去効果におよぼす水質の影響
等)。
BACKGROUND OF THE INVENTION minute in the air, Eawasshi turbocharger as an apparatus for removal of trace impurities - air cleaning system of the system is known (1998 April 16, 17 days held, 16
Times air purification and contamination control competition,
(A-2) Investigation of the actual condition of the inorganic component removal performance of the air washer, (A-3) Removal of atmospheric chemical substances by the air washer (Part 2) Influence of water quality on the removal effect, etc.).

【0003】この方式による空気清浄化装置は、高濃度
のガス成分を除去する目的で一般に使用されている湿式
スクラバー方式に分類されるもので、湿式スクラバー方
式としては次のような装置が挙げられる。
[0003] The air purifying apparatus according to this method is classified into a wet scrubber method generally used for removing high-concentration gas components. The wet scrubber method includes the following apparatuses. .

【0004】モレタナ塔:塔内に堰や溢流部の多孔板を
数段取りつけ、排ガスと向流接触させる。 充填塔:表面積の大きい充墳物の表面に吸収液を流し、
ガスを低速で向流接触させる。 スプレー塔:空塔内に吸収流を噴霧し、ガスを低速度で
向流接触させる。 サイクロンスクラバー:吸収塔にガスをサイクロン流で
導入し、塔内で噴霧させる。 ベンチュジースクラバ−:ガスをベンチュリー部に高速
で流し、小量の水で併流混合する。 ジエットスクラバ−:ガスをスロット部にやや高速で流
し、大量の水で併流混合する。 流動式吸収塔:塔内に充填したプラスチック球が、流動
層をなし、流れと向流接触する。
[0004] Moretana tower: A plurality of perforated plates of weirs and overflow parts are installed in the tower and brought into countercurrent contact with exhaust gas. Packing tower: Absorbing liquid is poured on the surface of a packing material with a large surface area,
The gas is brought into countercurrent contact at a low speed. Spray tower: The absorption stream is sprayed into the empty tower, and the gas is brought into countercurrent contact at a low speed. Cyclone scrubber: The gas is introduced into the absorption tower in a cyclone stream and sprayed in the tower. Venturi scrubber: A gas is caused to flow through a venturi at a high speed and mixed with a small amount of water. Jet scrubber: A gas is flowed through the slot at a slightly higher speed, and mixed together with a large amount of water. Fluidized absorption tower: The plastic spheres filled in the tower form a fluidized bed and come into countercurrent contact with the stream.

【0005】上記した各種の方式のうち空気清浄化装置
として実用化しているのは、スプレ−塔方式とサイクロ
ンスクラバ−方式である。
[0005] Among the above-mentioned various systems, the spray tower system and the cyclone scrubber system have been put to practical use as air purifiers.

【0006】スプレー塔方式は、エア一ワッシャ−方式
に類似する方式であり、サイクロンスクラバー方式は、
例えば、特公平3−76993号公報、特公平3−76
994号公報、特開昭62−685105号公報、特開
平4−118068号公報、特開平10一113525
号公報等に開示された空気清浄化装置に類似するもので
ある。
The spray tower system is similar to the air-washer system, and the cyclone scrubber system is
For example, Japanese Patent Publication No. 3-76993, Japanese Patent Publication No. 3-76
994, JP-A-62-685105, JP-A-4-111868, JP-A-10-113525
This is similar to the air purifying device disclosed in Japanese Patent Application Publication No. JP-A-H07-209139.

【0007】また、エアーワッシャー方式の空気清浄化
装置において、エアーワッシャーに使用する水に超純水
を用いると空気中の不純物が効果的に除去可能なこと
も、特開平10−113525や、平成10年4月16
日、17日に開催された第16回空気清浄とコンタミネ
ーションコントロール大会の(A−2)エアーワッシャ
ーの無機成分除去性能の実態調査、(A−3)エアーワ
ッシャーによる大気中ケミカル物質の除去(その2)除
去効果におよぼす水質の影響、等で述べられており、公
知である。
Further, in an air washer type air purifying apparatus, it has been found that impurities in the air can be effectively removed by using ultrapure water as water used for the air washer. April 16, 2010
(A-2) Investigation of the actual condition of the inorganic component removal performance of the air washer at the 16th Air Purification and Contamination Control Competition held on the 17th and 17th, (A-3) Removal of atmospheric chemical substances by the air washer ( Part 2) Influence of water quality on the removal effect, etc., are known.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで前述した従来
の空気清浄化装置では、処理空気の清浄化度を一定に維
持管理する技術については、ほとんど検討されておら
ず、検討されていたとしても極めて不満足な状態にあ
る。
However, in the above-mentioned conventional air purifying apparatus, the technology for maintaining and controlling the degree of purification of the treated air at a constant level has been hardly studied. You are in an unsatisfied state.

【0009】例えば、インピンジャー法を用いて数時間
空気中の不純物を捕集液に捕集した後、市販のイオンク
ロマトグラフ等を用いた水質分析装置で不純物を分析す
る方法では、結果が出るまでに1〜2日以上費やしてし
まい、分析結果が空気中の基準を超える不純物の存在を
示しても対応が遅くなってしまう。
For example, in a method in which impurities in the air are collected in a collecting liquid for several hours using the impinger method and then analyzed by a commercially available water quality analyzer using an ion chromatograph or the like, a result is obtained. It takes more than one or two days before the analysis results indicate that the presence of impurities exceeding the standard in the air is delayed.

【0010】最近、拡散スクラバー法を用いたクリーン
ルームガスモニタ(横河電機株式会又はダイオニクス
株式会社)が市販されているが、これらのガスモニタも
分析管理に数十分の時間を要しており、データの信頼性
まで考慮すると対応に数時間を要してしまうという問題
がある。
[0010] Recently, a clean room gas monitor using a diffusion scrubber method (Yokogawa Electric stock company or Daionikusu Co., Ltd.) are commercially available, and it takes a few tenths of time to be analytical control these gas monitor, Considering the reliability of data, there is a problem that it takes several hours to respond.

【0011】空気清浄化装置の出口の処理空気のケミカ
ル物質の濃度を直接計測して空気の清浄化度を管理する
ことは望ましいことではあるが、このように公知の方法
では結果がわかるまでに時間がかかり過ぎ、対応が間に
合わなくなってしまうという問題があった。
Although it is desirable to control the degree of air purification by directly measuring the concentration of the chemical substance in the treated air at the outlet of the air purifying apparatus, it is difficult for the known method to obtain results. There was a problem that it took too much time to respond in time.

【0012】本発明者等は、かかる従来の問題を解消す
べく鋭意研究をすすめたところ、エアーワッシャー方式
の空気清浄化装置で処理された空気のケミカル物質濃度
と、エアーワッシャー方式の空気清浄化装置に用いられ
る噴射水中のケミカル物質濃度との間に良好な相関関係
があることを見出だした。すなわち、噴射水中のケミカ
ル物質を計測することにより処理空気中のケミカル物質
濃度を知ることができるのである。なお、本明細書にお
ける噴射水中のケミカル物質濃度は、噴射水中のTOC
成分を含む全蒸発残渣の濃度である。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the conventional problems, and found that the concentration of the chemical substance in the air processed by the air washer-type air purifying apparatus and the air washer-type air purifying method. It has been found that there is a good correlation between the chemical substance concentration in the injection water used in the apparatus. That is, the chemical substance concentration in the treated air can be known by measuring the chemical substance in the jet water. In this specification,
Of the chemical substance in the jet water is determined by the TOC in the jet water.
It is the concentration of the total evaporation residue including the components.

【0013】したがって、閉鎖空間の空気をエアーワッ
シャー方式の空気清浄化装置に循環させて清浄化する場
合に、該装置に用いられる超純水中のケミカル物質の濃
度を連続的に計測するとともに、この計測結果に基づい
て供給水中のケミカル物質を一定濃度に維持することに
より、処理された空気を直接計測し管理するのと同様の
結果を短時間で得られるのである。
Therefore, when the air in the enclosed space is circulated through an air washer-type air purifying apparatus to purify the air, the concentration of the chemical substance in the ultrapure water used in the apparatus is continuously measured, and By maintaining the chemical substance in the feed water at a constant concentration based on the measurement result, the same result as directly measuring and managing the treated air can be obtained in a short time.

【0014】本発明は、かかる知見に基づいてなされた
もので、設備コスト、ランニングコストが安価で、しか
も常時一定の高い清浄化度を維持することを可能とした
空気清浄化システムを提供することを目的とする。
The present invention has been made based on such knowledge, and provides an air purifying system which has a low facility cost and a running cost and can maintain a constant high degree of cleanliness at all times. With the goal.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の空気清浄化シス
テムの第1の実施形態は、エア−ワッシャ−方式の空気
清浄化装置と、前記空気清浄化装置の凝縮水をバッファ
タンクに回収し該バッファタンクから前記空気清浄化装
置にエアワッシャーの噴射水として供給する再循環給水
装置と、前記噴射水として供給される凝縮水の全蒸発残
渣を監視する全蒸発残渣監視装置と、前記バッファタン
クの凝縮水を取込み超純水となるまで不純物濃度を低減
させて再びバッファタンクに供給する水質純化装置と、
前記全蒸発残渣監視装置の出力信号により前記水質純化
装置からバッファタンクへ供給する超純水の量を制御す
る制御装置とを有することを特徴としている。また、本
発明の空気清浄化システムの第2の実施形態は、エア−
ワッシャ−方式の空気清浄化装置と、前記空気清浄化装
置の凝縮水をバッファタンクに回収し該バッファタンク
から前記空気清浄化装置にエアワッシャーの噴射水とし
て供給する再循環給水装置と、前記噴射水として供給さ
れる凝縮水の全蒸発残渣を監視する全蒸発残渣監視装置
と、前記噴射水として供給される凝縮水を超純水で稀釈
して不純物濃度を低減させる水質純化装置と、前記全蒸
発残渣監視装置の出力信号により前記水質純化装置にお
ける超純水による稀釈を制御する制御装置とを有するこ
とを特徴としている。
A first embodiment of the air cleaning system of the present invention is an air-washer type air cleaning system .
A purifier and a buffer for condensed water of the air purifier.
Collected in a tank, and from the buffer tank, the air cleaning device.
Recirculated water supplied to the unit as water injected by air washers
Device and the total evaporation residue of the condensed water supplied as the injection water
And the total evaporation residue渣監vision system for monitoring the residue, the buffer tank
Incorporates condensed water in the oil and reduces the impurity concentration until it becomes ultrapure water
A water purification device to supply the water to the buffer tank again,
Purification of the water quality by the output signal of the total evaporation residue monitoring device
Controls the amount of ultrapure water supplied from the device to the buffer tank
And a control device . Also book
A second embodiment of the air cleaning system of the invention is an air purifier.
A washer-type air cleaning device;
The condensed water in the buffer tank
From the air purifier to the water jet of the air washer
A recirculating water supply device for supplying
Monitoring system for monitoring the total evaporation residue of condensed water
And diluting the condensed water supplied as the injection water with ultrapure water.
Water purification device to reduce impurity concentration
An output signal from the residue generation monitoring device sends the water purification device
A control device for controlling dilution with ultrapure water
It is characterized by.

【0016】上記空気清浄化装置としては、例えば、隔
壁で囲まれた空気流路と、この空気流路内に配置された
水噴射ノズルと、この水噴射ノズルの下流に配設された
多数の衝立と、前記空気流路内に前記水噴射ノズルから
前記衝立側に向かう空気流を形成させて前記衝立の背面
側に減圧領域を形成させる送気ファンと、前記衝立の下
流側に配置された空気流中のミストを凝縮除去する冷却
手段とを有するものを使用することができるが、かなら
ずしもかかる装置に限定されるものではない。いわゆ
る、エアーワッシャー方式の空気清浄化装置であればい
かなるものでも使用可能である。
The air purifying device includes, for example, an air flow path surrounded by a partition, a water injection nozzle disposed in the air flow path, and a plurality of water injection nozzles disposed downstream of the water injection nozzle. A screen, an air supply fan that forms an air flow from the water injection nozzle toward the screen side in the air flow path to form a decompression region on the back side of the screen, and is disposed downstream of the screen. A device having a cooling means for condensing and removing mist in the air flow can be used, but is not necessarily limited to such a device. Any so-called air washer type air cleaning device can be used.

【0017】水噴射ノズルから空気流中に噴射される水
滴の粒子径は、例えば10〜100μmであり、減圧膨
張により分裂されたミストの粒子径は、例えば0.00
1〜0.1μmである。
The particle size of the water droplets injected into the air stream from the water injection nozzle is, for example, 10 to 100 μm, and the particle size of the mist split by expansion under reduced pressure is, for example, 0.00.
1 to 0.1 μm.

【0018】水噴射ノズルから空気流中に噴射された水
滴は主として慣性運動を主体とした動きにより空気中の
不純物を捕捉し、減圧膨張により分裂された超微細ミス
トはブラウン運動を主体とした動きにより空気中の不純
物を捕捉する。
The water droplets injected into the air stream from the water injection nozzles capture impurities in the air mainly by movement mainly due to inertial motion, and the ultrafine mist split by decompression expansion expands mainly into Brownian movement. Traps impurities in the air.

【0019】前記空気流の流速は5m/秒以上であるこ
とが望ましい。
It is desirable that the flow rate of the air flow be 5 m / sec or more.

【0020】水噴射ノズルから噴射される水滴の噴射量
(l)は空気量(m3 )に対して0.5〜0.7 l/
3 の範囲にあることが望ましく、水滴の噴射圧は0.
5〜1.5kg/cm2 Gであることが望ましい。
The injection amount (l) of the water droplet injected from the water injection nozzle is 0.5 to 0.7 l / l with respect to the air amount (m 3 ).
m 3 is desirable, and the jet pressure of the water droplet is 0.1 m 3 .
Desirably, the pressure is 5 to 1.5 kg / cm 2 G.

【0021】この空気清浄化装置のエアワッシャーの噴
射水には、この空気清浄化装置の凝縮水をバッファタン
クに収容し、これを供給する再循環給水装置を用いて給
水することが好ましい。
It is preferable that the condensed water of the air cleaning device is stored in a buffer tank and the recirculated water supply device supplies the condensed water of the air washer of the air cleaning device.

【0022】また、本発明に使用する水質純化装置とし
ては、次のようなものが例示される。
The following is an example of the water purification apparatus used in the present invention.

【0023】(a)バッファタンクに収容された水を取出
して水中に溶解する有機物、イオン性物質及び微小固体
物質を除去して再び前記バッファタンクに戻す超純水供
給ライン。
(A) An ultrapure water supply line for taking out water contained in the buffer tank, removing organic substances, ionic substances and fine solid substances dissolved in the water and returning the same to the buffer tank again.

【0024】(b)バッファタンクの水の一部を廃棄して
該バッファタンクに超純水を供給する超純水供給ライ
ン。
(B) An ultrapure water supply line for disposing a part of the water in the buffer tank and supplying ultrapure water to the buffer tank.

【0025】(c)それぞれバルブを備えた入口管、出口
管及び排水管を有する複数のサブバッファタンクと、各
サブバッファタンクの入口管を並列に連結して前記バッ
ファタンクの出口管に接続する第1の連通管と、各サブ
バッファタンクの出口管を並列に連結して前記空気清浄
化装置のエア−ワッシャ−の水噴霧ノズルの給水管に接
続する第2の連通管と、前記第1又は第2の連通管に設
けた循環ポンプと、前記各バルブを操作する制御装置
、前記各サブバッファタンクに超純水を供給する超純
水供給管とを備えた装置。
(C) Inlet pipe and outlet each equipped with a valve
A plurality of sub-buffer tanks having pipes and drain pipes, a first communication pipe connecting the inlet pipes of each sub-buffer tank in parallel and connecting to the outlet pipe of the buffer tank, and an outlet pipe of each sub-buffer tank. A second communication pipe connected in parallel and connected to a water supply pipe of a water spray nozzle of an air washer of the air cleaning device; a circulation pump provided in the first or second communication pipe; A control device for operating a valve, and an ultrapure water for supplying ultrapure water to each of the sub-buffer tanks
An apparatus provided with a water supply pipe .

【0026】また、凝縮水の全蒸発残渣を監視する全蒸
発残渣監視装置としては全蒸発残渣計が用いられるがT
OC計を併用することもできる。
In addition, a total steam for monitoring all evaporation residues of the condensed water.
Is a Hatsuzan渣監vision equipment Full evaporation residue渣計is used but T
An OC meter can be used together.

【0027】なお、エアーワッシャー方式では空気中の
炭酸ガスの溶解によって、凝縮水の導電率が、0.8〜
1.0μS/cm2 まで低下してしまうので、空気中の
ケミカル物質濃度を0.1〜数μg/m3 で制御する
発明では導電率計のみで水質管理することはできない。
It should be noted, by the dissolution of carbon dioxide in the air in d ah washer system, the conductivity of the condensed water, 0.8
Since decreases until 1.0μS / cm 2, the controlling the chemical substance concentration in air at 0.1 to several [mu] g / m 3
In the invention, the water quality cannot be controlled only by the conductivity meter.

【0028】[0028]

【作用】空気流に対して向流で噴射ノズルから噴射され
た水滴は微細なミストとなり噴射の際の慣性運動によっ
て空気中の塵埃やガス状のケミカル物質を捕捉してミス
ト中に取り込む。粗大な水滴やミストの大部分のものは
ミストトラップ4bで凝縮されて捕捉したケミカル物質
とともにバッファタンク7中に流下するが、ミストトラ
ップ4bに捕捉されなかった一部のミストと100%R
H空気中の水蒸気はエリミネーター5で凝縮されて除湿
される。
The water droplets jetted from the jet nozzle in countercurrent to the air flow become fine mist and capture dust and gaseous chemical substances in the air and take them into the mist by inertial motion at the time of jetting. Most of the coarse water droplets and mist are condensed in the mist trap 4b and flow down into the buffer tank 7 together with the trapped chemical substance, but some mist not trapped in the mist trap 4b and 100% R
The water vapor in the H air is condensed by the eliminator 5 and dehumidified.

【0029】このとき100%RH中に含まれていたケ
ミカル物質は、ミストトラップ4bで凝縮しないので除
湿された空気とともに空気ダクト2の出口から送りださ
れる。
At this time, the chemical substance contained in the 100% RH is not condensed in the mist trap 4b and is sent out from the outlet of the air duct 2 together with the dehumidified air.

【0030】超純水と空気が両方存在する閉鎖系におい
ては、ケミカル物質は、超純水と空気中での存在量が液
ガス比や温度等の条件に応じた所定の分配率になろうと
する。
In a closed system in which both ultrapure water and air are present, the amount of the chemical substance in the ultrapure water and air tends to reach a predetermined distribution ratio according to the conditions such as the liquid-gas ratio and the temperature. I do.

【0031】すなわち、噴霧したミスト中のケミカル物
質濃度が、空気中のケミカル物質濃度に比べて、バラン
ス的に非常に少ない場合、イオン成分や水溶性の有機成
分などは溶解によってミスト中に溶け込み、難水溶性の
有機成分は、ヘンリーの法則によって空気中のガス分圧
に比例した濃度まで溶け込もうとする。
That is, when the concentration of the chemical substance in the sprayed mist is very low in balance compared to the concentration of the chemical substance in the air, the ionic components and the water-soluble organic components are dissolved into the mist by dissolution. Poorly water-soluble organic components try to dissolve to a concentration proportional to the gas partial pressure in the air according to Henry's law.

【0032】このようにして、ミスト中のケミカル物質
濃度が、空気中の濃度とバランスしたところが、その閉
鎖系におけるその条件下での空気中のケミカル物質の最
終濃度ということになる。
Thus, the point at which the concentration of the chemical substance in the mist balances the concentration in the air is the final concentration of the chemical substance in the air under the conditions in the closed system.

【0033】したがって、例えばエアーワッシャー処理
前の空気中のケミカル物質濃度が高い場合に噴射水中の
ケミカル物質濃度を低く制御し、エアーワッシャー処理
前の空気中のケミカル物質の濃度が低い場合には噴射水
中のケミカル物質濃度を高く制御することにより、処理
空気中のケミカル物質濃度を一定濃度に制御できるので
ある。
Therefore, for example, when the concentration of the chemical substance in the air before the air washer treatment is high, the concentration of the chemical substance in the jet water is controlled to be low, and when the concentration of the chemical substance in the air before the air washer treatment is low, the injection is performed. By controlling the concentration of the chemical substance in the water high, the concentration of the chemical substance in the treated air can be controlled to a constant concentration.

【0034】エアーワッシャー方式の空調システムの場
合には、バッファータンク内のケミカル物質不純物濃度
が空気中のケミカル物質の処理能力に反映することにな
り、この濃度を計測して水質純化装置の運転を制御する
ことにより、空気ダクト2出口の不純物濃度を一定レベ
ル以下に維持することができる。
In the case of an air-washer type air conditioning system, the concentration of chemical substance impurities in the buffer tank is reflected on the processing capacity of the chemical substance in the air, and this concentration is measured to operate the water purification apparatus. By controlling, the impurity concentration at the outlet of the air duct 2 can be maintained at a certain level or less.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

【0036】[0036]

【実施例1】図1は、本発明の空気清浄化システムの一
実施例を概略的に示す図である。
Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram schematically showing an embodiment of an air cleaning system of the present invention.

【0037】同図において、符号1は、エア−ワッシャ
−方式の空気清浄化装置である。
In the figure, reference numeral 1 denotes an air-washer type air cleaning device.

【0038】この空気清浄化装置1の空気ダクト2の例
えばクリーンルームに連結した空気取入口近傍には除塵
のためのプレフィルタ3が装着され、その下流にエアワ
ッシャ−4が配置されている。エアワッシャ−4は、噴
射ノズル4aを多数の噴射口を上流側に向けて配置する
とともに、この噴射ノズル4aの噴射口に対向してミス
ト衝突板からなるミストトラップ4bを配置して構成さ
れている。エアワッシャ−4は、噴射ノズル4aから多
数の噴射口を上流側に向けて配置するとともに、この噴
射ノズル4aの噴射口に対向してミスト衝突板からなる
ミストトラップ4bを配置して構成されている。
[0038] This is near the entrance air intake which is connected to, for example, a clean room air duct 2 of the air cleaning apparatus 1 is pre-filter 3 for dust removal is mounted, the Eawa <br/> Tsu sheet catcher -4 downstream Are located. Eawasshi catcher -4 jet nozzle 4a with placing a large number of injection ports toward the upstream side, opposite to the injection port of the injection nozzle 4a is constructed by arranging a mist trap 4b made mist impingement plate I have. Eawasshi catcher -4 with placing the injection nozzle 4a or al multi <br/> number of injection ports toward the upstream side, a mist trap 4b made opposite to mist impingement plate to the injection port of the injection nozzle 4a It is arranged and configured.

【0039】エアワッシャ−4の下流には、100%R
Hの空気を冷却して除湿するエリミネータ5が設置さ
れ、さらにその下流の出口近傍には、空気ダクト2内に
5m/秒以上の空気流を生じさせる送気ファン6が設置
されている。
[0039] Downstream of Eawasshi catcher -4, 100% R
An eliminator 5 that cools and dehumidifies the H air is installed, and an air supply fan 6 that generates an air flow of 5 m / sec or more in the air duct 2 is installed near the downstream outlet.

【0040】エアワッシャ4とエリミネータ5の下方に
は、凝縮水を受けるバッファタンク7が設置されてい
る。
Below the air washer 4 and the eliminator 5, a buffer tank 7 for receiving condensed water is provided.

【0041】バッファタンク7には、バッファタンク7
内の凝縮水を循環しつつ清浄化する超純水供給ライン8
と、エア−ワッシャ−4の水噴霧ノズル4aの給水管9
に噴射水を供給する噴射水給水ライン10が設けられて
いる。
The buffer tank 7 has a buffer tank 7
Ultrapure water supply line 8 for circulating and purifying condensed water inside
And the water supply pipe 9 of the water spray nozzle 4a of the air-washer-4
An injection water supply line 10 for supplying injection water is provided.

【0042】超純水供給ライン8は、ポンプ11、流量
制御バルブ12、この流量制御バルブの開度を制御する
制御装置13、紫外線照射装置14、イオン交換樹脂ボ
ンベ15、フィルタ16及び制御装置を除くこれらの構
成機器を連結する配管17から構成されている。
The ultrapure water supply line 8 includes a pump 11, a flow control valve 12, a control device 13 for controlling the opening of the flow control valve, an ultraviolet irradiation device 14, an ion exchange resin cylinder 15, a filter 16, and a control device. It is composed of a pipe 17 for connecting these components except for the components.

【0043】また、噴射水給水ライン10は、ポンプ1
8、冷却器19及びこれらを連結するとともに給水管9
に連結する配管20から構成されている。
The injection water supply line 10 is connected to the pump 1
8, the cooler 19 and the water pipe 9
, And a pipe 20 connected thereto.

【0044】また、冷却器19と噴射ノズル4aとの間
の配管20から計測用サンプリング配管21が分岐して
計測装置22にサンプリングされた試料水を供給するよ
うになっている。
A sampling pipe 21 for measurement branches off from a pipe 20 between the cooler 19 and the injection nozzle 4a to supply sampled sample water to a measuring device 22.

【0045】計測装置22は、イオンクロマトグラフ、
TOC計及び蒸発残渣計を有しており、試料水の水
質、特に全蒸発残渣計によりケミカル物質濃度を迅速に
測定して、信号ケーブル22aを介して測定データを制
御装置13に供給するように構成されている。制御装置
13は、この測定データに応じて、ケミカル物質濃度が
高いときは流量制御バルブ12の開度を大きくし、ケミ
カル物質濃度が低いときは開度を小さくする制御を行う
構成とされている。
The measuring device 22 includes an ion chromatograph,
Has a TOC meter and the total evaporation residue meter, the water quality of the water sample, and rapidly measure the chemical substance concentration in particular all evaporation residue渣計, to supply measurement data to the control unit 13 via the signal cable 22a Is configured. The controller 13 is configured to perform control to increase the opening of the flow control valve 12 when the chemical substance concentration is high and to decrease the opening when the chemical substance concentration is low, according to the measurement data. .

【0046】次にこの実施例の装置の動作について説明
する。
Next, the operation of the apparatus of this embodiment will be described.

【0047】まず、バッファタンク7に超純水を満た
し、ポンプ11,18を駆動させて超純水供給ライン8
と噴射水給水ライン10とを運転しながら送気ファン6
を駆動させると空気ダクト1内に空気流が形成されると
ともに噴射ノズル4aから超純水が噴射される。噴射さ
れた水滴は向流により微細化されてミストMとなり、こ
の状態で塵埃やガス状のケミカル物質を取り込む。粒子
径の大きいミストはミストトラップ4bに当って凝縮し
流下してバッファタンク7中に入り、微小なミストと1
00%RHとなった空気が空気流に運ばれてエリミネー
ター5と接触して凝縮してバッファタンク7中に流下す
る。
First, the buffer tank 7 is filled with ultrapure water, and the pumps 11 and 18 are driven to drive the ultrapure water supply line 8.
While operating the water supply line 10 and the injection water supply line 10.
Is driven, an air flow is formed in the air duct 1 and ultrapure water is injected from the injection nozzle 4a. The jetted water droplets are miniaturized by countercurrent to become mist M, and in this state, take in dust and gaseous chemical substances. The mist having a large particle diameter strikes the mist trap 4b and condenses and flows down into the buffer tank 7, where the fine mist and 1
The air that has become 00% RH is carried by the air stream, comes into contact with the eliminator 5, condenses, and flows down into the buffer tank 7.

【0048】そして、ミストMによって捕捉されなかっ
た100%RHの空気中のガス状のケミカル物質はエリ
ミネーター5によっても凝縮されないので空気ダクト2
の出口から放出される。
The gaseous chemical substance in the 100% RH air which is not captured by the mist M is not condensed by the eliminator 5, so that the air duct 2
Is discharged from the outlet.

【0049】ミストに取られたケミカル物質濃度と空気
中に残留したケミカル物質濃度はほぼ一定の比率となっ
て、空気ダクト2から放出されるケミカル物質の濃度は
噴射水中のケミカル物質濃度に相関するから、計測装置
22による信号を制御装置13に供給し、この制御装置
13により計測値が一定レベル以下となるよう流量制御
バルブ12の開度を制御して供給水の水質を一定以上に
保持するようにすることにより、空気ダクト2出口の空
気の清浄度も一定の基準以上に清浄に維持することがで
きる。
The concentration of the chemical substance taken by the mist and the concentration of the chemical substance remaining in the air have a substantially constant ratio, and the concentration of the chemical substance discharged from the air duct 2 is correlated with the concentration of the chemical substance in the jet water. From the above, the signal from the measuring device 22 is supplied to the control device 13, and the control device 13 controls the opening degree of the flow control valve 12 so that the measured value is equal to or less than a certain level, and maintains the quality of the supply water at a certain level or more By doing so, the cleanliness of the air at the outlet of the air duct 2 can be maintained at a level higher than a certain standard.

【0050】(実験例)図1に示した空気清浄化装置を
用いて次の条件で実験を行った。
(Experimental Example) An experiment was conducted using the air purifying apparatus shown in FIG. 1 under the following conditions.

【0051】 空気清浄化装置の処理能力・・・・・・・・50CMM 液ガス比・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・2 噴射水量・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・6m3 /h 噴射水容量・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・約1m3 超純水システム処理能力・・・・・・・・・・1m3 /h 超純水システム供給水質・・・・・・・・・・比抵抗18MΩ・cm ケミカル物質 ≦1μg/l (NH4 + 、SO4 2-、NO3 - 、NO2 - ) 計測装置22と制御装置13をシステムに含まない状態
で、超純水システムを運転した場合と超純水システムを
運転しなかった場合の比較実験を行った。
[0051] Processing capacity of air purifier ... 50 CMM liquid-gas ratio ... 2 injection water volume・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 6m 3 / h Spray water capacity ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・・ ・ About 1m 3 Ultrapure water system processing capacity ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1m 3 / h Ultrapure water system supply water quality ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Specific resistance 18MΩ ・ cm Chemical substance ≦ 1μg / L (NH 4 + , SO 4 2− , NO 3 , NO 2 ) When the ultrapure water system is operated with the measuring device 22 and the control device 13 not included in the system, and the ultrapure water system is operated. A comparative experiment was carried out in the case where no test was performed.

【0052】空気清浄化装置の運転を6時間継続してケ
ミカル物質の空気中濃度と噴射水の濃度を測定した。
The operation of the air purifier was continued for 6 hours, and the concentration of the chemical substance in the air and the concentration of the injection water were measured.

【0053】空気中のケミカル物質の評価は、インピン
ジャ−法を用いて、運転時間と同時間超純水に処理空気
を捕集して、捕集液を分析することによって行った。
Evaluation of chemical substances in the air was carried out by collecting treated air in ultrapure water for the same time as the operation time by using the impinger method, and analyzing the collected liquid.

【0054】噴射水の水質は、初期の水質と6時間経過
後の水質を分析することによって評価した。なお、分析
物質は、NH4 + とし、分析には、イオンクロマトグラ
フを使用した。
The water quality of the injection water was evaluated by analyzing the initial water quality and the water quality after 6 hours. The analytical substance was NH 4 +, and an ion chromatograph was used for the analysis.

【0055】結果を表1に示す。Table 1 shows the results.

【0056】[0056]

【表1】 表1の結果から、水質と処理空気のケミカル物質の濃度
に、相関性があることがわかる。
[Table 1] From the results in Table 1, it can be seen that there is a correlation between the water quality and the concentration of the chemical substance in the treated air.

【0057】次に、短時間で空気中の不純物濃度を計測
するために特願平7−310604号記載のクリーンル
ーム内不純物監視装置(約20分に1回の計測が可能)
を用い、また短時間で供給水中のケミカル物質を計測す
るために特公平6−63961号公報記載の全蒸発残渣
計(連続計測が可能)を用いて制御装置13と計測装置
22を稼動させて同様の実験を行った。
Next, in order to measure the impurity concentration in the air in a short time, an impurity monitoring device in a clean room described in Japanese Patent Application No. 7-310604 (measurement can be performed once every about 20 minutes)
And the control device 13 and the measuring device 22 are operated by using the total evaporation residue meter (continuous measurement is possible) described in Japanese Patent Publication No. 6-39661 to measure the chemical substance in the feed water in a short time. A similar experiment was performed.

【0058】結果を表2に示す。Table 2 shows the results.

【0059】[0059]

【表2】 表1、表2の結果から、超純水中のケミカル物質濃度
と、処理空気のケミカル物質濃度に強い相関関係のある
こと、および本実施例の装置により処理空気のケミカル
物質の濃度を制御できることがわかる。
[Table 2] From the results in Tables 1 and 2, there is a strong correlation between the concentration of the chemical substance in the ultrapure water and the concentration of the chemical substance in the processing air, and the control of the concentration of the chemical substance in the processing air by the apparatus of this embodiment. I understand.

【0060】[0060]

【実施例2】図2は、本発明の空気清浄化システムの他
の実施例を概略的に示す図である。なお、以下の図にお
いて実施例と共通する部分には同一符号を付して重複
する説明を省略する。
Embodiment 2 FIG. 2 schematically shows another embodiment of the air cleaning system of the present invention. In the following drawings, portions common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0061】この実施例の空気清浄化システムは、補給
水供給ライン23から超純水をバッファタンク7に補給
し、過剰となった水はオーバーフローライン24から放
水して水質をたかめるようにしたものである。したがっ
て、この実施例の補給水供給ライン23は、他の超純水
製造ラインのユースポイントなどと接続される。
In the air cleaning system of this embodiment, ultrapure water is supplied to the buffer tank 7 from the makeup water supply line 23, and excess water is discharged from the overflow line 24 to enhance the water quality. It is. Therefore, the makeup water supply line 23 of this embodiment is connected to a use point of another ultrapure water production line.

【0062】この実施例では、実施例1における超純水
供給ライン8が省略されるので設備コスト、スペースの
効率が改善される。
In this embodiment, since the ultrapure water supply line 8 in the first embodiment is omitted, equipment cost and space efficiency are improved.

【0063】[0063]

【実施例3】図3は、本発明の空気清浄化システムのさ
らに他の実施例を概略的に示す図である。
Third Embodiment FIG. 3 is a view schematically showing still another embodiment of the air cleaning system of the present invention.

【0064】この実施例の空気清浄化装置では、それぞ
れバルブを備えた入口管25、出口管26および排水管
27を有する2個のサブバッファタンク28、29
と、各サブバッファタンク28、29の入口管25を並
列に連結してバッファタンク7の出口管に接続する連
通管30と、各サブバッファタンク28、29の出口
管26を並列に連結して空気清浄化装置1のエア−ワッ
シャ−4の水噴霧ノズル4aの給水管に接続する連通管
31と、連通管30、31に設けた循環ポンプ32と、
計測装置22の出力により入口管25、出口管26およ
び排水管27の各バルブ33a、33b、33c、34
a、34b、34cを操作する制御装置13とを備えて
いる。
[0064] In the air cleaning apparatus of this embodiment, the inlet pipe 25 with a valve respectively, the two sub-buffers over tank 29 with an outlet pipe 26 and drain pipe 27
When, a communicating tube 30 connected to the outlet pipe of the buffer over the tank 7 the inlet pipe 25 and connected in parallel in each sub-buffer tanks 28 and 29, connecting the outlet tube 26 of each sub-buffer over tank 28, 29 in parallel A communication pipe 31 connected to a water supply pipe of a water spray nozzle 4 a of an air-washer 4 of the air cleaning device 1; a circulation pump 32 provided in the communication pipes 30, 31;
The valves 33a, 33b, 33c, 34 of the inlet pipe 25, the outlet pipe 26, and the drain pipe 27 are output by the output of the measuring device 22.
a, 34b, and 34c.

【0065】この装置では、通常運転時にはバルブ33
cおよび34a、34b、34cは閉とされ、バルブ3
3a、33bのみが開とされており、運転を停止して排
水するときにはバルブ33a、33bが閉とされ、33
cが開とされる。また、給水と待機時にはバルブ33
a、33b、33cのいずれも閉とされる。
In this device, during normal operation, the valve 33
c and 34a, 34b, 34c are closed and valve 3
Only the valves 3a and 33b are open, and when the operation is stopped and the drainage is performed, the valves 33a and 33b are closed and the valves 33a and 33b are closed.
c is opened. In addition, during water supply and standby, the valve 33
a, 33b, and 33c are all closed.

【0066】そして、水質が劣化すると、バルブ33
a、33bとともにバルブ34a、34bも開とされて
水質の清浄化能力が高められる。また、バルブ33a、
33b、33cの側に故障があるとこれらのバルブが閉
鎖されてバルブ33a、33bのみが開とされる。
When the water quality deteriorates, the valve 33
The valves 34a and 34b are opened together with the valves 33a and 33b to enhance the water purification ability. Also, the valve 33a,
If there is a failure on the side of 33b, 33c, these valves are closed and only the valves 33a, 33b are opened.

【0067】このように、この実施例によると、バルブ
の切替えにより多様な事態に対応することが可能であ
る。
As described above, according to this embodiment, it is possible to cope with various situations by switching the valve.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の空気清浄化システムの一実施例を概略
的に示す図である。
FIG. 1 is a view schematically showing an embodiment of an air cleaning system of the present invention.

【図2】本発明の空気清浄化システムの他の実施例を概
略的に示す図である。
FIG. 2 is a view schematically showing another embodiment of the air cleaning system of the present invention.

【図3】本発明の空気清浄化システムのさらに他の実施
例を概略的に示す図である。
FIG. 3 is a view schematically showing still another embodiment of the air cleaning system of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……空気清浄化装置、2……空気ダクト、3……プレ
フィルタ、4……エアワッシャ、4a……噴射ノズル、
4b……ミストトラップ、5……エリミネータ、6……
送気ファン、7……バッファタンク、8……超純水供給
ライン、9……給水管、10……噴射水給水ライン、1
1……ポンプ、12……流量制御バルブ、13……制御
装置、14……紫外線照射装置、15……イオン交換樹
脂ボンベ、16……フィルタ、17,20……配管、1
8……ポンプ、19……冷却器、21……計測用サンプ
リング配管、22……計測装置、23……補給水供給ラ
イン、24……オーバーフローライン、25……入口管
25、26……出口管、27……排水管、28,29…
…サブバッファタンク、30,31……連通管、32…
…循環ポンプ、33a、33b、33c、34a、34
b、34c……バルブ。
1 ... air cleaning device, 2 ... air duct, 3 ... pre-filter, 4 ... air washer, 4a ... injection nozzle,
4b: mist trap, 5: eliminator, 6 ...
Air supply fan, 7: Buffer tank, 8: Ultrapure water supply line, 9: Water supply pipe, 10: Injection water supply line, 1
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pump, 12 ... Flow control valve, 13 ... Control device, 14 ... Ultraviolet irradiation device, 15 ... Ion exchange resin cylinder, 16 ... Filter, 17, 20 ... Piping, 1
8 pump, 19 cooler, 21 sampling pipe for measurement, 22 measuring device, 23 supply water supply line, 24 overflow line, 25 inlet pipes 25, 26 outlet Pipe, 27 ... Drain pipe, 28, 29 ...
… Sub-buffer tank, 30, 31 …… Communication pipe, 32…
... circulation pumps, 33a, 33b, 33c, 34a, 34
b, 34c ... valve.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/14 - 53/18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B01D 53/14-53/18

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 エア−ワッシャ−方式の空気清浄化装置
と、 前記空気清浄化装置の凝縮水をバッファタンクに回収し
該バッファタンクから前記空気清浄化装置にエアワッシ
ャーの噴射水として供給する再循環給水装置と、 前記噴射水として供給される凝縮水の全蒸発残渣を監視
する全蒸発残渣監視装置と、 前記バッファタンクの凝縮水を取込み超純水となるまで
不純物濃度を低減させて再びバッファタンクに供給する
水質純化装置と、 前記全蒸発残渣監視装置の出力信号により前記水質純化
装置からバッファタンクへ供給する超純水の量を制御す
る制御装置 とを有することを特徴とする 空気清浄化シス
テム。
1. An air-washer type air cleaning device.
And collecting the condensed water of the air purifying device into a buffer tank.
An air washer from the buffer tank to the air purifier
A recirculating water supply device for supplying water as injection water for the condenser, and monitoring of all evaporation residues of condensed water supplied as the injection water
Total evaporation residue monitoring device that takes up condensed water in the buffer tank until it becomes ultrapure water
Reduce the impurity concentration and supply to the buffer tank again
Water purification by means of a water purification device and an output signal of the total evaporation residue monitoring device.
Controls the amount of ultrapure water supplied from the device to the buffer tank
Air cleaning system; and a that controller.
【請求項2】 エア−ワッシャ−方式の空気清浄化装置
と、 前記空気清浄化装置の凝縮水をバッファタンクに回収し
該バッファタンクから前記空気清浄化装置にエアワッシ
ャーの噴射水として供給する再循環給水装置と、 前記噴射水として供給される凝縮水の全蒸発残渣を監視
する全蒸発残渣監視装置と、 前記噴射水として供給される凝縮水を超純水で稀釈して
不純物濃度を低減させる水質純化装置と、 前記全蒸発残渣監視装置の出力信号により前記水質純化
装置における超純水による稀釈を制御する制御装置とを
有することを特徴とする空気清浄化システム。
2. An air-washer-type air cleaning device, and a condensed water of the air cleaning device is collected in a buffer tank and supplied from the buffer tank to the air cleaning device as injection water of an air washer. a circulation water supply unit, and the total evaporation residue monitoring apparatus for monitoring all the evaporation residue of the condensed water supplied as the injection water, diluted with <br/> impurities condensed water supplied by the ultra-pure water as the water jet air cleaning system comprising: the water purifier to reduce the concentration, and a control device for controlling the dilution with ultrapure water in the water purifier by the output signal of the total evaporation residue monitoring device.
【請求項3】 前記水質純化装置が、前記バッファタン
クの水の一部を排出して該バッファタンクに超純水を供
給する超純水供給ラインであることを特徴とする請求項
2記載の空気清浄化システム。
3. The ultrapure water supply line according to claim 2, wherein the water purification device is an ultrapure water supply line that discharges part of the water in the buffer tank and supplies ultrapure water to the buffer tank. Air purification system.
【請求項4】 前記水質純化装置が、それぞれバルブを
備えた入口管、出口 管及び排水管を有する複数のサブバ
ッファタンクと、各サブバッファタンクの入口管を並列
に連結して前記バッファタンクの出口管に接続する第1
の連通管と、各サブバッファタンクの出口管を並列に連
結して前記空気清浄化装置のエア−ワッシャ−の水噴霧
ノズルの給水管に接続する第2の連通管と、前記第1又
は第2の連通管に設けた循環ポンプと、前記各バルブを
操作する制御装置と、前記各サブバッファタンクに超純
水を供給する超純水供給管とを有することを特徴とする
請求項1項記載の空気清浄化システム。
4. The water purification device according to claim 1, further comprising a plurality of sub-buffer tanks each having an inlet pipe , an outlet pipe, and a drain pipe each having a valve, and an inlet pipe of each sub-buffer tank being connected in parallel. First to connect to outlet pipe
And a second communication pipe connecting the outlet pipes of the sub-buffer tanks in parallel and connecting to a water supply pipe of a water spray nozzle of an air washer of the air cleaning device; A circulating pump provided in the second communication pipe, a control device for operating each of the valves, and an ultra pure
The air purification system according to claim 1, further comprising an ultrapure water supply pipe for supplying water .
【請求項5】 全蒸発残渣監視装置とともに、水中の有
機成分を計測又は分析可能な装置の少なくとも1つを
備することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項
記載の空気清浄化システム。
With 5. The total evaporation residue渣監vision device, any one of claims 1 to 4, characterized in that immediately <br/> Bei at least one measurement or analysis apparatus capable of organic components in water 1 The air purification system according to any one of the preceding claims.
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