JP2999353B2 - 超高真空用回転流体供給装置 - Google Patents
超高真空用回転流体供給装置Info
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- JP2999353B2 JP2999353B2 JP27667793A JP27667793A JP2999353B2 JP 2999353 B2 JP2999353 B2 JP 2999353B2 JP 27667793 A JP27667793 A JP 27667793A JP 27667793 A JP27667793 A JP 27667793A JP 2999353 B2 JP2999353 B2 JP 2999353B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超高真空(ultra high
vacuum 、UHV)環境で使用するための回転流体供給
装置に関し、より詳しくは、超高真空環境で使用する回
転多るつぼ型電子ビーム蒸発源組立体に冷却剤を供給す
るための全金属シール型回転可能ベローズを備えた回転
流体供給装置に関する。
vacuum 、UHV)環境で使用するための回転流体供給
装置に関し、より詳しくは、超高真空環境で使用する回
転多るつぼ型電子ビーム蒸発源組立体に冷却剤を供給す
るための全金属シール型回転可能ベローズを備えた回転
流体供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】超高真空環境ではなく、高真空環境で使
用するための回転組立体は従来技術において知られてい
る。一般に、回転装置は、回転炉床(rotating hearth)
の頂部に円形配列で形成された複数のるつぼ(crucible
s)を有している。回転炉床は、るつぼを回転させて連続
的に標的領域へ動かし、ここで例えば、放射機構からの
電子ビームが、るつぼ内の材料を蒸発させて基板上に薄
膜を蒸着させる。回転るつぼ組立体は、一般に、るつぼ
を冷却すべく該るつぼ組立体に形成された冷却水路に冷
却剤を供給するための流体供給装置を必要とする。高真
空環境内の回転装置用の従来技術による流体供給装置
は、一般に、エラストマ材料又は磁性流体で作られ且つ
連結箇所に配置されたシールを備えた回転装置を使用し
て、周囲の冷却剤供給源と作動装置の高真空環境との間
に圧力差を維持している。エラストマ材料及び磁性流体
は、炉床の回転により連結箇所に生じるねじれに耐え得
る可撓性シールを形成する。例えば、物理的蒸気蒸着薄
膜成形方法及び集積回路の半導体の製造プロセスで使用
される超高真空環境は、組立体を高温に曝す必要があ
る。高真空環境でシールとして使用されるエラストマ材
料及び磁性流体は、幾つかの理由から超高真空環境には
使用できない。第1の理由は、これらの物質が超高真空
環境を確保できないことであり、第2の理由は、これら
の物質が高温に耐えられないことである。超高真空環境
は、ガス抜けを防止するための全金属シール型流体供給
装置を必要とする。
用するための回転組立体は従来技術において知られてい
る。一般に、回転装置は、回転炉床(rotating hearth)
の頂部に円形配列で形成された複数のるつぼ(crucible
s)を有している。回転炉床は、るつぼを回転させて連続
的に標的領域へ動かし、ここで例えば、放射機構からの
電子ビームが、るつぼ内の材料を蒸発させて基板上に薄
膜を蒸着させる。回転るつぼ組立体は、一般に、るつぼ
を冷却すべく該るつぼ組立体に形成された冷却水路に冷
却剤を供給するための流体供給装置を必要とする。高真
空環境内の回転装置用の従来技術による流体供給装置
は、一般に、エラストマ材料又は磁性流体で作られ且つ
連結箇所に配置されたシールを備えた回転装置を使用し
て、周囲の冷却剤供給源と作動装置の高真空環境との間
に圧力差を維持している。エラストマ材料及び磁性流体
は、炉床の回転により連結箇所に生じるねじれに耐え得
る可撓性シールを形成する。例えば、物理的蒸気蒸着薄
膜成形方法及び集積回路の半導体の製造プロセスで使用
される超高真空環境は、組立体を高温に曝す必要があ
る。高真空環境でシールとして使用されるエラストマ材
料及び磁性流体は、幾つかの理由から超高真空環境には
使用できない。第1の理由は、これらの物質が超高真空
環境を確保できないことであり、第2の理由は、これら
の物質が高温に耐えられないことである。超高真空環境
は、ガス抜けを防止するための全金属シール型流体供給
装置を必要とする。
【0003】超高真空環境用の全金属シール形流体供給
装置が従来技術において知られている。一般に、このよ
うな装置は金属製の圧縮シールを備えた溶接型ベローズ
を使用しており、金属製シールは回転により生じるねじ
れに耐えることができないので、るつぼは直線的に配列
に配置されている。例えば薄膜蒸着の場合には、るつぼ
が、長い全金属溶接型ベローズ組立体を用いた放射機構
を通して連続的に移動される。一般に、直線的な組立体
は、高真空環境で使用されている好ましい回転型装置よ
りも長くて扱い難い。高温環境及びるつぼの回転により
引き起される機械的ストレスに耐え得るようにすべく、
本発明は、入口ベローズと出口ベローズとを反対方向に
巻回することにより、るつぼの回転時に、一方のベロー
ズが解かれるときに他方のベローズが巻かれるように構
成し、回転るつぼのトルクを低減する。本発明の他の特
徴によれば、同軸に配置された入口ベローズと出口ベロ
ーズとの対が、同じ方向に巻かれ且つ解かれる。
装置が従来技術において知られている。一般に、このよ
うな装置は金属製の圧縮シールを備えた溶接型ベローズ
を使用しており、金属製シールは回転により生じるねじ
れに耐えることができないので、るつぼは直線的に配列
に配置されている。例えば薄膜蒸着の場合には、るつぼ
が、長い全金属溶接型ベローズ組立体を用いた放射機構
を通して連続的に移動される。一般に、直線的な組立体
は、高真空環境で使用されている好ましい回転型装置よ
りも長くて扱い難い。高温環境及びるつぼの回転により
引き起される機械的ストレスに耐え得るようにすべく、
本発明は、入口ベローズと出口ベローズとを反対方向に
巻回することにより、るつぼの回転時に、一方のベロー
ズが解かれるときに他方のベローズが巻かれるように構
成し、回転るつぼのトルクを低減する。本発明の他の特
徴によれば、同軸に配置された入口ベローズと出口ベロ
ーズとの対が、同じ方向に巻かれ且つ解かれる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の広い目的は、
従来技術の制限及び欠点を解決できる超高真空環境内の
回転装置用の全金属シール型回転可能流体供給装置を提
供することにある。本発明の特別な目的は、超高真空環
境内で薄膜蒸着を行う回転電子ビーム蒸発源組立体内の
複数のるつぼを冷却するための超高真空用全金属シール
型回転可能流体供給装置を提供することにある。本発明
の他の特別な目的は、ベローズ組立体を備え、回転軸線
がベローズ組立体の回転軸線と実質的に同一である回転
装置用の超高真空用全金属シール型回転可能流体供給装
置を提供することにある。本発明の他の特別な目的は、
10-11 トールかつ250℃までの作動条件に適したコ
ンパクトで、安価且つ簡単な全金属シール型回転可能流
体供給装置を提供することにある。本発明の他の特別な
目的は、入口ベローズと出口ベローズとの間に分離状態
を維持して両ベローズの磨耗及びもつれを防止する機構
を備えた超高真空用回転可能流体供給装置を提供するこ
とにある。
従来技術の制限及び欠点を解決できる超高真空環境内の
回転装置用の全金属シール型回転可能流体供給装置を提
供することにある。本発明の特別な目的は、超高真空環
境内で薄膜蒸着を行う回転電子ビーム蒸発源組立体内の
複数のるつぼを冷却するための超高真空用全金属シール
型回転可能流体供給装置を提供することにある。本発明
の他の特別な目的は、ベローズ組立体を備え、回転軸線
がベローズ組立体の回転軸線と実質的に同一である回転
装置用の超高真空用全金属シール型回転可能流体供給装
置を提供することにある。本発明の他の特別な目的は、
10-11 トールかつ250℃までの作動条件に適したコ
ンパクトで、安価且つ簡単な全金属シール型回転可能流
体供給装置を提供することにある。本発明の他の特別な
目的は、入口ベローズと出口ベローズとの間に分離状態
を維持して両ベローズの磨耗及びもつれを防止する機構
を備えた超高真空用回転可能流体供給装置を提供するこ
とにある。
【0005】本発明の他の特別な目的は、入口ベローズ
と出口ベローズとが反対方向に巻回されていて、回転る
つぼのトルクを低減できる超高真空用全金属シール型流
体供給装置を提供することにある。本発明の更に他の特
別な目的は、入口ベローズと出口ベローズとの対が同じ
方向に一緒に解かれかつ巻回される同軸状に取り付けら
れたベローズ装置を提供することにある。
と出口ベローズとが反対方向に巻回されていて、回転る
つぼのトルクを低減できる超高真空用全金属シール型流
体供給装置を提供することにある。本発明の更に他の特
別な目的は、入口ベローズと出口ベローズとの対が同じ
方向に一緒に解かれかつ巻回される同軸状に取り付けら
れたベローズ装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】超高真空環境に使用する
ための本発明による全金属シール型回転可能流体供給装
置は円筒状ハウジングを有しており、該ハウジングの側
壁には流体入口ポート及び流体出口ポートが形成されて
いる。入口成形ベローズ及び出口成形ベローズは、これ
らの第1端部がそれぞれ入口ポート及び出口ポートに取
り付けられている。両ベローズは円筒状ハウジング内に
配置され且つ非研摩材で作られたプレートにより互いに
分離されている。両ベローズの反対側の端部は、電子銃
組立体等の回転装置から延びている入口ライン及び出口
ラインの対向端部にそれぞれ取り付けられている。適当
なポート及びラインに取り付けられた後は、各ベローズ
の全長が単一平面内に維持される。入口ライン及び出口
ラインは、ハウジングの上部の平らな面内に形成された
円筒状のトロイダルターンテーブルの開口に通される前
に、ほぼ90°の屈曲部を形成している。ターンテーブ
ルは回転装置のスピンドルの基部にボルト止めされ、こ
れらの間には、延性のある超高真空圧縮ガスケットによ
る超高真空シール及び水密シールが形成されている。ス
ピンドルが360°まで回転すると、ベローズはスピン
ドルの回転軸線に沿って巻かれ且つ解かれる。両ベロー
ズは対向する入口に取り付けられているので、一方のベ
ローズは他方のベローズが解かれるときに巻かれ、この
巻き及び解きは、それぞれ、ハウジング内の同一水平面
内で生じる。
ための本発明による全金属シール型回転可能流体供給装
置は円筒状ハウジングを有しており、該ハウジングの側
壁には流体入口ポート及び流体出口ポートが形成されて
いる。入口成形ベローズ及び出口成形ベローズは、これ
らの第1端部がそれぞれ入口ポート及び出口ポートに取
り付けられている。両ベローズは円筒状ハウジング内に
配置され且つ非研摩材で作られたプレートにより互いに
分離されている。両ベローズの反対側の端部は、電子銃
組立体等の回転装置から延びている入口ライン及び出口
ラインの対向端部にそれぞれ取り付けられている。適当
なポート及びラインに取り付けられた後は、各ベローズ
の全長が単一平面内に維持される。入口ライン及び出口
ラインは、ハウジングの上部の平らな面内に形成された
円筒状のトロイダルターンテーブルの開口に通される前
に、ほぼ90°の屈曲部を形成している。ターンテーブ
ルは回転装置のスピンドルの基部にボルト止めされ、こ
れらの間には、延性のある超高真空圧縮ガスケットによ
る超高真空シール及び水密シールが形成されている。ス
ピンドルが360°まで回転すると、ベローズはスピン
ドルの回転軸線に沿って巻かれ且つ解かれる。両ベロー
ズは対向する入口に取り付けられているので、一方のベ
ローズは他方のベローズが解かれるときに巻かれ、この
巻き及び解きは、それぞれ、ハウジング内の同一水平面
内で生じる。
【0007】本発明の他の特徴によれば、少なくとも1
つの追加ベローズ対が設けられており、ベローズハウジ
ングは、2つの入口ベローズ及び2つの対向出口ベロー
ズを収容できるように僅かに大きい。本発明の更に他の
特徴によれば、ベローズ対の一方のベローズが他方のベ
ローズの内側に同軸に取り付けられており、入口ベロー
ズ及び出口ベローズが同じ方向に一緒に巻かれ且つ解か
れる。この特徴に関しては、同軸に取り付けられるベロ
ーズ対を追加し且つ同軸の入口ラインを同軸の出口ライ
ンに対向して配置し、同軸状に取り付けられた入口ライ
ンが巻かれるときに同軸に取り付けられた出口ラインが
解かれるように構成することもできる。本発明のこれら
の及び他の目的、長所及び特徴は、添付図面に関連して
述べる本発明の好ましい実施例についての以下の詳細な
説明により一層明瞭になるであろう。
つの追加ベローズ対が設けられており、ベローズハウジ
ングは、2つの入口ベローズ及び2つの対向出口ベロー
ズを収容できるように僅かに大きい。本発明の更に他の
特徴によれば、ベローズ対の一方のベローズが他方のベ
ローズの内側に同軸に取り付けられており、入口ベロー
ズ及び出口ベローズが同じ方向に一緒に巻かれ且つ解か
れる。この特徴に関しては、同軸に取り付けられるベロ
ーズ対を追加し且つ同軸の入口ラインを同軸の出口ライ
ンに対向して配置し、同軸状に取り付けられた入口ライ
ンが巻かれるときに同軸に取り付けられた出口ラインが
解かれるように構成することもできる。本発明のこれら
の及び他の目的、長所及び特徴は、添付図面に関連して
述べる本発明の好ましい実施例についての以下の詳細な
説明により一層明瞭になるであろう。
【0008】
【実施例】本発明の原理を具現化し、超高真空環境内で
の作動に適する超高真空用回転流体供給装置の全体が図
1及び図2において番号50で示されており、該超高真
空用回転流体供給装置50は、全体を番号10で示す電
子銃組立体を冷却する水を供給する。図示の電子銃組立
体10は、例示のみを目的とするものであり、この言及
により本願明細書に組込まれる係属中の米国特許出願第
07/972,131号においてより詳細に説明されている。他の
電子銃組立体を使用できること、流体供給装置50が超
高真空環境内で、循環流体の供給を必要とする任意の回
転装置とともに使用できることを理解されるであろう。
流体供給装置は250℃までの温度に適しているけれど
も、例示の環境は次のような仕様、すなわち10-11 ト
ールの真空かつ220℃の温度である。例示の電子ビー
ム源組立体10は、超高真空環境内で基板上に薄膜を蒸
着するために材料を蒸発させるのに使用される。シール
ドされた電子銃機構の全体が番号20で示されており、
該電子銃機構20はブロック2の一端の凹部22内に収
容されている。この電子銃機構及び磁気構造は、上記米
国特許出願第07/972,131号において完全に説明されてお
り、本願では単なる例示に過ぎない。この電子銃機構に
代えて、他の電子銃組立体を使用することもできる。
の作動に適する超高真空用回転流体供給装置の全体が図
1及び図2において番号50で示されており、該超高真
空用回転流体供給装置50は、全体を番号10で示す電
子銃組立体を冷却する水を供給する。図示の電子銃組立
体10は、例示のみを目的とするものであり、この言及
により本願明細書に組込まれる係属中の米国特許出願第
07/972,131号においてより詳細に説明されている。他の
電子銃組立体を使用できること、流体供給装置50が超
高真空環境内で、循環流体の供給を必要とする任意の回
転装置とともに使用できることを理解されるであろう。
流体供給装置は250℃までの温度に適しているけれど
も、例示の環境は次のような仕様、すなわち10-11 ト
ールの真空かつ220℃の温度である。例示の電子ビー
ム源組立体10は、超高真空環境内で基板上に薄膜を蒸
着するために材料を蒸発させるのに使用される。シール
ドされた電子銃機構の全体が番号20で示されており、
該電子銃機構20はブロック2の一端の凹部22内に収
容されている。この電子銃機構及び磁気構造は、上記米
国特許出願第07/972,131号において完全に説明されてお
り、本願では単なる例示に過ぎない。この電子銃機構に
代えて、他の電子銃組立体を使用することもできる。
【0009】図1及び図2に示すように、電子ビーム源
組立体10は円筒状の4つの銅製るつぼ3、5、7、9
を備え、全体として円形の銅製ブロック2を形成してお
り、各るつぼは截頭円錐状の側壁6及び底壁8を備えて
いる。単体構造ブロック2は更にスピンドル14を形成
しており、ベースプレート4の孔内には、スピンドル1
4を支持するためのベアリング16が設けられている。
在来の駆動機構26から互いに噛み合う在来のベベルギ
ア28、29まで駆動軸24が延びており、該駆動軸2
4は、従来技術において良く知られた方法でスピンドル
14、かくしてるつぼ3、5、7、9を回転させる。駆
動機構26は、従来技術において良く知られているよう
に組立体10の側部又は後部に配置できる。ブロック2
には、るつぼ3、5、7、9を冷却するために水又は他
の適当な冷却剤を循環させるための在来の多数の水通路
12が形成されている。水通路12は、るつぼの回りで
水が螺旋状に流れ得るようにしている。超高真空回転流
体供給装置50は、流体の入口ポート及び出口ポート
と、ハウジングと、電子源組立体10に流体を供給し且
つ該組立体10から流体を戻すための、前記ハウジング
内のベローズ組立体とを有している。
組立体10は円筒状の4つの銅製るつぼ3、5、7、9
を備え、全体として円形の銅製ブロック2を形成してお
り、各るつぼは截頭円錐状の側壁6及び底壁8を備えて
いる。単体構造ブロック2は更にスピンドル14を形成
しており、ベースプレート4の孔内には、スピンドル1
4を支持するためのベアリング16が設けられている。
在来の駆動機構26から互いに噛み合う在来のベベルギ
ア28、29まで駆動軸24が延びており、該駆動軸2
4は、従来技術において良く知られた方法でスピンドル
14、かくしてるつぼ3、5、7、9を回転させる。駆
動機構26は、従来技術において良く知られているよう
に組立体10の側部又は後部に配置できる。ブロック2
には、るつぼ3、5、7、9を冷却するために水又は他
の適当な冷却剤を循環させるための在来の多数の水通路
12が形成されている。水通路12は、るつぼの回りで
水が螺旋状に流れ得るようにしている。超高真空回転流
体供給装置50は、流体の入口ポート及び出口ポート
と、ハウジングと、電子源組立体10に流体を供給し且
つ該組立体10から流体を戻すための、前記ハウジング
内のベローズ組立体とを有している。
【0010】円筒状に機械加工されたOFHC銅製ハウ
ジングは、平らな頂壁54と、平らな底壁56と、ステ
ンレス鋼合金製の側壁58とを形成している。頂壁54
及び底壁56を側壁58に固定するのに複数のボルト6
0が使用されている。頂壁54と底壁56との間でハウ
ジング52の内部には、銅のような軟質金属であるのが
好ましい非研摩材から作られた分離壁62が設けられて
いる。側壁58には、チャンネル12に水を供給し且つ
該チャンネル12から水を戻すための在来の水源ポート
入口32及び水ポート出口34を受け入れる開口(図示
せず)が設けられている。ハウジング52は更に、スピ
ンドル14の基部15を受け入れるための円筒状のフラ
ンジ付き環状凹部64を形成している。環状凹部64内
では円筒状のトロイダルターンテーブル70が、ボルト
72によりスピンドル14の基部15に取り付けられて
いる。ターンテーブル70の平らなシール面とスピンド
ル14の基部15との間には延性銅製の高真空ガスケッ
ト74が設けられており、従来技術において良く知られ
た原理に従って超高真空シール構造を形成している。銅
製ガスケット74はナイフエッジ(図示せず)を形成し
ており、基部15とターンテーブル70との間で挟圧さ
れるときに、ターンテーブル70と基部15とにより形
成される超高真空接合部の間からの水の漏洩を防止する
ためのシールを形成する。当業者には、ガスケット74
として他の適当な軟質金属材料を使用できることが理解
されよう。
ジングは、平らな頂壁54と、平らな底壁56と、ステ
ンレス鋼合金製の側壁58とを形成している。頂壁54
及び底壁56を側壁58に固定するのに複数のボルト6
0が使用されている。頂壁54と底壁56との間でハウ
ジング52の内部には、銅のような軟質金属であるのが
好ましい非研摩材から作られた分離壁62が設けられて
いる。側壁58には、チャンネル12に水を供給し且つ
該チャンネル12から水を戻すための在来の水源ポート
入口32及び水ポート出口34を受け入れる開口(図示
せず)が設けられている。ハウジング52は更に、スピ
ンドル14の基部15を受け入れるための円筒状のフラ
ンジ付き環状凹部64を形成している。環状凹部64内
では円筒状のトロイダルターンテーブル70が、ボルト
72によりスピンドル14の基部15に取り付けられて
いる。ターンテーブル70の平らなシール面とスピンド
ル14の基部15との間には延性銅製の高真空ガスケッ
ト74が設けられており、従来技術において良く知られ
た原理に従って超高真空シール構造を形成している。銅
製ガスケット74はナイフエッジ(図示せず)を形成し
ており、基部15とターンテーブル70との間で挟圧さ
れるときに、ターンテーブル70と基部15とにより形
成される超高真空接合部の間からの水の漏洩を防止する
ためのシールを形成する。当業者には、ガスケット74
として他の適当な軟質金属材料を使用できることが理解
されよう。
【0011】水入口ライン66及び水出口ライン68
が、通路12から、スピンドル14を通り、基部15及
びターンテーブル70に形成された合せ孔を通ってハウ
ジング52内に延びている。両水ライン66及び68
は、それぞれ、ベローズ80の入口端部及びベローズ8
2の出口端部に取り付けられるように実質的に対向する
直角屈曲部を形成し、入口ライン66が出口ライン68
からほぼ180°の角度に配向されている。ベローズ8
0、82はステンレス鋼製のベローズであり、各ベロー
ズの両端部には、ポート32、34及びライン66、6
8に取り付けるための取付けフランジ83が設けられて
いる。図2に示すように、ポート及びラインに取り付け
られたとき、ベローズ80、82の全長は、単一平面内
及びスピンドル14の回転軸線内に維持される。給水
は、ハウジング52及び電子源組立体10内の超高真空
環境「V」から分離された、ベローズ80、82の内部
の周囲条件(ambient)「A」に維持される。銅製分離壁
62は入口ベローズ80及び出口ベローズ82が独立し
て作動することを可能にし、該壁62が軟質銅材料で作
られていることは、ハウジング52の銅製の頂壁54及
び底壁56と協働して、両ベローズ80、82のもつれ
及び磨耗を防止する。両ベローズを互いに並べて配置し
たい場合には、分離壁62をハウジング52内で垂直に
配置することができる。別の構成として、単一のベロー
ズを用いる場合又は同軸状のベローズ対を用いる場合に
は、分離壁62を省略できる。
が、通路12から、スピンドル14を通り、基部15及
びターンテーブル70に形成された合せ孔を通ってハウ
ジング52内に延びている。両水ライン66及び68
は、それぞれ、ベローズ80の入口端部及びベローズ8
2の出口端部に取り付けられるように実質的に対向する
直角屈曲部を形成し、入口ライン66が出口ライン68
からほぼ180°の角度に配向されている。ベローズ8
0、82はステンレス鋼製のベローズであり、各ベロー
ズの両端部には、ポート32、34及びライン66、6
8に取り付けるための取付けフランジ83が設けられて
いる。図2に示すように、ポート及びラインに取り付け
られたとき、ベローズ80、82の全長は、単一平面内
及びスピンドル14の回転軸線内に維持される。給水
は、ハウジング52及び電子源組立体10内の超高真空
環境「V」から分離された、ベローズ80、82の内部
の周囲条件(ambient)「A」に維持される。銅製分離壁
62は入口ベローズ80及び出口ベローズ82が独立し
て作動することを可能にし、該壁62が軟質銅材料で作
られていることは、ハウジング52の銅製の頂壁54及
び底壁56と協働して、両ベローズ80、82のもつれ
及び磨耗を防止する。両ベローズを互いに並べて配置し
たい場合には、分離壁62をハウジング52内で垂直に
配置することができる。別の構成として、単一のベロー
ズを用いる場合又は同軸状のベローズ対を用いる場合に
は、分離壁62を省略できる。
【0012】図3〜図6は、放射組立体20からの電子
ビームによるボンバードのためにるつぼ3、5、7、9
の各々を位置決めするように電子源組立体10を順番に
時計方向に90°ずつ回転する際の上方の出口ベローズ
82の位置を示すものである。図3は、るつぼ3が電子
ビームにさらされるときの、ベローズ82が完全に巻か
れた状態を示すものである。図4は、るつぼが所定位置
に回され、これによってベローズ82が解き始めた状態
を示す。図5は、るつぼ7が所定位置に回わされ、ベロ
ーズ82が更に解かれた位置を示すものであり、図6
は、るつぼ5が電子ビームにさらされる位置にあって、
ベローズ82が解かれた位置を示すものである。図7に
は、両ベローズ80、82が反対方向に取り付けられた
状態が示されている。装置の組立て中は、るつぼ9が第
1位置にくるように、スピンドル14をその完全巻き位
置(矢印方向「W」で示す)に位置決めし、るつぼ9を
第1位置におくのが好ましい。この構成では、下方の入
口ベローズ80が図示の解き位置で取付けられ、出口ベ
ローズ82はその完全巻き位置で取付けられる。電子源
組立体10が作動しているとき、スピンドル14を反対
方向(矢印方向「U」で示す)に回転させると、ベロー
ズ80は巻かれ且つベローズ82は解かれる。
ビームによるボンバードのためにるつぼ3、5、7、9
の各々を位置決めするように電子源組立体10を順番に
時計方向に90°ずつ回転する際の上方の出口ベローズ
82の位置を示すものである。図3は、るつぼ3が電子
ビームにさらされるときの、ベローズ82が完全に巻か
れた状態を示すものである。図4は、るつぼが所定位置
に回され、これによってベローズ82が解き始めた状態
を示す。図5は、るつぼ7が所定位置に回わされ、ベロ
ーズ82が更に解かれた位置を示すものであり、図6
は、るつぼ5が電子ビームにさらされる位置にあって、
ベローズ82が解かれた位置を示すものである。図7に
は、両ベローズ80、82が反対方向に取り付けられた
状態が示されている。装置の組立て中は、るつぼ9が第
1位置にくるように、スピンドル14をその完全巻き位
置(矢印方向「W」で示す)に位置決めし、るつぼ9を
第1位置におくのが好ましい。この構成では、下方の入
口ベローズ80が図示の解き位置で取付けられ、出口ベ
ローズ82はその完全巻き位置で取付けられる。電子源
組立体10が作動しているとき、スピンドル14を反対
方向(矢印方向「U」で示す)に回転させると、ベロー
ズ80は巻かれ且つベローズ82は解かれる。
【0013】図3〜図6は各90°ずつ計270°の回
転を示す。270°を超える回転を防止するため、適当
なストッパ(図示せず)を設けることができる。図面か
ら明らかなように、ベローズ80、82は、これらがス
ピンドル14の回転軸線に沿って回転するときに単一平
面内で巻き及び解きを行う圧縮ばねとして作用する。ベ
ローズ80、82の反対方向の巻き/解き作用により、
ベローズの巻き及び解きによってスピンドル14に発生
されるトルクが有効に打ち消される。スピンドル14の
回転は、円滑且つ均一に行われる。当業者には、本発明
の装置により360°の回転を達成できることが理解さ
れよう。図8には、反対方向の2対のベローズを備えた
本発明の別の特徴が示されている。ハウジング52は、
2つの入口ベローズ80′、80″及び2つの対向する
出口ベローズ82′、82″を収容するため大きくでき
る。分離壁62に加えて銅製の分離壁62′及び62″
が設けられており、2つの入口ベローズ80′と80″
との間及び2つの出口ベローズ82′と82″との間の
分離を維持している。これらの2対のベローズに取り付
けられる2つの入口ライン66、66′及び入口ポート
32と、2つの出口ライン68、68′及び出口ポート
34とが設けられている。別の構成として、第2のベロ
ーズの対のための第2ハウジングを設けることができ、
且つ単一の入口ライン及び出口ライン、各ラインには各
対のベローズに取り付けるための分割形カップリング端
部を設けることもできる。
転を示す。270°を超える回転を防止するため、適当
なストッパ(図示せず)を設けることができる。図面か
ら明らかなように、ベローズ80、82は、これらがス
ピンドル14の回転軸線に沿って回転するときに単一平
面内で巻き及び解きを行う圧縮ばねとして作用する。ベ
ローズ80、82の反対方向の巻き/解き作用により、
ベローズの巻き及び解きによってスピンドル14に発生
されるトルクが有効に打ち消される。スピンドル14の
回転は、円滑且つ均一に行われる。当業者には、本発明
の装置により360°の回転を達成できることが理解さ
れよう。図8には、反対方向の2対のベローズを備えた
本発明の別の特徴が示されている。ハウジング52は、
2つの入口ベローズ80′、80″及び2つの対向する
出口ベローズ82′、82″を収容するため大きくでき
る。分離壁62に加えて銅製の分離壁62′及び62″
が設けられており、2つの入口ベローズ80′と80″
との間及び2つの出口ベローズ82′と82″との間の
分離を維持している。これらの2対のベローズに取り付
けられる2つの入口ライン66、66′及び入口ポート
32と、2つの出口ライン68、68′及び出口ポート
34とが設けられている。別の構成として、第2のベロ
ーズの対のための第2ハウジングを設けることができ、
且つ単一の入口ライン及び出口ライン、各ラインには各
対のベローズに取り付けるための分割形カップリング端
部を設けることもできる。
【0014】図9には、1つのベローズ800が別のベ
ローズ820内に同軸状に取り付けられた本発明の別の
特徴が示されている。この点に関し、両ベローズ80
0、820は回転中に一緒に巻き及び解きが行われる。
また、入口ライン660及び出口ライン680及び入口
ポート及び出口ポートも同軸状に配置されている。当業
者は、2つの同軸状ベローズ対を設けることができ、こ
の場合に、同軸状の入口ラインと同軸状の出口ラインと
を互いに反対方向に配置して、同軸状の出口ベローズが
解かれるときに同軸状の入口ベローズが巻かれるように
構成できることが理解されよう。上記から、本発明が関
連する技術分野の当業者には、本発明の原理の実施例及
び実施についての広範囲の種々の変更が示唆されよう。
例えば、本発明の回転流体供給装置は、ガスを含む流体
供給を必要とする回転装置を用いたあらゆる高真空環境
及び超高真空環境に使用できる。本発明は、半導体工
業、超伝導用の材料研究、レンズ及びミラー用コーティ
ング、宝石その他の装飾用コーティング及び自動車用コ
ーティング等の基板上への薄いソリッドフィルムコーテ
ィングを製造する電子ビーム源を作る技術に適用でき
る。更に、ベローズは、互いに反対方向のベローズが、
供給すべき回転装置の回転軸線と同じ実質的な単一平面
内で回転できるものである限り、図示の構成に対して垂
直方向に90°をなす別の構成に配置できる。また、ベ
ローズハウジングは、装置の回転機構の軸線に流体を供
給して、ベローズハウジングの回転を可能にする任意の
位置に位置決めできる。また、ハウジングは、ボルト止
めではなく、溶接により回転組立体のスピンドルに永久
的に取り付けることもできる。本願における説明及び記
載は本発明の範囲を制限するものと考えるべきではな
く、本発明の範囲は特許請求の範囲の記載により詳細に
述べられている。
ローズ820内に同軸状に取り付けられた本発明の別の
特徴が示されている。この点に関し、両ベローズ80
0、820は回転中に一緒に巻き及び解きが行われる。
また、入口ライン660及び出口ライン680及び入口
ポート及び出口ポートも同軸状に配置されている。当業
者は、2つの同軸状ベローズ対を設けることができ、こ
の場合に、同軸状の入口ラインと同軸状の出口ラインと
を互いに反対方向に配置して、同軸状の出口ベローズが
解かれるときに同軸状の入口ベローズが巻かれるように
構成できることが理解されよう。上記から、本発明が関
連する技術分野の当業者には、本発明の原理の実施例及
び実施についての広範囲の種々の変更が示唆されよう。
例えば、本発明の回転流体供給装置は、ガスを含む流体
供給を必要とする回転装置を用いたあらゆる高真空環境
及び超高真空環境に使用できる。本発明は、半導体工
業、超伝導用の材料研究、レンズ及びミラー用コーティ
ング、宝石その他の装飾用コーティング及び自動車用コ
ーティング等の基板上への薄いソリッドフィルムコーテ
ィングを製造する電子ビーム源を作る技術に適用でき
る。更に、ベローズは、互いに反対方向のベローズが、
供給すべき回転装置の回転軸線と同じ実質的な単一平面
内で回転できるものである限り、図示の構成に対して垂
直方向に90°をなす別の構成に配置できる。また、ベ
ローズハウジングは、装置の回転機構の軸線に流体を供
給して、ベローズハウジングの回転を可能にする任意の
位置に位置決めできる。また、ハウジングは、ボルト止
めではなく、溶接により回転組立体のスピンドルに永久
的に取り付けることもできる。本願における説明及び記
載は本発明の範囲を制限するものと考えるべきではな
く、本発明の範囲は特許請求の範囲の記載により詳細に
述べられている。
【図1】本発明の原理を具現する超高真空用回転流体供
給装置の平面図であり、電子銃組立体に使用したところ
を示すものである。
給装置の平面図であり、電子銃組立体に使用したところ
を示すものである。
【図2】図1の装置をその2−2線に沿って切断した断
面図である。
面図である。
【図3】ベローズの1つをスピンドル及びるつぼと一緒
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻き位置及び解き位置の1つを示すものである。
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻き位置及び解き位置の1つを示すものである。
【図4】ベローズの1つをスピンドル及びるつぼと一緒
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻位置及び解き位置の1つを示すものである。
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻位置及び解き位置の1つを示すものである。
【図5】ベローズの1つをスピンドル及びるつぼと一緒
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻位置及び解き位置の1つを示すものである。
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻位置及び解き位置の1つを示すものである。
【図6】ベローズの1つをスピンドル及びるつぼと一緒
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻位置及び解き位置の1つを示すものである。
に示す平面図であり、スピンドルが第1るつぼ位置から
第4るつぼ位置まで270°回転されるときのベローズ
の巻位置及び解き位置の1つを示すものである。
【図7】上方ハウジングを取り除き且つ下方のベローズ
を破線で示した平面図であり、るつぼが完全に回転さ
れ、上方のベローズが巻かれ、且つ下方のベローズが完
全に解かれた状態を示すものである。
を破線で示した平面図であり、るつぼが完全に回転さ
れ、上方のベローズが巻かれ、且つ下方のベローズが完
全に解かれた状態を示すものである。
【図8】2つの入口ライン、2つの出口ライン、2つの
入口ベローズ及び2つの出口ベローズを備えた本発明の
別の特徴を示す断面図である。
入口ベローズ及び2つの出口ベローズを備えた本発明の
別の特徴を示す断面図である。
【図9】一方のベローズが他方のベローズの内側に配置
された同軸状ベローズ構成を示す本発明の別の特徴を示
す断面図である。
された同軸状ベローズ構成を示す本発明の別の特徴を示
す断面図である。
2 ブロック 3 銅製るつぼ 4 ベースプレート 5 銅製るつぼ 7 銅製るつぼ 9 銅製るつぼ 10 電子銃組立体(電子ビーム源組立体、電子源組立
体) 12 水通路(チャンネル) 14 回転スピンドル 15 回転スピンドルの基部 24 駆動軸 26 駆動機構 32 水源ポート入口 34 水ポート出口 50 超高真空用回転流体供給装置 52 ハウジング 62 分離壁 66 水入口ライン 68 水出口ライン 70 トロイダルターンテーブル 80 入口ベローズ 82 出口ベローズ 660 入口ライン 680 出口ライン 800 ベローズ 820 ベローズ
体) 12 水通路(チャンネル) 14 回転スピンドル 15 回転スピンドルの基部 24 駆動軸 26 駆動機構 32 水源ポート入口 34 水ポート出口 50 超高真空用回転流体供給装置 52 ハウジング 62 分離壁 66 水入口ライン 68 水出口ライン 70 トロイダルターンテーブル 80 入口ベローズ 82 出口ベローズ 660 入口ライン 680 出口ライン 800 ベローズ 820 ベローズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マイケル ワイス アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94526 ダンヴィル サン レイ プレ イス 221 (56)参考文献 特開 昭61−69963(JP,A) 実開 昭62−110263(JP,U) 米国特許5338913(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F25D 1/02 C23C 14/24 C23C 14/30
Claims (21)
- 【請求項1】 超高真空環境内の回転装置に流体を供給
するための全金属シール型回転可能流体供給装置におい
て、 前記回転装置に連結され且つ1つの回転軸線を有する回
転手段と、 該回転手段に連結され且つ回転手段の回転軸線内で回転
手段と共に巻かれ及び解かれる少なくとも1つの第1及
び第2成形ベローズ手段と、 該少なくとも1つの第1及び第2成形ベローズ手段の1
方内に支持され且つ前記回転装置まで延びている流体入
口手段と、 前記少なくとも1つの第1及び第2成形ベローズ手段の
1方内に支持され且つ前記回転装置から延びている流体
出口手段とを有すること、を特徴とする全金属シール型
回転可能流体供給装置。 - 【請求項2】 前記少なくとも1つの第1及び第2成形
ベローズ手段用のハウジング手段を更に有すること、を
特徴とする請求項1に記載の全金属シール型回転可能流
体供給装置。 - 【請求項3】 前記回転手段と回転装置との間に流体シ
ール及び超高真空シールを形成するための延性シール手
段を更に有すること、を特徴とする請求項2に記載の全
金属シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項4】 前記ハウジング手段が更に孔を備えてお
り、該孔内に前記回転手段が取り付けられること、を特
徴とする請求項3に記載の全金属シール型回転可能流体
供給装置。 - 【請求項5】 前記流体入口手段が、少なくとも1つの
成形ベローズ手段の1つの第1端部に連結するための前
記ハウジング手段内へのポート手段と、前記少なくとも
1つの成形ベローズ手段の第2端部に取り付けるための
入口ライン手段とを更に備えており、該入口ライン手段
が回転手段内に延びて、回転装置内に延長されているこ
と、を特徴とする請求項4に記載の全金属シール型回転
可能流体供給装置。 - 【請求項6】 前記流体出口手段が、少なくとも1つの
成形ベローズ手段の1つの第1端部に連結するための前
記ハウジング手段内へのポート手段と、前記少なくとも
1つの成形ベローズ手段の第2端部に取り付けるための
出口ライン手段とを更に備えており、該出口ライン手段
が回転手段内に延びて回転装置内に延長されているこ
と、を特徴とする請求項5に記載の全金属シール型回転
可能流体供給装置。 - 【請求項7】 前記入口ライン手段及び出口ライン手段
が対向していること、を特徴とする請求項6に記載の全
金属シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項8】 前記少なくとも1つの第1及び第2成形
ベローズ手段を分離状態に維持するための、前記ハウジ
ング手段内の分離手段を更に有していること、を特徴と
する請求項7に記載の全金属シール型回転可能流体供給
装置。 - 【請求項9】 全金属シール型回転可能流体供給装置の
回転中に、前記少なくとも1つの第1及び第2成形ベロ
ーズ手段の一方が回転手段の回転軸線内で巻かれ、他方
が回転手段の回転軸線内で解かれること、を特徴とする
請求項8に記載の全金属シール型回転可能流体供給装
置。 - 【請求項10】 前記少なくとも1つの第1及び第2成
形ベローズ手段が1つの入口ベローズと1つの対向する
出口ベローズとを備えており、前記入口ライン手段が前
記1つの入口ベローズに取り付けられた1つの入口ライ
ンを備えており、前記出口ライン手段が前記入口ライン
手段に対向し且つ前記1つの対向出口ベローズに取り付
けられた1つの出口ラインを備えていること、を特徴と
する請求項9に記載の全金属シール型回転可能流体供給
装置。 - 【請求項11】 前記少なくとも1つの第1及び第2成
形ベローズ手段が少なくとも2つの入口ベローズと少な
くとも2つの対向出口ベローズとを備えており、前記入
口ライン手段が前記少なくとも2つの入口ベローズに取
り付けられた少なくとも2つの入口ラインを備えてお
り、前記出口ライン手段が前記少なくとも2つの入口ラ
イン手段に対向し且つ前記少なくとも2つの対向出口ベ
ローズに取り付けられた少なくとも2つの出口ラインを
備えていること、を特徴とする請求項9に記載の全金属
シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項12】 前記分離手段が、前記少なくとも2つ
の入口ベローズと少なくとも2つの対向する出口ベロー
ズとの間の第1壁と、少なくとも2つの入口ベローズの
間の第2壁と、少なくとも2つの出口ベローズの間の第
3壁とを有していること、を特徴とする請求項11に記
載の全金属シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項13】 前記装置が、複数のるつぼを備えた回
転電子ビーム源組立体であること、を特徴とする請求項
9に記載の全金属シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項14】 前記少なくとも1つの第1及び第2成
形ベローズ手段が、第2ベローズ内に同軸に取り付けら
れた第1ベローズを有しており、前記第1及び第2ベロ
ーズが一緒に巻かれ且つ解かれること、を特徴とする請
求項6に記載の全金属シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項15】 前記少なくとも1つの第1及び第2成
形ベローズ手段が、同軸に取り付けられた少なくとも2
つの入口ベローズと、同軸に取り付けられた少なくとも
2つの対向出口ベローズとを有していること、を特徴と
する請求項14に記載の全金属シール型回転可能流体供
給装置。 - 【請求項16】 前記少なくとも2つの入口ベローズ
を、前記少なくとも2つの対向出口ベローズから分離さ
れた状態に維持するための、前記ハウジング手段内の分
離手段を更に有していること、を特徴とする請求項15
に記載の全金属シール型回転可能流体供給装置。 - 【請求項17】 前記入口ライン手段及び出口ライン手
段は、これらの一方が他方の内部に同軸状に取り付けら
れており、前記入口ポート手段及び出口ポート手段は、
これらの一方が他方の内部に同軸に取り付けられている
こと、を特徴とする請求項14に記載の全金属シール型
回転可能流体供給装置。 - 【請求項18】 超高真空環境内の回転装置に流体を供
給するための全金属シール型流体供給装置において、 前記回転装置と共に回転するように該回転装置に連結さ
れた回転手段と、 該回転手段を取り付けるための孔を備えたハウジング手
段と、 前記装置から前記回転手段を通って前記ハウジング手段
の内部まで延びている流体入口ライン手段及び流体出口
ライン手段と、 前記ハウジング手段のポート孔を通って延びている流体
入口ポート手段及び流体出口ポート手段と、 前記ハウジング手段内に取り付けられた少なくとも1対
の成形ベローズ手段とを有しており、該成形ベローズ手
段が、前記流体入口ライン手段及び流体出口ライン手段
に連結された第1端部と、前記流体入口ポート手段及び
流体出口ポート手段に連結された第2端部とを備えてお
り、前記少なくとも1対の成形ベローズ手段の第1成形
ベローズが前記回転手段の回転軸線内で巻かれると同時
に、前記少なくとも1対の成形ベローズ手段の第2成形
ベローズが前記回転手段の回転軸線内で解かれること、
を特徴とする全金属シール型流体供給装置。 - 【請求項19】 超高真空環境内の回転装置に流体を供
給するための全金属シール型流体供給装置において、 前記回転装置と共に回転するように該回転装置に連結さ
れた回転手段と、 該回転手段を取り付けるための孔を備えたハウジング手
段と、 前記装置から前記回転手段を通って前記ハウジング手段
の内部まで延びている流体入口ライン手段及び流体出口
ライン手段と、 前記ハウジング手段のポート孔を通って延びている流体
入口ポート手段及び流体出口ポート手段と、 前記ハウジング手段内に同軸に取り付けられた少なくと
も1対の成形ベローズ手段とを有しており、該成形ベロ
ーズ手段が、前記流体入口ライン手段及び流体出口ライ
ン手段に連結された第1端部と、前記流体入口ポート手
段及び流体出口ポート手段に連結された第2端部とを備
えており、前記同軸に取り付けられた成形ベローズ手段
が前記回転手段の回転軸線内で巻かれ且つ解かれること
を特徴とする全金属シール形流体供給装置。 - 【請求項20】 前記同軸状に取り付けられた成形ベロ
ーズ手段が、同軸に取り付けられた入口ライン及び出口
ラインに同軸に取り付けられた入口ベローズ及び出口ベ
ローズを有していること、を特徴とする請求項19に記
載の全金属シール型流体供給装置。 - 【請求項21】 前記同軸状に取り付けられた成形ベロ
ーズ手段が、同軸に取り付けられた1対の入口ベローズ
と、同軸に取り付けられた対向する1対の出口ベローズ
とを有していること、を特徴とする請求項19に記載の
全金属シール型流体供給装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US97213192A | 1992-11-05 | 1992-11-05 | |
US07/972131 | 1993-07-19 | ||
US08/093761 | 1993-07-19 | ||
US08/093,761 US5473627A (en) | 1992-11-05 | 1993-09-02 | UHV rotating fluid delivery system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06341377A JPH06341377A (ja) | 1994-12-13 |
JP2999353B2 true JP2999353B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=26787880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27667793A Expired - Fee Related JP2999353B2 (ja) | 1992-11-05 | 1993-11-05 | 超高真空用回転流体供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2999353B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6794664B1 (en) * | 2003-12-04 | 2004-09-21 | Axcelis Technologies, Inc. | Umbilical cord facilities connection for an ion beam implanter |
US9377048B2 (en) * | 2013-03-13 | 2016-06-28 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Rotary flex union |
CN105874097B (zh) * | 2014-12-10 | 2018-12-21 | 株式会社爱发科 | 电子束蒸发源及真空蒸镀装置 |
-
1993
- 1993-11-05 JP JP27667793A patent/JP2999353B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06341377A (ja) | 1994-12-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |