JP3015075B2 - 切抜きマスク作成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、切抜きマスク作成方法に係り、特に、カラ
ー画像データを演算処理し、電子的な切抜き合成処理に
より合成画像を作成するための切抜きマスクを作成する
方法に関する。

【従来の技術】

印刷画像に種々の視覚的な効果を得るため、任意の実
体部に所望する背景部を合成して、その合成画像につい
て印刷製版用原版のフィルムを作成する場合がある。 このような原版を作成する方法の１つに原画像を電子
的に処理して作成する２値マスクにより、原画像を切抜
き処理する２値マスク切抜き合成方法がある。即ち、こ
の２値マスク切抜き合成方法においては、まず、例えば
印刷用カラー透過原稿をスキャナにより走査してその画
素データを読込み、読込んだ画素データを適当な閾値で
２値化し、各画素に対応するオン、オフの２値からなる
マスクデータを作成する。次いで、その２値マスクデー
タを参照しながら、当該データがオフならば実体部とな
るべき画像の画素データを取出し、一方、オンならば背
景部となるべき画像の画素データを取出すことによって
画像を合成する。このような２値マスク切抜き合成方法
に用いるためのマスクデータの作成方法は従来から種々
のものが知られている。 又、２値マスクデータに基づいて、一定幅の中間調領
域を設けるようにした階調マスク作成方法がある（例え
ば特公平１−31232）。即ち、この階調マスク作成方法
においては、２値マスクデータに基づいて、この２値マ
スクデータの輪郭線の内部、外部、あるいは両側に一定
幅の帯状領域を設け、その帯状領域内の各画素につい
て、背景部画像及び実体部画像の合成比率を決めるため
の階調（２値マスクの０％又は100％マスク以外の階
調）を持ったマスクデータを作成する。

【発明が解決しようとする課題】

しかしながら、前記従来の２値マスク切抜き合成方法
においては、次のような問題点が生じていた。 第１の問題点は、合成した画像の実体部及び背景部間
の境界線が際立って見えることであり、そのように見え
た場合には、合成画像が作為的な印象を与える好ましく
ないものとなっていた。例えば写真原稿をスキャナで読
込んだ、いわゆる自然画像においては、物の境界線付近
に背景部の色と実体部の色との中間的な色からなるあい
まいな画素を含む領域が存在し、この領域があるおかげ
で背景部と実体部とが馴染んで見える。しかしながら、
前記２値マスクにより合成された画像の境界線付近には
このあいまいな領域が存在しないため、境界線が不自然
に際立って見えてしまい、作為的な印象を与えるのであ
る。 又、第２の問題点は、画像読み取り時の走査方向に対
して斜め方向の境界線がある場合、境界線に画素単位で
階段状のがたつきが生じることである。例えば、前記自
然画像においては、前記のあいまいな領域が存在し、斜
めの境界線の付近で境界線に沿って濃度が徐々に変化し
ているため、隣り合う画素間では濃度ジャンプ（急激な
濃度変化）がいずれの箇所でも小さく、このため、斜め
の境界線に対しても階段状のがたつきは見えない。しか
しながら、前記２値マスクによって合成された画像は画
素間の境界線付近で濃度ジャンプが大きいため、当該境
界線に階段状のがたつきが生じているように見えること
がある。 前記第１の問題点に対して、前記階調マスク作成方法
を用いれば、境界線付近で徐々に濃度が変化するため、
ある程度解消できるものと考えられる。 しかしながら、前記階調マスク作成方法においては、
例えば特公平１−31232公報に記載されるように、予め
メモリ中に記憶された濃度変換率曲線に従って合成を行
うため、境界線付近の階調の変化の様子が前記自然画像
ほど滑らかにはできず、画素間の濃度ジャンプが未だ大
きいため、前記第２の問題点は依然として残るものとな
る。これに対し、ぼけ幅を広く取ることによって濃度ジ
ャンプを小さくしようとすると、境界線がぼやけて見え
てしまい、境界のはっきりしないぼやけた合成画像とな
ってしまうという別の問題が生じる。しかも、斜めの境
界線に生じる画素単位のがたつきに対してはあまり効果
が得られない。 従って、自然画像の境界線付近の画素のぼやけ方の性
質に近い、滑らかな階調変化を有するように画像を合成
し得る技術が必要とされるが、従来、このような要請に
応える技術がなかった。 本発明は、前記従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、斜めの境界線に自然画像に近い画素単位でのぼけを
与えて画像全体のシャープさを損うことなく斜め線の画
素単位のがたつきを解消することができ、従って、境界
線が良く馴染んだ自然画像に近い合成画像が得られる切
抜きマスク作成方法を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

本発明は、カラー画像を走査し演算処理して、電子的
な切抜き合成処理により合成画像を作成するための切抜
きマスクを作成する方法において、前記カラー画像に対
して、画素値に基づくマスクのオン・オフにより２値マ
スクデータを作成し、前記走査方向に対して、斜めにな
っている背景部及び実体部間の境界線を含む領域につい
て中間調のマスクデータを作成し、作成された２値マス
クデータ及び中間調マスクデータにより切抜きマスクを
作成して、前記課題を解決するものである。

【作用】

本発明においては、切抜きマスク作成方法において、
カラー画像に対して、画素値に基づくマスクのオン・オ
フにより２値マスクデータを作成し、前記カラー画像の
走査方向に対して、斜めになっている背景部及び実体部
の境界線について中間調のマスクデータを作成し、作成
された２値マスクデータ及び中間調マスクデータにより
切抜きマスクを作成する。 従って、合成画像において斜めの境界線に生じる画素
（ピクセル）単位のがたつきに対し、当該境界線に沿っ
て例えば画素の幅で階調のあるマスクデータを作成する
ため、斜めの境界線に自然画像に近い画素単位でのぼけ
が生じ、このため、画像全体のシャープさを損うことな
く、斜めの境界線の画素単位のがたつきを解消し得る。
又、原画像中の物の境界線付近の階調変化が自然画像に
近くなるため、背景画像に実体部画像を合成した場合に
境界線が自然に馴染むような視覚的効果が得られ、合成
画像が自然画像に近い品質のものになる。

【実施例】

以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。 本発明の第１実施例は、第１図に示すような、入力部
10、ストレージ12、フレームメモリ14、２値マスク作成
部16、中間調マスク作成部18、制御用中央処理ユニット
（CPU）20、及び出力部22とからなる、ラスタデータの
マスクデータを作成するための、切抜きマスク作成装置
である。 前記入力部10は、切抜き対象画像の指示や、画像上の
マスクデータを作成するべき領域の指示等を行うための
ものである。例えばデジタイザーあるいはマウス等を用
いることができる。 前記ストレージ12は、図示しないスキャナ等の画像読
取手段で読出されたカラー画像データ（例えばシアン
（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、墨（Bk）の
各色データ）と共に、作成されたマスクデータを格納す
るためのものである。 前記フレームメモリ14は、切抜き対象となる画像デー
タをマスクデータ作成のため一旦格納したり、切抜きマ
スクを出力部22で表示するため一旦格納したりするもの
である。 前記２値マスク作成部16は、前記フレームメモリ14に
格納された切抜き対象画像を２値化処理して２値のマス
クデータ（ラスタデータ）を作成するものである。この
作成部16における２値マスクデータの作成方法として
は、画面上に表示された画像の切抜こうとする実体部及
び背景部間の輪郭線を手動によりなぞる方法や、前記境
界線を含む領域を指定して、該領域内画素を自動的に背
景部又は実体部に分類して２値マスクを作成する方法等
種々の方法を用いることができる。 前記中間調マスク作成部18は、切抜き対象領域内の境
界線のうち階段状となる斜め線のものに対して、適当な
配分で階調のあるマスクデータを作成するものである。 前記制御用中央処理ユニット20は、ストレージ12内の
画像データをフレームメモリ14へ転送したり各マスク作
成部16、18で作成されたマスクデータをフレームメモリ
14やストレージ12に転送したり等の制御を行うものであ
る。 前記出力部22は、前記フレームメモリ14内の画像デー
タや作成後のマスクデータを画面上に表示するためのも
のであり、表示画面にカラー陰極線管（CRT）を用いる
ことができる。 以下、第１実施例の作用を説明する。 第１実施例に係る切抜きマスク作成装置においては、
第２図に示す流れ図に従って切抜きマスクを作成する。
即ち、まずストレージ12から画像データをフレームメモ
リ14に入力する（ステップ１）。次いで、２値マスク作
成部16で入力画像を処理することにより、ラスタデータ
の形の２値マスクデータを作成する（ステップ２）。な
お、この２値マスクデータの作成は種々の方法を用いて
行うことができる。例えば、画像データの各画素が実体
部又は背景部に属する可能性を、周知の最尤法、微分ヒ
ストグラム法、あるいは、判別分析法（例えば南敏等：
画像工学（コロナ社）に掲載）等を用いた演算により調
べて、背景部に属するとされた画素についてはマスクデ
ータをオン「１」、実体部に属するとされた画素につい
てはマスクデータをオフ「０」として２値マスクデータ
を作成する。 次いで、この作成された２値マスクデータに基づき、
後に詳述するように、斜めの境界線について、階調を有
する中間調マスク（０％マスク又は100％マスク以外の
階調のマスク）データを作成する（ステップ３）。作成
された２値マスクデータ及び中間調マスクデータをスト
レージ12に格納（セーブ）し（ステップ４）、この手順
を終了する。 なお、作成された２値マスクデータに対して、収縮
（あるいは縮退）、膨脹（あるいは拡大）等の処理を施
して、切抜き後の画像のノイズを消すことができる。 ここで、ステップ３における中間調マスクデータ作成
の処理について詳細な内容を説明する。この処理は、第
４図の手順に従い切抜き対象領域において原画像の境界
線が斜め線であるときは、その境界線に適当な配分で階
調のある中間調マスクを作成するものである。 この場合、前記ステップ２で作成された２値マスクデ
ータが、１画面全体でＮ行（Ｎライン）、Ｍ列（Ｍカラ
ム）の画素を有しており、１回のループ（ステップ104
〜114）で処理する画素がｉ行且つｊ列のもの（番地
（ｉ、ｊ））とする。まず、行番号ｉ、列番号ｊに１を
入れて初期化し（ステップ101、103）、番地（ｉ、ｊ）
の画素をＰとする（ステップ105）。 次いで、この画素Ｐを中心として３×３のウィンドウ
を作成する（ステップ106）。 このウィンドウ内のマスクパターンと例えば第５図
（Ａ）〜（Ｌ）のパターンとを比較する（ステップ10
7）。比較の結果、一致するパターンがあれば、中間調
マスクデータを画素Ｐに付与すべく、ステップ110以降
に進み、一方、一致するパターンがなければステップ10
8でｊを１インクリメントし（ｊ＝ｊ＋１）、ステップ1
04に戻って次の画素の処理を行う。この場合、一致する
パターンがあることは、マスクパターンに画素単位の段
差が存在することを示しており、即ち、この画素の周辺
では境界線が斜めであることが判断される。従って、こ
の段差の存在する画素に後に詳述するように次のステッ
プ110〜114で中間調マスクを付与する。 なお、ステップ104から108のループにおいては、同一
行ｉで順次列番号ｊを１インクリメントしながら（ステ
ップ108）、順に隣の画素の処理を行う。列番号ｊ＝Ｍ
となったときは、同一行の画素の処理が終了するため、
次の行の処理を行うべく行番号ｉを１インクリメントす
る（ステップ109）。このようにして行番号ｉを順次増
やして処理対象行を変えていき、行番号ｉ＝Ｎとなるま
で処理を行い（ステッフ102）、１画面分の２値マスク
データの全体の画素について中間調マスクデータを付与
するか否かを判断すると共に、付与するのであればどの
ような階調を付与するかを決定する。 中間調マスクデータを付与すると判断された場合に
は、まず、処理対象画素（当初画素Ｐ）ｘのマスクデー
タの階調を示す符号stepに「２」を入れ（ステップ11
0）、画素Ｐを画素ｘとする（ステップ111）。画素ｘに
step値を代入し、前記画素ｘに隣接する「０」（マスク
データオフ）画素のうち「１」（マスクデータオン）画
素に隣接する画素ｙがあるか否かを判断する（ステップ
113）。隣接画素ｙがあるならば画素ｙを画素ｘとし、
（ステップ114）、step値をインクリメントする（ステ
ップ115）。次いでステップ112に戻り、画素ｘに順次、
インクリメントされたstep値を代入していく（ステップ
112〜115）。このようにstep値を画素に順次代入して行
く状態例を第６図に示す。即ちまず、第６図（Ａ）示す
ように、「１」で形成されたコーナに位置する「０」画
素ｘにstep値「２」を与える。次いで、第６図（Ｂ）に
示すように、step「２」の画素ｘに接する「０」画素の
うち、「１」画素に隣接する画素ｙを画素ｘとおき、こ
の画素ｘのtep値を「３」とする。次いで、同様に、第
６図（Ｃ）に示すようにstep値「３」と「１」画素に接
する画素にstep値「４」を与え、第６図（Ｄ）に示すよ
うに、step値「４」と「１」の画素に隣接する画素にst
ep値「５」を与えるというように、順次画素にstep値を
与えていく（ステップ112〜115〜112）。ここで、第６
図（Ｄ）のように、step値「５」の画素に隣接する
「０」が「１」の画素と隣接しない場合には、前記番号
付けをstep値「５」で終了する（例えば第６図
（Ｅ））。次いで、これらstep値に基づき、次のよう
に、一連の画素のマスクの階調を決める（ステップ11
6）。 即ち、前記のようにstep値を与えた画素にマスクデー
タの階調を与えるに際しては、まず２値マスクのうち
「０」は０％マスクとし、「１」は100％マスクとし
て、その間を適当な配分によりマスクの階調を決定す
る。この決定は、詳細に第４図（Ｂ）に示すような手順
で行う。まず、step値をｋ値とする。このstep値は直前
のステップ113における画素ｘのstep値になる。 次いで、ステップ114Bに進み、ｋ＞１が成立するか否
かを判断し、成立すれば、ステップ114Cに進んでｋ値の
画素を新たに画素「ｘ」に設定しなおす。 次いで設定された画素「ｘ」の中間調のマクスデータ
値ｘ′を次式（Ａ）で求める。 ｘ′←｛（step−ｋ＋１）/step｝×100 ……（Ａ） 例えばｋ＝stepの場合、「ｘ」は｛1/step｝×100と
なる。 次いで、ステップ114Eに進んでｋから１引いて、先の
ｘ画素に隣接する画素でｋの値をとるところに対して同
様の処理を繰返し（ステップ114B〜114E）、ｋ＝１にな
ったところで、一連の中間調画素でなくなるので、この
処理を終了させる。 例えば第６図（Ｅ）の場合には、step＝５であるから
ｋ＝５である。まずｋ＝「５」の画素をｘとし、｛（５
−５＋１）/5｝×100＝20から20％をｘつまりｋ＝
「５」の画素の中間調マスクデータの値とする。次いで
ｋから１を引き、Ｋ＝「４」で「４」の画素を「ｘ」と
する。先と同様の計算で（Ａ）式から「４」の画素のマ
クスデータ値は40％になる。以下、同様に「３」の画素
のマクスデータ値は60％に、「２」の画素のマクスデー
タ値は80％になる。このようにして中間調マスクデータ
に階調を与えた結果の模式図を第３図（Ｂ）に示す。 以上のように作成された２値マクスデータ及び中間調
マスクデータにより実体部画像と背景部画像を合成する
ことにより、境界の馴染んだ自然画像に近い合成画像が
得られる。 次に第２実施例について説明する。 この第２実施例は、前記第１実施例がラスタデータの
２値マスクデータの境界線から中間調マスクデータを作
成していた切抜きマスク作成装置であるのに対して、境
界がベクタデータで与えられている画像データから中間
調マスクデータを作成しようとする切抜きマクス作成装
置である。この切抜きマスク作成装置の全体構成、マス
ク作成の大きな流れは前記第１図、第２図と略同様であ
りその説明は略す。 この場合のマスクデータの作成は、前記第２図に示し
たステップ３における中間調マスク作成において特徴が
あり、その内容を以下に説明する。 即ち、ベクタデータが垂直方向・水平方向のものであ
るときは、「０」、「１」のマスクデータを与え、一
方、ベクタデータが例えば第７図のように垂直方向・水
平方向以外の斜め方向のものであるとき、そのベクタデ
ータから求められる点列上領域に中間調マスクデータを
与える。但し、ベクタデータの進行方向右側は背景部と
してマスクデータを付与し、左側は実体部としてマスク
データを付与しない。 例えば、あるベクトル（i1、j1）−（i2、j2）が第８
図（Ａ）（Ｂ）又は（Ｃ）（Ｄ）のように、垂直｛（i1
−i2）＝０｝又は水平｛（j1−j2）＝０｝の場合は、ベ
クトル上の点は実体部と考えマスクデータを「０」とす
る。又、|i1−i2|≠０、且つ、|j1−j2|≠０のようにベ
クタデータが斜めの場合には、まずｉ方向、ｊ方向の差
（即ち移動量）の小さい方が１となるようにベクタデー
タを分割する。例えば第７図のベクタデータではｊ方向
に分割する。前記のように分割される等したｉ方向、ｊ
方向のいずれかの差が１であるベクタデータについて、
中間調マスクデータの階調を設定する。前記マスクの階
調の設定は、実施例では第９図に示す流れ図に従って行
う。 即ち、まずステップ50でＸベクトルの水平差Ｘ＝i1−
i2、垂直差Ｙ＝j1−j2を求め、水平差Ｘについて０、
１、−１であるか否かを判別する。Ｘ＝０であるなら
ば、そのベクタデータは垂直であるため、ステップ503A
に進んで、ｊ＝j1〜j2の範囲において（i1、ｊ）の点列
上領域（点列が横切る画素の領域）に「０」を入れる。
例えば第８図（Ａ）、（Ｂ）の如くとなる。 又、Ｘ＝１であるならば、ステップ503Bに進んで、Ｙ
＞０か否かを判断する。Ｙ＞０であれば、ステップ504A
に進んで、ｊ＝j1〜j2の範囲において、（i1、ｊ）の点
列上領域に次式（１）で示される中間調マスクデータを
例えば第８図（Ｅ）の如く与える。 （i1、ｊ） ＝｛（ｊ−i2）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（１） 又、Ｙ＞０でないならば、ステップ504Bに進んで、ｊ
＝j1＋１〜j2の範囲において、（i1、ｊ）の点列上領域
に、次式（２）で示される中間調マスクデータを例えば
第８図（Ｆ）の如く与える。 （i1、ｊ） ＝｛（ｊ−i1）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（２） 次いで、（i2、j2）の画素に「０」に与える（ステッ
プ505A）。 一方、Ｘ＝−１であるならばステップ503Cに進んで、
Ｙ＞０か否かを判断する。Ｙ＞０であるならば、ステッ
プ504Cに進んで、ｊ＝j1−１〜j2の範囲において、（i
1、ｊ）の点列上領域に、次式（３）で示される中間調
マスクデータを例えば第８図（Ｇ）のように付与する。 （i1、ｊ） ＝｛（j1−ｉ）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（３） 次いで、（i2、j2）の画素に「０」を付与する（ステ
ップ505B）。 一方、Ｙ＞０でないならば、ステップ504Dに進んでｊ
＝j1〜j2の領域において、（i1、ｊ）の点列上領域に、
次式（４）で示される中間調マスクデータを例えば第８
図（Ｈ）のように与える。 （i1、ｊ） ＝｛（j2−３）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（４） 一方、ステップ502において、Ｘが０、１、−１以外
であるならば、ステップ506に進んで、Ｙが０、１、−
１か否かを判定する。 Ｙ＝０であるならば、ベクタデータの向きは水平方向
であるため、ステップ507Aに進んで、ｉ＝i1〜i2の範囲
において、例えば第８図（Ｃ）、（Ｄ）のように、
（ｉ、j1）の点列上領域に「０」を与える。 又、Ｙ＝１であるならば、ステップ507Bに進んで、Ｘ
＞０であるか否かを判定する。Ｘ＞０でないならば（左
下り）、ステップ508Aに進んで、ｙ＝i1−１〜i2の範囲
において、（ｉ、j1）の点列上領域に次式（５）で示さ
れる中間調のマスクデータを第８図（Ｉ）の如く与え
る。 （ｉ、j1） ＝｛（i1−ｉ）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（５） 一方、Ｘ＞０が成立するならば（右下り）、ステップ
508Bに進んで、ｉ＝i1〜i2の領域において、（ｉ、j2）
の点列上領域に次式（６）で示される中間調マスクデー
タを第８図（Ｊ）の如く与える。 （ｉ、j2） ＝｛（i2−ｉ）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（６） 次いで（i2、j2）の画素に「０」を与える。 一方、ステップ506において、Ｙ＝−１と判断された
ならば、ステップ507Cに進んで、Ｘ＞０か否かを判断す
る。Ｘ＞０であるならば（左上り）、ステップ508Cに進
んで、Ｙ＝ｉ、１〜i2の範囲において、（ｉ、j2）の点
列上領域に、次式（７）で示される中間調マスクデータ
を例えば第８図（Ｋ）の如く与える。 （ｉ、j2） ＝｛（ｉ−j2）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（７） 次いで、（i2、j2）の画素に「０」を与える。 一方、Ｘ＞０でないならば、ステップ508Dに進んで、
Ｙ＝i1＋１〜i2の範囲において、（ｉ、j1）の点列上領
域に、次式（８）の値の中間調マスクデータを例えば第
８図（Ｌ）の如く与える。 （ｉ、j1） ＝｛（ｉ−i1）／（Ｙ＋１）｝×100 ……（８） 前記のようにベクタマスクデータの階調を付与する処
理が終了した後は、次のベクタデータの処理をするた
め、スタートに戻る。 なお、ステップ506において、Ｙ＝０、１、−１以外
と判断されたならば、ベクトルを分割した後スタートに
戻る（ステップ509）。 前記のようにして作成された２値マスク及び中間調マ
スクからなるマスクデータの例を第10図に示す。第10図
のように斜めの境界線には中間調マスクが作成されてい
るため、このマスクで切抜き合成することにより自然に
よく馴染んだ合成画像を得ることができる。

【発明の効果】

以上説明した通り、本発明によれば、斜めの境界線に
中間調マスクデータを作成することができる。従って、
作成されたマスクデータにより原画像を切抜き処理する
と、画像全体のシャープさを損なうことなく、従来斜め
線に生じていた画素単位のがたつきを解消して画像合成
を行うことができる。又、境界線付近の階調変化を原画
像に近いものとし得るため、背景画像に合成した場合に
自然に馴染むような印象を与える切抜き合成画像を得る
ことができる等の優れた効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る切抜きマスク作成装置の全体的
な構成を示すブロック図、 第２図は、前記実施例の作用を説明するための、切抜き
マスク作成手順を示す流れ図、 第３図は、本発明の第１実施例において、ラスタデータ
について階調マスクデータを作成する境界及びマスクの
例を示す平面図、 第４図は、中間調マスクデータを作成する画素のアルゴ
リズムを説明するための流れ図、 第５図は、中間調マスクを作成するマスクパターンの例
を示す平面図、 第６図は、中間調マスクデータの作成手順を示す流れ
図、 第７図は、本発明の第２実施例の作用を説明するための
ベクタデータの斜め線の例を示す線図、 第８図は、同じく、前記ベクタデータを分割して中間調
マスクデータを作成する場合の例を示す要部平面図、 第９図は、前記第２実施例において、マスクデータを作
成する詳細な手順を示す流れ図、 第10図は、前記第２実施例で作成されたマスクデータの
例を示す平面図である。 10……入力部、 12……ストレージ、 14……フレームメモリ、 16……２値マスク作成部、 18……中間調マスク作成部、 20……制御用中央処理ユニット、 22……出力部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−200356（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−31232（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−144127（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−231247（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−138969（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】カラー画像を走査し演算処理して、電子的
   な切抜き合成処理により合成画像を作成するための切抜
   きマスクを作成する方法において、 前記カラー画像に対して、画素値に基づくマスクのオン
   ・オフにより２値マスクデータを作成し、 前記走査方向に対して、斜めになっている背景部及び実
   体部間の境界線を含む領域について中間調のマスクデー
   タを作成し、 作成された２値マスクデータ及び中間調マスクデータに
   より切抜きマスクを作成することを特徴とする切抜きマ
   スク作成方法。