JP3025887B2 - セラミックタイプの日焼け止め - Google Patents
セラミックタイプの日焼け止めInfo
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- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
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- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有害な紫外線から
人の皮膚を守るための新しい日焼け止め物質及びその製
法に関するものである。
人の皮膚を守るための新しい日焼け止め物質及びその製
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】最近の
研究は、地球のオゾン層が近年著しく減少していること
を示している。オゾンは紫外線（ＵＶ）の害を遮る成層
圏成分であることがわかっており、一般に、上層の大気
を通過して地表に達する太陽光のうち特に有害な紫外線
は次のように分類できる：１．皮膚に対して、強い生理
病理学的な作用を持つエネルギ−の高いＵＶ−Ｂ（波長
２８０−３２０ｎｍ）の紫外線で、皮膚に吸収されると
紅斑や皮膚の色素沈着を引き起こすもの。及び、２．皮
膚のより内部まで浸透するＵＶ−Ａ（波長３２０−４０
０ｎｍ）の紫外線。
研究は、地球のオゾン層が近年著しく減少していること
を示している。オゾンは紫外線（ＵＶ）の害を遮る成層
圏成分であることがわかっており、一般に、上層の大気
を通過して地表に達する太陽光のうち特に有害な紫外線
は次のように分類できる：１．皮膚に対して、強い生理
病理学的な作用を持つエネルギ−の高いＵＶ−Ｂ（波長
２８０−３２０ｎｍ）の紫外線で、皮膚に吸収されると
紅斑や皮膚の色素沈着を引き起こすもの。及び、２．皮
膚のより内部まで浸透するＵＶ−Ａ（波長３２０−４０
０ｎｍ）の紫外線。
【０００３】ＵＶ−Ａの皮膚に対する急性かつ有害な作
用はＵＶ−Ｂに比べて少ないが長期にわたるＵＶ−Ａの
作用は、日焼、皮膚の老化や色素沈着などに密接にかか
わっていると今日では考えられている。
用はＵＶ−Ｂに比べて少ないが長期にわたるＵＶ−Ａの
作用は、日焼、皮膚の老化や色素沈着などに密接にかか
わっていると今日では考えられている。
【０００４】有害な紫外線を吸収することのできる有機
化合物よりなる各種日焼け止め剤は、紫外線の害を軽減
するために使用されている。しかしながら、これらの紫
外線吸収剤はその安全性や耐久性に多くの問題を抱えて
いる。一方、紫外線の吸収や分散についての種々の研究
により、ある種の無機化合物には特に優れた紫外線遮断
効果のあることが知られている。
化合物よりなる各種日焼け止め剤は、紫外線の害を軽減
するために使用されている。しかしながら、これらの紫
外線吸収剤はその安全性や耐久性に多くの問題を抱えて
いる。一方、紫外線の吸収や分散についての種々の研究
により、ある種の無機化合物には特に優れた紫外線遮断
効果のあることが知られている。
【０００５】しかしこれまの数々の提案にもかかわら
ず、有害な紫外線を広範囲に防ぐことのできる、効力の
非常に高い極めて安全な日光の防護物質は依然求め続け
られている。
ず、有害な紫外線を広範囲に防ぐことのできる、効力の
非常に高い極めて安全な日光の防護物質は依然求め続け
られている。
【０００６】本発明は、紫外線に対する防護性のより優
れた日焼け止め材料としての使用に適する、無機の酸化
物を提供することを主目的としている。この関連技術と
しては特許文献や科学雑誌に、ボライト化合物として種
々の無機酸化物についての記述がある。それらの物質の
例として浅岡久俊による米国特許第５,０６４,６２９号
にボライト−１、−２、−３ 及び −４、そして雑誌
「J. of Molecular Cat-alysis, 68 (1991) 301−311」
にボライト−７、また雑誌「Materials Letters, 19 (1
994) 213−216」にボライト−Ａ、−Ｂ、−Ｃ、−Ｄ及
び−Ｅがある。
れた日焼け止め材料としての使用に適する、無機の酸化
物を提供することを主目的としている。この関連技術と
しては特許文献や科学雑誌に、ボライト化合物として種
々の無機酸化物についての記述がある。それらの物質の
例として浅岡久俊による米国特許第５,０６４,６２９号
にボライト−１、−２、−３ 及び −４、そして雑誌
「J. of Molecular Cat-alysis, 68 (1991) 301−311」
にボライト−７、また雑誌「Materials Letters, 19 (1
994) 213−216」にボライト−Ａ、−Ｂ、−Ｃ、−Ｄ及
び−Ｅがある。
【０００７】ただ、これらの物質の中でチタニウムを含
むものは、金属を担持することにより水を分解する光触
媒となることができるが、それらは金属を担持しなけれ
ば光照射による水の分解はできない。
むものは、金属を担持することにより水を分解する光触
媒となることができるが、それらは金属を担持しなけれ
ば光照射による水の分解はできない。
【０００８】一般に、優れたＵＶの遮蔽効果を示すのは
二酸化チタニウムであるが、それは最も強力な光触媒で
ある。実効的な日焼け止め剤は化学的に安定で、皮膚に
付けても皮膚から吸収されず、特に化学分解や光による
分解を受けにくいものでなくてはならない。通常の二酸
化チタニウムは活性な触媒作用があるので、それと共存
するほかの化粧品の成分は分解を受けやすい。
二酸化チタニウムであるが、それは最も強力な光触媒で
ある。実効的な日焼け止め剤は化学的に安定で、皮膚に
付けても皮膚から吸収されず、特に化学分解や光による
分解を受けにくいものでなくてはならない。通常の二酸
化チタニウムは活性な触媒作用があるので、それと共存
するほかの化粧品の成分は分解を受けやすい。
【０００９】化粧品として用いることのできる日焼け止
め物質として、米国特許第４,８２０,５０８号、５,０
３２,３９０号、５,２１５,７４９号、５,２１５,５８
０号、５,２３４,６８２号、及び５,３０６,４８６号
に、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉄、シリカ、マイカ、オ
クチル桂皮酸及び緑茶などの二次的な併用があげられて
いる。
め物質として、米国特許第４,８２０,５０８号、５,０
３２,３９０号、５,２１５,７４９号、５,２１５,５８
０号、５,２３４,６８２号、及び５,３０６,４８６号
に、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉄、シリカ、マイカ、オ
クチル桂皮酸及び緑茶などの二次的な併用があげられて
いる。
【００１０】本発明は、ボライトと称し（ボライト; 商
標第２,３１５,０５４号）ここでは以後、ボライト−Ｓ
として識別される新規な部類の無機の日焼け止め物質に
関するものであり、その組成は酸化物のモル数により次
のように記述される：
標第２,３１５,０５４号）ここでは以後、ボライト−Ｓ
として識別される新規な部類の無機の日焼け止め物質に
関するものであり、その組成は酸化物のモル数により次
のように記述される：
【００１１】
【化２】
【００１２】式中、「Ｒ」は水素、炭素数１〜５のアル
キル基及びそれらの混合したものからなる群より選択さ
れ、「ｍ」は０より大きく１２００を越えない値、
「ｖ」は０より大きく５００を越えない値、「ｗ」は０
より大きく１００を越えない値、「ｘ」は０より大きく
２００を越えない値、「ｙ」１から３００までの値そし
て「ｚ」は０から３００までの各数値を有する。なお、
上式のｍＲＯはｍＯＲ、(ＲＯ)m、(ＯＲ)m 、(−ＯＲ)m
あるいは(ＲＯ−)m と書くことができる。
キル基及びそれらの混合したものからなる群より選択さ
れ、「ｍ」は０より大きく１２００を越えない値、
「ｖ」は０より大きく５００を越えない値、「ｗ」は０
より大きく１００を越えない値、「ｘ」は０より大きく
２００を越えない値、「ｙ」１から３００までの値そし
て「ｚ」は０から３００までの各数値を有する。なお、
上式のｍＲＯはｍＯＲ、(ＲＯ)m、(ＯＲ)m 、(−ＯＲ)m
あるいは(ＲＯ−)m と書くことができる。
【００１３】本発明によるボライト−Ｓ化合物は、５種
類の主反応物を含む反応混合物から製造される; 即ちそ
れは、チタニウム（IV）アルコキシド、鉄（III）アル
コキシド、ケイ素（IV）アルコキシド、正ホウ酸（Ｈ3
ＢＯ3）及びピリジンである。ピリジン中において、チ
タニウム（IV）アルコキシドおよびＨ3ＢＯ3よりボライ
ト化合物が生成する反応機構は、浅岡久俊により「Mate
rials Letters, 19(1994) 207−212 及び 213−216」の
論文で述べられている。その反応はつぎのように記述さ
れる：
類の主反応物を含む反応混合物から製造される; 即ちそ
れは、チタニウム（IV）アルコキシド、鉄（III）アル
コキシド、ケイ素（IV）アルコキシド、正ホウ酸（Ｈ3
ＢＯ3）及びピリジンである。ピリジン中において、チ
タニウム（IV）アルコキシドおよびＨ3ＢＯ3よりボライ
ト化合物が生成する反応機構は、浅岡久俊により「Mate
rials Letters, 19(1994) 207−212 及び 213−216」の
論文で述べられている。その反応はつぎのように記述さ
れる：
【００１４】
【化３】
【００１５】反応式中のＲはアルキル基、そしてＨＰｙ
+はピリジニウムイオンである。
+はピリジニウムイオンである。
【００１６】反応式（１）は、この系におけるアルコキ
シドから正ホウ酸へのアルキル基の転移に関するもので
ある。反応式（２）は、反応式（１）の最初の段階で生
ずる反応性の前駆物質によって進行する。反応式（３）
は反応液中のアルコールの検出が困難なほど速く進行
し、続く縮合反応は反応式（２）で生じた２量体と、反
応式（１）で生じた活性種の間で起きることになる。そ
の反応はつぎのように記述できる：
シドから正ホウ酸へのアルキル基の転移に関するもので
ある。反応式（２）は、反応式（１）の最初の段階で生
ずる反応性の前駆物質によって進行する。反応式（３）
は反応液中のアルコールの検出が困難なほど速く進行
し、続く縮合反応は反応式（２）で生じた２量体と、反
応式（１）で生じた活性種の間で起きることになる。そ
の反応はつぎのように記述できる：
【００１７】
【化４】
【００１８】上記の反応に関する継続反応はすべての線
状重合体に適用することができる。しかし実際には、こ
の重合は二次元及び三次元の方向にも同時に進行し得
る。そのような場合には［Ｈ3ＢＯ3］／［アルコキシ
ド］のモル比が１より大きいことが多く、そこには枝分
かれ部分が導入される。
状重合体に適用することができる。しかし実際には、こ
の重合は二次元及び三次元の方向にも同時に進行し得
る。そのような場合には［Ｈ3ＢＯ3］／［アルコキシ
ド］のモル比が１より大きいことが多く、そこには枝分
かれ部分が導入される。
【００１９】溶媒としての必須条件は原料のアルコキシ
ドや反応中間体をよく溶かすことができることである。
ピリジンは金属アルコキシド、反応中間体のオリゴマー
及びピリジニウム ジアルコキシジヒドロキシホウ酸錯
体（HPy+[(OR)2B(OH)2]-)の優れた溶媒である。
ドや反応中間体をよく溶かすことができることである。
ピリジンは金属アルコキシド、反応中間体のオリゴマー
及びピリジニウム ジアルコキシジヒドロキシホウ酸錯
体（HPy+[(OR)2B(OH)2]-)の優れた溶媒である。
【００２０】モノリシックなゲルを得ることのできる上
記の方法を適用し、ピリジン中で異なる複数の金属アル
コキシドをホウ酸の存在下で重合させ、多成分よりなる
無機化合物を製造することができる。
記の方法を適用し、ピリジン中で異なる複数の金属アル
コキシドをホウ酸の存在下で重合させ、多成分よりなる
無機化合物を製造することができる。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明は、ボライト−Ｓ
と称する新規な日焼け止め物質及びその製法に関するも
のである。合成物であるボライト−Ｓは、酸化物のモル
数により次の一般式で示される：
と称する新規な日焼け止め物質及びその製法に関するも
のである。合成物であるボライト−Ｓは、酸化物のモル
数により次の一般式で示される：
【００２２】
【化５】
【００２３】式中、「Ｒ」は水素、炭素数１〜５のアル
キル基及びそれらの混合したものからなる群より選択さ
れ、「ｍ」は０より大きく１２００を越えない値、
「ｖ」は０より大きく５００を越えない値、「ｗ」は０
より大きく１００を越えない値、「ｘ」は０より大きく
２００を越えない値、「ｙ」は１から３００までの値そ
して「ｚ」は０から３００までの値を有し、当該ボライ
ト−Ｓの焼成物は表１に示す格子面間隔と相対強度より
なる固有の粉末Ｘ−線回折パターンを有する。
キル基及びそれらの混合したものからなる群より選択さ
れ、「ｍ」は０より大きく１２００を越えない値、
「ｖ」は０より大きく５００を越えない値、「ｗ」は０
より大きく１００を越えない値、「ｘ」は０より大きく
２００を越えない値、「ｙ」は１から３００までの値そ
して「ｚ」は０から３００までの値を有し、当該ボライ
ト−Ｓの焼成物は表１に示す格子面間隔と相対強度より
なる固有の粉末Ｘ−線回折パターンを有する。
【００２４】上記の合成日焼け止め物質及び当該合成日
焼け止め物質の焼成物を得る方法の概略としては: （ａ）反応混合物として: （１）Ｆｅ(ＯＲ)3、Ｓｉ(ＯＲ)4 及び Ｔｉ(ＯＲ)4 の
アルコキシド、ここでのＲは炭素数１〜５のアルキル
基、 （２）正ホウ酸、 （３）溶媒としてピリジンを用い; （ｂ）反応混合物（ａ）よりゲル状物を生成させるた
め、１０℃から１１０℃の温度で１日から３０日間の適
切なる反応条件を保持し; （ｃ）生成ゲル状物（ｂ）から母液を遠心分離又は濾過
により分離した後、そのゲル状物を水、アセトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ピリ
ジンもしくはそれらの混合物で洗浄し; （ｄ）洗浄したゲル状物（ｃ）を、３０℃から４００℃
の温度で１時間から７２時間乾燥し; そして （ｅ）得られた固形物（ｄ）を、空気中で４００℃およ
び１３００℃の温度範囲で１時間から２４時間焼成す
る。
焼け止め物質の焼成物を得る方法の概略としては: （ａ）反応混合物として: （１）Ｆｅ(ＯＲ)3、Ｓｉ(ＯＲ)4 及び Ｔｉ(ＯＲ)4 の
アルコキシド、ここでのＲは炭素数１〜５のアルキル
基、 （２）正ホウ酸、 （３）溶媒としてピリジンを用い; （ｂ）反応混合物（ａ）よりゲル状物を生成させるた
め、１０℃から１１０℃の温度で１日から３０日間の適
切なる反応条件を保持し; （ｃ）生成ゲル状物（ｂ）から母液を遠心分離又は濾過
により分離した後、そのゲル状物を水、アセトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ピリ
ジンもしくはそれらの混合物で洗浄し; （ｄ）洗浄したゲル状物（ｃ）を、３０℃から４００℃
の温度で１時間から７２時間乾燥し; そして （ｅ）得られた固形物（ｄ）を、空気中で４００℃およ
び１３００℃の温度範囲で１時間から２４時間焼成す
る。
【００２５】得られたボライト−Ｓ及びその焼成物は、
２００ｎｍから４００ｎｍの波長範囲の太陽光を防ぐこ
とのできる新規かつ優れた物質である。
２００ｎｍから４００ｎｍの波長範囲の太陽光を防ぐこ
とのできる新規かつ優れた物質である。
【００２６】
【発明の実施の形態】本発明によるボライト−Ｓと称す
る合成日焼け止め物質を得るため、まずその製法に言及
する。
る合成日焼け止め物質を得るため、まずその製法に言及
する。
【００２７】本発明によるボライト−Ｓ物質はつぎの反
応物; Ｆｅ(ＯＲ)3、Ｓｉ(ＯＲ)4、Ｔｉ(ＯＲ)4 及び
Ｈ3ＢＯ3の反応により調製される： この化学式中のＲ
はメチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチ
ル、iso−ブチル、n−アミル、iso−アミル及びt−アミ
ルよりなる群から選択されるアルキル基を示す。
応物; Ｆｅ(ＯＲ)3、Ｓｉ(ＯＲ)4、Ｔｉ(ＯＲ)4 及び
Ｈ3ＢＯ3の反応により調製される： この化学式中のＲ
はメチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチ
ル、iso−ブチル、n−アミル、iso−アミル及びt−アミ
ルよりなる群から選択されるアルキル基を示す。
【００２８】反応物は５重量％から３０重量％、好適に
は約１５重量％の濃度でピリジンに溶かす。反応はアル
コキシドのピリジン溶液を撹拌しながらそこにホウ酸を
添加して行なう。反応混合物を完全にゲル化させるため
に密閉容器中で１日から３０日間、好適には約７日間、
１０℃から１１０℃好適には５０℃から８０℃の温度に
保持する。この方法は、基本的には既述の米国特許第
５,０６４,６２９号のボライト−１、−２、−３及び−
４の物質の製法で用いた方法と同じである。
は約１５重量％の濃度でピリジンに溶かす。反応はアル
コキシドのピリジン溶液を撹拌しながらそこにホウ酸を
添加して行なう。反応混合物を完全にゲル化させるため
に密閉容器中で１日から３０日間、好適には約７日間、
１０℃から１１０℃好適には５０℃から８０℃の温度に
保持する。この方法は、基本的には既述の米国特許第
５,０６４,６２９号のボライト−１、−２、−３及び−
４の物質の製法で用いた方法と同じである。
【００２９】本発明では、反応により生成したゲル重合
物を傾斜法、遠心分離法又は濾過法によって母液から分
離し、水、アセトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、ピリジン又はそれらの混合物を用
いて洗浄し、反応で生じたホウ酸錯体（HPy+[(RO)2B(O
H)2]-）を除去する。生成物を水又は溶媒で洗浄するこ
とによる差異のほとんどは、乾燥ゲル中の未反応の−Ｏ
Ｒ及び−ＯＨ基の量やその分布によって説明される。水
の洗浄により得られるゲルは、−ＯＲ基の加水分解によ
り−ＯＨ基を比較的多く含む。この−ＯＲ基はボライト
−Ｓ組成物のケイ素の部分（例えば、−Si(OR)2−）に
より強く保持されているので、ボライト−Ｓ物質中にお
けるケイ素の存在は重要である。
物を傾斜法、遠心分離法又は濾過法によって母液から分
離し、水、アセトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、ピリジン又はそれらの混合物を用
いて洗浄し、反応で生じたホウ酸錯体（HPy+[(RO)2B(O
H)2]-）を除去する。生成物を水又は溶媒で洗浄するこ
とによる差異のほとんどは、乾燥ゲル中の未反応の−Ｏ
Ｒ及び−ＯＨ基の量やその分布によって説明される。水
の洗浄により得られるゲルは、−ＯＲ基の加水分解によ
り−ＯＨ基を比較的多く含む。この−ＯＲ基はボライト
−Ｓ組成物のケイ素の部分（例えば、−Si(OR)2−）に
より強く保持されているので、ボライト−Ｓ物質中にお
けるケイ素の存在は重要である。
【００３０】ゲル物質中の−ＯＲ基のＲは燃焼法によっ
て定量することができる。
て定量することができる。
【００３１】試料中の炭素の含量パーセントは、一定量
の試料を酸素気流中で加熱して酸化し、発生した二酸化
炭素を集めてその量を測定して決定する。乾燥ゲル中の
炭素の量は、０.０１重量％から４５重量％の範囲であ
る。与えられた試料の炭素含量から、試料中のアルキル
基の量を計算することができる。例えば、１グラムの炭
素量は０.０４１７モルのエチル基、そして０.０２７８
モルのプロピル基に相当する。
の試料を酸素気流中で加熱して酸化し、発生した二酸化
炭素を集めてその量を測定して決定する。乾燥ゲル中の
炭素の量は、０.０１重量％から４５重量％の範囲であ
る。与えられた試料の炭素含量から、試料中のアルキル
基の量を計算することができる。例えば、１グラムの炭
素量は０.０４１７モルのエチル基、そして０.０２７８
モルのプロピル基に相当する。
【００３２】上述の乾燥ゲル、つまりボライト−Ｓ物質
は、湿潤ゲルを３０℃から４００℃、好適には４０℃か
ら１２０℃で１時間から約７２時間恒量になるまで加熱
して得ることができる。湿潤ゲルを水で洗浄するか又は
溶媒で洗浄するかによって、乾燥ゲル中のホウ素の量は
かなり影響される。含まれるホウ素の量は、使用した洗
浄液の量により０.０１重量％又はそれ以下にすること
ができる。
は、湿潤ゲルを３０℃から４００℃、好適には４０℃か
ら１２０℃で１時間から約７２時間恒量になるまで加熱
して得ることができる。湿潤ゲルを水で洗浄するか又は
溶媒で洗浄するかによって、乾燥ゲル中のホウ素の量は
かなり影響される。含まれるホウ素の量は、使用した洗
浄液の量により０.０１重量％又はそれ以下にすること
ができる。
【００３３】しかしながら、ボライト−Ｓ物質中におけ
る HPy+[(RO)2B(OH)2]- や HPy+B(OH)4 - のようなホウ
酸錯体の存在は、他の化粧品の成分にたいして防腐剤の
一つとして働くことが期待される。ところで理論的な考
察はともかく、最終のボライト−Ｓ生成物中に存在する
ホウ素は一応 Ｂ2Ｏ3 のような酸化された状態にあると
考える。
る HPy+[(RO)2B(OH)2]- や HPy+B(OH)4 - のようなホウ
酸錯体の存在は、他の化粧品の成分にたいして防腐剤の
一つとして働くことが期待される。ところで理論的な考
察はともかく、最終のボライト−Ｓ生成物中に存在する
ホウ素は一応 Ｂ2Ｏ3 のような酸化された状態にあると
考える。
【００３４】ボライト−Ｓ物質は有機溶媒で洗浄したも
のは無水状態で得られ、水で洗浄したものは含水状態で
得られる。ボライト−Ｓ物質の含水状態における水分量
は温度やその加熱時間によって左右される。
のは無水状態で得られ、水で洗浄したものは含水状態で
得られる。ボライト−Ｓ物質の含水状態における水分量
は温度やその加熱時間によって左右される。
【００３５】生成物中のチタニウム、鉄及びケイ素の量
は半定量的ではあるが反応混合物中のアルコキシドの初
期濃度に比例しており、各種反応物のモル比を変えるこ
とにより、各種のボライト−Ｓ物質を製造することがで
きる。特に、ボライト−Ｓ組成物を製造するための初期
反応物のモル比を下記に示した：
は半定量的ではあるが反応混合物中のアルコキシドの初
期濃度に比例しており、各種反応物のモル比を変えるこ
とにより、各種のボライト−Ｓ物質を製造することがで
きる。特に、ボライト−Ｓ組成物を製造するための初期
反応物のモル比を下記に示した：
【００３６】
【表２】
【００３７】ここでのＲは炭素数１から５のアルキル基
を示す。
を示す。
【００３８】これまで述べた方法で特に勝れている点
は、本発明の使用目的を達成するのに３０℃から１２０
℃の比較的低い温度でボライト−Ｓ組成物を得ることが
できることである。高温乾燥は本発明によって利用さる
べきボライト−Ｓ化合物には必ずしも必須ではない。通
常の二酸化チタニウム顔料やＴｉＯ2−ＳｉＯ2ガラスは
その溶融物から作られるが、この方法は高温度が必要な
上、それを微細粉末の製品にするためには粉砕しなけれ
ばならないので、経済的にはあまり好ましい方法ではな
い。
は、本発明の使用目的を達成するのに３０℃から１２０
℃の比較的低い温度でボライト−Ｓ組成物を得ることが
できることである。高温乾燥は本発明によって利用さる
べきボライト−Ｓ化合物には必ずしも必須ではない。通
常の二酸化チタニウム顔料やＴｉＯ2−ＳｉＯ2ガラスは
その溶融物から作られるが、この方法は高温度が必要な
上、それを微細粉末の製品にするためには粉砕しなけれ
ばならないので、経済的にはあまり好ましい方法ではな
い。
【００３９】本発明における典型的な製品であるボライ
ト−Ｓ物質の乾燥ゲルは軟らかいので、例えば、粒径
０.０１μｍ程度の微細粒子に簡単に摩砕できる。無機
化合物の粉末を化粧品として使用するとき、その肌ざわ
りを良くするためにはＵＶ防止効果もさることながら微
細粉末であることが望ましい。
ト−Ｓ物質の乾燥ゲルは軟らかいので、例えば、粒径
０.０１μｍ程度の微細粒子に簡単に摩砕できる。無機
化合物の粉末を化粧品として使用するとき、その肌ざわ
りを良くするためにはＵＶ防止効果もさることながら微
細粉末であることが望ましい。
【００４０】さらに、他の基礎化粧品との馴染を良くす
る目的で、粒子表面を親油性にするための処理がよく行
なわれる。二酸化チタニウムは大きな表面張力を持って
いるので、塊状になりやすく延びがあまり良くない。そ
のための改善策として米国特許第５,１８８,８３１号
に、二酸化チタニウムをシリコンオイルや金属石けん、
特にシリコン表面活性剤などで処理する方法が述べられ
ている。本発明によるボライト−Ｓ物質は親油性の−Ｏ
Ｒ基、親水性の−ＯＨ基又はその両者を官能基として持
っているので、太陽光からの防護のための化粧品やスキ
ンケア製品の成分として極めて有利で、日焼け止め物質
としてのボライト−Ｓは水−分散型、油−分散型又はそ
の両者の混合型での利用が可能である。
る目的で、粒子表面を親油性にするための処理がよく行
なわれる。二酸化チタニウムは大きな表面張力を持って
いるので、塊状になりやすく延びがあまり良くない。そ
のための改善策として米国特許第５,１８８,８３１号
に、二酸化チタニウムをシリコンオイルや金属石けん、
特にシリコン表面活性剤などで処理する方法が述べられ
ている。本発明によるボライト−Ｓ物質は親油性の−Ｏ
Ｒ基、親水性の−ＯＨ基又はその両者を官能基として持
っているので、太陽光からの防護のための化粧品やスキ
ンケア製品の成分として極めて有利で、日焼け止め物質
としてのボライト−Ｓは水−分散型、油−分散型又はそ
の両者の混合型での利用が可能である。
【００４１】ここで調製された乾燥ゲルは、高温での焼
結によりセラミックスとなる。高温ではボライト−Ｓ物
質中のＯＲ基は焼失し、できたセラミック物質の体積は
縮小する。これらのセラミック物質は抜群の安全性、安
定性を持ち、水に不溶で日焼け止めとしても有用であ
る。このセラミック物質は、ボライト−Ｓ物質の同定に
用いることのできる固有の粉末Ｘ−線回折パターンを有
する。
結によりセラミックスとなる。高温ではボライト−Ｓ物
質中のＯＲ基は焼失し、できたセラミック物質の体積は
縮小する。これらのセラミック物質は抜群の安全性、安
定性を持ち、水に不溶で日焼け止めとしても有用であ
る。このセラミック物質は、ボライト−Ｓ物質の同定に
用いることのできる固有の粉末Ｘ−線回折パターンを有
する。
【００４２】Ｘ−線の回折パターンは、試料中の鉄、ケ
イ素及びチタニウムの酸化物のモル比や試料の熱処理の
如何により変化を生じることがある。ボライト−１、−
２、−３及び−４の化合物は、Ｘ−線回折により、同形
であることが浅岡久俊による論文の「J. of Materials
Science, 28 (1993) 4660−4666」で述べられている。
それらの化合物はＴｉＯ2の結晶系列におけるチタニウ
ムを、部分的にアルミニウム、ケイ素及びその他の元素
によって置換したものである。
イ素及びチタニウムの酸化物のモル比や試料の熱処理の
如何により変化を生じることがある。ボライト−１、−
２、−３及び−４の化合物は、Ｘ−線回折により、同形
であることが浅岡久俊による論文の「J. of Materials
Science, 28 (1993) 4660−4666」で述べられている。
それらの化合物はＴｉＯ2の結晶系列におけるチタニウ
ムを、部分的にアルミニウム、ケイ素及びその他の元素
によって置換したものである。
【００４３】本発明における焼成物についてのＸ−線に
よる研究は、ニッケルのフィルターを通過させた銅−Ｋ
α照射線により行なった。格子面間隔はオングストロー
ム単位（Å）による“ｄ”を用いて表し、スペクトル線
の相対強度はＩ0を最強線の強度、Ｉを測定された各ピ
ークの高さによる強度として、Ｉ／Ｉ0×１００の式に
より計算した。任意に定めた相対強度の表示を下記に示
す：
よる研究は、ニッケルのフィルターを通過させた銅−Ｋ
α照射線により行なった。格子面間隔はオングストロー
ム単位（Å）による“ｄ”を用いて表し、スペクトル線
の相対強度はＩ0を最強線の強度、Ｉを測定された各ピ
ークの高さによる強度として、Ｉ／Ｉ0×１００の式に
より計算した。任意に定めた相対強度の表示を下記に示
す：
【００４４】
【表３】
【００４５】本出願においては、一貫してこれらの相対
強度を使用する。
強度を使用する。
【００４６】Ｘ−線分析的に非晶質性の本発明によるボ
ライト−Ｓ物質は、光照射による光触媒反応を引き起こ
しにくい。
ライト−Ｓ物質は、光照射による光触媒反応を引き起こ
しにくい。
【００４７】二酸化チタニウムや酸化亜鉛のような無機
の日焼け止め物質は特別な“白化”現象を起こす傾向が
ある。白化は美的感覚を追求する化粧品としての価値を
損なうものである。ほとんどの消費者は化粧品として控
えめなもの、すなわち透明なものか皮膚と同じ色である
ものを望んでいる。本発明による日焼け止め剤の色は、
含まれる酸化鉄の量により白色から赤褐色の広い範囲に
及んでいる。化粧品の色は光にたいして安定でなければ
ならない。ボライト−Ｓ物質中の酸化鉄による色は他の
有機顔料に比べて極めて安定である。
の日焼け止め物質は特別な“白化”現象を起こす傾向が
ある。白化は美的感覚を追求する化粧品としての価値を
損なうものである。ほとんどの消費者は化粧品として控
えめなもの、すなわち透明なものか皮膚と同じ色である
ものを望んでいる。本発明による日焼け止め剤の色は、
含まれる酸化鉄の量により白色から赤褐色の広い範囲に
及んでいる。化粧品の色は光にたいして安定でなければ
ならない。ボライト−Ｓ物質中の酸化鉄による色は他の
有機顔料に比べて極めて安定である。
【００４８】日焼け止め剤は、皮膚に局所的に塗布する
ものであるから、毒性が無く、皮膚組織を刺激せず、均
一にむら無く皮膚に塗ることのできるものでなくてはな
らない。本発明におけるモノリシックな組成物の基本成
分はチタニウム、鉄及びケイ素の酸化物であり、これら
は皮膚に塗布しても何ら薬理学的に問題の無い成分であ
る。本発明における具体例の一つであるボライト−Ｓ組
成物の焼成物（即ち、セラミック）も優れた紫外線の防
護作用を持っており、極めて安全にそれを人の皮膚に局
所的に塗布して利用することは可能である。
ものであるから、毒性が無く、皮膚組織を刺激せず、均
一にむら無く皮膚に塗ることのできるものでなくてはな
らない。本発明におけるモノリシックな組成物の基本成
分はチタニウム、鉄及びケイ素の酸化物であり、これら
は皮膚に塗布しても何ら薬理学的に問題の無い成分であ
る。本発明における具体例の一つであるボライト−Ｓ組
成物の焼成物（即ち、セラミック）も優れた紫外線の防
護作用を持っており、極めて安全にそれを人の皮膚に局
所的に塗布して利用することは可能である。
【００４９】本発明の組成物の分光学的な測定は、日立
製のＵ−３２００ダブルビーム分光器に１５１−００３
０ ６０φ の光反射検出システムを付けたものを用いて
行い、固く充填した平面（２×１.５ｃｍ2）試料につい
て、２００ｎｍから９００ｎｍの範囲を走査した。日焼
け止め剤試料の透過率（％Ｔ）を求めるために、酸化マ
グネシウムのスペクトルを標準として用い、得られた透
過率を反射率（％Ｒ）に変換した。
製のＵ−３２００ダブルビーム分光器に１５１−００３
０ ６０φ の光反射検出システムを付けたものを用いて
行い、固く充填した平面（２×１.５ｃｍ2）試料につい
て、２００ｎｍから９００ｎｍの範囲を走査した。日焼
け止め剤試料の透過率（％Ｔ）を求めるために、酸化マ
グネシウムのスペクトルを標準として用い、得られた透
過率を反射率（％Ｒ）に変換した。
【００５０】本発明におけるボライト−Ｓ組成物及び同
組成物の焼成物は、２００ｎｍから４００ｎｍの波長範
囲（ＵＶ−Ａ範囲及びＵＶ−Ｂ範囲）において、著しい
反射率の増加を示す。
組成物の焼成物は、２００ｎｍから４００ｎｍの波長範
囲（ＵＶ−Ａ範囲及びＵＶ−Ｂ範囲）において、著しい
反射率の増加を示す。
【００５１】透過率の測定から、インビトロの紫外線防
御因子（ＳＰＦ）を計算できることを、Ｄｉｆｆｅｙ等
は、「J. of the Society of Cosmetic Chemists, 40
(1989) 127−133」の論文で述べている。
御因子（ＳＰＦ）を計算できることを、Ｄｉｆｆｅｙ等
は、「J. of the Society of Cosmetic Chemists, 40
(1989) 127−133」の論文で述べている。
【００５２】本発明によるボライト−Ｓ物質は、後掲の
表５、６、７、８、９及び１０を集約した有意の格子面
間隔及び相対強度からなるＸ−線回折パターンにより確
認することができる。その集約結果を下記の表１に示
す：
表５、６、７、８、９及び１０を集約した有意の格子面
間隔及び相対強度からなるＸ−線回折パターンにより確
認することができる。その集約結果を下記の表１に示
す：
【００５３】
【表４】
【００５４】これ以後の表では、焼成したボライト−Ｓ
物質のＸ−線回折パターンは、実際のＸ−線回折の分析
による格子面間隔と相対強度によって示した。
物質のＸ−線回折パターンは、実際のＸ−線回折の分析
による格子面間隔と相対強度によって示した。
【００５５】以下に実施例を示すが、それによって本発
明は何ら限定されるものではない。
明は何ら限定されるものではない。
【００５６】
【実施例１】本発明によるボライト−Ｓ物質の試料は、
９.７２グラムのテトラエトキシチタニウム（Ti(OC2H5)
4)、５.１８グラムのテトラエトキシシラン（Si(OC2H5)
4)、０.８３グラムのトリイソプロポキシ鉄（Fe(O-i-C3
H7)3)、及び５.２７グラムのＨ3ＢＯ3を２００グラムの
ピリジン中で反応させて調製した。
９.７２グラムのテトラエトキシチタニウム（Ti(OC2H5)
4)、５.１８グラムのテトラエトキシシラン（Si(OC2H5)
4)、０.８３グラムのトリイソプロポキシ鉄（Fe(O-i-C3
H7)3)、及び５.２７グラムのＨ3ＢＯ3を２００グラムの
ピリジン中で反応させて調製した。
【００５７】反応混合物は撹拌しながら７日間７０℃に
保った後室温にもどす。その反応混合物を二分し、一方
の生成ゲル状物は限外濾過法で母液と分離し、よく水洗
して恒量になるまで９０℃で乾燥する。他の残りのゲル
状物は遠心分離法により母液と分離し、その沈でん物に
アセトンを加えてスラリーとして再度遠心分離をする。
この遠心分離操作による洗浄を４回繰り返した後、４０
℃で恒量になるまで約４８時間乾燥する。上記により得
られた乾燥ゲルの各１グラムを０.２グラムの触媒（白
金−粉末）とよく混和して白金ボートに入れ、元素分析
の装置を用い酸素気流中で温度制御をしながら６００℃
に加熱する。発生したＣＯ2はＣａＣＯ3にすべて変換さ
せる。
保った後室温にもどす。その反応混合物を二分し、一方
の生成ゲル状物は限外濾過法で母液と分離し、よく水洗
して恒量になるまで９０℃で乾燥する。他の残りのゲル
状物は遠心分離法により母液と分離し、その沈でん物に
アセトンを加えてスラリーとして再度遠心分離をする。
この遠心分離操作による洗浄を４回繰り返した後、４０
℃で恒量になるまで約４８時間乾燥する。上記により得
られた乾燥ゲルの各１グラムを０.２グラムの触媒（白
金−粉末）とよく混和して白金ボートに入れ、元素分析
の装置を用い酸素気流中で温度制御をしながら６００℃
に加熱する。発生したＣＯ2はＣａＣＯ3にすべて変換さ
せる。
【００５８】乾燥ゲルの燃焼分析による試料中の炭素量
は、水洗ゲルでは１.５２重量％、アセトンで洗ったゲ
ルでは３６.９重量％である。
は、水洗ゲルでは１.５２重量％、アセトンで洗ったゲ
ルでは３６.９重量％である。
【００５９】本実施例のボライト−Ｓと称する上記の各
々の乾燥ゲルを、空気中で５時間９００℃で焼成した。
生成した焼成物の主成分のモル比は下記の如くである： ＴｉＯ2／ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ １.７１ ＳｉＯ2／Ｆｅ2Ｏ3 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ １４.０ Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.０４１８
々の乾燥ゲルを、空気中で５時間９００℃で焼成した。
生成した焼成物の主成分のモル比は下記の如くである： ＴｉＯ2／ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ １.７１ ＳｉＯ2／Ｆｅ2Ｏ3 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ １４.０ Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.０４１８
【００６０】上記の主成分は既に述べたように、原料物
質（即ち、アルコキシド）により適宜供給されたもので
ある。
質（即ち、アルコキシド）により適宜供給されたもので
ある。
【００６１】前述の水洗ゲルとアセトンで洗ったゲル
の、焼成後の両者の粉末Ｘ−線回折パターンは基本的に
同じである。その結果をそれぞれ表５及び表６に示す。
の、焼成後の両者の粉末Ｘ−線回折パターンは基本的に
同じである。その結果をそれぞれ表５及び表６に示す。
【００６２】
【表５】
【００６３】
【表６】
【００６４】本実施例によるボライト−Ｓ物質及び９０
０℃で５時間焼成した当該物質の光学的反射率のデータ
を図１に示した。図１において、数字符号の１は本実施
例によるボライト−Ｓ物質を水洗して得られた試料によ
るスペクトル、２は当該ボライト−Ｓ物質をアセトンで
洗浄して得られた試料によるスペクトル、３は水洗して
得られた当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるス
ペクトル、そして４はアセトンで洗浄して得られた当該
ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるスペクトルであ
る。
０℃で５時間焼成した当該物質の光学的反射率のデータ
を図１に示した。図１において、数字符号の１は本実施
例によるボライト−Ｓ物質を水洗して得られた試料によ
るスペクトル、２は当該ボライト−Ｓ物質をアセトンで
洗浄して得られた試料によるスペクトル、３は水洗して
得られた当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるス
ペクトル、そして４はアセトンで洗浄して得られた当該
ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるスペクトルであ
る。
【００６５】
【実施例２】本発明における次の実施例として、１０.
８グラムのテトライソプロポキシチタニウム（Ti(O-i-C
3H7)4)、３.９７グラムのＳｉ(ＯＣ2Ｈ5)4、１.４８グ
ラムのＦｅ(Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7)3、及び４.７１グラムのＨ
3ＢＯ3を２００グラムのピリジンに溶かして行なった。
生成物の製法や処理は上記の実施例１と同じである。
８グラムのテトライソプロポキシチタニウム（Ti(O-i-C
3H7)4)、３.９７グラムのＳｉ(ＯＣ2Ｈ5)4、１.４８グ
ラムのＦｅ(Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7)3、及び４.７１グラムのＨ
3ＢＯ3を２００グラムのピリジンに溶かして行なった。
生成物の製法や処理は上記の実施例１と同じである。
【００６６】この実施例で得られた乾燥ゲルの燃焼によ
る分析から、試料中の炭素の量は水洗で得られたゲルで
は１.８１重量％、ゲルを実施例１のアセトンの代わり
にメタノールで洗浄して得られた試料では４１.１重量
％である。
る分析から、試料中の炭素の量は水洗で得られたゲルで
は１.８１重量％、ゲルを実施例１のアセトンの代わり
にメタノールで洗浄して得られた試料では４１.１重量
％である。
【００６７】ボライト−Ｓと称する本実施例において得
られた各乾燥ゲルを、空気中において９００℃で５時間
焼成した。焼成物における主成分のモル比は下記の如く
である： ＴｉＯ2／ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ２.０ ＳｉＯ2／Ｆｅ2 Ｏ3 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ６.０ Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.０８３
られた各乾燥ゲルを、空気中において９００℃で５時間
焼成した。焼成物における主成分のモル比は下記の如く
である： ＴｉＯ2／ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ２.０ ＳｉＯ2／Ｆｅ2 Ｏ3 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ６.０ Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.０８３
【００６８】焼成後、ゲルを水洗したもの及びメタノー
ルで洗浄したものは、共に基本的に同じ粉末Ｘ−線回折
パターンを有する。結果はそれぞれ表７及び表８に示
す：
ルで洗浄したものは、共に基本的に同じ粉末Ｘ−線回折
パターンを有する。結果はそれぞれ表７及び表８に示
す：
【００６９】
【表７】
【００７０】
【表８】
【００７１】本実施例によるボライト−Ｓ物質及び９０
０℃で５時間焼成した当該物質の光学的反射率のデータ
を図２に示した。図２において、数字符号の１は本実施
例によるボライト−Ｓ物質を水洗して得られた試料によ
るスペクトル、２は当該ボライト−Ｓ物質をメタノール
で洗浄して得られた試料によるスペクトル、３は水洗し
て得られた当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料による
スペクトル、そして４はメタノールで洗浄して得られた
当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるスペクトル
である。
０℃で５時間焼成した当該物質の光学的反射率のデータ
を図２に示した。図２において、数字符号の１は本実施
例によるボライト−Ｓ物質を水洗して得られた試料によ
るスペクトル、２は当該ボライト−Ｓ物質をメタノール
で洗浄して得られた試料によるスペクトル、３は水洗し
て得られた当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料による
スペクトル、そして４はメタノールで洗浄して得られた
当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるスペクトル
である。
【００７２】
【実施例３】本発明の次の実施例として、６.６０グラ
ムのＴｉ(ＯＣ2Ｈ5)4、７.５４グラムのＳｉ(ＯＣ2Ｈ5)
4、１.６９グラムのＦｅ(Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7)3、及び５.１
７グラムのＨ3ＢＯ3を１５０グラムのピリジンに溶かし
たものを用いた。生成物の製法及び処理は、前述の実施
例１に述べた方法と同じである。本実施例において得ら
れた乾燥ゲルの燃焼分析から、ゲルを水洗したときの試
料中の炭素量は２.３１重量％で、ゲルを実施例１のア
セトンの代わりにエタノールで洗浄した試料では４４.
３重量％である。
ムのＴｉ(ＯＣ2Ｈ5)4、７.５４グラムのＳｉ(ＯＣ2Ｈ5)
4、１.６９グラムのＦｅ(Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7)3、及び５.１
７グラムのＨ3ＢＯ3を１５０グラムのピリジンに溶かし
たものを用いた。生成物の製法及び処理は、前述の実施
例１に述べた方法と同じである。本実施例において得ら
れた乾燥ゲルの燃焼分析から、ゲルを水洗したときの試
料中の炭素量は２.３１重量％で、ゲルを実施例１のア
セトンの代わりにエタノールで洗浄した試料では４４.
３重量％である。
【００７３】本実施例において得られたボライト−Ｓと
称する乾燥ゲルのそれぞれを９００℃で５時間空気中で
焼成した。焼成物における主成分のモル比は下記の如く
である： ＴｉＯ2／ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.８ ＳｉＯ2／Ｆｅ2Ｏ3 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ １０.０ Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.１２５
称する乾燥ゲルのそれぞれを９００℃で５時間空気中で
焼成した。焼成物における主成分のモル比は下記の如く
である： ＴｉＯ2／ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.８ ＳｉＯ2／Ｆｅ2Ｏ3 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ １０.０ Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ ０.１２５
【００７４】焼成後、ゲルを水洗したもの及びエタノー
ルで洗浄したものは、共に基本的に同じ粉末Ｘ−線回折
パターンを有する。結果はそれぞれ表９及び表１０に示
す：
ルで洗浄したものは、共に基本的に同じ粉末Ｘ−線回折
パターンを有する。結果はそれぞれ表９及び表１０に示
す：
【００７５】
【表９】
【００７６】
【表１０】
【００７７】本実施例によるボライト−Ｓ物質及び９０
０℃で５時間焼成した当該物質の光学的反射率のデータ
を図３に示した。図３において、数字符号の１は本実施
例によるボライト−Ｓ物質を水洗して得られた試料によ
るスペクトル、２は当該ボライト−Ｓ物質をエタノール
で洗浄して得られた試料によるスペクトル、３は水洗し
て得られた当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料による
スペクトル、そして４はエタノールで洗浄して得られた
当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるスペクトル
である。
０℃で５時間焼成した当該物質の光学的反射率のデータ
を図３に示した。図３において、数字符号の１は本実施
例によるボライト−Ｓ物質を水洗して得られた試料によ
るスペクトル、２は当該ボライト−Ｓ物質をエタノール
で洗浄して得られた試料によるスペクトル、３は水洗し
て得られた当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料による
スペクトル、そして４はエタノールで洗浄して得られた
当該ボライト−Ｓ物質を焼成した試料によるスペクトル
である。
【００７８】
【発明の効果】測定に用いた本実施例による合成日焼け
止め剤のボライト−Ｓ物質及び特にそれを焼成したもの
は、波長４００ｎｍから短波長にかけ著しく高い反射を
することが図に示されている。かさ高なボライト−Ｓ物
質とその焼成物によるスペクトルの違いは、固体試料の
単位体積中のチタニウムの量によることはこれらの図よ
り明らかであり、ボライト−Ｓ物質によるＵＶ−Ａから
ＵＶ−Ｂに至る防御範囲は、その試料中のチタニウム量
を増すことによって達成できる。
止め剤のボライト−Ｓ物質及び特にそれを焼成したもの
は、波長４００ｎｍから短波長にかけ著しく高い反射を
することが図に示されている。かさ高なボライト−Ｓ物
質とその焼成物によるスペクトルの違いは、固体試料の
単位体積中のチタニウムの量によることはこれらの図よ
り明らかであり、ボライト−Ｓ物質によるＵＶ−Ａから
ＵＶ−Ｂに至る防御範囲は、その試料中のチタニウム量
を増すことによって達成できる。
【００７９】ボライト−Ｓ物質中の二酸化チタニウムの
密度は加熱温度によって変化するが、更に本発明の請求
項の１に示す組成のボライト−Ｓ物質は不定比化合物の
一種より成るため、本発明の方法により高濃度のチタニ
ウムを任意にその化合物中に導入することができる。
密度は加熱温度によって変化するが、更に本発明の請求
項の１に示す組成のボライト−Ｓ物質は不定比化合物の
一種より成るため、本発明の方法により高濃度のチタニ
ウムを任意にその化合物中に導入することができる。
【図１】実施例１による本発明のボライト−Ｓ物質及び
当該物質を９００℃で５時間焼成したものについて、波
長２００ｎｍから８００ｎｍまでの光による反射率（％
Ｒ）を示した図である。
当該物質を９００℃で５時間焼成したものについて、波
長２００ｎｍから８００ｎｍまでの光による反射率（％
Ｒ）を示した図である。
【図２】実施例２による本発明のボライト−Ｓ物質及び
当該物質を９００℃で５時間焼成したものについて、波
長２００ｎｍから８００ｎｍまでの光による反射率（％
Ｒ）を示した図である。
当該物質を９００℃で５時間焼成したものについて、波
長２００ｎｍから８００ｎｍまでの光による反射率（％
Ｒ）を示した図である。
【図３】実施例３による本発明のボライト−Ｓ物質及び
当該物質を９００℃で５時間焼成したものについて、波
長２００ｎｍから８００ｎｍまでの光による反射率（％
Ｒ）を示した図である。
当該物質を９００℃で５時間焼成したものについて、波
長２００ｎｍから８００ｎｍまでの光による反射率（％
Ｒ）を示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/42 A61K 7/02
Claims (2)
- 【請求項１】 合成日焼け止め物質で、その組成は酸化
物のモル数で示して次式： 【化１】 式中、「Ｒ」は水素、炭素数１〜５のアルキル基及びそ
れらの混合したものからなる群より選択され、「ｍ」は
０より大きく１２００を越えない値、「ｖ」は０より大
きく５００を越えない値、「ｗ」は０より大きく１００
を越えない値、「ｘ」は０より大きく２００を越えない
値、「ｙ」は１から３００までの値そして「ｚ」は０か
ら３００までの値を有し、当該合成日焼け止め物質の焼
成物は下記の表１に示す格子面間隔と相対強度よりなる
固有の粉末Ｘ−線回折パターンを有することを特徴とす
るセラミックタイプの日焼け止め。 【表１】 - 【請求項２】 請求項１の合成日焼け止め物質及び当該
合成日焼け止め物質の焼成物を得る方法としては: （ａ）反応混合物として: （１）Ｆｅ(ＯＲ)3、Ｓｉ(ＯＲ)4 及び Ｔｉ(ＯＲ)4 の
アルコキシド、ここでのＲは炭素数１〜５のアルキル
基、 （２）正ホウ酸、 （３）溶媒としてピリジンを用い; （ｂ）反応混合物（ａ）よりゲル状物を生成させるた
め、１０℃から１１０℃の温度で１日から３０日間の適
切なる反応条件を保持し; （ｃ）生成ゲル状物（ｂ）から母液を遠心分離又は濾過
により分離した後、そのゲル状物を水、アセトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ピリ
ジンもしくはそれらの混合物で洗浄し; （ｄ）洗浄したゲル状物（ｃ）を、３０℃から４００℃
の温度で１時間から７２時間乾燥し; そして （ｅ）得られた固形物（ｄ）を、空気中で４００℃およ
び１３００℃の温度範囲で１時間から２４時間焼成する
ことを特徴とする、請求項１に記載のセラミックタイプ
の日焼け止め。
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