JP3000174B2 - Driving method of display device - Google Patents

Driving method of display device

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JP3000174B2
JP3000174B2 JP41572090A JP41572090A JP3000174B2 JP 3000174 B2 JP3000174 B2 JP 3000174B2 JP 41572090 A JP41572090 A JP 41572090A JP 41572090 A JP41572090 A JP 41572090A JP 3000174 B2 JP3000174 B2 JP 3000174B2
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film transistor
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正明 ▲ひろ▼木
晃 間瀬
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アクティブ型表示装
置、特にアクティブ型液晶表示装置に関するもので、そ
れぞれの画素に相補型にPチャネル型およびNチャネル
型の2つの薄膜型絶縁ゲイト電界効果トランジスタ(以
下TFTという)を設けてピクセルを構成した表示装置
の駆動方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active display device, and more particularly to an active liquid crystal display device. Two P-channel and N-channel thin-film insulated gate field effect transistors are complementary to each pixel. The present invention relates to a method for driving a display device in which pixels are provided with TFTs (hereinafter referred to as TFTs).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、表示装置として有効なものに、T
FTを用いたアクティブ型の液晶表示装置が知られてい
る。この場合、TFTにはアモルファスまたは多結晶構
造の半導体を用い、1つの画素にPまたはN型のいずれ
か一方の導電型のみのTFTを用いたものである。即
ち、一般にはNチャネル型TFT(NTFTという)を
画素に直列に連結している。その代表例を図8に示す。
2. Description of the Related Art Conventionally, an effective display device has been
2. Description of the Related Art An active liquid crystal display device using an FT is known. In this case, a semiconductor having an amorphous or polycrystalline structure is used for the TFT, and a TFT having only one of the P and N conductivity types is used for one pixel. That is, generally, an N-channel TFT (referred to as NTFT) is connected in series to the pixel. FIG. 8 shows a typical example.

【0003】一般にアクティブマトリクス型の液晶表示
装置は480×640、または1260×960と非常
に多くの画素を有している。図8ではこれらと同じ意味
を示すもので、説明を簡単にするために2×2のマトリ
クス配列で示している。複数のゲイト線G,Gと複
数のデータ線D,Dとを直交して配置し、そのマト
リクス状の交差部に画素表示素子を設けている。この画
素表示素子は液晶部102とTFT部101で構成され
ている。それぞれの画素に対して周辺回路106、10
7から信号を加えて所定の画素を選択的にオンまたはオ
フして表示を行う。
In general, an active matrix type liquid crystal display device has a very large number of pixels of 480 × 640 or 1260 × 960. FIG. 8 shows the same meaning as above, and is shown in a 2 × 2 matrix arrangement for simplicity of explanation. A plurality of gate lines G 1 , G 2 and a plurality of data lines D 1 , D 2 are arranged orthogonally, and pixel display elements are provided at intersections of the matrix. This pixel display element includes a liquid crystal unit 102 and a TFT unit 101. Peripheral circuits 106, 10 for each pixel
7, a signal is added, and a predetermined pixel is selectively turned on or off to perform display.

【0004】しかし、実際にこれらの液晶表示装置を作
製して表示をさせた場合、TFTの出力、即ち液晶にと
っての入力(液晶電位という)の電圧VLC100は、
しばしば“1”(High)となるべき時に“1”(H
igh)にならず、また、逆に“0”(Low)となる
べき時に“0”(Low)にならない。これは、画素に
信号を加えるスイッチング素子、つまりTFTの特性に
対称性がないために発生する。すなわち、画素電極への
充電の様子と放電の様子に電気特性上のかたよりがある
ためである。そして、液晶102はその動作において本
来絶縁性であり、また、TFTがオフの時に液晶電位
(VLC)は浮いた状態になる。この液晶102は等価
的にキャパシタであるため、そこに蓄積された電荷によ
りVLCが決められる。この電荷は液晶がRLCで比較
的小さい抵抗となったり、ゴミやイオン性不純物の存在
によりリークしたり、またTFTのゲイト絶縁膜のピン
ホールによりRGS105が生じた場合にはそこから電
荷がもれ、VLCは中途半端な状態になってしまう。こ
のため1つのパネル中に20万〜500万個の画素を有
する液晶表示装置においては、高い歩留まりを成就する
ことができないという問題があった。
However, when these liquid crystal display devices are actually manufactured and displayed, the output of the TFT, that is, the voltage VLC 100 of the input to the liquid crystal (referred to as the liquid crystal potential) is:
Often, when “1” (High) should be “1” (H
i), and conversely, when it should be “0” (Low), it does not become “0” (Low). This occurs because there is no symmetry in the characteristics of the switching element that applies a signal to the pixel, that is, the TFT. In other words, this is because the state of charge and the state of discharge to the pixel electrode have a difference in electrical characteristics. The liquid crystal 102 is inherently insulative in its operation, and the liquid crystal potential (V LC ) floats when the TFT is off. Since the liquid crystal 102 is equivalently a capacitor, VLC is determined by the electric charge stored therein. This charge is a relatively small resistance in the RLC of the liquid crystal, leaks due to the presence of dust or ionic impurities, and when the RGS 105 is generated by a pinhole in the gate insulating film of the TFT, the charge is generated therefrom. Leakage occurs, and VLC is in an incomplete state. For this reason, a liquid crystal display device having 200,000 to 5,000,000 pixels in one panel has a problem that a high yield cannot be achieved.

【0005】液晶102は一般にはTN(ツイステッド
ネマティック)液晶が用いられる。その液晶の配向のた
めにそれぞれの電極上にラビングした配向膜を設ける。
このラビング工程のため発生する静電気により弱い絶縁
破壊が起こり、隣の画素との間または隣の導線との間で
リークしたり、またゲイト絶縁膜が弱く、リークをした
りしてしまう。
As the liquid crystal 102, a TN (twisted nematic) liquid crystal is generally used. A rubbed alignment film is provided on each electrode to align the liquid crystal.
A weak dielectric breakdown occurs due to static electricity generated by the rubbing process, and leakage occurs between adjacent pixels or adjacent conductors, or the gate insulating film is weak and leaks.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】アクティブ型の液晶表
示装置においては、液晶電位を1フレームの間はたえず
初期値と同じ値として所定のレベルを保つことがきわめ
て重要である。しかし実際はアクティブ素子の不良が多
く、必ずしも液晶電位を1フレームの間はたえず初期値
と同じ値として所定のレベルを保てないのが実情であ
る。また、液晶等の駆動において、印加する信号によ
り、液晶に加わる電圧が+または−の何れかに偏った場
合、電気分解等が発生して液晶材料を分解、変性して表
示が十分に行えないことが発生する。この場合、印加す
る信号を交流化して液晶材料に加わる電圧に偏りが発生
しないようにするが、この交流化信号が非常に複雑であ
った。
In an active type liquid crystal display device, it is extremely important to keep the liquid crystal potential at the same level as the initial value for one frame and to maintain a predetermined level. However, in practice, there are many defective active elements, and in reality, the liquid crystal potential cannot always be kept at the same level as the initial value and maintained at a predetermined level during one frame. Further, in driving a liquid crystal or the like, if a voltage applied to the liquid crystal is biased to either + or-due to a signal to be applied, electrolysis or the like occurs, and the liquid crystal material is decomposed and denatured, so that sufficient display cannot be performed. That happens. In this case, the applied signal is converted into an alternating current to prevent the voltage applied to the liquid crystal material from being biased. However, the alternating signal is very complicated.

【0007】本発明は上述のような問題を解決し、より
電流マージンを大とする、即ち応答速度を大とする。ま
た各ピクセルにおける画素の電位、即ち液晶電位VLC
が“1”,“0”に充分安定して固定され、1フレーム
中にそのレベルがドリフトしないようにしたものであ
る。
[0007] The present invention solves the above-mentioned problems and increases the current margin, that is, increases the response speed. Further, the potential of the pixel in each pixel, that is, the liquid crystal potential V LC
Are fixed to "1" and "0" with sufficient stability so that the level does not drift during one frame.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、画素に対して
NTFTとPTFTとを相補構成として有し、前記PT
FTのソース(ドレイン)部を一対の信号線のうちの第
1の信号線に接続し、前記NTFTのソース(ドレイ
ン)部を一対の信号線のうちの第2の信号線に接続し、
前記NTFTとPTFTのゲイト電極を共通に第3の信
号線に接続し、前記NTFTおよびPTFTのドレイン
(ソース)部を画素電極と接続して設けられている、表
示装置の駆動方法であって、前記一対の第1および第2
の信号線に対して、信号波形が印加されている期間中に
前記第3の信号線に対して、信号波形を印加することに
より、前記相補構成の薄膜トランジスタ(以下C/TF
Tという)を駆動し、画素の表示をオンまたはオフする
表示装置の駆動方法であります。
According to the present invention, an NTFT and a PTFT are provided for a pixel in a complementary configuration,
A source (drain) portion of the FT is connected to a first signal line of the pair of signal lines, a source (drain) portion of the NTFT is connected to a second signal line of the pair of signal lines,
A method for driving a display device, wherein a gate electrode of the NTFT and a PTFT is commonly connected to a third signal line, and a drain (source) portion of the NTFT and a PTFT is connected to a pixel electrode. The pair of first and second
By applying a signal waveform to the third signal line during a period in which the signal waveform is applied to the signal line, the complementary thin film transistor (hereinafter referred to as C / TF) is applied.
T) to drive the display device to turn on or off the pixel display.

【0009】本発明の駆動方法を適用可能な表示装置の
構成としては、1つの画素に2つまたはそれ以上のC/
TFTを連結して1つのピクセルを構成せしめてもよ
い。さらに1つのピクセルを2つまたはそれ以上に分割
し、それぞれにC/TFTを1つまたは複数個連結して
もよい。
As a configuration of a display device to which the driving method of the present invention can be applied, two or more C / Cs are provided for one pixel.
One pixel may be formed by connecting TFTs. Further, one pixel may be divided into two or more, and one or more C / TFTs may be connected to each.

【0010】本発明の駆動方法を適用可能な表示装置の
構成の代表例を図2、図3、図4に回路図として示す。
また、実際のパターンレイアウト(配置図)の例をそれ
ぞれに対応して図5、図6、図7に示す。説明を簡単に
するため、ここでは2×2のマトリクス構成を例として
説明を行う。図2の2×2のマトリクスの例においてN
TFTとPTFTとのゲイトを互いに連結し、さらにY
軸方向の第3の信号線3または4に連結し、またC/T
FTの共通出力端を液晶15に連結している。PTFT
の入力端(10側)をX軸方向の一対の信号線のうちの
第1の信号線5または6に連結し、NTFTの入力端
(20側)をX軸方向の一対の信号線のうちの第2の信
号線8または7に連結させている。
FIGS. 2, 3 and 4 are circuit diagrams showing typical examples of the configuration of a display device to which the driving method of the present invention can be applied.
FIGS. 5, 6, and 7 show examples of actual pattern layouts (arrangement diagrams), respectively. For the sake of simplicity, a description will be given of a 2 × 2 matrix configuration as an example. In the example of the 2 × 2 matrix of FIG.
The gates of the TFT and PTFT are connected to each other.
Connected to the third axial signal line 3 or 4 and
The common output terminal of the FT is connected to the liquid crystal 15. PTFT
Of the pair of signal lines in the X-axis direction is connected to the first signal line 5 or 6 of the pair of signal lines in the X-axis direction, and the input terminal (20 side) of the NTFT is connected to the first signal line 5 in the X-axis direction. Are connected to the second signal line 8 or 7.

【0011】この様な構成において、図1に示されてい
るように一対の第1の信号線5と第2の信号線8間にオ
ンの信号波形が印加されている期間に第3の信号線3に
対しオンの信号波形を印加した時、液晶電位(VLC
14は第1の信号線に印加された電圧VDDとなる。ま
た一対の第1の信号線5と第2の信号線8間にオフの信
号波形が印加されている期間に第3の信号線3もオフの
信号波形が印加された時、液晶電位(VLC)14は電
位を持たない。さらにまた、一対の第1の信号線5と第
2の信号線8間にオフの信号波形が印加されている期間
に第3の信号線3に対しオンの信号波形を印加しない
時、液晶電位(VLC)14は第2の信号線に印加され
た電圧VSSとなる。かくの如く液晶電位(VLC)1
4はVDDまたはVSSに固定させ得るため、フローテ
ィングとなることがない。
In such a configuration, as shown in FIG. 1, the third signal is applied during the period in which the ON signal waveform is applied between the pair of the first signal line 5 and the second signal line 8. When an ON signal waveform is applied to the line 3, the liquid crystal potential (V LC )
14 is the voltage V DD applied to the first signal line. Further, when the off signal waveform is applied to the third signal line 3 during the period when the off signal waveform is applied between the pair of the first signal line 5 and the second signal line 8, the liquid crystal potential (V LC ) 14 has no potential. Furthermore, when the ON signal waveform is not applied to the third signal line 3 during the period when the OFF signal waveform is applied between the pair of the first signal line 5 and the second signal line 8, the liquid crystal potential (V LC) 14 is the voltage V SS which is applied to the second signal line. As described above, the liquid crystal potential (V LC ) 1
4 because capable of fixing to V DD or V SS, never become floating.

【0012】また、対抗電極16はオフセット電圧V
OFFSETが印加されており、実際に液晶15に加わ
る電圧はVDD+VOFFSET、VOFFSETある
いはVSS+VOFFSETの3値となる。本発明の駆
動方法では対抗電極に加えるオフセット電圧V
OFFSETを可変して、液晶駆動のオンとオフを任意
に変更することができる。また、液晶を実際に駆動する
際のしきい値が液晶材料よって異なっているため、その
液晶の持つ値に合わせ為にこのオフセット電圧V
OFFSETを可変するだけで、任意のしきい値合わせ
ることができる。
The counter electrode 16 has an offset voltage V
The OFFSET is applied, and the voltage actually applied to the liquid crystal 15 has three values of V DD + V OFFSET , V OFFSET or V SS + V OFFSET . In the driving method of the present invention, the offset voltage V applied to the counter electrode
By changing OFFSET , it is possible to arbitrarily change ON and OFF of the liquid crystal drive. Also, since the threshold value for actually driving the liquid crystal differs depending on the liquid crystal material, the offset voltage V is adjusted to match the value of the liquid crystal.
An arbitrary threshold can be adjusted only by changing the OFFSET .

【0013】また、液晶等の駆動において、印加する信
号により、液晶に加わる電圧が+または−の何れかに偏
った場合、電気分解等が発生して、液晶材料を分解、変
性して表示が十分に行えないことが発生するこの場合、
印加する信号を交流化して液晶材料に加わる電圧に偏り
が発生しないようにするが、本発明の駆動方法によると
対抗電極に印加するオフセット電圧VOFFSETの極
性とデータ信号線に加える選択信号の論理を反転するの
みで、非常に容易に交流化信号を発生させることができ
る特徴をもつ。
In driving a liquid crystal or the like, when a voltage applied to the liquid crystal is biased to either + or-by an applied signal, electrolysis or the like occurs, and the liquid crystal material is decomposed and denatured to display. In this case where things do n’t work well,
According to the driving method of the present invention, the polarity of the offset voltage V OFFSET applied to the counter electrode and the logic of the selection signal applied to the data signal line are controlled by converting the applied signal into an alternating current so as not to cause a bias in the voltage applied to the liquid crystal material. Has the characteristic that an AC signal can be generated very easily only by inverting.

【0014】図3の例において、第1のC/TFTを構
成するPTFT13、NTFT22と第2のC/TFT
を構成するPTFT24、NTFT25の4つのゲイト
電極を共通してY方向の第3の信号線3に連結せしめ、
PTFT13とPTFT24入力端を共通化してX方向
の第1の信号線5にNTFT22とNTFT25入力端
を共通化してX方向の第2の信号線8に接続させた。ま
たその2つのC/TFTの出力を共通にして1つの液晶
15の一方の電極である画素電極17に連結させてい
る。かくすると、2つのNTFTまたは2つのPTFT
のいずれか一方が多少リークしても同相であるためその
画素を駆動させることができる。
In the example shown in FIG. 3, PTFT 13, NTFT 22 and second C / TFT constituting the first C / TFT
Are connected in common to the third signal line 3 in the Y direction by using the four gate electrodes PTFT 24 and NTFT 25
The PTFT 13 and PTFT 24 input terminals are shared, and the NTFT 22 and NTFT 25 input terminals are shared with the first signal line 5 in the X direction and connected to the second signal line 8 in the X direction. The outputs of the two C / TFTs are shared and connected to a pixel electrode 17 which is one electrode of one liquid crystal 15. Thus, two NTFTs or two PTFTs
Even if either one of them leaks somewhat, the pixel can be driven because it is in phase.

【0015】図4は1つのピクセル23において、2つ
の画素電極17、26とそのそれぞれに対応してC/T
FTを2つ設けたものである。2つのC/TFTのゲイ
ト電極を共通とせしめ、第1の入力を行う。またそれぞ
れのC/TFTのそれぞれのNTFTおよびそれぞれの
PTFTの入力を第1の信号線5および第2の信号線8
に連結したものである。かくすることにより、1つのピ
クセルの2つの画素のうち一方がTFTのリーク等の不
良により非動作とならない。また、遅れた動作となって
も、他方が正常動作するため、マトリクス構成動作にお
いて不良が目立ちにくいという特長を有する。
FIG. 4 shows that in one pixel 23, two pixel electrodes 17, 26 and a C / T
In this example, two FTs are provided. The gate electrode of the two C / TFTs is made common, and the first input is performed. The input of each NTFT and each PTFT of each C / TFT is connected to the first signal line 5 and the second signal line 8.
It is connected to. Thus, one of the two pixels in one pixel does not become inoperable due to a defect such as a TFT leak. Further, even if the operation is delayed, the other operates normally, so that a defect is less noticeable in the matrix configuration operation.

【0016】[0016]

【実施例1】本実施例では図2に示すような回路構成の
液晶表示装置を用いて説明を行う。この回路構成に対応
する実際の電極等の配置構成を図5に示している。これ
らは説明を簡単にする為2×2に相当する部分のみ記載
されている。また、実際の駆動信号波形を図9に示す。
これも説明を簡単にする為に4×4のマトリクス構成と
した場合の信号波形で説明を行う。
[Embodiment 1] This embodiment will be described using a liquid crystal display device having a circuit configuration as shown in FIG. FIG. 5 shows an actual arrangement of electrodes and the like corresponding to this circuit configuration. For simplification of description, only portions corresponding to 2 × 2 are described. FIG. 9 shows an actual drive signal waveform.
For the sake of simplicity, the description will be made using signal waveforms in the case of a 4 × 4 matrix configuration.

【0017】まず、本実施例で使用する液晶表示装置の
作製方法を図13を使用して説明する。図13(A)に
おいて、石英ガラス等の高価でない700℃以下、例え
ば約600℃の熱処理に耐え得るガラス50上にマグネ
トロンRF(高周波)スパッタ法を用いてブロッキング
層51としての酸化珪素膜を1000〜3000Åの厚
さに作製する。プロセス条件は酸素100%雰囲気、成
膜温度15℃、出力400〜800W、圧力0.5Pa
とした。ターゲットに石英または単結晶シリコンを用い
た成膜速度は30〜100Å/分であった。
First, a method for manufacturing a liquid crystal display device used in this embodiment will be described with reference to FIGS. In FIG. 13A, a silicon oxide film as a blocking layer 51 is formed on a glass 50 such as quartz glass which can withstand heat treatment at an inexpensive temperature of 700 ° C. or less, for example, about 600 ° C. by using a magnetron RF (high frequency) sputtering method. It is made to a thickness of 3000 mm. The process conditions are an atmosphere of 100% oxygen, a film formation temperature of 15 ° C., an output of 400 to 800 W, and a pressure of 0.5 Pa.
And The deposition rate using quartz or single crystal silicon as the target was 30 to 100 ° / min.

【0018】この上にシリコン膜をLPCVD(減圧気
相)法、スパッタ法またはプラズマCVD法により形成
した。減圧気相法で形成する場合、結晶化温度よりも1
00〜200℃低い450〜550℃、例えば530℃
でジシラン(Si)またはトリシラン(Si
)をCVD装置に供給して成膜した。反応炉内圧力は
30〜300Paとした。成膜速度は50〜250Å/
分であった。NTFTとPTFTとのスレッシュホール
ド電圧(Vth)に概略同一に制御するため、ホウ素を
ジボランを用いて1×1015〜1×1018cm−3
の濃度として成膜中に添加してもよい。
A silicon film was formed thereon by an LPCVD (low pressure gas phase) method, a sputtering method or a plasma CVD method. When formed by the reduced pressure gas phase method, the temperature is 1
450-550 ° C lower by 00-200 ° C, for example 530 ° C
With disilane (Si 2 H 6 ) or trisilane (Si 3 H
8 ) was supplied to a CVD apparatus to form a film. The pressure in the reactor was 30 to 300 Pa. The deposition rate is 50-250 ° /
Minutes. In order to control the threshold voltage (Vth) of the NTFT and PTFT to be substantially the same, boron is used to diborane to 1 × 10 15 to 1 × 10 18 cm −3.
May be added during the film formation.

【0019】スパッタ法で行う場合、スパッタ前の背圧
を1×10−5Pa以下とし、単結晶シリコンをターゲ
ットとして、アルゴンに水素を20〜80%混入した雰
囲気で行った。例えばアルゴン20%、水素80%とし
た。成膜温度は150℃、周波数は13.56MHz、
スパッタ出力は400〜800W、圧力は0.5Paで
あった。
When the sputtering method is used, the back pressure before the sputtering is set to 1 × 10 −5 Pa or less, and a single crystal silicon is used as a target in an atmosphere in which hydrogen is mixed with 20 to 80% of argon. For example, argon was 20% and hydrogen was 80%. The deposition temperature is 150 ° C., the frequency is 13.56 MHz,
The sputter output was 400-800 W and the pressure was 0.5 Pa.

【0020】プラズマCVD法により珪素膜を作製する
場合、温度は例えば300℃とし、モノシラン(SiH
)またはジシラン(Si)を用いた。これらを
PCVD装置内に導入し、13.56MHzの高周波電
力を加えて成膜した。
When a silicon film is formed by a plasma CVD method, the temperature is set to, for example, 300 ° C., and monosilane (SiH
4 ) or disilane (Si 2 H 6 ) was used. These were introduced into a PCVD apparatus, and a high-frequency power of 13.56 MHz was applied to form a film.

【0021】これらの方法によって形成された被膜は、
酸素が5×1021cm−3以下であることが好まし
い。この酸素濃度が高いと、結晶化させにくく、熱アニ
ール温度を高くまたは熱アニール時間を長くしなければ
ならない。また少なすぎると、バックライトによりオフ
状態のリーク電流が増加してしまう。そのため4×10
19〜4×1021cm−3の範囲とした。水素は4×
1020cm−3であり、珪素4×1022cm−3
して比較すると1原子%であった。また、ソース、ドレ
インに対してより結晶化を助長させるため、酸素濃度を
7×1019cm−3以下、好ましくは1×1019
−3以下とし、ピクセル構成するTFTのチャネル形
成領域のみに酸素をイオン注入法により5×1020
5×1021cm−3となるように添加してもよい。そ
の時周辺回路を構成するTFTには光照射がなされない
ため、この酸素の混入をより少なくし、より大きいキャ
リア移動度を有せしめることは、高周波動作をさせるた
める有効である。
The coatings formed by these methods are:
It is preferable that oxygen is 5 × 10 21 cm −3 or less. If the oxygen concentration is high, crystallization is difficult, and the thermal annealing temperature must be increased or the thermal annealing time must be increased. If the amount is too small, the leakage current in the off state increases due to the backlight. Therefore 4 × 10
The range was 19 to 4 × 10 21 cm −3 . Hydrogen is 4x
It was 10 20 cm −3 , which was 1 atomic% as compared with silicon 4 × 10 22 cm −3 . In order to further promote crystallization of the source and the drain, the oxygen concentration is set to 7 × 10 19 cm −3 or less, preferably 1 × 10 19 c.
m −3 or less, and oxygen is ion-implanted only into a channel formation region of a TFT constituting a pixel to form 5 × 10 20 to
You may add so that it may become 5 * 10 < 21 > cm <-3> . At this time, since light is not irradiated to the TFTs constituting the peripheral circuit, it is effective to reduce the mixing of oxygen and to have a higher carrier mobility for high-frequency operation.

【0022】次に、アモルファス状態の珪素膜を500
〜5000Å、例えば1500Åの厚さに作製の後、4
50〜700℃の温度にて12〜70時間非酸化物雰囲
気にて中温の加熱処理、例えば水素雰囲気下にて600
℃の温度で保持した。珪素膜の下の基板表面にアモルフ
ァス構造の酸化珪素膜が形成されているため、この熱処
理で特定の核が存在せず、全体が均一に加熱アニールさ
れる。即ち、成膜時はアモルファス構造を有し、また水
素は単に混入しているのみである。
Next, the silicon film in an amorphous state is
After fabrication to a thickness of ~ 5000mm, for example 1500mm, 4
Medium-temperature heat treatment in a non-oxide atmosphere at a temperature of 50 to 700 ° C. for 12 to 70 hours, for example, 600 hours in a hydrogen atmosphere
It was kept at a temperature of ° C. Since a silicon oxide film having an amorphous structure is formed on the substrate surface below the silicon film, no specific nucleus is present in this heat treatment, and the whole is uniformly heat-annealed. That is, it has an amorphous structure at the time of film formation, and hydrogen is simply mixed therein.

【0023】アニールにより、珪素膜はアモルファス構
造から秩序性の高い状態に移り、一部は結晶状態を呈す
る。特にシリコンの成膜後の状態で比較的秩序性の高い
領域は特に結晶化をして結晶状態となろうとする。しか
しこれらの領域間に存在する珪素により互いの結合がな
されるため、珪素同志は互いにひっぱりあう。レーザラ
マン分光により測定すると単結晶の珪素のピーク522
cm−1より低周波側にシフトしたピークが観察され
る。それの見掛け上の粒径は半値巾から計算すると、5
0〜500Åとマイクロクリスタルのようになっている
が、実際はこの結晶性の高い領域は多数あってクラスタ
構造を有し、各クラスタ間は互いに珪素同志で結合(ア
ンカリング)がされたセミアモルファス構造の被膜を形
成させることができた。
By the annealing, the silicon film shifts from an amorphous structure to a highly ordered state, and a part of the silicon film exhibits a crystalline state. In particular, a region having a relatively high order in a state after the formation of silicon is particularly likely to be crystallized to be in a crystalline state. However, since the silicon existing between these regions is bonded to each other, silicon mutually pulls each other. Single crystal silicon peak 522 measured by laser Raman spectroscopy
A peak shifted to a lower frequency side than cm −1 is observed. Its apparent particle size, calculated from the half width, is 5
Although it is like a microcrystal having a size of 0 to 500 °, there are actually a large number of regions having high crystallinity and a cluster structure, and a semi-amorphous structure in which each cluster is bonded to each other by silicon (anchoring). Could be formed.

【0024】結果として、被膜は実質的にグレインバウ
ンダリ(以下GBという)がないといってもよい状態を
呈する。キャリアは各クラスタ間をアンカリングされた
個所を通じ互いに容易に移動し得るため、いわゆるGB
の明確に存在する多結晶珪素よりも高いキャリア移動度
となる。即ちホール移動度(μh)=10〜200cm
/VSec、電子移動度(μe)=15〜300cm
/VSecが得られる。
As a result, the coating exhibits a state substantially free of grain boundaries (hereinafter referred to as GB). Carriers can easily move from one cluster to another through the anchored locations between the clusters, so-called GB
Carrier mobility higher than that of polycrystalline silicon that clearly exists. That is, hole mobility (μh) = 10 to 200 cm
2 / VSec, electron mobility (μe) = 15-300 cm
2 / VSec is obtained.

【0025】他方、上記の如き中温でのアニールではな
く、900〜1200℃の高温アニールにより被膜を多
結晶化すると、核からの固相成長により被膜中の不純物
の偏析がおきて、GBには酸素、炭素、窒素等の不純物
が多くなり、結晶中の移動度は大きいが、GBでのバリ
ア(障壁)を作ってそこでのキャリアの移動を阻害して
しまう。結果として10cm/Vsec以上の移動度
がなかなか得られないのが実情である。即ち、本実施例
ではかくの如き理由により、セミアモルファスまたはセ
ミクリスタル構造を有するシリコン半導体を用いてい
る。
On the other hand, when the film is polycrystallized by high-temperature annealing at 900 to 1200 ° C. instead of annealing at the above-mentioned medium temperature, segregation of impurities in the film occurs due to solid phase growth from nuclei. Impurities such as oxygen, carbon, and nitrogen increase, and the mobility in the crystal is large. However, a barrier (barrier) is formed in GB to hinder the movement of carriers there. As a result, a mobility of 10 cm 2 / Vsec or more cannot be easily obtained. That is, in this embodiment, a silicon semiconductor having a semi-amorphous or semi-crystalline structure is used for such a reason.

【0026】図13(A)において、珪素膜を第1のフ
ォトマスクにてフォトエッチングを施し、PTFT用
の領域13(チャネル巾20μm)を図面の右側に、N
TFT用の領域22を左側に作製した。
In FIG. 13A, a silicon film is subjected to photoetching using a first photomask, and a PTFT region 13 (channel width 20 μm) is formed on the right side of the drawing.
A TFT region 22 was formed on the left side.

【0027】この上に酸化珪素膜をゲイト絶縁膜として
500〜2000Å例えば1000Åの厚さに形成し
た。これはブロッキング層としての酸化珪素膜の作製と
同一条件とした。この成膜中に弗素を少量添加し、ナト
リウムイオンの固定化をさせてもよい。
On top of this, a silicon oxide film was formed as a gate insulating film to a thickness of 500 to 2000 {for example, 1000}. This was made under the same conditions as those for forming the silicon oxide film as the blocking layer. During the film formation, a small amount of fluorine may be added to fix the sodium ions.

【0028】この後、この上側にリンが1〜5×10
21cm−3の濃度に入ったシリコン膜またはこのシリ
コン膜とその上にモリブデン(Mo)、タングステン
(W),MoSiまたはWSiとの多層膜を形成し
た。これを第2のフォトマスクにてパターニングして
図13(B)を得た。PTFT用のゲイト電極55、N
TFT用のゲイト電極56を形成した。例えばチャネル
長10μm、ゲイト電極としてリンドープ珪素を0.2
μm、その上にモリブデンを0.3μmの厚さに形成し
た。 図13(C)において、フォトレジスト57をフ
ォトマスクを用いて形成し、PTFT用のソース59
ドレイン58に対し、ホウ素を1〜5×1015cm
−2のドーズ量でイオン注入法により添加した。 次に
図13(D)の如く、フォトレジスト61をフォトマス
クを用いて形成した。NTFT用のソース64、ドレ
イン62としてリンを1〜5×1015cm−2のドー
ズ量でイオン注入法により添加した。
Thereafter, 1 to 5 × 10
A silicon film having a concentration of 21 cm −3 or a multilayer film of the silicon film and molybdenum (Mo), tungsten (W), MoSi 2 or WSi 2 was formed thereon. This was patterned using a second photomask to obtain FIG. Gate electrode 55 for PTFT, N
A gate electrode 56 for a TFT was formed. For example, a channel length of 10 μm and a gate electrode of phosphorus-doped silicon of 0.2
μm, and molybdenum was formed thereon to a thickness of 0.3 μm. In FIG. 13C, a photoresist 57 is formed using a photomask, and a PTFT source 59 is formed.
1-5 × 10 15 cm of boron for drain 58
A dose of -2 was added by ion implantation. Next, as shown in FIG. 13D, a photoresist 61 was formed using a photomask. Phosphorus was added by ion implantation at a dose of 1 to 5 × 10 15 cm −2 as a source 64 and a drain 62 for NTFT.

【0029】これらはゲイト絶縁膜54を通じて行っ
た。しかし図13(B)において、ゲイト電極55、5
6をマスクとしてシリコン膜上の酸化珪素を除去し、そ
の後、ホウ素、リンを直接珪素膜中にイオン注入しても
よい。
These steps were performed through the gate insulating film 54. However, in FIG. 13B, the gate electrodes 55, 5
6 may be used as a mask to remove silicon oxide on the silicon film, and then boron and phosphorus may be directly ion-implanted into the silicon film.

【0030】次に、600℃にて10〜50時間再び加
熱アニールを行った。PTFTのソース59ドレイン5
8NTFTのソース64、ドレイン62を不純物を活性
化してP、Nとして作製した。またゲイト電極5
5、56下にはチャネル形成領域60、63がセミアモ
ルファス半導体として形成されている。
Next, heat annealing was performed again at 600 ° C. for 10 to 50 hours. PTFT source 59 drain 5
The source 64 and the drain 62 of the 8NTFT were manufactured as P + and N + by activating impurities. Gate electrode 5
Channel formation regions 60 and 63 are formed below 5 and 56 as semi-amorphous semiconductors.

【0031】かくすると、セルフアライン方式でありな
がらも、700℃以上にすべての工程で温度を加えるこ
とがなくC/TFTを作ることができる。そのため、基
板材料として、石英等の高価な基板を用いなくてもよ
く、本発明の大画素の液晶表示装置にきわめて適したプ
ロセスである。
In this way, a C / TFT can be manufactured without applying a temperature to 700 ° C. or more in all steps, even though it is a self-aligned system. Therefore, it is not necessary to use an expensive substrate such as quartz as a substrate material, and this is a process very suitable for the large pixel liquid crystal display device of the present invention.

【0032】本実施例では熱アニールは図13(A)、
(D)で2回行った。しかし図13(A)のアニールは
求める特性により省略し、双方を図13(D)のアニー
ルにより兼ね製造時間の短縮を図ってもよい。図13
(E)において、層間絶縁物65を前記したスパッタ法
により酸化珪素膜の形成として行った。この酸化珪素膜
の形成はLPCVD法、光CVD法、常圧CVD法を用
いてもよい。例えば0.2〜0.6μmの厚さに形成
し、その後、フォトマスクを用いて電極用の窓66を
形成した。さらに、これら全体にアルミニウムをスパッ
タ法により形成し、リード71、72およびコンタクト
67、68をフォトマスクを用いて作製した後、表面
を平坦化用有機樹脂69例えば透光性ポリイミド樹脂を
塗布形成し、再度の電極穴あけをフォトマスクにて行
った。
In this embodiment, the thermal annealing is performed as shown in FIG.
(D) was performed twice. However, the annealing in FIG. 13A may be omitted depending on the required characteristics, and both may be omitted by the annealing in FIG. 13D to shorten the manufacturing time. FIG.
In (E), a silicon oxide film was formed on the interlayer insulator 65 by the above-described sputtering method. This silicon oxide film may be formed by an LPCVD method, a photo CVD method, or a normal pressure CVD method. For example, it was formed to a thickness of 0.2 to 0.6 μm, and then a window 66 for an electrode was formed using a photomask. Further, aluminum is formed on the entire surface by sputtering, and leads 71 and 72 and contacts 67 and 68 are formed using a photomask. After that, the surface is flattened with an organic resin 69 for flattening, for example, a translucent polyimide resin. Then, the electrode drilling was performed again using a photomask.

【0033】図13(F)に示す如く2つのTFTを相
補型構成とし、かつその出力端を液晶装置の一方の画素
の電極を透明電極としてそれに連結するため、スパッタ
法によりITO(インジューム・スズ酸化膜)を形成し
た。それをフォトマスクによりエッチングし、電極7
0を構成させた。このITOは室温〜150℃で成膜
し、200〜400℃の酸素または大気中のアニールに
より成就した。かくの如くにしてPTFT22とNTF
T13と透明導電膜の電極70とを同一ガラス基板50
上に作製した。得られたTFT電気的なの特性はPTF
Tで移動度は20(cm/Vs)、Vthは−5.9
(V)で、NTFTで移動度は40(cm/Vs)、
Vthは5.0(V)であった。
As shown in FIG. 13 (F), the two TFTs have a complementary structure, and their output terminals are connected to the electrodes of one pixel of the liquid crystal device as transparent electrodes. (A tin oxide film). It is etched using a photomask and the electrodes 7
0 was configured. This ITO film was formed at room temperature to 150 ° C. and achieved by annealing at 200 to 400 ° C. in oxygen or atmosphere. Thus, PTFT 22 and NTF
The same glass substrate 50 as T13 and the electrode 70 of the transparent conductive film
Made above. The obtained TFT electrical characteristics are PTF
At T, the mobility is 20 (cm 2 / Vs), and Vth is −5.9.
(V), the mobility of NTFT is 40 (cm 2 / Vs),
Vth was 5.0 (V).

【0034】上記の様な方法に従って作製された液晶装
置用の一方の基板と他方ガラス基板上に全面に透明電極
を設け、これら基板を張り合わせて液晶セルを形成し、
この中にTNの液晶材料を注入した。この液晶表示装置
の電極等の配置の様子を図6に示している。PTFT1
3を第1の走査線5とデータ線3との交差部に設け、第
1の走査線5とデータ線4との交差部にも他の画素用の
PTFTが同様に設けられている。一方NTFTは第2
の走査線8とデータ線3との交差部に設けられている。
また、隣接した他の第1の走査線6とデータ線3との交
差部には、他の画素用のNTFTが設けられている。こ
のようなC/TFTを用いたマトリクス構成を有せしめ
た。PTFT13は、ドレイン10の入力端のコンタク
トを介し第1の走査線5に連結され、ゲイト9は多層配
線形成がなされたデータ線3に連結されている。ソース
12の出力端はコンタクトを介して画素の電極17に連
結している。
A transparent electrode is provided on the entire surface of one of the substrates for the liquid crystal device and the other glass substrate manufactured according to the method described above, and these substrates are bonded to form a liquid crystal cell.
A TN liquid crystal material was injected therein. FIG. 6 shows the arrangement of the electrodes and the like of the liquid crystal display device. PTFT1
3 is provided at the intersection of the first scanning line 5 and the data line 3, and the PTFT for other pixels is similarly provided at the intersection of the first scanning line 5 and the data line 4. On the other hand, NTFT
Are provided at intersections between the scanning lines 8 and the data lines 3.
An NTFT for another pixel is provided at the intersection of the adjacent first scanning line 6 and data line 3. A matrix configuration using such a C / TFT is provided. The PTFT 13 is connected to the first scanning line 5 via a contact at the input end of the drain 10, and the gate 9 is connected to the data line 3 on which a multilayer wiring is formed. The output terminal of the source 12 is connected to the pixel electrode 17 via a contact.

【0035】他方、NTFT22はドレイン20の入力
端がコンタクトを介して第2の走査線8に連結され、ゲ
イト21はデータ線3に、ソース18の出力端はコンタ
クトを介してPTFTと同様に画素電極17に連結して
いる。かくして一対の走査線5、8に挟まれた間(内
側)に、透明導電膜よりなる画素23とC/TFTとに
より1つのピクセルを構成せしめた。かかる構造を左
右、上下に繰り返すことにより、2×2のマトリクスを
それを拡大した640×480、1280×960とい
った大画素の液晶表示装置とすることができる。
On the other hand, the NTFT 22 has an input terminal of the drain 20 connected to the second scanning line 8 via a contact, a gate 21 connected to the data line 3, and an output terminal of the source 18 connected to the pixel via a contact like the PTFT. It is connected to the electrode 17. Thus, between the pair of scanning lines 5 and 8 (inside), one pixel was constituted by the pixel 23 made of the transparent conductive film and the C / TFT. By repeating such a structure left, right, up and down, a liquid crystal display device having a large pixel of 640 × 480 or 1280 × 960 obtained by enlarging a 2 × 2 matrix can be obtained.

【0036】ここでの特長は、1つの画素に2つのTF
Tが相補構成をして設けられていることにより、画素電
極17は3つの値の液晶電位VLCに固定されることで
ある。その動作を図9および図10を用いて説明する。
図9においては、4×4マトリクス構成の液晶表示を行
う際の本発明の回路図を示し、図10は駆動信号波形の
タイミングチャートを示している。
The feature here is that one pixel has two TFs.
Since T is provided in a complementary configuration, the pixel electrode 17 is fixed at three values of the liquid crystal potential VLC . The operation will be described with reference to FIGS.
FIG. 9 shows a circuit diagram of the present invention when performing a 4 × 4 matrix liquid crystal display, and FIG. 10 shows a timing chart of drive signal waveforms.

【0037】本実施例の場合、X1a1b、X2a
2b、X3a3b、X4a4bは各々一対の走査信
号線として機能する。また、Y、Y、Y、Y
データ線として機能している。また、図9中のAA、A
B・・・DDは対応する位置の画素のアドレスを意味し
ている。
In the case of this embodiment, X 1a X 1b , X 2a X
2b, X 3a X 3b, X 4a X 4b are each functions as a pair of the scanning signal lines. Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 function as data lines. AA, A in FIG.
B ... DD means the address of the pixel at the corresponding position.

【0038】この様な4×4構成の表示において、今ア
ドレスAA、AB、BA、BBの4つの画素に対応す
る、信号波形と液晶電位と実際に液晶に印加される電位
差のタイミングチャートを図10に示します。図10に
おいて、横軸は時間を示している。1フレームを時間T
1からT2の間としてこの間を4つに分割して、一対の
走査線4対を順次走査して走査信号を印加している。図
ではX1a、X2a、X3a、X4aのみを記載してい
るが実際にはX1b、X2b、X3b、X4bにはX
1a、X2a、X3a、X4aと極性の異なる同じ波形
が印加されている。また、Y、Y、Y、Y線に
は図10のようなデータ信号が印加されており、時間T
1からT2の間はAAの画素のみ選択されてオンまたは
オフされる。即ち、Tからtの間にデータ線Y
対してデータ信号を印加して、この時間内にAAの画素
の液晶にはしきい値をこえる電圧が印加され液晶が駆動
される。この時、液晶表示装置の対抗電極にオフセット
電圧が印加されている。図10では次の時間T2からT
3にも全く同じ信号波形を印加し、AAの表示を行って
いる。
In such a 4 × 4 display, a timing chart of the signal waveform, the liquid crystal potential, and the potential difference actually applied to the liquid crystal corresponding to the four pixels at the addresses AA, AB, BA, and BB is shown. Shown in 10. In FIG. 10, the horizontal axis indicates time. One frame at time T
The interval between 1 and T2 is divided into four, and four pairs of scanning lines are sequentially scanned to apply a scanning signal. In the figure, only X 1a , X 2a , X 3a , and X 4a are described, but X 1b , X 2b , X 3b , and X 4b are actually X
1a, X 2a, X 3a, the X 4a and a different polarity the same waveform is applied. A data signal as shown in FIG. 10 is applied to the lines Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 and the time T
From 1 to T2, only the AA pixel is selected and turned on or off. That is, the data signal is applied to the data lines Y 1 to between T 1 of the t 1, the liquid crystal voltage exceeding the threshold value to the liquid crystal of the AA of the pixel in this time is applied is driven. At this time, the offset voltage is applied to the opposing electrode of the liquid crystal display device. In FIG. 10, from the next time T2 to T
Exactly the same signal waveform is applied to No. 3 to display AA.

【0039】次に時間T3からT4及びT4からT5で
は4つの画素を全く選択しない信号が印加されている。
さらに時間T5からT6では再びAAの画素を選択して
いる信号が印加されている。
Next, at times T3 to T4 and T4 to T5, a signal that does not select any of the four pixels is applied.
Further, from time T5 to T6, a signal for selecting the AA pixel is applied again.

【0040】次に時間T6からT8はデータ線に印加す
る信号の論理を反転させた信号が印加され、また対抗電
極には時間T1からT6の間に印加されていた信号とは
極性の異なるオフセット電圧が印加されて、交流化信号
が液晶に加えられている。この交流化信号により、時間
T1からT6の間に正に偏っていた電荷をキャンセルす
ることができる。すなわち、時間T2からT4に加えら
れていた信号のうち、Y、Y、Y、Y線の論理
を反転し、すなわち選択信号と非選択信号を入れ換え、
対抗電極のオフセット電圧の正負を入れ換えることによ
り、時間T2からT4の前半の1フレームではAAの画
素を選択し、後半の1フレームでは4つの画素を選択し
ない交流化信号を印加でき液晶を駆動することが可能と
なった。これにより、容易に画素に残っている電荷をキ
ャンセルすることができる。
Next, from time T6 to T8, a signal obtained by inverting the logic of the signal applied to the data line is applied, and the counter electrode has an offset having a polarity different from that of the signal applied during time T1 to T6. A voltage is applied and an alternating signal is applied to the liquid crystal. With this alternating signal, the charges that have been positively biased between times T1 and T6 can be canceled. That is, of the signal which has been applied from time T2 to T4, Y 1, Y 2, Y 3, inverts the logic of Y 4-wire, i.e. interchanged selection signal and a non-selection signal,
By exchanging the positive and negative of the offset voltage of the counter electrode, the AA pixel is selected in the first frame of the time T2 to T4, and an AC signal that does not select the four pixels is applied in the second frame of the second time, thereby driving the liquid crystal. It became possible. This makes it possible to easily cancel the charge remaining in the pixel.

【0041】このように、本発明の駆動によると非常に
簡単な、パルス信号をデータ線および一対の走査線に加
えるだけで、液晶表示を行える。
As described above, according to the driving of the present invention, liquid crystal display can be performed only by applying a very simple pulse signal to the data line and the pair of scanning lines.

【0042】本実施例において、1つの表示画面に対し
て、複数フレームの駆動信号を液晶に印加することによ
り1画面を表示する場合は特定の画素に加える選択信号
回数を全フレーム数より減らすことにより、容易に階調
表示を行うことができる。
In this embodiment, when one screen is displayed by applying drive signals of a plurality of frames to the liquid crystal for one display screen, the number of selection signals to be applied to a specific pixel is reduced from the total number of frames. Thus, gradation display can be easily performed.

【0043】本実施例において液晶材料にTN液晶を用
いるならば、液晶容器の基板間隔を約10μm程度と
し、透明導電膜双方に配向膜を設け、それをラビング処
理して形成させる必要がある。
If TN liquid crystal is used as the liquid crystal material in this embodiment, it is necessary to set the distance between the substrates of the liquid crystal container to about 10 μm, provide an alignment film on both transparent conductive films, and rub it.

【0044】また液晶材料にFLC(強誘電性)液晶を
用いる場合は、動作電圧を±20Vとし、セルの間隔を
1.5〜3.5μm例えば2.3μmとし、対抗電極1
6上にのみ配向膜を設けラビング処理を施せばよい。
When an FLC (ferroelectric) liquid crystal is used as the liquid crystal material, the operating voltage is ± 20 V, the cell interval is 1.5 to 3.5 μm, for example, 2.3 μm, and the opposing electrode 1
It is sufficient that an alignment film is provided only on 6 and rubbing treatment is performed.

【0045】分散型液晶またはポリマー液晶を用いる場
合には、配向膜は不用であり、スイッチング速度を大と
するため、動作電圧は±10〜±15Vとし、セル間隔
は1〜10μmと薄くした。
When a dispersion type liquid crystal or a polymer liquid crystal is used, an alignment film is not necessary, and in order to increase the switching speed, the operating voltage is set to ± 10 ± 15 V and the cell interval is set to be as thin as 1 to 10 μm.

【0046】特に分散型液晶を用いる場合には、偏光板
も不用のため、反射型としても、また透過型としても光
量を大きくすることができる。そしてその液晶はスレッ
シュホールドがないため、本発明のように、明確なスレ
ッシュホールド電圧が規定されるC/TFT型とするこ
とにより、大きなコントラストとクロストーク(隣の画
素との悪干渉)を除くことができた。
In particular, when a dispersion type liquid crystal is used, since a polarizing plate is not necessary, the amount of light can be increased both in a reflection type and in a transmission type. Since the liquid crystal does not have a threshold, a C / TFT type in which a clear threshold voltage is defined as in the present invention eliminates large contrast and crosstalk (bad interference with adjacent pixels). I was able to.

【0047】また、本実施例で使用したTFTの半導体
は本実施例で使用した材料以外をも使用できる。
Further, as the semiconductor of the TFT used in this embodiment, materials other than those used in this embodiment can be used.

【0048】[0048]

【実施例2】この実施例は図3および図7に対応した液
晶表示装置の構成を有するものを使用して、本実施例を
行った。この図面より明らかな如く、Y線の走査線3を
中央に配設し、一対のデータ線の第1のデータ線5と第
2のデータ線8に挟まれた部分を1つのピクセル23と
している。1つのピクセルは1つの透明導電膜の画素1
7および2つのPTFT13、24と、2つのNTFT
22、25よりなる2つのC/TFTに連結させてい
る。ゲイト電極はすべて走査線3に連結され、2つのP
TFTは第1のデータ線3に、また2つのNTFTは第
2のデータ線8に連結されている。これら2つのC/T
FTの一方が、ゲイト電極とチャネル形成領域との間に
リークがあり不良であった場合でも、ピクセルとしての
動作をさせることができる。
[Embodiment 2] In this embodiment, the present embodiment was carried out using a liquid crystal display having the structure shown in FIGS. As is apparent from this drawing, the scanning line 3 of the Y line is disposed at the center, and a portion of the pair of data lines sandwiched between the first data line 5 and the second data line 8 is defined as one pixel 23. . One pixel is one pixel of one transparent conductive film
7 and two PTFTs 13, 24 and two NTFTs
22 and 25 are connected to two C / TFTs. The gate electrodes are all connected to scan line 3 and two P
The TFT is connected to the first data line 3 and the two NTFTs are connected to the second data line 8. These two C / T
Even when one of the FTs is defective due to leakage between the gate electrode and the channel formation region, the pixel can operate as a pixel.

【0049】ここでの特長は1つの画素に2つのC/T
FTが設けられていることにより、画素電極17は3つ
の値の液晶電位VLCに固定されることである。 その
動作を図9および図11を用いて説明する。図9におい
ては、4×4マトリクス構成の液晶表示を行う際の本発
明の回路図を示し、図11は駆動信号波形のタイミング
チャートを示している。
The feature here is that one pixel has two C / Ts.
By providing the FT, the pixel electrode 17 is fixed at three values of the liquid crystal potential VLC . The operation will be described with reference to FIGS. FIG. 9 shows a circuit diagram of the present invention when a liquid crystal display of a 4 × 4 matrix configuration is performed, and FIG. 11 shows a timing chart of drive signal waveforms.

【0050】本実施例の場合、X1a1b、X2a
2b、X3a3b、X4a4bは各々一対のデータ
線として機能する。また、Y、Y、Y、Yは走
査線として機能している。また、図9中のAA、AB・
・・DDは対応する位置の画素のアドレスを意味してい
る。
In the case of this embodiment, X 1a X 1b , X 2a X
2b, X 3a X 3b, X 4a X 4b are each functions as a pair of data lines. Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 function as scanning lines. Also, AA, AB,
.. DD means the address of the pixel at the corresponding position.

【0051】この様な4×4構成の表示において、今ア
ドレスAA、AB、BA、BBの4つの画素に対応す
る、信号波形と液晶電位と実際に液晶に印加される電位
差のタイミングチャートを図11に示します。図11に
おいて、横軸は時間を示している。1フレームを時間T
1からT2の間としてこの間を4つに分割して、走査線
、Y、Y、Y線には順次走査して走査信号を
印加している。また、X、X、X、X線には図
11のようなデータ信号が印加されている。図ではX
1a、X2a、X3a、X4aのみを記載しているが実
際にはX1b、X2b、X3b、X4bにはX1a、X
2a、X3a、X4aと極性の異なる同じ波形が印加さ
れており、時間T1からT2の間はAAの画素のみ選択
されてオンまたはオフされる。すなわちTからt
間に一対のデータ線Xに対してデータ信号を印加し
て、この時間内にAAの画素の液晶にはしきい値をこえ
る電圧が印加されることになり液晶が駆動される。この
時、液晶表示装置の対抗電極にオフセット電圧が印加さ
れている。図11では次の時間T2からT3にも全く同
じ信号波形を印加し、AAの表示を行っている。
In such a 4 × 4 display, a timing chart of the signal waveform, the liquid crystal potential and the potential difference actually applied to the liquid crystal corresponding to the four pixels of the addresses AA, AB, BA, and BB is shown. Shown in Figure 11. In FIG. 11, the horizontal axis indicates time. One frame at time T
The interval is divided into four from 1 to T2, and scanning signals are applied to the scanning lines Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 sequentially by scanning. Further, data signals as shown in FIG. 11 are applied to the lines X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 . In the figure, X
1a, X 2a, X 3a, describes only the X 4a but in practice X 1b, X 2b, X 3b , the X 4b X 1a, X
2a, X 3a, X 4a and different same waveform are applied polarities, between time T1 T2 is turned on or off is selected only the pixels of AA. That is, applying data signals to the pair of data lines X 1 between t 1 from T 1, the liquid crystal this is the liquid crystal of the pixels in AA in time will be a voltage exceeding the threshold value is applied Is driven. At this time, the offset voltage is applied to the opposing electrode of the liquid crystal display device. In FIG. 11, the same signal waveform is applied from the next time T2 to T3, and AA is displayed.

【0052】次に時間T3からT4及びT4からT5で
は4つの画素を全く選択しない信号が印加されている。
さらに時間T5からT6では再びAAの画素を選択して
いる信号が印加されている。
Next, at times T3 to T4 and T4 to T5, a signal is applied which does not select any of the four pixels.
Further, from time T5 to T6, a signal for selecting the AA pixel is applied again.

【0053】次に時間T6からT8は一対のデータ線に
印加する信号の論理を反転させた信号が印加され、また
対抗電極には時間T1からT6の間に印加されていた信
号とは極性の異なるオフセット電圧が印加されて、交流
化信号が液晶に加えられている。この交流化信号によ
り、時間T1からT6の間に正に偏っていた電荷をキャ
ンセルすることができる。実際には、時間T2からT4
に加えられていた信号のうち、一対のX、X
、X線の論理を反転し、つまり選択信号と非選択
信号を入れ換え、対抗電極のオフセット電圧の正負を入
れ換えることにより、前半のフレームではAAの画素を
選択し、後半のフレームでは4つの画素を選択しない交
流化信号を印加でき液晶を駆動することが可能となっ
た。
Next, from time T6 to T8, a signal obtained by inverting the logic of the signal applied to the pair of data lines is applied, and the counter electrode has a polarity opposite to that of the signal applied during time T1 to T6. Different offset voltages are applied and an alternating signal is applied to the liquid crystal. With this alternating signal, the charges that have been positively biased between times T1 and T6 can be canceled. Actually, from time T2 to T4
, X 1 , X 2 ,
By inverting the logic of the X 3 and X 4 lines, that is, exchanging the selection signal and the non-selection signal and exchanging the positive and negative of the offset voltage of the counter electrode, the AA pixel is selected in the first half frame, and 4 A in the second half frame. An AC signal that does not select one pixel can be applied, and the liquid crystal can be driven.

【0054】このように、本発明の駆動によると非常に
簡単な、パルス信号をデータ線および一対の走査線に加
えるだけで、液晶表示を行える。
As described above, according to the driving of the present invention, liquid crystal display can be performed only by applying a very simple pulse signal to the data line and the pair of scanning lines.

【0055】[0055]

【実施例3】この実施例は図4および図8に対応した液
晶表示装置の構成を有するものを使用して、本実施例を
行った。この図面より明らかな如く、Y線のデータ線3
を中央に配設し、一対の走査線の第1の走査線5と第2
の走査線8に挟まれた部分を1つのピクセル23として
いる。1つのピクセルは2つの透明導電膜の画素電極1
7、26から構成され、画素17はPTFT13とNT
FT22が接続され、画素26にはPTFT24と、N
TFT25がおのおのC/TFT構成として連結させて
いる。ゲイト電極はすべてデータ線3に連結され、2つ
のPTFTは第1の走査線3に、また2つのNTFTは
第2の走査線8に連結されている。これら2つのC/T
FTの一方が、ゲイト電極とチャネル形成領域との間に
リークがあり不良であった場合でも、ピクセルとしての
動作をさせることができる。 かくすると、たとえ一方
の画素が中途半端にしか動作しなくなっても、他方の画
素が正常動作をし、カラー化をした時、グレースケール
の劣化の程度を下げることができた。
Embodiment 3 In this embodiment, the present embodiment was carried out using a liquid crystal display having the structure shown in FIGS. As is apparent from this drawing, the data line 3 of the Y line
Is disposed at the center, and the first scanning line 5 and the second scanning line 5
The portion between the scanning lines 8 is defined as one pixel 23. One pixel has two transparent conductive pixel electrodes 1
7 and 26, and the pixel 17 includes the PTFT 13 and the NT
An FT 22 is connected, and a PTFT 24 and an N
TFTs 25 are connected in a C / TFT configuration. All the gate electrodes are connected to the data line 3, two PTFTs are connected to the first scanning line 3, and two NTFTs are connected to the second scanning line 8. These two C / T
Even when one of the FTs is defective due to leakage between the gate electrode and the channel formation region, the pixel can operate as a pixel. In this way, even if one of the pixels operates only halfway, the other pixel operates normally, and when colorized, the degree of gray scale deterioration can be reduced.

【0056】その動作を図9および図12を用いて説明
する。図9においては、4×4マトリクス構成の液晶表
示を行う際の本発明の回路図を示し、図12は駆動信号
波形のタイミングチャートを示している。
The operation will be described with reference to FIGS. 9 and 12. FIG. 9 shows a circuit diagram of the present invention when a liquid crystal display of a 4 × 4 matrix configuration is performed, and FIG. 12 shows a timing chart of drive signal waveforms.

【0057】本実施例の場合、X1a1b、X2a
2b、X3a3b、X4a4bは各々一対の走査信
号線として機能する。また、Y、Y、Y、Y
データ線として機能している。また、図9中のAA、A
B・・・DDは対応する位置の画素のアドレスを意味し
ている。
In the case of this embodiment, X 1a X 1b , X 2a X
2b, X 3a X 3b, X 4a X 4b are each functions as a pair of the scanning signal lines. Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 function as data lines. AA, A in FIG.
B ... DD means the address of the pixel at the corresponding position.

【0058】この様な4×4構成の表示において、今ア
ドレスAA、AB、BA、BBの4つの画素に対応す
る、信号波形と液晶電位と実際に液晶に印加される電位
差のタイミングチャートを図12に示します。図12に
おいて、横軸は時間を示している。1フレームを時間T
1からT2の間としてこの間を16に分割して、一対の
走査線4対を順次走査して走査信号を印加している。図
ではX1a、X2a、X3a、X4aのみを記載してい
るが実際にはX1b、X2b、X3b、X4bにはX
1a、X2a、X3a、X4aと極性の異なる同じ波形
が印加されている。また、Y、Y、Y、Y線に
は図12のようなデータ信号が印加されておりそのタイ
ミングは選択する画素のアドレスにより、1フレーム中
の16分割された特定の時間にデータ線にデータ信号が
印加される、時間T1からT2の間はAAの画素のみ選
択されてオンまたはオフされている。即ち、Tからt
の間にデータ線Yに対してデータ信号を印加して、
この時間内にAAの画素の液晶にはしきい値をこえる電
圧が印加され液晶が駆動される。この時、液晶表示装置
の対抗電極にオフセット電圧が印加されている。 次に
時間T2からT3では4つの画素を全く選択しない信号
が印加されている。
In such a 4 × 4 display, a timing chart of the signal waveform, the liquid crystal potential, and the potential difference actually applied to the liquid crystal, corresponding to the four pixels at the addresses AA, AB, BA, and BB. Shown in Figure 12. In FIG. 12, the horizontal axis indicates time. One frame at time T
The interval between 1 and T2 is divided into 16 portions, and four pairs of scanning lines are sequentially scanned to apply a scanning signal. In the figure, only X 1a , X 2a , X 3a , and X 4a are described, but X 1b , X 2b , X 3b , and X 4b are actually X
1a, X 2a, X 3a, the X 4a and a different polarity the same waveform is applied. A data signal as shown in FIG. 12 is applied to the lines Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 , and the timing thereof is set at a specific time divided into 16 in one frame by the address of the pixel to be selected. During the time T1 to T2 when the data signal is applied to the data line, only the AA pixel is selected and turned on or off. In other words, from T 1 t
By applying a data signal to the data lines Y 1 during 1,
During this time, a voltage exceeding the threshold is applied to the liquid crystal of the AA pixel, and the liquid crystal is driven. At this time, the offset voltage is applied to the opposing electrode of the liquid crystal display device. Next, from time T2 to T3, a signal that does not select any of the four pixels is applied.

【0059】次に時間T3からT4はデータ線に印加す
る信号の論理を反転させた信号が印加され、また対抗電
極には時間T1からT3の間に印加されていた信号とは
極性の異なるオフセット電圧が印加されて、交流化信号
が液晶に加えられている。この交流化信号により、時間
T1からT3の間に正に偏っていた電荷をキャンセルす
ることができる。すなわち、時間T1からT2に加えら
れていた信号のうち、Y、Y、Y、Y線の論理
を反転し、すなわち選択信号と非選択信号を入れ換え、
対抗電極のオフセット電圧の正負を入れ換えることによ
り、前半のフレームではAAの画素を選択し、後半のフ
レームでは4つの画素を選択しない交流化信号を印加で
き液晶を駆動することが可能となった。
Next, from time T3 to T4, a signal obtained by inverting the logic of the signal applied to the data line is applied, and the counter electrode has an offset having a polarity different from that of the signal applied between time T1 and T3. A voltage is applied and an alternating signal is applied to the liquid crystal. With this alternating signal, charges that have been positively biased between times T1 and T3 can be canceled. That is, of the signal which has been added to T2 from the time T1, Y 1, Y 2, Y 3, inverts the logic of Y 4-wire, i.e. interchanged selection signal and a non-selection signal,
By exchanging the offset voltage of the opposing electrode, it is possible to drive the liquid crystal by applying an AC signal that selects the AA pixel in the first frame and does not select four pixels in the second frame.

【0060】このように、本発明の駆動によると非常に
簡単な、パルス信号をデータ線および一対の走査線に加
えるだけで、液晶表示を行える。本実施例においては、
走査する側をY線として、走査を行ったが特にこの構成
に限定されることはなく、X線側を走査する側とするこ
とも可能である。また、データ信号をランダムに各デー
タ線に印加して、画素をランダムに選択してゆくことも
可能である。その他、ここに記載されていないことは実
施例1、2に記されたことと同様である。
As described above, according to the driving of the present invention, liquid crystal display can be performed only by applying a very simple pulse signal to the data line and the pair of scanning lines. In this embodiment,
Scanning was performed using the Y-line as the scanning side, but the present invention is not particularly limited to this configuration, and the scanning side may be the X-ray side. Further, it is also possible to apply a data signal to each data line at random and select pixels at random. In addition, what is not described here is the same as that described in Examples 1 and 2.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上説明したように本発明の駆動法によ
り、液晶電位をフローティングとしないため、安定した
表示を行うことができる。また、アクティブ素子として
のC/TFTの駆動能力が高いため、動作マージンを拡
大でき、さらに周辺の駆動回路をより簡単にすることが
可能で表示装置の小型化、製造コストの低減に効果があ
る。また、3本の信号線と対抗電極に非常に単純な信号
で高い駆動能力を発揮することができる。
As described above, according to the driving method of the present invention, since the liquid crystal potential does not float, stable display can be performed. Further, since the driving capability of the C / TFT as the active element is high, the operation margin can be expanded, and the peripheral driving circuit can be further simplified, which is effective in reducing the size of the display device and reducing the manufacturing cost. . In addition, high driving capability can be exhibited with very simple signals to the three signal lines and the counter electrode.

【0062】不良TFTが一部にあっても同相出力であ
るためその補償をある程度行うことができる。
Even if some of the defective TFTs are in-phase output, it can be compensated to some extent.

【0063】さらに、液晶材料を電気分解させないため
に液晶の駆動としては必須の交流化信号駆動をC/TF
Tのゲイト信号線に加える信号の論理を反転させ、対抗
電極に印加するオフセット電圧の極性を反転するという
簡単なことで達成できた。
Further, in order to prevent the liquid crystal material from being electrolyzed, an AC signal driving which is indispensable for driving the liquid crystal is performed by C / TF.
This was achieved simply by inverting the logic of the signal applied to the T gate signal line and inverting the polarity of the offset voltage applied to the counter electrode.

【0064】本発明における表示媒体としては、透過型
の液晶表示装置または反射型の液晶表示装置として用い
得る。また使用可能な液晶材料としては前術のTN液
晶、FLC液晶、分散型液晶、ポリマ型液晶を用い得
る。 またゲストホスト型、誘電異方性型のネマチック
液晶にイオン性ドーパントを添加して電界を印加するこ
とによってネマチック液晶としコレステリック液晶との
混合体に電界を印加して、ネマチック相とコレステリッ
ク相との間で相変化を生じさせ、透明ないし白濁の表示
を実現する相転移液晶を用いることもできる。また液晶
以外では、例えば染料で着色した有機溶媒中にこれと色
の異なる顔料粒子を分散させたいわゆる電気泳動表示用
分散系を用いることもできることを付記する。
The display medium of the present invention can be used as a transmission type liquid crystal display device or a reflection type liquid crystal display device. As a usable liquid crystal material, a TN liquid crystal, an FLC liquid crystal, a dispersion liquid crystal, or a polymer liquid crystal as described above can be used. In addition, by adding an ionic dopant to a guest-host type or dielectric anisotropic type nematic liquid crystal and applying an electric field, an electric field is applied to a mixture of the cholesteric liquid crystal and the nematic liquid crystal, and the nematic phase and the cholesteric phase are mixed. A phase change liquid crystal that causes a phase change between the two and realizes a transparent or opaque display can also be used. In addition to the liquid crystal, for example, a so-called electrophoretic display dispersion system in which pigment particles having different colors are dispersed in an organic solvent colored with a dye can be used.

【0065】本発明において、表示媒体として液晶を用
いた時、C/TFTの出力は液晶電位となる。また液晶
以外の媒体を用いることもあるため、その場合にはC/
TFTの出力電圧と置き換えればよい。
In the present invention, when a liquid crystal is used as a display medium, the output of the C / TFT is a liquid crystal potential. In some cases, a medium other than liquid crystal is used.
What is necessary is just to replace with the output voltage of the TFT.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の駆動波形を示す。FIG. 1 shows a driving waveform of the present invention.

【図2】相補型TFTを用いたアクティブ型表示装置の
回路図を示す。
FIG. 2 is a circuit diagram of an active display device using complementary TFTs.

【図3】相補型TFTを用いたアクティブ型表示装置の
回路図を示す。
FIG. 3 is a circuit diagram of an active display device using complementary TFTs.

【図4】相補型TFTを用いたアクティブ型表示装置の
回路図を示す。
FIG. 4 is a circuit diagram of an active display device using complementary TFTs.

【図5】従来のアクティブ型液晶装置の回路図を示す。FIG. 5 shows a circuit diagram of a conventional active liquid crystal device.

【図6】図2に対応した液晶表示装置の一方の基板の平
面図を示す。
6 is a plan view of one substrate of the liquid crystal display device corresponding to FIG.

【図7】図3に対応した液晶表示装置の一方の基板の平
面図を示す。
7 is a plan view of one substrate of the liquid crystal display device corresponding to FIG.

【図8】図4に対応した液晶表示装置の一方の基板の平
面図を示す。
8 is a plan view of one substrate of the liquid crystal display device corresponding to FIG.

【図9】相補型TFTを用いた4×4アクティブ型液晶
装置の回路図を示す。
FIG. 9 is a circuit diagram of a 4 × 4 active liquid crystal device using complementary TFTs.

【図10】本発明の駆動信号波形とそのタイミングチャ
ートの一例を示す。
FIG. 10 shows an example of a drive signal waveform of the present invention and a timing chart thereof.

【図11】本発明の駆動信号波形とそのタイミングチャ
ートの一例を示す。
FIG. 11 shows an example of a drive signal waveform of the present invention and a timing chart thereof.

【図12】本発明の駆動信号波形とそのタイミングチャ
ートの一例を示す。
FIG. 12 shows an example of a drive signal waveform of the present invention and a timing chart thereof.

【図13】本発明で使用したC/TFTの作製工程図を
示す。
FIG. 13 shows a manufacturing process diagram of the C / TFT used in the present invention.

【符号の説明】 〜・・・フォトマスクを用いたプロセス 1、2・・・周辺回路 3、4・・・第3の信号線 5、6・・・第1の信号線 7、8・・・第2の信号線 13・・・・PTFT 16・・・・対抗電極 17・・・・画素電極 22・・・・NTFT 23・・・・画素[Explanation of reference numerals] ... Process using photomask 1, 2 ... Peripheral circuit 3, 4 ... Third signal line 5, 6 ... First signal line 7, 8, ... · Second signal line 13 ··· PTFT 16 ··· Counter electrode 17 ··· Pixel electrode 22 ··· NTFT 23 ··· Pixel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−96636(JP,A) 特開 平4−190329(JP,A) 特開 昭49−77537(JP,A) 特開 平4−5633(JP,A) 特開 平4−177326(JP,A) 特開 平4−177327(JP,A) 特開 平4−190330(JP,A) 特開 平4−196171(JP,A) 特開 平4−220627(JP,A) 特開 平10−171373(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/133 550 G02F 1/136 500 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-63-96636 (JP, A) JP-A-4-190329 (JP, A) JP-A-49-77537 (JP, A) 5633 (JP, A) JP-A-4-177326 (JP, A) JP-A-4-177327 (JP, A) JP-A-4-190330 (JP, A) JP-A-4-196171 (JP, A) JP-A-4-220627 (JP, A) JP-A-10-171373 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/133 550 G02F 1/136 500

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチ
ャネル型薄膜トランジスタからなる相補型のトランジス
タと、 前記Pチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第1の信号線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第2の信号線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのゲート電極を第3の信号線に電気的
接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのドレイン(ソース)を画素電極と電
気的に接続している表示装置の駆動方法において、 前記第1および第2の信号線にオン信号を加えている
間に前記第3の信号線にオン信号を加えることにより、
画素電極に電圧を印加することを特徴とする表示装置の
駆動方法。
1. An N-channel type thin film transistor and a P-type thin film transistor.
Complementary transistor consisting of channel type thin film transistor
And a source (drain ) of the P-channel thin film transistor is electrically connected to a first signal line, and a source (drain ) of the N-channel thin film transistor is connected to a second signal line. Electrically connecting the gate electrodes of the n-channel thin film transistor and the p-channel thin film transistor to a third signal line ;
Connected to, the N-channel type thin film transistor and P in the driving method of channel thin film transistor of the drain (source) display device connected to the pixel electrode electrically the previous SL first and second signal lines on signal by adding an oN signal to the third signal line on the period <br/> you have made,
A method for driving a display device, comprising applying a voltage to a pixel electrode .
【請求項2】Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチ
ャネル型薄膜トランジスタからなる相補型のトランジス
タと、 前記Pチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第1の走査線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第2の走査線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのゲート電極をデータ線に電気的に
続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのドレイン(ソース)を画素電極と
気的に接続している表示装置の駆動方法において、 前記第1および第2の走査線にオン信号を加えている
間に前記データ線に ン信号を加えることにより、画素
電極に電圧を印加することを特徴とする表示装置の駆動
方法。
2. An N-channel type thin film transistor and a P-type thin film transistor.
Complementary transistor consisting of channel type thin film transistor
And a source (drain ) of the P-channel type thin film transistor is electrically connected to a first scanning line, and a source (drain ) of the N-channel type thin film transistor is connected to a second scanning line. and electrically connected to the scan line, the electrical contacts <br/> to continue the gate electrode of the N-channel type thin film transistor and P-channel type thin film transistor in data line, the N-channel type thin film transistor and P-channel type thin film transistor drain (source) of the pixel electrode and the conductive
A method of driving a display device which is gas-connected, by adding on-signal before Symbol the data lines on the period <br/> that adding-on signal to the first and second scan lines, Pixel
A method for driving a display device, comprising applying a voltage to an electrode .
【請求項3】Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチ
ャネル型薄膜トランジスタからなる相補型のトランジス
タと、 前記Pチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第1のデータ線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第2のデータ線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのゲート電極を走査線に電気的に接続
し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのドレイン(ソース)を画素電極と
気的に接続している表示装置の駆動方法において、 前記走査線にオン信号を加えている期間に前記第1およ
び第2のデータ線にオン信号を加えることにより、画素
電極に電圧を印加することを特徴とする表示装置の駆動
方法。
3. An N-channel type thin film transistor and a P-type thin film transistor.
Complementary transistor consisting of channel type thin film transistor
And a source (drain ) of the P-channel thin film transistor is electrically connected to a first data line, and a source (drain ) of the N-channel thin film transistor is connected to a second data line. electrically connected to the data lines, the electrically connected to査線run the gate electrode of the N-channel type thin film transistor and P-channel thin film transistor, the pixel drain (source) of the N-channel type thin film transistor and P-channel type thin film transistor Electrodes and electrodes
In a method for driving a display device which is connected to a pixel, by applying an ON signal to the first and second data lines during a period when an ON signal is applied to the scanning line,
A method for driving a display device, comprising applying a voltage to an electrode .
【請求項4】 Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチ
ャネル型薄膜トランジスタからなる相補型のトランジス
タと、 前記Pチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第1の信号線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第2の信号線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのゲート電極を第3の信号線に電気的
接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのドレイン(ソース)を画素電極と
気的に接続している表示装置の駆動方法において 向電極にオフセット電圧を印加し、 前記第1および第2の信号線にオン信号を加えている
間に前記第3の信号線にオン信号を加えることにより、
画素電極に電圧を印加することを特徴とする表示装置の
駆動方法。
4. An N-channel type thin film transistor and a P-type thin film transistor.
Complementary transistor consisting of channel type thin film transistor
And a source (drain ) of the P-channel thin film transistor is electrically connected to a first signal line, and a source (drain ) of the N-channel thin film transistor is connected to a second signal line. Electrically connecting the gate electrodes of the n-channel thin film transistor and the p-channel thin film transistor to a third signal line ;
Connected to, the N-channel type thin film transistor and P-channel type pixel electrode and the conductive drain (source) of the thin film transistor
A method of driving a display device which is gas-connected, the paired counter electrodes offset voltage is applied, on the period and adding an ON signal <br/> that before Symbol first and second signal lines a By applying an ON signal to the signal line 3
A method for driving a display device, comprising applying a voltage to a pixel electrode .
【請求項5】 Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチ
ャネル型薄膜トランジスタからなる相補型のトランジス
タと、 前記Pチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第1の信号線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタのソース(ドレイ
)を第2の信号線に電気的に接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのゲート電極を第3の信号線に電気的
接続し、 前記Nチャネル型薄膜トランジスタおよびPチャネル型
薄膜トランジスタのドレイン(ソース)を画素電極と
気的に接続している表示装置の駆動方法において、 前記第1および第2の信号線にオン信号を加えている第
1の期間に、前記第3の信号線にオン信号を加え、 対向電極にオフセット電圧を印加し、 前記第1および第2の信号線にオン信号を加える第2の
期間に前記第3の信号線の論理を反転させたオン信号
加え、 対向電極には前記オフセット電圧とは極性が異なる電圧
を印加すること によって、交流化を行い、画素電極に電
圧を印加することを特徴とする表示装置の駆動方法。
5. An N-channel thin film transistor and a P-channel thin film transistor.
Complementary transistor consisting of channel type thin film transistor
And a source (drain ) of the P-channel thin film transistor is electrically connected to a first signal line, and a source (drain ) of the N-channel thin film transistor is connected to a second signal line. Electrically connecting the gate electrodes of the n-channel thin film transistor and the p-channel thin film transistor to a third signal line ;
Connected to, the N-channel type thin film transistor and P-channel type pixel electrode and the conductive drain (source) of the thin film transistor
A method of driving a display device which is gas-connected, first and adding an ON signal before Symbol first and second signal lines
The first time period, an ON signal is applied to the third signal line, the offset voltage is applied to the counter electrode, the second <br/> period applying an ON signal to the first and second signal lines An on signal obtained by inverting the logic of the third signal line is
In addition, a voltage having a polarity different from the offset voltage is applied to the counter electrode.
Is applied to apply AC to the pixel electrode.
A method for driving a display device, comprising applying pressure .
【請求項6】 請求項1乃至5のいずれか1項において、 画素は2つ又はそれ以上の画素電極を有し、 前記画素電極には、Nチャネル型薄膜トランジスタおよ
びPチャネル型の薄膜トランジスタからなる相補型のト
ランジスタがあることを 特徴とする表示装置の駆動方
法。
6. The pixel according to claim 1 , wherein each pixel has two or more pixel electrodes, and the pixel electrodes include an N-channel thin film transistor and
And complementary P-channel thin film transistors
A method for driving a display device, including a transistor.
【請求項7】 請求項1乃至5のいずれか1項において、 画素電極に2つ又はそれ以上のNチャネル型薄膜トラン
ジスタおよびPチャネル型薄膜トランジスタからなる相
補型のトランジスタを有する ことを特徴とする表示装置
の駆動方法。
7. The thin film transistor according to claim 1, wherein two or more N-channel thin film transistors are provided on the pixel electrode.
Phase consisting of a transistor and a P-channel thin film transistor
A method for driving a display device, comprising a complementary transistor .
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