JP3018964B2 - Cleaning method and cleaning device - Google Patents

Cleaning method and cleaning device

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JP3018964B2
JP3018964B2 JP7305733A JP30573395A JP3018964B2 JP 3018964 B2 JP3018964 B2 JP 3018964B2 JP 7305733 A JP7305733 A JP 7305733A JP 30573395 A JP30573395 A JP 30573395A JP 3018964 B2 JP3018964 B2 JP 3018964B2
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water
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、物品の洗浄装置及
び方法に係り、特に洗浄済みの物品の表面に水滴を残さ
ずに水切りができるようにしたことを特徴とするもので
ある。本発明は、例えば板状の物品の表面の洗浄及び水
切りに特に適しており、例えば蛍光表示管・液晶表示装
置・プラズマ表示装置等の各種原理の表示装置において
用いられるガラス基板の洗浄装置及び方法として有効で
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and a method for cleaning articles, and more particularly to a method and apparatus for draining water without leaving water droplets on the surface of the cleaned article. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is particularly suitable for, for example, cleaning and draining the surface of a plate-like article, and for example, a glass substrate cleaning apparatus and method used in display devices of various principles such as a fluorescent display tube, a liquid crystal display device, and a plasma display device. Is effective as

【0002】[0002]

【従来の技術】蛍光表示管・液晶表示装置・プラズマ表
示装置等の各種表示装置においては、一般にガラス基板
上に配線パターンを形成している。この場合、配線パタ
ーンをガラス基板上に形成するには、形成しようとする
表示エリアの1個分又は所定の複数個分に応じたサイズ
にガラス基板を予め切断しておき、このガラス基板を洗
浄してゴミや汚れ等を除去しておく。その後、ガラス基
板の表面にスパッタリング法等によって電極材料となる
Al又はITO等の薄膜を被着させ、フォトリソグラフ
ィ法によって所望の配線パターンを形成する。
2. Description of the Related Art In various display devices such as a fluorescent display tube, a liquid crystal display device, and a plasma display device, a wiring pattern is generally formed on a glass substrate. In this case, in order to form a wiring pattern on a glass substrate, the glass substrate is cut in advance into a size corresponding to one or a predetermined number of display areas to be formed, and the glass substrate is washed. To remove dust and dirt. Thereafter, a thin film of Al or ITO serving as an electrode material is deposited on the surface of the glass substrate by a sputtering method or the like, and a desired wiring pattern is formed by a photolithography method.

【0003】一般に配線パターンの膜厚は1μm〜数μ
mと薄く形成されるため、前記ガラス基板上にゴミ等が
付着したまま膜形成を行うと、その部分がピンホールに
なったり、又はガラス基板に対する十分な付着強度が得
られず、断線又は配線剥離の原因となる。従って、スパ
ッタリングを行う前工程の洗浄工程は重要な工程であ
る。
In general, the thickness of a wiring pattern is 1 μm to several μm.
m, the film is formed while dust or the like adheres to the glass substrate. If the film is formed, the portion becomes a pinhole or a sufficient adhesion strength to the glass substrate is not obtained. It causes peeling. Therefore, the cleaning step before the sputtering is an important step.

【0004】図5は、従来の洗浄装置を示している。洗
浄装置は、接触洗浄部100と超音波洗浄部101と水
切り部102を有する。接触洗浄部100において、ガ
ラス基板103は、その両側縁のみに接触する複数対の
移送ローラ104によって搬送されながら、洗剤噴射装
置105によってその表裏面に洗剤を噴射され、上下一
対のローラブラシ106で該表裏面を洗浄される。次
に、純水噴射装置107とローラブラシ108でガラス
基板103の表裏面がリンスされ、ガラス基板103の
表裏面の水が吸水ローラ109で吸い取られる。このガ
ラス基板103は所定の複数枚づつカセット110に収
納され、カセット110ごと次工程の超音波洗浄部10
1に送られる。
FIG. 5 shows a conventional cleaning apparatus. The cleaning device includes a contact cleaning unit 100, an ultrasonic cleaning unit 101, and a draining unit 102. In the contact cleaning unit 100, the detergent is sprayed on the front and back surfaces of the glass substrate 103 by the detergent spray device 105 while being transported by the plurality of pairs of transfer rollers 104 contacting only the both side edges thereof. The front and back surfaces are cleaned. Next, the front and back surfaces of the glass substrate 103 are rinsed by the pure water injection device 107 and the roller brush 108, and water on the front and back surfaces of the glass substrate 103 is sucked by the water absorbing roller 109. The glass substrates 103 are stored in the cassette 110 by a plurality of predetermined sheets, and the cassette 110 and the ultrasonic cleaning unit 10 in the next step are stored together.
Sent to 1.

【0005】超音波洗浄部101は、1槽から8槽まで
の互いに独立した8の貯槽を有している。1〜8槽には
各槽が収納する液体に超音波を発生させる超音波発振装
置が設けられている。1、2槽には洗剤が入った純水が
収納され、約50℃に加熱保持されている。3、4槽に
はガラス基板をリンスするための純水が収納され、約5
0℃に加熱保持されている。5〜8槽には加熱されない
純水が収納されている。カセット110に収納されて超
音波洗浄部101に搬送されたガラス基板103は、前
記各槽の液体に順次浸漬され、図示しない搬送装置によ
って搬送されていく。複数の槽を設けてガラス基板10
3を順次きれいな純水中に浸漬して洗浄していくことに
より、高い洗浄効果が得られる。
[0005] The ultrasonic cleaning unit 101 has eight independent storage tanks from one to eight. Each of the first to eighth tanks is provided with an ultrasonic oscillator for generating an ultrasonic wave in the liquid stored in each tank. Pure water containing a detergent is stored in the first and second tanks, and is heated and maintained at about 50 ° C. Pure water for rinsing the glass substrate is stored in tanks 3 and 4, and about 5
Heated and maintained at 0 ° C. Pure water that is not heated is stored in 5 to 8 tanks. The glass substrate 103 stored in the cassette 110 and transported to the ultrasonic cleaning unit 101 is sequentially immersed in the liquid in each of the tanks and transported by a transport device (not shown). The glass substrate 10 is provided by providing a plurality of tanks.
By sequentially immersing 3 in clean pure water for cleaning, a high cleaning effect can be obtained.

【0006】水切り部102は、9槽、10槽、11槽
の互いに独立した3の貯槽を有している。9槽と10槽
にはフロン液が入っている。11槽にはフロンベーパが
収納されている。フロンは比重が1.55と水よりも大
きく、水に溶解しない性質を有する。従って、水滴のつ
いたガラス基板103をフロン液やフロン雰囲気中に晒
せば、ガラス基板103に付着している水を浮かせて分
離することができる。
[0006] The drainer 102 has three independent storage tanks of nine, ten, and eleven tanks. The 9 and 10 tanks contain Freon liquid. The 11 tanks contain Freon vapor. CFC has a specific gravity of 1.55, which is larger than that of water, and has the property of not being dissolved in water. Therefore, if the glass substrate 103 with the water droplets is exposed to a chlorofluorocarbon solution or a chlorofluorocarbon atmosphere, the water attached to the glass substrate 103 can be separated by floating.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述のように従来の洗
浄装置では水切り工程にフロンを使用していたが、フロ
ンはオゾン層を破壊する原因となるため、地球環境保護
の観点から規制が強化され、近い将来その使用が全面禁
止される方向にある。従って従来の洗浄装置における水
切り装置は使用できなくなってしまう。
As described above, in the conventional cleaning apparatus, chlorofluorocarbon is used in the draining process. However, chlorofluorocarbon causes destruction of the ozone layer. Therefore, regulations are tightened from the viewpoint of protection of the global environment. In the near future, its use will be banned entirely. Therefore, the draining device in the conventional cleaning device cannot be used.

【0008】本発明は、フロンを使用しないで水切りを
行える洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とし
ている。
[0008] An object of the present invention is to provide a cleaning apparatus and a cleaning method capable of draining without using Freon.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載された洗
浄方法は、被洗浄体の表面に洗浄部材を接触させて被洗
浄体の表面を洗浄する接触洗浄工程と、前記接触洗浄工
程を通過した被洗浄体を超音波で振動する洗浄液中に浸
漬して洗浄する超音波洗浄工程と、前記超音波洗浄工程
を通過した被洗浄体を、純水が供給されて純水が溢れ出
ている浸漬槽に収納された50℃以上の純水に浸漬して
40℃以上に加熱した後、前記純水から前記純水の水面
に対して実質的に垂直な方向に10mm/秒以下の速度
で前記被洗浄体を相対的に引き上げる水切り工程と、
有する洗浄方法において、前記水切り工程において前記
被洗浄体を前記純水から引き上げる前に、前記浸漬槽へ
の純水の供給及び前記浸漬槽の純水の加熱を所定時間停
止して浸漬槽の純水の表面に波紋が立たないようにした
ものである
According to a first aspect of the present invention, there is provided a cleaning method comprising: a contact cleaning step of contacting a cleaning member with a surface of a body to be cleaned to clean the surface of the body to be cleaned; An ultrasonic cleaning step of immersing the passed object to be cleaned in a cleaning liquid vibrating with an ultrasonic wave to clean the object, and the cleaning object passing through the ultrasonic cleaning step is supplied with pure water and overflows with pure water.
After being immersed in pure water at 50 ° C. or higher and stored at 40 ° C. or higher in a immersion tank, the temperature of the pure water is 10 mm / sec or less in a direction substantially perpendicular to the surface of the pure water. a draining step of pulling relatively the cleaning object at a speed, a
In the cleaning method having, in the draining step,
Before lifting the object to be cleaned from the pure water,
Supply of pure water and heating of the pure water in the immersion tank are stopped for a predetermined time.
Stop to prevent ripples on the surface of pure water in the immersion tank
Things .

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】請求項に記載された洗浄方法は、請求項
1記載の洗浄方法において、前記超音波洗浄工程と前記
水切り工程の間に、前記超音波洗浄工程を通過した被洗
浄体を該被洗浄体よりも温度の高い純水に浸漬して加熱
する予熱工程を有することを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, in the cleaning method of the first aspect, between the ultrasonic cleaning step and the draining step, the object to be cleaned that has passed through the ultrasonic cleaning step is removed. The method is characterized by having a preheating step of immersing in pure water having a higher temperature than the cleaning body and heating.

【0013】請求項に記載された洗浄方法は、請求項
1記載の洗浄方法において、前記水切り工程において被
洗浄体が浸漬される純水は1μm以下の濾過精度を有す
るフィルタを通過した純水であることを特徴としてい
る。
According to a third aspect of the present invention, in the cleaning method of the first aspect, the pure water into which the object to be cleaned is immersed in the draining step is pure water that has passed through a filter having a filtration accuracy of 1 μm or less. It is characterized by being.

【0014】請求項に記載された洗浄方法は、請求項
1記載の洗浄方法において、前記純水がオゾンを含有し
ていることを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the cleaning method of the first aspect, the pure water contains ozone.

【0015】[0015]

【0016】請求項に記載された洗浄装置は、移送さ
れる被洗浄体に接触して被洗浄体を洗浄する洗浄部材を
備えた接触洗浄部と、前記接触洗浄部において洗浄され
た被洗浄体が浸漬される洗浄液を収納するための洗浄槽
と、前記洗浄槽中の洗浄液に超音波を発生させる超音波
発生手段とを備えた超音波洗浄部と、前記超音波洗浄部
で洗浄された被洗浄体が浸漬される純水を収納するため
の浸漬槽と、被洗浄体を前記浸漬槽の純水内と前記浸漬
槽の純水の上方との間において所望の速度で相対的に移
動させる移動手段とを備えた水切り部と、前記接触洗浄
部と前記超音波洗浄部と前記水切り部との間で被洗浄体
を搬送する搬送手段とを有している。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a cleaning apparatus, comprising: a contact cleaning section provided with a cleaning member for cleaning a body to be cleaned by contacting the body to be transported; and a cleaning section cleaned by the contact cleaning section. A cleaning tank for storing a cleaning liquid in which the body is immersed, an ultrasonic cleaning unit including an ultrasonic generation unit for generating ultrasonic waves in the cleaning liquid in the cleaning tank, and the ultrasonic cleaning unit. An immersion tank for storing pure water into which the object to be cleaned is immersed, and the object to be cleaned relatively moved at a desired speed between the pure water in the immersion tank and the upper side of the pure water in the immersion tank. A drain unit provided with a moving unit for performing the cleaning; and a transport unit for transporting the object to be cleaned between the contact cleaning unit, the ultrasonic cleaning unit, and the drain unit.

【0017】請求項に記載された洗浄装置は、請求項
記載の洗浄装置において、洗浄済みの被洗浄体よりも
温度の高い純水を収納して洗浄済みの被洗浄体を浸漬す
るための予熱槽と、被洗浄体を前記予熱槽の純水内と前
記予熱槽の純水の上方との間において所望の速度で移動
させる移動手段とを備え、洗浄済みの被洗浄体を該被洗
浄体よりも温度の高い純水に浸漬して加熱した後、所定
の速度以上の速度で引き上げる予熱部を、前記超音波洗
浄部と前記水切り部の間に設けたことを特徴としてい
る。
[0017] The cleaning device according to the sixth aspect is characterized by the following.
5. The cleaning apparatus according to 5 , wherein a preheating tank for storing pure water having a higher temperature than that of the cleaned object to be washed and immersing the cleaned object to be cleaned is provided in the pure water of the preheating tank. And a moving means for moving at a desired speed between the pure water in the preheating tank and the pure water in the preheating tank. And a preheating unit for raising at a speed higher than a predetermined speed is provided between the ultrasonic cleaning unit and the draining unit.

【0018】請求項に記載された洗浄装置は、請求項
記載の洗浄装置において、前記接触洗浄部で洗浄され
た被洗浄体が収納されるカセットを有し、前記搬送手段
は被洗浄体を収納した前記カセットを搬送することを特
徴としている。
[0018] The cleaning device according to the ninth aspect provides the cleaning device according to the first aspect.
5. The cleaning apparatus according to claim 5 , further comprising a cassette in which the body to be cleaned cleaned by the contact cleaning unit is stored, wherein the transport unit transports the cassette storing the body to be cleaned.

【0019】請求項に記載された洗浄装置は、請求項
記載の洗浄装置において、前記水切り部の浸漬槽に純
水を供給するための管路に3〜0.5μmの濾過精度の
フィルタを設けたことを特徴としている。
[0019] The cleaning apparatus according to the eighth aspect is characterized in that:
5. The cleaning apparatus according to 5 , wherein a filter having a filtration accuracy of 3 to 0.5 [mu] m is provided in a pipe for supplying pure water to the immersion tank of the drain section.

【0020】請求項に記載された洗浄装置は、請求項
記載の洗浄装置において、前記水切り部の浸漬槽が、
浸漬槽から溢れた純水を受ける補助槽を有していること
を特徴としている。
[0020] The cleaning device according to the ninth aspect provides a cleaning device according to the first aspect.
5. In the cleaning device according to 5, the immersion tank of the draining section is:
It is characterized by having an auxiliary tank for receiving pure water overflowing from the immersion tank.

【0021】請求項10に記載された洗浄装置は、請求
記載の洗浄装置において、前記補助槽が受けた純水
を前記浸漬槽に循環させる管路に、循環ポンプとフィル
タを設けたことを特徴としている。
According to a tenth aspect of the present invention, in the cleaning apparatus of the ninth aspect , a circulation pump and a filter are provided in a pipe for circulating the pure water received by the auxiliary tank to the immersion tank. It is characterized by.

【0022】請求項11に記載された洗浄装置は、請求
8又は10記載の洗浄装置において、前記フィルタが
複数個設けられたことを特徴としている。
A cleaning apparatus according to an eleventh aspect is characterized in that in the cleaning apparatus according to the eighth or tenth aspect , a plurality of the filters are provided.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明の第1の実施の形態を図1
を参照して説明する。本例の洗浄装置は、被洗浄体とし
てのガラス基板の表面を洗浄するための装置である。こ
のガラス基板は、例えば蛍光表示装置の外囲器の一部を
構成するガラス基板等である。本例の洗浄装置は、接触
洗浄部と、超音波洗浄部と、水切り部1と、ガラス基板
を収納したカセット2をこれら各部の間で搬送する搬送
手段と、前記各部及び搬送手段を制御する制御部を有し
ている。接触洗浄部と超音波洗浄部の機械的な構成は図
5を参照して説明した従来の技術と略同様であり、本装
置は主として水切り部1の構成と作用に特徴を有する。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. The cleaning device of the present example is a device for cleaning the surface of a glass substrate as a body to be cleaned. This glass substrate is, for example, a glass substrate that constitutes a part of an envelope of the fluorescent display device. The cleaning apparatus of this example controls a contact cleaning unit, an ultrasonic cleaning unit, a draining unit 1, a transport unit that transports a cassette 2 containing a glass substrate between these units, and controls the units and the transport unit. It has a control unit. The mechanical configuration of the contact cleaning unit and the ultrasonic cleaning unit is substantially the same as the conventional technology described with reference to FIG. 5, and the present apparatus is mainly characterized by the configuration and operation of the draining unit 1.

【0024】接触洗浄部は、移送される被洗浄体に接触
して被洗浄体を洗浄する回転ブラシ等の洗浄部材を備え
ている。超音波洗浄部は、前記接触洗浄部において洗浄
された被洗浄体が浸漬される洗浄液又は純水を収納する
ための複数の洗浄槽と、各洗浄槽中の洗浄液又は純水に
超音波を発生させる超音波発生手段とを備えている。ま
た本例においては、前記接触洗浄部で洗浄された被洗浄
体は所定枚数毎にカセット2に収納され、前記カセット
2は搬送手段によって前記接触洗浄部と前記超音波洗浄
部と前記水切り部1との間を搬送される。
The contact cleaning section includes a cleaning member such as a rotary brush for cleaning the body to be cleaned by contacting the body to be transferred. The ultrasonic cleaning unit includes a plurality of cleaning tanks for storing a cleaning liquid or pure water in which the object to be cleaned cleaned in the contact cleaning unit is immersed, and generates ultrasonic waves in the cleaning liquid or pure water in each cleaning tank. And an ultrasonic wave generating means. Further, in the present embodiment, the objects to be cleaned cleaned by the contact cleaning unit are stored in the cassette 2 for every predetermined number of sheets, and the cassette 2 is transported by the transport unit to the contact cleaning unit, the ultrasonic cleaning unit, and the draining unit 1. Is transported between

【0025】接触洗浄部と超音波洗浄部は従来と略同様
であるが、これらの各部も含めて本例の洗浄装置の少な
くとも一部分で使用されている純水は、従来の洗浄装置
で使用されている純水とは異なる。即ち、従来の洗浄装
置で使用されていた純水はイオン交換樹脂を用いて製造
した純水であったが、本装置の少なくとも一部において
使用される純水は純水製造装置で製造した純水を貯槽に
収納し、そこにオゾン発生装置でオゾンを発生させてオ
ゾンを0.1〜0.5ppm含有させた純水である。オ
ゾンは純水中の細菌や微小有機物を分解する作用があ
り、純水中の細菌の増殖は抑えられる。またオゾンはO
3 →O2 +(O)と分解して発生期の酸素を発生させる
ので、酸化作用があり、酸洗浄と同様の洗浄効果が期待
できる。このオゾン入り純水は、加熱するとオゾンが分
解するので、純水を加熱しない接触洗浄部においては使
用できる。また、前記超音波洗浄部においては、純水を
加熱しない5槽から8槽において使用できる。
Although the contact cleaning unit and the ultrasonic cleaning unit are substantially the same as the conventional one, pure water used in at least a part of the cleaning apparatus of this embodiment including these parts is used in the conventional cleaning apparatus. Is different from pure water. That is, the pure water used in the conventional cleaning apparatus was pure water produced using an ion exchange resin, but the pure water used in at least a part of the present apparatus is pure water produced in a pure water producing apparatus. Pure water in which water is stored in a storage tank and ozone is generated therein by an ozone generator to contain 0.1 to 0.5 ppm of ozone. Ozone has a function of decomposing bacteria and minute organic substances in pure water, and suppresses the growth of bacteria in pure water. Ozone is O
Since it decomposes into 3 → O 2 + (O) to generate nascent oxygen, it has an oxidizing effect, and the same cleaning effect as acid cleaning can be expected. Since the ozone-containing pure water decomposes ozone when heated, it can be used in a contact cleaning unit that does not heat pure water. Further, in the ultrasonic cleaning section, it can be used in 5 to 8 tanks that do not heat pure water.

【0026】なお、前述したオゾン入り純水を使用せ
ず、通常の純水を使用する場合には、超音波洗浄部にお
いて5槽から8槽の純水を加熱してもよい。その場合に
は、後述する水切り部1に入る直前でガラス基板が加熱
されるので、ガラス基板を加熱する水切り工程の前工程
として予熱の効果が得られ好都合である。
When ordinary pure water is used instead of the above-described pure water containing ozone, the pure water in 5 to 8 tanks may be heated in the ultrasonic cleaning section. In this case, since the glass substrate is heated immediately before entering the water draining section 1 described later, a preheating effect can be advantageously obtained as a pre-process of the water draining step of heating the glass substrate.

【0027】次に、本例の構成及び作用における主要な
特徴である水切り部1について説明する。図1に示す水
切り部1は、前述した超音波洗浄部の隣に設置される。
水切り部1には、前記超音波洗浄部で洗浄された被洗浄
体が浸漬される純水を収納するための浸漬槽3が設けら
れている。浸漬槽3は、上面が開放されたステンレス製
の容器である。浸漬槽3の内部には加熱手段としての蒸
気管4が設置されている。浸漬槽3内にある蒸気管4
は、その両端が浸漬槽3の壁部を貫通して外部に導かれ
ている。蒸気管4内には外部の図示しない蒸気供給手段
から蒸気が供給され、浸漬槽3内に収納される液体(純
水)を所望の温度に加熱し、同温度に保持できるように
なっている。この浸漬槽3には、浸漬槽3から溢れた純
水を受ける補助槽5が設けられている。
Next, the drainer 1 which is a main feature of the configuration and operation of the present embodiment will be described. The drainer 1 shown in FIG. 1 is installed next to the above-described ultrasonic cleaning unit.
The draining section 1 is provided with an immersion tank 3 for storing pure water in which the object to be cleaned cleaned by the ultrasonic cleaning section is immersed. The immersion tank 3 is a stainless steel container having an open upper surface. Inside the immersion tank 3, a steam pipe 4 as a heating means is installed. Steam pipe 4 in immersion tank 3
Are guided to the outside through both ends of the immersion tank 3. Steam is supplied into the steam pipe 4 from an external steam supply means (not shown), and the liquid (pure water) contained in the immersion tank 3 is heated to a desired temperature and can be maintained at the same temperature. . The immersion tank 3 is provided with an auxiliary tank 5 for receiving pure water overflowing from the immersion tank 3.

【0028】水切り部1には、前記浸漬槽3の近傍に移
動手段6が設けられている。移動手段6は、ガラス基板
を収納したカセット2を保持する保持装置6aと、該保
持装置6aを上下方向に移動させる昇降装置6bとを有
している。本移動手段6によれば、浸漬槽3の純水内と
浸漬槽3の純水の上方との間においてカセット2を所望
の速度で昇降させ、カセット2に収納されたガラス基板
を純水に浸漬したり、また純水に浸漬したガラス基板を
純水から引き上げたりすることができる。なお、本移動
手段6によってカセット2が昇降する方向は、浸漬槽3
の純水の表面(水平面)に実質的に垂直な方向(鉛直方
向)である。
The draining unit 1 is provided with a moving means 6 near the immersion tank 3. The moving means 6 has a holding device 6a for holding the cassette 2 containing the glass substrates, and an elevating device 6b for moving the holding device 6a in the vertical direction. According to the present moving means 6, the cassette 2 is raised and lowered at a desired speed between the pure water in the immersion tank 3 and the upper side of the pure water in the immersion tank 3, and the glass substrate stored in the cassette 2 is converted into pure water. The glass substrate immersed or immersed in pure water can be pulled out of pure water. The direction in which the cassette 2 is moved up and down by the moving means 6 depends on the dipping tank 3.
Is a direction (vertical direction) substantially perpendicular to the surface (horizontal plane) of the pure water.

【0029】前記補助槽5と浸漬槽3は管路7で連通し
ている。管路7の途中には、循環ポンプ8とフィルタ
9,10が設けられている。循環ポンプ8は、補助槽5
の純水を浸漬槽3に循環させる。フィルタ9,10は、
ガラス基板の表面に配線導体を形成する際に好ましくな
いゴミを除去するため、濾過精度の範囲が3〜0.5μ
mのフィルタであることが好ましく、本例では1〜3μ
mの第1のフィルタ9と、1〜0.5μmの第2のフィ
ルタ10の2個のフィルタが使用されている。これによ
って、補助槽5と浸漬槽3の間で循環して使用される間
に、純水からは洗浄に害を及ぼすパーティクルが除去さ
れる。
The auxiliary tank 5 and the immersion tank 3 communicate with each other through a pipe 7. A circulation pump 8 and filters 9 and 10 are provided in the middle of the pipe 7. The circulation pump 8 is
Is circulated through the immersion tank 3. Filters 9 and 10 are
In order to remove undesired dust when forming a wiring conductor on the surface of a glass substrate, the range of filtration accuracy is 3 to 0.5 μm.
m, and in this example, 1-3 μm
Two filters are used, a first filter 9 of m and a second filter 10 of 1 to 0.5 μm. Thereby, while circulating and using between the auxiliary tank 5 and the immersion tank 3, particles that harm the cleaning are removed from the pure water.

【0030】本装置が有する搬送手段は、接触洗浄され
た1枚又は複数枚のガラス基板が収納されたカセット2
を、接触洗浄部と超音波洗浄部と水切り部1との間で搬
送する機能を備えた装置である。その構成は上記機能を
達成するものであればよく、例えばカセット2を安定的
に保持する保持装置と、該保持装置を任意に昇降させる
とともに前記各部に沿って移動させる移動装置等を備え
ていればよい。
The transport means of the apparatus is a cassette 2 containing one or more glass substrates that have been contact-cleaned.
Which has a function of transporting the water between the contact cleaning unit, the ultrasonic cleaning unit, and the draining unit 1. The configuration may be any as long as it achieves the above-mentioned functions. For example, a holding device for stably holding the cassette 2 and a moving device for moving the holding device up and down arbitrarily and moving the cassette 2 along each part are provided. I just need.

【0031】本装置が有する制御手段は、例えばマイク
ロコンピュータ等によって構成できる。制御手段は、予
め設定した手順、前記各部等に設置された図示しない各
種センサ等から入力される洗浄に必要なデータ、そして
必要に応じて操作者が入力する運転データ等に従い、前
記各部及び搬送手段等を最適に制御して最短の時間で所
望枚数のガラス基板を所望の仕様で洗浄することができ
る。
The control means of the apparatus can be constituted by a microcomputer or the like, for example. The control means controls the components and the transport according to preset procedures, data necessary for cleaning input from various sensors (not shown) installed in the components, and operation data input by an operator as necessary. A desired number of glass substrates can be cleaned with desired specifications in the shortest time by optimally controlling means and the like.

【0032】以上の構成における作用を説明する。ガラ
ス基板は移送されながら水や洗剤の噴射を受け、回転ブ
ラシ等の洗浄部材によって表裏面を洗浄される。接触洗
浄部において洗浄されたガラス基板はカセット2に収納
される。カセット2に基板を収納する際には、基板の表
裏面に触れずに、基板の側面(板厚方向に平行な面)又
は側縁のみに接して基板を扱える装置を使用する。所定
の枚数のガラス基板を収納したカセット2は、搬送手段
によって超音波洗浄部に搬送される。
The operation of the above configuration will be described. The glass substrate is sprayed with water or detergent while being transferred, and the front and back surfaces are cleaned by a cleaning member such as a rotating brush. The glass substrate cleaned in the contact cleaning section is stored in the cassette 2. When storing the substrate in the cassette 2, a device that can handle the substrate only in contact with the side surface (the surface parallel to the plate thickness direction) or the side edge of the substrate without touching the front and back surfaces of the substrate is used. The cassette 2 containing a predetermined number of glass substrates is transported to the ultrasonic cleaning unit by the transport unit.

【0033】ガラス基板を収納したカセット2は、超音
波洗浄部が有する複数の洗浄槽に順次浸漬されて洗浄さ
れる。超音波洗浄部において洗浄されたカセット2入り
のガラス基板は搬送手段によって水切り部1に搬送され
る。
The cassette 2 containing the glass substrates is sequentially immersed in a plurality of cleaning tanks of the ultrasonic cleaning unit to be cleaned. The glass substrate in the cassette 2 cleaned in the ultrasonic cleaning unit is transferred to the draining unit 1 by the transfer unit.

【0034】搬送手段は、カセット2を水切り部1の移
動手段6に渡す。移動手段6はカセット2を保持し、該
カセット2を下降させて浸漬槽3内の純水に浸漬する。
この時の下降速度は例えば50mm/秒以上程度の速い
速度である。
The transport means transfers the cassette 2 to the moving means 6 of the drainer 1. The moving means 6 holds the cassette 2, lowers the cassette 2, and immerses the cassette 2 in pure water in the immersion tank 3.
The descending speed at this time is a high speed of, for example, about 50 mm / sec or more.

【0035】この時、水切り部1の浸漬槽3の純水の温
度は約60〜65℃に設定されている。また、循環ポン
プ8は駆動しており、補助槽5の純水をフィルタ9,1
0を介して浸漬槽3に循環させている。
At this time, the temperature of the pure water in the immersion tank 3 of the drainer 1 is set at about 60 to 65 ° C. Further, the circulation pump 8 is driven, and the pure water in the auxiliary tank 5 is filtered by the filters 9 and 1.
0 and circulates in the immersion tank 3.

【0036】5秒間浸漬した後に循環ポンプ8と蒸気供
給手段の駆動を停止する。循環ポンプ8による純水の循
環は停止し、蒸気管4による純水の加熱も停止する。浸
漬槽3内の純水は動揺しなくなり、その表面の波紋は徐
々に消えていく。循環ポンプ8を停止してから10秒
後、浸漬槽3内の純水の表面から波紋が消失したころ
に、移動手段6によってカセット2の上昇を開始する。
上昇速度は10mm/秒羽化例えば5〜6mm/秒であ
り、下降時の速度に比べて非常に速い。
After immersion for 5 seconds, the driving of the circulation pump 8 and the steam supply means is stopped. The circulation of the pure water by the circulation pump 8 is stopped, and the heating of the pure water by the steam pipe 4 is also stopped. The pure water in the immersion tank 3 does not fluctuate, and the ripples on the surface gradually disappear. Ten seconds after stopping the circulation pump 8, when the ripples disappear from the surface of the pure water in the immersion tank 3, the moving means 6 starts to raise the cassette 2.
The ascending speed is 10 mm / sec. E.g., 5 to 6 mm / sec., Which is much faster than the descending speed.

【0037】浸漬槽3内のほぼ静止している約63℃の
純水の水平な表面に対し、カセット2に収納されたガラ
ス基板をほぼ鉛直方向に沿って前述のゆっくりした速度
で上方に引き上げていく。ガラス基板の表面に層状に付
着している純水は浸漬槽3内の純水に連続した状態を保
つことができる。ガラス基板に付着した純水は、浸漬槽
3内の純水の表面張力と自らの重力によって浸漬槽3に
向けて引き込まれる。ガラス基板の表面に付着した純水
は、水滴状になって残ることなく、浸漬槽3に戻る。又
補助槽13,14は一槽のみとしてもよい。
The glass substrate housed in the cassette 2 is lifted upward at almost the vertical direction at the above-mentioned slow speed against the horizontal surface of pure water of about 63 ° C. which is almost stationary in the immersion tank 3. To go. Pure water adhering in a layer on the surface of the glass substrate can maintain a state continuous with the pure water in the immersion tank 3. The pure water attached to the glass substrate is drawn into the immersion tank 3 by the surface tension of the pure water in the immersion tank 3 and its own gravity. Pure water adhering to the surface of the glass substrate returns to the immersion tank 3 without remaining in the form of water droplets. Further, the auxiliary tanks 13 and 14 may be only one tank.

【0038】ガラス基板は浸漬槽3内の約63℃の純水
によって少なくとも40℃以上に予熱されているので、
浸漬槽3の純水から出る蒸気が付着することもない。ま
た、引き上げ時に純水がガラス基板に微小な水滴として
残留したとしても、該水滴はガラス基板の熱によって蒸
発してガラス基板上には残らない。
Since the glass substrate is preheated to at least 40 ° C. by about 63 ° C. pure water in the immersion tank 3,
There is no attachment of steam from the pure water in the immersion tank 3. Further, even if pure water remains as fine water droplets on the glass substrate during lifting, the water droplets evaporate due to heat of the glass substrate and do not remain on the glass substrate.

【0039】水切り部1から出たガラス基板は、カセッ
ト2ごとコンベア式の搬送手段によって次工程へ搬送さ
れる。カセット2を搬送する経路は、外部と区画された
閉空間となっており、その内部には常に清浄化された空
気が送り込まれて内部を外部に対して陽圧に保ってい
る。即ちカセット2は無塵空間内を搬送されて次工程に
受け渡される。
The glass substrate coming out of the drainer 1 is transported to the next step by a conveyor-type transport means together with the cassette 2. The path for transporting the cassette 2 is a closed space partitioned from the outside, in which purified air is always supplied to keep the inside at a positive pressure with respect to the outside. That is, the cassette 2 is transported in the dust-free space and is transferred to the next process.

【0040】本例によれば、所定の温度に加熱した純水
の中にガラス基板を浸漬し、純水の表面がなるべく揺れ
ないようにゆっくりガラス基板を引き上げることによっ
て、ガラス基板の表面に付着した純水がガラス基板上に
残らないようにしている。浸漬槽3内の純水が揺れる
と、ガラス基板の表面の純水の膜と、浸漬槽3内の純水
とが途切れてしまうので、上記のような作用効果は得ら
れない。従って、ガラス基板は前述のようなゆっくりし
た速度で引き上げる必要がある。また、引き上げる所定
時間前には浸漬槽3内の純水に波がたたないように、循
環ポンプ8や蒸気加熱手段を停止する必要がある。ま
た、浸漬槽3内の純水の温度は、沸騰しない程度である
とともに、ガラス基板を適当な温度範囲に予熱できるよ
うにすることが好ましい。
According to this embodiment, the glass substrate is immersed in pure water heated to a predetermined temperature, and the glass substrate is slowly lifted up so that the surface of the pure water is not shaken as much as possible. The purified water is prevented from remaining on the glass substrate. When the pure water in the immersion tank 3 fluctuates, the pure water film on the surface of the glass substrate and the pure water in the immersion tank 3 are interrupted, so that the above-described effects cannot be obtained. Therefore, the glass substrate needs to be pulled up at a slow speed as described above. In addition, it is necessary to stop the circulation pump 8 and the steam heating means so that the pure water in the immersion tank 3 does not have a wave before a predetermined time before the lifting. Further, it is preferable that the temperature of the pure water in the immersion tank 3 is such that it does not boil and that the glass substrate can be preheated to an appropriate temperature range.

【0041】カセット2が搬出された直後、水切り部1
の循環ポンプ8及び蒸気供給手段を再び駆動し、浸漬槽
3内の純水を所定の温度に設定する。蒸気管4による加
熱は、運転停止時の温度低下と運転開始時の温度上昇が
急激であり、熱効率が高く温度制御上好都合である。
Immediately after the cassette 2 is unloaded, the drainer 1
The circulation pump 8 and the steam supply means are driven again to set the pure water in the immersion tank 3 to a predetermined temperature. The heating by the steam pipe 4 has a sharp drop in temperature at the time of operation stop and a sharp rise in temperature at the start of operation, and has high thermal efficiency and is convenient for temperature control.

【0042】なお、前記フィルタ9,10として、高温
の純水に長時間浸漬すると膨潤して精度が低下する繊維
状のものを使用する場合には、使用温度に限界を設けて
おくことが好ましい。例えば、75℃〜80℃、さらに
好ましくは70℃以下の温度で使用する。
In the case where fibrous filters which swell and deteriorate in accuracy when immersed in high-temperature pure water for a long time are used as the filters 9 and 10, it is preferable to limit the operating temperature. . For example, it is used at a temperature of 75 ° C to 80 ° C, more preferably 70 ° C or lower.

【0043】本発明の第2の実施の形態を図2を参照し
て説明する。本例の洗浄装置の適用対象と目的は第1の
実施の形態の装置と同一である。本例の洗浄装置は、接
触洗浄部と、超音波洗浄部と、予熱部11と、水切り部
1と、ガラス基板を収納したカセット2をこれら各部の
間で搬送する搬送手段と、前記各部及び搬送手段を制御
する制御部を有している。接触洗浄部と超音波洗浄部の
機械的な構成は図5を参照して説明した従来の技術と略
同様である。本装置は主として予熱部11及び水切り部
1の構成と作用に特徴を有する。
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The application object and the purpose of the cleaning apparatus of this example are the same as those of the apparatus of the first embodiment. The cleaning device of the present example includes a contact cleaning unit, an ultrasonic cleaning unit, a preheating unit 11, a draining unit 1, and a conveying unit that conveys a cassette 2 containing a glass substrate between these units; It has a control unit for controlling the transport means. The mechanical configuration of the contact cleaning unit and the ultrasonic cleaning unit is substantially the same as the conventional technology described with reference to FIG. This device is mainly characterized by the configuration and operation of the preheating unit 11 and the draining unit 1.

【0044】次に、本例の構成及び作用における主要な
特徴である予熱部11及び水切り部1について説明す
る。図2に示す予熱部11は、前述した超音波洗浄部と
水切り部1の間に設置される。本例の水切り部1の構成
は、図1を参照して説明した第1の実施の形態と実質的
に同一なので、図1と同様の構成部分には図1と同一の
符号を付して説明を省略する。
Next, a description will be given of the preheating unit 11 and the draining unit 1 which are main features of the configuration and operation of the present embodiment. The preheating unit 11 shown in FIG. 2 is installed between the above-described ultrasonic cleaning unit and the draining unit 1. Since the configuration of the drainer 1 of this example is substantially the same as that of the first embodiment described with reference to FIG. 1, the same components as those of FIG. Description is omitted.

【0045】本例の予熱部11は、前記超音波洗浄部で
洗浄された被洗浄体が浸漬される純水を収納するための
予熱槽12が設けられている。予熱槽12は、上面が開
放されたステンレス製の容器である。予熱槽12の内部
には加熱手段としての蒸気管4aが設置されている。予
熱槽12内にある蒸気管4aは、その両端が予熱槽12
の壁部を貫通して外部に導かれている。蒸気管4a内に
は外部の図示しない蒸気供給手段から蒸気が供給され、
予熱槽12内に収納される液体(純水)を所望の温度
(本例では64℃)に加熱し、同温度に保持できるよう
になっている。この予熱槽12には、予熱槽12から溢
れた純水を受ける第1補助槽13と、第1補助槽13か
ら溢れた純水を受ける第2補助槽14とが設けられてい
る。水切り部1の補助槽5から溢れた純水は、予熱部1
1の第1補助槽13に入るようになっている。
The preheating section 11 of this embodiment is provided with a preheating tank 12 for storing pure water into which the object to be cleaned, which has been cleaned by the ultrasonic cleaning section, is immersed. The preheating tank 12 is a stainless steel container having an open upper surface. Inside the preheating tank 12, a steam pipe 4a as a heating means is installed. Both ends of the steam pipe 4a in the preheating tank 12 are
Is guided to the outside through the wall portion. Steam is supplied into the steam pipe 4a from an external steam supply means (not shown).
The liquid (pure water) stored in the preheating tank 12 can be heated to a desired temperature (64 ° C. in this example) and maintained at the same temperature. The preheating tank 12 is provided with a first auxiliary tank 13 for receiving pure water overflowing from the preheating tank 12 and a second auxiliary tank 14 for receiving pure water overflowing from the first auxiliary tank 13. Pure water overflowing from the auxiliary tank 5 of the draining section 1 is supplied to the preheating section 1
The first auxiliary tank 13 is provided.

【0046】予熱部11には、前記予熱槽12の近傍に
移動手段6が設けられている。移動手段6は、ガラス基
板を収納したカセット2を保持する保持装置6aと、該
保持装置6aを上下方向に移動させる昇降装置6bとを
有している。本移動手段6によれば、予熱槽12の純水
内と予熱槽12の純水の上方との間においてカセット2
を所望の速度で昇降させ、カセット2に収納されたガラ
ス基板を純水に浸漬したり、また純水に浸漬したガラス
基板を純水から引き上げたりすることができる。なお、
本移動手段6によってカセット2が昇降する方向は、予
熱槽12の純水の表面(水平面)に実質的に垂直な方向
(鉛直方向)である。
The moving means 6 is provided in the preheating section 11 near the preheating tank 12. The moving means 6 has a holding device 6a for holding the cassette 2 containing the glass substrates, and an elevating device 6b for moving the holding device 6a in the vertical direction. According to the present moving means 6, the cassette 2 is placed between the pure water in the preheating tank 12 and the upper part of the pure water in the preheating tank 12.
Can be raised and lowered at a desired speed, and the glass substrate housed in the cassette 2 can be immersed in pure water, or the glass substrate immersed in pure water can be pulled up from pure water. In addition,
The direction in which the cassette 2 is moved up and down by the moving means 6 is a direction (vertical direction) substantially perpendicular to the surface (horizontal plane) of the pure water in the preheating tank 12.

【0047】前記第2補助槽14は管路15によって昇
温予備槽16に連通している。昇温予備槽16はステン
レス製の貯槽であり、蒸気を外部に逃がさないために蓋
16aを有しており、内部に貯留する液体(純水)の温
度を常に一定(本例では69℃)に加熱・保持する。昇
温予備槽16から管路17を経て流出する純水は、循環
ポンプ8a及びフィルタ9a,10aを介して予熱槽1
2に循環している。循環ポンプ8aは、第2補助槽14
の純水を昇温予備槽16を経て予熱槽12に循環させ
る。フィルタ9a,10aは、前記第1の実施の形態に
おける水切り部1のフィルタ9,10と同一である。
The second auxiliary tank 14 communicates with a preheating tank 16 through a pipe 15. The preheating tank 16 is a storage tank made of stainless steel, and has a lid 16a for preventing vapor from leaking to the outside. The temperature of the liquid (pure water) stored inside is always constant (69 ° C. in this example). Heat and hold. Pure water flowing out of the preheating tank 16 via the pipe line 17 is supplied to the preheating tank 1 via the circulation pump 8a and the filters 9a and 10a.
Circulating to 2. The circulation pump 8a is connected to the second auxiliary tank 14
Is circulated through the preheating tank 16 to the preheating tank 12. The filters 9a and 10a are the same as the filters 9 and 10 of the drainer 1 in the first embodiment.

【0048】本例の洗浄装置は、予熱部11と水切り部
1に純水を供給する純水の供給手段として純水加熱槽1
8を備えている。純水加熱槽18には、外部の純水供給
源から導かれた供給管19が連結されている。供給管1
9の途中には、濾過精度の範囲が10μmのフィルタ2
0と、同3μmのフィルタ21と、電磁弁22とが直列
に接続されている。電磁弁22を適宜に操作することに
よって、純水加熱槽18の内部には常に必要十分な量の
純水を貯留しておくことができる。
The cleaning apparatus according to the present embodiment includes a pure water heating tank 1 as a pure water supply means for supplying pure water to the preheating unit 11 and the draining unit 1.
8 is provided. A supply pipe 19 led from an external pure water supply source is connected to the pure water heating tank 18. Supply pipe 1
In the middle of 9, a filter 2 having a filtration accuracy range of 10 μm
0, a filter 21 of 3 μm, and a solenoid valve 22 are connected in series. By appropriately operating the electromagnetic valve 22, a necessary and sufficient amount of pure water can always be stored inside the pure water heating tank 18.

【0049】純水加熱槽18の内部には加熱手段として
の蒸気管4bが設置されている。純水加熱槽18内にあ
る蒸気管4bは、その両端が純水加熱槽18の壁部を貫
通して外部に導かれている。蒸気管4b内には外部の図
示しない蒸気供給手段から蒸気が供給され、純水加熱槽
18内に収納される液体(純水)を所望の温度(本例で
は70℃)に加熱し、同温度に保持できるようになって
いる。
Inside the pure water heating tank 18 is provided a steam pipe 4b as a heating means. Both ends of the steam pipe 4 b in the pure water heating tank 18 are guided to the outside through the wall of the pure water heating tank 18. Steam is supplied into the steam pipe 4b from an external steam supply means (not shown), and the liquid (pure water) stored in the pure water heating tank 18 is heated to a desired temperature (70 ° C. in this example). The temperature can be maintained.

【0050】純水加熱槽18には、循環管路23が接続
されており、該循環管路23には循環ポンプ8bと、濾
過精度の範囲が3μm及び1μmの2つのフィルタ21
b,9bとが直列に接続されている。純水加熱槽18内
部の純水は、循環ポンプ8bによって循環されて温度が
均一に保たれる。そして、循環管路23の一部が電磁弁
24を介して水切り部1の管路7に接続されている。ま
た、前記昇温予備槽16の水面上限位置に接続されたオ
ーバーフロー管25が、純水加熱槽18に接続されてい
る。
A circulation line 23 is connected to the pure water heating tank 18. The circulation line 23 is connected to a circulation pump 8 b and two filters 21 having filtration accuracy ranges of 3 μm and 1 μm.
b and 9b are connected in series. The pure water in the pure water heating tank 18 is circulated by the circulation pump 8b to keep the temperature uniform. Then, a part of the circulation pipe 23 is connected to the pipe 7 of the draining section 1 via the electromagnetic valve 24. An overflow pipe 25 connected to the upper limit position of the water surface of the preliminary heating tank 16 is connected to the pure water heating tank 18.

【0051】本装置が有する搬送手段は、接触洗浄され
た1枚又は複数枚のガラス基板が収納されたカセット2
を、接触洗浄部と超音波洗浄部と予熱部11と水切り部
1との間で搬送する機能を備えた装置であり、第1の実
施の形態における搬送手段と実質的に同一の構成であ
る。
The transport means of this apparatus is a cassette 2 containing one or more glass substrates that have been contact-cleaned.
Having a function of transporting the liquid between the contact cleaning unit, the ultrasonic cleaning unit, the preheating unit 11 and the draining unit 1, and has substantially the same configuration as the transport unit in the first embodiment. .

【0052】本装置は、第1の実施の形態における洗浄
装置と同様の機能を有する制御手段を備えている。
This apparatus is provided with control means having the same functions as those of the cleaning apparatus according to the first embodiment.

【0053】以上の構成における作用を説明する。接触
洗浄部において洗浄されたガラス基板はカセット2に収
納される。所定の枚数のガラス基板を収納したカセット
2は、搬送手段によって超音波洗浄部に搬送される。超
音波洗浄部において洗浄されたカセット2入りのガラス
基板は搬送手段によって予熱部11に搬送される。
The operation of the above configuration will be described. The glass substrate cleaned in the contact cleaning section is stored in the cassette 2. The cassette 2 containing a predetermined number of glass substrates is transported to the ultrasonic cleaning unit by the transport unit. The glass substrate in the cassette 2 cleaned in the ultrasonic cleaning unit is transferred to the preheating unit 11 by the transfer unit.

【0054】搬送手段から予熱部11の移動手段6に受
け渡されたカセット2は、移動手段6によって下降して
予熱槽12内の純水内に浸漬される。下降の速度は50
〜60mm/秒である。浸漬時間は超音波洗浄部の各洗
浄槽における浸漬時間と同じで約110秒であるが、1
0秒前には循環ポンプ8を停止する。時間経過後、直ち
に移動手段6を駆動して50〜60mm/秒の速度でカ
セット2を上昇させ、純水から引き上げる。
The cassette 2 transferred from the conveying means to the moving means 6 of the preheating section 11 is lowered by the moving means 6 and immersed in pure water in the preheating tank 12. The descent speed is 50
6060 mm / sec. The immersion time is the same as the immersion time in each cleaning tank of the ultrasonic cleaning unit, and is about 110 seconds.
0 seconds before, the circulation pump 8 is stopped. Immediately after the lapse of time, the moving means 6 is driven to raise the cassette 2 at a speed of 50 to 60 mm / sec, and lift the cassette 2 from pure water.

【0055】ガラス基板は濡れたままで放置すると表面
にしみができてしまうので、超音波洗浄部から搬送され
たガラス基板は速やかに予熱槽12に浸漬する。そのた
め、移動手段6によるガラス基板の上昇速度は50〜6
0mm/秒と高速に設定されている。
If the glass substrate is left wet, the surface may be stained. Therefore, the glass substrate transported from the ultrasonic cleaning unit is immediately immersed in the preheating tank 12. Therefore, the rising speed of the glass substrate by the moving means 6 is 50 to 6
The speed is set as high as 0 mm / sec.

【0056】予熱部11は、水切り部1においてガラス
基板を所定の温度に加熱するための前工程であり、予熱
されたガラス基板は温度が低下しないうちに速やかに引
き上げて次工程の水切り部1に引き渡さなければならな
い。そのため、移動手段6によるガラス基板の上昇速度
は下降速度と同等に高速に設定されている。
The preheating unit 11 is a pre-process for heating the glass substrate to a predetermined temperature in the draining unit 1. The preheated glass substrate is quickly pulled up before the temperature is lowered, and the pre-heating glass substrate is raised in the next step. Must be handed over. Therefore, the rising speed of the glass substrate by the moving means 6 is set to be as high as the descending speed.

【0057】予熱部11で予熱されたカセット2入りの
ガラス基板は、搬送手段によって水切り部1の移動手段
6に受け渡される。、水切り部1における処理の手順は
前述した第1の実施の形態における作用と同様である。
The glass substrate in the cassette 2 preheated by the preheating section 11 is transferred to the moving means 6 of the draining section 1 by the transport means. The procedure of the processing in the water draining section 1 is the same as the operation in the first embodiment described above.

【0058】図3は、本発明の実施の形態における効果
を示す。所定寸法の正方形のガラス基板を被洗浄体と
し、前記第1乃至第2の実施の形態における洗浄装置を
用いて洗浄を行い、その後に全面にアルミニウムを蒸着
した。そのアルミニウム膜中に発見されたピンホールの
数の相対値を11個のサンプルについて示した。従来の
フロン洗浄品の場合のピンホールが一番多い個数を1と
すると、従来品は0.5〜1.0の間に位置している
が、本発明品では最大でも0.25個程度に止まり、従
来品よりピンホールの数が少なくなった。
FIG. 3 shows the effect of the embodiment of the present invention. A square glass substrate having a predetermined size was used as the object to be cleaned, and cleaning was performed using the cleaning apparatus according to the first or second embodiment. Thereafter, aluminum was deposited on the entire surface. The relative values of the number of pinholes found in the aluminum film are shown for 11 samples. Assuming that the number of pinholes is 1 in the case of the conventional CFC-cleaned product, the conventional product is located between 0.5 and 1.0, but the present product is at most about 0.25. The number of pinholes was smaller than that of the conventional product.

【0059】図4は、本発明の実施の形態における効果
を示す。図4は、フロン洗浄による従来品のガラス基板
と、本発明の洗浄方法によるガラス基板について、ガラ
ス基板を用いて作成する蛍光表示管の種類毎に、AD率
(導通不良率)を調査して表示した結果を示す。AD率
は、従来のAD率を100とした時の本発明のAD率の
相対値で示す。一般品とは、ガラス基板上にAlによっ
て配線や陽極導体を形成し、該陽極導体上に設けた蛍光
体槽の発光を対面する全面基板を通して観察するいわゆ
る直視形の蛍光表示管である。FV品とは、ガラス基板
にAlによって配線や透光性を有する陽極導体を形成
し、該陽極導体上に設けた蛍光体槽の発光を該ガラス基
板を通して観察するいわゆる前面発光形の蛍光表示管で
ある。無反射品とは、ガラス基板とAlからなる配線と
の間に反射防止膜があるタイプの蛍光表示管である。ド
ット品とは、所定のパターンで配列された多数のドット
状の発光部を有し、任意の文字・画像等を表示する蛍光
表示管であり、各ドット毎に配線を有するのでガラス基
板上の配線が細くかつ引回しが複雑である。いずれのタ
イプの蛍光表示管においても、本発明によって洗浄した
ガラス基板による製品の方が、従来の洗浄方法によって
得たガラス基板による製品よりも、歩留りがよく、AD
率が低かった。
FIG. 4 shows the effect of the embodiment of the present invention. FIG. 4 shows an investigation of the AD ratio (conduction defect rate) for each type of fluorescent display tube made using the glass substrate, for the conventional glass substrate obtained by cleaning with Freon and the glass substrate obtained by the cleaning method of the present invention. The displayed result is shown. The AD ratio is shown as a relative value of the AD ratio of the present invention when the conventional AD ratio is set to 100. The general product is a so-called direct-view type fluorescent display tube in which a wiring or an anode conductor is formed of Al on a glass substrate, and the light emission of the phosphor tank provided on the anode conductor is observed through the entire surface of the facing substrate. An FV product is a so-called front emission type fluorescent display tube in which a wiring or a translucent anode conductor is formed of Al on a glass substrate, and light emitted from a phosphor tank provided on the anode conductor is observed through the glass substrate. It is. The non-reflective type is a fluorescent display tube of a type having an antireflection film between a glass substrate and a wiring made of Al. The dot product is a fluorescent display tube having a large number of dot-shaped light-emitting portions arranged in a predetermined pattern and displaying arbitrary characters, images, and the like. Wiring is thin and routing is complicated. In any type of fluorescent display tube, the product using the glass substrate cleaned according to the present invention has a higher yield than the product using the glass substrate obtained by the conventional cleaning method, and has a higher AD.
The rate was low.

【0060】以上説明した実施の形態においては、予熱
部11の予熱槽12と水切り部1の浸漬槽3がそれぞれ
1基づつであったが、それぞれ複数基設けてもよい。
In the embodiment described above, one preheating tank 12 for the preheating unit 11 and one immersion tank 3 for the draining unit 1 are provided, but a plurality of each may be provided.

【0061】以上説明した実施の形態においては、ガラ
ス基板を移動手段6で昇降させ、浸漬槽3内の純水に浸
漬したり、引き上げたりしていた。しかしながら、純水
中に浸漬されたガラス基板と該純水とを相対的に移動さ
せてガラス基板の表面に水滴を残さないようにするに
は、純水からガラス基板を所定の速度以下で引き上げる
だけでなく、浸漬槽3に対するガラス基板の位置を固定
して純水を所定の速度以下で徐々に浸漬槽3から排出し
て水面を低下させて行うこともできる。または、浸漬槽
3に対するガラス基板の位置を固定して浸漬槽3を所定
の速度以下で徐々に下降させ、ガラス基板に対する浸漬
槽3内の水面の位置を低下させてもよい。
In the embodiment described above, the glass substrate is moved up and down by the moving means 6 and is immersed in pure water in the immersion tank 3 or pulled up. However, in order to relatively move the glass substrate immersed in pure water and the pure water so as not to leave water droplets on the surface of the glass substrate, pull up the glass substrate from the pure water at a predetermined speed or less. Not only that, the position of the glass substrate with respect to the immersion tank 3 may be fixed, and pure water may be gradually discharged from the immersion tank 3 at a predetermined speed or less to lower the water level. Alternatively, the position of the glass substrate with respect to the immersion tank 3 may be fixed, and the immersion tank 3 may be gradually lowered at a predetermined speed or less to lower the position of the water surface in the immersion tank 3 with respect to the glass substrate.

【0062】以上説明した実施の形態においては、被洗
浄体としてガラス基板を例示したが、もちろんガラス以
外の基板にも本発明は適用できる。また、基板のような
板状の物品以外のものにも適用できる。
In the above-described embodiment, a glass substrate is illustrated as an object to be cleaned, but the present invention can be applied to substrates other than glass. Further, the present invention can also be applied to an article other than a plate-like article such as a substrate.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明の洗浄方法及び洗浄装置によれ
ば、所定の温度範囲に設定した純水に被洗浄体を浸漬
し、所定の速度以下の速度で被洗浄体を相対的に純水の
表面から離していくことにより、被洗浄体の表面に付着
した純水を確実に除去して水切りを行うことができる。
これによって、被洗浄体の表面の洗浄効果が高まり、そ
の後の被洗浄体に対する加工の効率及び歩留り等が向上
して製品の品質及び生産効率が向上した。
According to the cleaning method and the cleaning apparatus of the present invention, the object to be cleaned is immersed in pure water set at a predetermined temperature range, and the object to be cleaned is relatively pure water at a speed lower than a predetermined speed. By separating from the surface of the object to be cleaned, pure water adhering to the surface of the object to be cleaned can be reliably removed and draining can be performed.
As a result, the effect of cleaning the surface of the object to be cleaned is enhanced, the processing efficiency and the yield of the object to be cleaned thereafter are improved, and the quality and production efficiency of the product are improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の要部を示す構成図
である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a main part of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態の要部を示す構成図
である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a main part of a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態の効果を示すグラフであ
る。
FIG. 3 is a graph showing an effect of the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態の効果を示す図表である。FIG. 4 is a table showing effects of the embodiment of the present invention.

【図5】従来の洗浄装置の構成を示す構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a configuration of a conventional cleaning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 水切り部 2 カセット 3 浸漬槽 6 移動手段 8,8a,8b 循環ポンプ 9,9a,9b,10,10a,20, 21 21b
フィルタ 11 予熱部 12 予熱槽 100 接触洗浄部 101 超音波洗浄部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Drain part 2 Cassette 3 Immersion tank 6 Moving means 8, 8a, 8b Circulation pump 9, 9a, 9b, 10, 10a, 20, 21 21b
Filter 11 Preheating section 12 Preheating tank 100 Contact cleaning section 101 Ultrasonic cleaning section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−298747(JP,A) 特開 平4−78476(JP,A) 特開 平7−16438(JP,A) 特開 平7−185239(JP,A) 特開 平6−168927(JP,A) 特開 平7−86227(JP,A) 実開 昭63−105071(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/304 B08B 3/00 - 3/14 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-298747 (JP, A) JP-A-4-78476 (JP, A) JP-A-7-16438 (JP, A) JP-A-7- 185239 (JP, A) JP-A-6-168927 (JP, A) JP-A-7-86227 (JP, A) JP-A-63-105071 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/304 B08B 3/00-3/14

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 被洗浄体の表面に洗浄部材を接触させて
被洗浄体の表面を洗浄する接触洗浄工程と、 前記接触洗浄工程を通過した被洗浄体を超音波で振動す
る洗浄液中に浸漬して洗浄する超音波洗浄工程と、 前記超音波洗浄工程を通過した被洗浄体を、純水が供給
されて純水が溢れ出ている浸漬槽に収納された50℃以
上の純水に浸漬して40℃以上に加熱した後、前記純水
から前記純水の水面に対して実質的に垂直な方向に10
mm/秒以下の速度で前記被洗浄体を相対的に引き上げ
る水切り工程と、を有する洗浄方法において、 前記水切り工程において前記被洗浄体を前記純水から引
き上げる前に、前記浸漬槽への純水の供給及び前記浸漬
槽の純水の加熱を所定時間停止して浸漬槽の純水の表面
に波紋が立たないようにした 洗浄方法。
1. A contact cleaning step in which a cleaning member is brought into contact with a surface of a body to be cleaned to clean the surface of the body to be cleaned, and the body to be cleaned that has passed through the contact cleaning step is immersed in a cleaning solution vibrated by ultrasonic waves. And an ultrasonic cleaning step of cleaning, and pure water is supplied to the object to be cleaned that has passed through the ultrasonic cleaning step.
After being immersed in pure water at 50 ° C. or higher and heated to 40 ° C. or higher and stored in an immersion tank overflowing with pure water, the pure water is substantially perpendicular to the surface of the pure water. 10 in the direction
a water draining step of relatively pulling up the object to be cleaned at a speed of not more than mm / sec , wherein the object to be cleaned is pulled from the pure water in the water draining step.
Before pumping, supply of pure water to the immersion tank and the immersion
The heating of the pure water in the tank is stopped for a predetermined time and the surface of the pure water in the immersion tank is
Cleaning method to prevent ripples from appearing on the surface .
【請求項2】 前記超音波洗浄工程と前記水切り工程の
間に、前記超音波洗浄工程を通過した被洗浄体を該被洗
浄体よりも温度の高い純水に浸漬して加熱する予熱工程
を有する請求項1記載の洗浄方法。
2. The ultrasonic cleaning step and the draining step.
In the meantime, the object to be cleaned that has passed through the ultrasonic cleaning
Preheating process of heating by immersing in pure water with a higher temperature than the pure body
The method of cleaning according to claim 1 having a.
【請求項3】 前記水切り工程において被洗浄体が浸漬
される純水は1μm以下の濾過精度を有するフィルタを
通過した純水である請求項記載の洗浄方法。
3. The object to be cleaned is immersed in the draining step.
Pure water is filtered with a filtration accuracy of 1 μm or less.
The method of cleaning according to claim 1, wherein a pure water passed through.
【請求項4】 前記純水がオゾンを含有する請求項1記
載の洗浄方法。
4. The cleaning method according to claim 1 , wherein said pure water contains ozone .
【請求項5】 移送される被洗浄体に接触して被洗浄体
を洗浄する洗浄部材を備えた接触洗浄部と、 前記接触洗浄部において洗浄された被洗浄体が浸漬され
る洗浄液を収納するための洗浄槽と、前記洗浄槽中の洗
浄液に超音波を発生させる超音波発生手段とを備えた超
音波洗浄部と、 前記超音波洗浄部で洗浄された被洗浄体が浸漬される純
水を収納するための浸漬槽と、被洗浄体を前記浸漬槽の
純水内と前記浸漬槽の純水の上方との間において所望の
速度で相対的に移動させる移動手段とを備えた水切り部
と、 前記接触洗浄部と前記超音波洗浄部と前記水切り部との
間で被洗浄体を搬送す る搬送手段と、 を有する洗浄装置。
5. The object to be cleaned in contact with the object to be transported.
A contact cleaning unit provided with a cleaning member for cleaning the object to be cleaned which has been cleaned in the contact cleaning unit;
A washing tank for containing a washing solution to be washed, and washing in the washing tank.
An ultrasonic wave generating means for generating ultrasonic waves in the purified liquid
A sonic cleaning unit and a pure body in which the object to be cleaned cleaned in the ultrasonic cleaning unit is immersed.
An immersion tank for storing water, and
Between the pure water and the pure water above the immersion tank.
Draining unit having moving means for relatively moving at a speed
And the contact cleaning unit, the ultrasonic cleaning unit and the draining unit
Cleaning apparatus having a conveying means you transport the cleaning object between.
【請求項6】 洗浄済みの被洗浄体よりも温度の高い純
水を収納して洗浄済みの被洗浄体を浸漬するための予熱
槽と、被洗浄体を前記予熱槽の純水内と前記予熱槽の純
水の上方との間において所望の速度で移動させる移動手
段とを備え、洗浄済みの被洗浄体を該被洗浄体よりも温
度の高い純水に浸漬して加熱した後、所定の速度以上の
速度で引き上げる予熱部を、前記超音波洗浄部と前記水
切り部の間に設けた請求項5記載の洗浄装置。
6. A pure material having a higher temperature than the cleaned object.
Preheating for storing water and immersing the cleaned object
The tank and the object to be cleaned are placed in pure water of the preheating tank and pure water in the preheating tank.
A moving hand that moves at a desired speed between and above the water
And a step for heating the cleaned object to be cleaned to a higher temperature than the object to be cleaned.
After immersing in high purity water and heating,
The preheating unit, which is pulled up at a speed, is combined with the ultrasonic cleaning unit and the water.
The cleaning device according to claim 5, wherein the cleaning device is provided between the cut portions.
【請求項7】 前記接触洗浄部で洗浄された被洗浄体が
収納されるカセットを有し、前記搬送手段は被洗浄体を
収納した前記カセットを搬送する請求項5記載の洗浄装
置。
7. The object to be cleaned cleaned in the contact cleaning section is
It has a cassette to be stored, and the carrying means
The cleaning device according to claim 5, wherein the stored cassette is transported .
【請求項8】 前記水切り部の浸漬槽に純水を供給する
ための管路に3〜0.5μmの濾過精度のフィルタを設
けた請求項5記載の洗浄装置。
8. Supplying pure water to the immersion tank of the draining section.
Filter with a filtration accuracy of 3 to 0.5 μm
The cleaning device according to claim 5,
【請求項9】 前記水切り部の浸漬槽が、浸漬槽から溢
れた純水を受ける補助槽を有している請求項記載の洗
浄装置。
9. The immersion tank of the draining section overflows from the immersion tank.
The cleaning device according to claim 5 , further comprising an auxiliary tank for receiving the purified water .
【請求項10】 前記補助槽が受けた純水を前記浸漬槽
に循環させる管路に、循環ポンプとフィルタを設けた
求項記載の洗浄装置。
10. The pure water received by the auxiliary tank is immersed in the immersion tank.
The cleaning device according to claim 9 , wherein a circulation pump and a filter are provided in a pipe that circulates the water .
【請求項11】 前記フィルタが複数個設けられた請求
項8又は10記載の洗浄装置。
11. A method according to claim 11, wherein a plurality of said filters are provided.
Item 11. The cleaning device according to item 8 or 10 .
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