JP3016297B2 - 電界効果トランジスタの測定方法 - Google Patents

電界効果トランジスタの測定方法

Info

Publication number
JP3016297B2
JP3016297B2 JP4021493A JP2149392A JP3016297B2 JP 3016297 B2 JP3016297 B2 JP 3016297B2 JP 4021493 A JP4021493 A JP 4021493A JP 2149392 A JP2149392 A JP 2149392A JP 3016297 B2 JP3016297 B2 JP 3016297B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transmission line
characteristic impedance
frequency
resistor
fet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4021493A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05215808A (ja
Inventor
裕光 平山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP4021493A priority Critical patent/JP3016297B2/ja
Publication of JPH05215808A publication Critical patent/JPH05215808A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3016297B2 publication Critical patent/JP3016297B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は大振幅動作する半導体デ
バイス、特に高出力ガリウムひ素電界効果トランジスタ
(以下、単にGaAs FETと呼ぶ)における超高周
波帯高出力性能を簡便に精度良く予測し得る測定方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】超高周波帯におけるキーデバイスとして
高出力GaAs FETの重要性が増大している。この
ような要求に応え、速やかに高性能デバイスを開発する
には精度の高い設計・評価手法が必要不可欠である。し
かるに、特に大振幅動作時のGaAa MESFETに
おいては以下に述べる問題がある。例えば、高出力FE
Tの飽和出力電力(Psat)は、Knee Volt
age(Vk)、3端子耐圧(BV3)、最大チャネル
電流(Imax)により決まる。即ち、PsatはIm
axと(BV3−Vk)とに比例する。しかし、ここで
暗黙に仮定されている重要な条件がある。Imax,V
k及びBV3等のパラメータは、全て大振幅・高周波動
作時の値であるという点である。
【0003】一方、GaAs MESFETにおいて
は、主としてゲート・ドレイン間における、パッシベー
ション膜とGaAs層との界面に発生する表面状態に起
因して次のような問題点が存在している。 (A) GaAs MESFETのドレイン電流におい
ては、直流時(DC時)と高周波時(RF時)における
電流値が異なる、いわゆる”ドレイン電流の周波数分
散”現象が存在し得る。 (B) 従って、GaAs MESFETにおいては、
各パラメータの直流測定値と飽和出力等、高周波性能と
の相関関係を見いだせない場合が多い。設計精度改善の
為には数GHz以上における高周波実働状態での電流値
の測定手段が必要である。 (C) この周波数分散の程度は、G−D間距離、リセ
ス構造、パッシベーション、印加電圧等種々の要素に依
存し、しかもこれら要素は複雑に関係し合っている。高
出力素子設計精度の向上には分散現象とデバイス構造及
びパッシベーション膜等との因果関係或いは相関関係の
明確化が必須である。
【0004】以上のように、特にGaAs MESFE
Tにおいては各パラメータの直流測定値と飽和出力等高
周波性能との相関関係を見いだせない場合が多く、設計
精度改善の為にも数GHz以上における高周波実働状態
での電流値を評価し得る何らかの測定手法の開発は必須
であった。
【0005】従来この種の電流評価手法として、図7に
示す様なパルス電流測定法が用いられている(M.Pa
ggi et.al.:”Nonlinear GaA
sMESFET Modeling Using Pu
lsed Gate Measurements”,I
EEE Trans.MTT,Vol.36,No.1
2,1988,pp.1593−1597参照)。つま
りSパラメータ測定のような小信号正弦波に対する応答
の評価・解析ではなく、FETに大振幅パルスを入力し
ドレイン電流の過渡応答を測定するものである。従って
大振幅動作時の電流測定は可能であるが、応答速度が遅
く問題である。
【0006】例えば図7に示した従来例では、過渡電流
のセンサーとして電流プローブを使用している。電流プ
ローブの応答速度は数十〜百nsec程度である。一
方、GaAs FETの実働周波数は数GHz以上に達
する。従来の測定技術によっては実働時の高周波・大振
幅電流の評価は不可能であり、系の応答速度に格段の改
善が必要であった。
【0007】また、上記の説明ではFETの表面準位に
起因した周波数分散現象を主たる問題点として説明した
が、高出力FETにおいては例えば高電界状態おけるア
バランシェ効果により発生する正孔の影響等、より速い
応答速度を示す種々の現象が発生し得る。大信号動作す
る高出力素子においては、これら諸現象がその高周波性
能に直接影響するので、高出力GaAs FETの高周
波・高出力性能をより正確かつ簡便に評価し設計精度を
改善するためには、より速い大振幅パルス電流測定方法
が必要不可欠である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、大振
幅動作する半導体デバイス、特に高出力GaAs FE
Tにおける超高周波帯,大振幅性能を実働周波数帯まで
簡便に精度良く評価し得る測定方法を実現することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】第1の発明の電界効果ト
ランジスタの測定方法は、入力端子と被測定FETのゲ
ートとに接続された特性インピーダンスRinの第一の伝
送線路と、被測定FETのゲートに接続され他端を終端
された特性インピーダンスRinの第二の伝送線路とから
成る入力回路と、被測定FETのドレイン端子に接続さ
れた特性インピーダンスZL の第三の伝送線路と、この
第三の伝送線路他端と電源端子とに接続された終端抵抗
RL と、上記第三の伝送線路他端に接続された分圧抵抗
RO と、分圧抵抗RO の他端に接続された特性インピー
ダンスRZ の第四の伝送線路と、この第四の伝送線路の
他端と接地端子とに接続された負荷抵抗RZ とから成る
出力回路とから構成される測定系を使用し、上記測定系
における特性インピーダンスRinとRZ とを50オーム
に設定し、前記特性インピーダンスZL とRL とを等し
く設定し、更に前記分圧抵抗RO を(RO +RZ )≧5
RL という関係を満たすよう設定し、かつ入力端子に高
周波信号を印加した状態で負荷抵抗RZ の両端に発生す
る高周波電圧振幅△VZ の観測値から、 Id=VDD/RL −△VZ ・(RL +RO +RZ )/(RL ・RZ ) という関係式を用いて高周波ドレイン電流Idを求める
事を特徴とする。
【0010】第2の発明の電界効果トランジスタの測定
方法は、ウエハ上の被測定FETゲート電極に接触する
測定用接触点近傍で互いに接続された特性インピーダン
スRinの伝送線路対を含む入力用高周波プローブと、こ
の高周波プローブ上の伝送線路対の一方と入力端子とに
接続された特性インピーダンスRinの第一の伝送線路
と、上記高周波プローブ上の伝送線路対の他方に接続さ
れ他端を終端された特性インピーダンスRinの第二の伝
送線路とから成る入力回路と、ウエハ上の被測定FET
ドレイン電極に接触する測定用接触点に接続された特性
インピーダンスZL の伝送線路を含む出力用高周波プロ
ーブと、この高周波プローブ上の伝送線路に接続された
特性インピーダンスZL の第三の伝送線路と、この第三
の伝送線路他端と電源端子とに接続された終端抵抗RL
と、上記第三の伝送線路他端に接続された分圧抵抗RO
と、この分圧抵抗RO の他端に接続された特性インピー
ダンスRZ の第四の伝送線路と、この第四の伝送線路の
他端と接地端子とに接続された負荷抵抗RZ とから成る
出力回路とから構成される測定系を使用し、上記測定系
における特性インピーダンスRinとRZ とを50オーム
に設定し、前記特性インピーダンスZL とRL とを等し
く設定し、更に前記分圧抵抗値ROを(RO +RZ )≧
5RL という関係を満たすよう設定し、かつ入力端子に
高周波信号を印加した状態で負荷抵抗RZ 両端に発生す
る高周波電圧振幅△VZ の観測値から、 Id=VDD/RL −△VZ ・(RL +RO +RZ )/(RL ・RZ ) という関係式を用い、ウエハ状態において高周波ドレイ
ン電流Idを求める事とを特徴とする。
【0011】第3の発明の電界効果トランジスタの測定
方法は、上記の測定方法において、伝送線路の特性イン
ピーダンスと各抵抗値とは RL =ZL ・(RO +RZ )/((RO +RZ )−ZL ) という関係を満足するよう設定する事を特徴とする。
【0012】
【作用】本発明の作用につき図面を用いて説明する。
【0013】図1は本発明の方法に用いる測定回路の等
価回路図である。まず入力側について説明する。被測定
FET Q1のゲートは特性インピーダンスがRinであ
る伝送線路3と4とに接続される。ゲートへの入力パル
ス信号は、入力端子1と伝送線路3とを経てFETのゲ
ートに印加される。伝送線路4の他端は終端抵抗Rin
終端され、従ってFETのゲート端子においては無反射
終端Rinとして作用する。このとき伝送線路4の線路長
は長くても良い、従って被測定素子の極く近傍で終端す
る必要はなく、評価系の構成上極めて有利となる。通
常、GaAs FETの入力インピーダンスは高いため
FET入力インピーダンスと無反射終端Rinとの並列合
成インピーダンスは、ほぼRinに等しい値となる。従っ
て、伝送線路3を進行してくる入力パルス波は、反射に
よる波形劣化を生ずる事も無く、高い周波数領域まで使
用可能となる。この入力回路によれば立ち上り・立ち下
り時間100psec以下の超高速パルスまで処理可能
である。
【0014】次に、出力側について説明する。FET
Q1のドレイン端子は特性インピーダンスZL の伝送線
路5を経て終端抵抗RL と分圧抵抗RO とに接続されて
いる。この分圧抵抗RO の他端は、特性インピーダンス
Z の伝送線路6を介して他端が接地された負荷抵抗R
Z に接続されている。また、終端抵抗RL の他端は電源
端子2に接続されている。このとき分圧抵抗RO と負荷
抵抗RZ との直列インピーダンス(RO +RZ )は、終
端抵抗RL より十分大きく設定されるため、終端抵抗R
L とインピーダンス(RO +RZ )との並列合成インピ
ーダンスはほぼRL に等しい値となる。伝送線路5の特
性インピーダンスZL と終端抵抗値RLとはほぼ等しく
設定されている。従って、FET Q1のドレイン端子
に発生する高速のパルス電流波は反射による波形劣化を
生ずる事無く負荷抵抗まで伝送される。この測定系は周
波数特性を持つリアクタンス成分を含まず伝送線路にほ
ぼ整合した純抵抗系で構成されている。従って直流成分
を含む超広帯域性を有し高い時間分解能を実現できる。
加えて、系が純抵抗で構成されているため負荷抵抗RZ
の高速パルス電圧波形と電流波形とは単純な比例関係と
なる。従ってRZ での電圧波形を観測する事によりパル
ス電流波形を観測可能である。電圧観測においてはサン
プリングオシロスコープをはじめ超高速の計測機器が使
用可能である。
【0015】以上により、本発明のパルス電流測定系に
よれば、立ち上り・立ち下り時間100psec〜20
0psec以下という従来技術の100倍以上の高速測
定が可能である。本測定方法の系により、高出力GaA
s FETの実働速度における高周波電流特性の評価、
ひいては超高周波・高出力性能を簡易にかつ精度良く予
測する事が可能となる。
【0016】本発明によるパルス電流の測定方法を図1
と図2とを用いて説明する。なお、図2は、パルスドレ
イン電流特性を示す図である。各抵抗,電源,電圧の値
を以下のように設定する。
【0017】RO : 分圧抵抗 RL : 終端抵抗 RZ : 負荷抵抗(実施例では観測用オシロスコープの
入力インピーダンス(50ohm)) VDD:電源電圧 VDS:FETのドレイン・ソース間電圧 図1においてFETのドレインに流入するパルス電流の
尖頭値をIdとする。既に説明した通りこの測定系は周
波数特性を持つリアクタンス成分を含まず伝送線路にほ
ぼ整合した純抵抗系で構成されている。従って、FET
のドレイン・ソース間電圧VDS(ドレイン・ソース間
パルス電圧尖頭値)は単純に次のように表せる。
【0018】 VDS =((RO +RZ )/(RL +RO +RZ ))・VDD−RL ・Id (1) ここで、ロウレベルがFETのピンチオフ電圧以下であ
り(従ってFETはカットオフ状態)、ハイレベルがピ
ンチオフ電圧以上(従ってFETはオン状態)のパルス
信号をFETのゲートに入力すると、FETのドレイン
にはパルス電流が流れる。この時負荷抵抗(RZ )に発
生するパルス電圧の振幅を△VZ とすると、パルス電流
Id(ピーク電流値)は、系がほぼ純抵抗系で構成され
ているので次のようにして求められる。
【0019】 Id =VDD/RL −△VZ ・(RL +RO +RZ )/(RL ・RZ ) (2) 以上から、電源電圧VDDとゲート入力パルスのピーク
値(VGS)とをパラメータとして、△ZZ を測定し式
(2)を用いてパルスドレイン電流Idを求める事がで
きる。パラメータVDDとVGSの種々の値に対しId
を測定しグラフ化すると、図2に示すようにFETのパ
ルス電流・電圧特性が得られる。先に説明した様に、図
2の電流・電圧特性は超高周波・大信号状態の実働電流
にはほぼ等しい。従ってこの電圧電流特性からFETの
高周波性能を精度良く見積もる事ができる。
【0020】
【実施例】
(第1実施例)図1は、本発明の測定方法に使用される
測定回路の等価回路図である。伝送線路3,4,5及び
6の特性インピーダンスは50オームとしており、また
in,RL ,RZ の各抵抗値も50オームとしている。
更に、終端抵抗Rinと負荷抵抗RZ とは共に電圧波形観
測用オシロスコープ32と33との入力インピーダンス
で兼用している。従って、各端子において終端抵抗とし
ての機能の他に波形観測機能を併せて可能としている。
出力側終端抵抗RL (=50オーム)は、バイパス用コ
ンデンサ7を経て電源VDDに接続されている。また分
圧抵抗RO は450オームとしている。この場合、終端
抵抗RL とインピーダンス(RO +RZ )との並列合成
インピーダンスは45・5オームでありほぼRL に等し
く実用上問題は生じない。なお、図中、31はパルス発
生器である。本測定系と式(1)および式(2)とを用
いる方法によれば数百psec以下の立上りのパルス電
流測定が可能である。
【0021】(第2実施例)図4は本発明の第2の実施
例に使用される系のブロック図である。伝送線路3,
4,5及び6の特性インピーダンス及びRin,RL ,R
Z の各抵抗値も第1実施例と同様に50オームとしてい
る。終端抵抗Rinと負荷抵抗RZ とを電圧波形観測用オ
シロスコープ32と33との入力インピーダンスで兼用
し波形観測をも可能としている点、及び分圧抵抗RO
450オームとしている点も第1の実施例と同様であ
る。この場合においても終端抵抗RL とインピーダンス
(RO +RZ )との並列合成インピーダンスは45.5
オームでありほぼRL に等しく実用上問題は生じない。
本実施例においては伝送線路3と4とは互いに等しい特
性インピーダンスを有する伝送線路43と44とを含む
高周波プローブ入力端子に接続される。入力側プローブ
41の先端はウエハ状態の被測定FETチップのゲート
電極に圧着される。同様に、伝送線路5は等しい特性イ
ンピーダンスを有する伝送線路45を含む高周波プロー
ブの出力端子に接続されている。出力側プローブ42の
先端はウエハ状態にある被測定FETチップ43のドレ
イン電極に圧着される。
【0022】高周波ウエハロープを含む本測定系と式
(1)および式(2)とを用いると数百psec以下の
立上りのパルス電流測定をウエハ状態で実行可能であ
る。ペレッタイズ後の組立作業を必要としない点は評価
効率の格段の向上につながる事は明白である。
【0023】図5は、第2実施例の測定方法によるオン
ウエハでのパルス電流の測定結果である。たがいに断面
構造の異なる3種類のGaAs MESFET(構造
1,構造2,構造3と略称する)に対し、飽和ドレイン
電流の入力パルス幅依存性を測定し比較してプロットし
た結果である。明らかに構造1の優位性を確認できる。
【0024】以上のように、本実施例によれば、煩雑な
組立作業を必要とせず、ウエハ状態でデバイス構造と大
信号・高周波性能との相関を簡便に測定可能である。
【0025】(第3実施例)図6は本発明の第3の実施
例に使用される回路の等価回路図である。伝送線路特性
インピーダンスと各抵抗値は以下の関係により設定され
ている。 RL =ZL (RO +RZ )/((RO +RZ )−ZL ) (3) 伝送線路3,4,5及び6の特性インピーダンスは第1
実施例と同様50オームとしており、またRin,RZ
各抵抗値も50オームとしている。更に、終端抵抗Rin
と負荷抵抗RZ とは共に電圧波形観測用オシロスコープ
32と33との入力インピーダンスで兼用している。従
って、各端子において終端抵抗としての機能の他に波形
観測機能を併せて可能としている。分圧抵抗RO も同様
に450オームとしている。この場合、終端抵抗RL
式(3)に従って55.5オームに設定されている。従
って、終端抵抗RL とインピーダンス(RO +RZ )と
の並列合成インピーダンスは50.0オームであり正確
にラインの特性インピーダンスZL に等しくより高速度
までの測定が可能である。本測定系と式(1)および式
(2)とを用いる方法によれば百psec以下の立上り
のパルス電流測定が可能である。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は特に高出
力GaAs FETの高周波電流特性の測定において、
伝送線路とそれにほぼ整合した純抵抗系のみから構成さ
れ従って直流成分を含む超広帯域性と高い時間分解能を
有する測定系と、さらに系が純抵抗で構成されるもう一
つの利点でもある高速パルス電圧波形と電流波形との単
純な比例関係を用いる事とにより、超高速のパルス電流
波形を観測可能としている。本発明の測定方法により以
下に示す効果を生ずる。 (1) パルス電流測定において、立ち上り・立ち下り
時間100psec〜200psec以下という従来技
術の100倍以上の高速測定が可能となる。 (2) 高出力GaAs FETの実働速度における高
周波電流特性の評価、ひいては超高周波・高出力性能を
簡易に高精度で予測可能となり、開発効率が大幅に向上
する。 (3) 高周波プローブの併用により、数百psec以
下の立上りのパルス電流測定がウエハ状態で実行可能と
なる。ペレッタイズ後の組立作業を必要とせず、評価効
率の一層の向上をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の測定系の等価回路図である。
【図2】本発明の方法によるパルスドレイン電流特性例
である。
【図3】第1の実施例に用いる測定回路の等価回路図で
ある。
【図4】第2の実施例に用いる測定回路の等価回路図で
ある。
【図5】第2の実施例による、パルス電流のオンウエハ
状態での測定例である。
【図6】第3の実施例に用いる測定回路の等価回路図で
ある。
【図7】従来の測定方法に使用される測定回路の等価ブ
ロック図である。
【符号の説明】
1 入力端子 2 電源端子 3 伝送線路 4 伝送線路 5 伝送線路 6 伝送線路 7 コンデンサ 31 パルス発生器 32 オシロスコープ 33 オシロスコープ 41 伝送線路 42 伝送線路

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】入力端子と被測定FETのゲートとに接続
    された特性インピーダンスRinの第一の伝送線路と、被
    測定FETのゲートに接続され他端を終端された特性イ
    ンピーダンスRinの第二の伝送線路とから成る入力回路
    と、 被測定FETのドレイン端子に接続された特性インピー
    ダンスZL の第三の伝送線路と、この第三の伝送線路他
    端と電源端子とに接続された終端抵抗RL と、上記第三
    の伝送線路他端に接続された分圧抵抗RO と、分圧抵抗
    RO の他端に接続された特性インピーダンスRZ の第四
    の伝送線路と、この第四の伝送線路の他端と接地端子と
    に接続された負荷抵抗RZ とから成る出力回路とから構
    成される測定系を使用し、 上記測定系における特性インピーダンスRinとRZ とを
    50オームに設定し、前記特性インピーダンスZL とR
    L とを等しく設定し、更に前記分圧抵抗RO を(RO +
    RZ )≧5RL という関係を満たすよう設定し、かつ入
    力端子に高周波信号を印加した状態で負荷抵抗RZ の両
    端に発生する高周波電圧振幅△VZ の観測値から、 Id=VDD/RL −△VZ ・(RL +RO +RZ )/(RL ・RZ ) という関係式を用いて高周波ドレイン電流Idを求める
    事を特徴とする電界効果トランジスタの測定方法。
  2. 【請求項2】ウエハ上の被測定FETゲート電極に接触
    する測定用接触点近傍で互いに接続された特性インピー
    ダンスRinの伝送線路対を含む入力用高周波プローブ
    と、この高周波プローブ上の伝送線路対の一方と入力端
    子とに接続された特性インピーダンスRinの第一の伝送
    線路と、上記高周波プローブ上の伝送線路対の他方に接
    続され他端を終端された特性インピーダンスRinの第二
    の伝送線路とから成る入力回路と、 ウエハ上の被測定FETドレイン電極に接触する測定用
    接触点に接続された特性インピーダンスZL の伝送線路
    を含む出力用高周波プローブと、この高周波プローブ上
    の伝送線路に接続された特性インピーダンスZL の第三
    の伝送線路と、この第三の伝送線路他端と電源端子とに
    接続された終端抵抗RL と、上記第三の伝送線路他端に
    接続された分圧抵抗RO と、この分圧抵抗RO の他端に
    接続された特性インピーダンスRZ の第四の伝送線路
    と、この第四の伝送線路の他端と接地端子とに接続され
    た負荷抵抗RZ とから成る出力回路とから構成される測
    定系を使用し、 上記測定系における特性インピーダンスRinとRZ とを
    50オームに設定し、前記特性インピーダンスZL とR
    L とを等しく設定し、更に前記分圧抵抗値ROを(RO
    +RZ )≧5RL という関係を満たすよう設定し、かつ
    入力端子に高周波信号を印加した状態で負荷抵抗RZ 両
    端に発生する高周波電圧振幅△VZ の観測値から、 Id=VDD/RL −△VZ ・(RL +RO +RZ )/(RL ・RZ ) という関係式を用い、ウエハ状態において高周波ドレイ
    ン電流Idを求める事とを特徴とする電解効果トランジ
    スタの測定方法。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載の測定方法におい
    て、伝送線路の特性インピーダンスと各抵抗値とは RL =ZL ・(RO +RZ )/((RO +RZ )−ZL ) という関係を満足するよう設定する事を特徴とする電界
    効果トランジスタの測定方法。
JP4021493A 1992-02-07 1992-02-07 電界効果トランジスタの測定方法 Expired - Fee Related JP3016297B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4021493A JP3016297B2 (ja) 1992-02-07 1992-02-07 電界効果トランジスタの測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4021493A JP3016297B2 (ja) 1992-02-07 1992-02-07 電界効果トランジスタの測定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05215808A JPH05215808A (ja) 1993-08-27
JP3016297B2 true JP3016297B2 (ja) 2000-03-06

Family

ID=12056501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4021493A Expired - Fee Related JP3016297B2 (ja) 1992-02-07 1992-02-07 電界効果トランジスタの測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3016297B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102608508A (zh) * 2011-12-20 2012-07-25 西交利物浦大学 脉冲实时场效应管阈值电压参数自动测量装置及其方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006184047A (ja) * 2004-12-27 2006-07-13 Agilent Technol Inc Fetの特性測定方法
JP2007042888A (ja) * 2005-08-03 2007-02-15 Murata Mfg Co Ltd 高周波モジュールの親基板,その周波数調整方法及びその製造方法
JP6056411B2 (ja) 2012-11-22 2017-01-11 富士通株式会社 電圧検出回路及びトランジスタの特性測定方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102608508A (zh) * 2011-12-20 2012-07-25 西交利物浦大学 脉冲实时场效应管阈值电压参数自动测量装置及其方法
CN102608508B (zh) * 2011-12-20 2014-11-12 西交利物浦大学 脉冲实时场效应管阈值电压参数自动测量装置及其方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05215808A (ja) 1993-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Teyssier et al. 40-GHz/150-ns versatile pulsed measurement system for microwave transistor isothermal characterization
Raffo et al. A new approach to microwave power amplifier design based on the experimental characterization of the intrinsic electron-device load line
JP3016297B2 (ja) 電界効果トランジスタの測定方法
US20080228415A1 (en) Semiconductor testing instrument to determine safe operating area
JP6839121B2 (ja) ソース注入型ミキサ
Smith et al. RF nonlinear device characterization yields improved modeling accuracy
Luo et al. Reliable GaN HEMT modeling based on Chalmers model and pulsed S-parameter measurements
Baylis et al. Performing and analyzing pulsed current-voltage measurements
Wohlgemuth et al. Active probes for network analysis within 70-230 GHz
García-Luque et al. Frequency-Characterization and Modeling of AlGaN/GaN HEMTs for High-Power Applications
Baylis et al. Understanding pulsed IV measurement waveforms
Avolio et al. Bias and frequency dispersion of dynamic IV characteristics in microwave transistors
Salcines et al. Characterization and modeling of the impact of the substrate potential in the dynamic and static behavior of power gan-on-si hemts
Vogel Determination of the MESFET resistive parameters using RF-wafer probing
Abeles et al. Experimental measurement of a high‐field dipole in GaAs field‐effect transistors
JPH05196687A (ja) 波形解析方法
CN112710940B (zh) 一种SiC MOSFET反向转移电容测量方法
Fujii An improved GaAs MESFET model for the pulsed IV measurement
Palazzo et al. Enhanced Behavioral Modeling for Short-Circuit Ruggedness Analysis in GaN-based Half-Bridge
Quere et al. Nonlinear transistor modelling based on measurements results
JP2006502402A (ja) 半導体監視機器
Przadka et al. Two-port noise and impedance measurements for two-terminal devices with a resonant tunneling diode example
Inoue et al. Direct measurement of the maximum operating region in AlGaAs HBTs for RF power amplifiers
Ciccognani et al. GaN device technology: Manufacturing, characterization, modelling and verification
Hwang et al. Accurate nonlinear modeling and verification of MMIC amplifier

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees