JP2989440B2 - Chrome plating method - Google Patents

Chrome plating method

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JP2989440B2
JP2989440B2 JP5215062A JP21506293A JP2989440B2 JP 2989440 B2 JP2989440 B2 JP 2989440B2 JP 5215062 A JP5215062 A JP 5215062A JP 21506293 A JP21506293 A JP 21506293A JP 2989440 B2 JP2989440 B2 JP 2989440B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、振動撹
拌下に直接クロムめっきを行うクロムめっき方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chromium plating method in which chromium plating is performed directly on a metal surface on which it is said that chromium plating cannot be performed directly on the metal surface under vibration stirring.

【0002】[0002]

【従来技術】硬質クロムめっきにおいては、そのめっき
皮膜に微細なクラックが生ずることは避けられなてこと
であり、腐食環境ではこのクラックが腐食の発生点とな
り、クラックに沿って多発的、連鎖的に腐食が進行す
る。これらの腐食を少しでも抑制するため、従来から硬
質クロムめっきにおいては、銅、ニッケルなどの下めっ
き処理が不可欠であった。たとえば鉄系金属に対するク
ロムめっきは、防錆および装飾等の目的で多用されてい
るが、クロムめっきを直接鉄系金属上に行うとクラック
が発生し、防錆効果が少ないため、鉄系金属上にまず銅
めっきを、つづいてニッケルめっきをほどこした後、ク
ロムめっきを行っていた。鉄系金属表面の脱脂→水洗→
酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッケル
めっき→水洗→クロムめっき。それでもまだクラックの
発生を完全に回避することができずなかなか満足すべき
めっきが得られず、各社共秘術を尽くしているのが実情
である。プラスチックスに対するめっきは、主として装
飾の目的で行われており、化学めっき(通常、化学銅め
っきまたは化学ニッケルめっき)をしたうえに、銅めっ
き、つづいてニッケルめっきを施した後、クロムめっき
が行われている。プラスチックス表面の脱脂→プレエッ
チング→エッチング→キャタライジング→アクセラレイ
ティング→無電解銅めっき→水洗→銅めっき→水洗→ニ
ッケルめっき→水洗→クロムめっき。この場合も化学め
っき層上にいきなりクロムめっきをするとクラックが発
生する。また、亜鉛系金属へのめっきの場合も亜鉛系金
属上に銅めっき、つづいてニッケルめっきを施した後、
クロムめっきを行っている。亜鉛系金属表面の脱脂→水
洗→酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッ
ケルめっき→水洗→クロムめっき。Al、Al合金、C
u、Cu合金等についても同様である。このように鉄系
金属、プラスチックスおよび亜鉛系金属、銅系金属、ア
ルミニウム系金属など、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、直接ク
ロムめっきを行うことができれば、クロムめっきの前段
階として銅めっきやニッケルめっきの工程が必要ではな
くなり工業的意義は極めて大きい。また、クロムめっき
工程それ自体を今まで以上に高速化できれば、さらにす
ばらしいことである。
2. Description of the Related Art In hard chromium plating, it is unavoidable that fine cracks are formed in the plating film. In a corrosive environment, these cracks become points of corrosion, and the cracks occur frequently along the cracks. Corrosion progresses. In order to suppress such corrosion even a little, underplating treatment of copper, nickel or the like has conventionally been indispensable in hard chrome plating. For example, chromium plating on iron-based metals is often used for the purpose of rust prevention and decoration. However, if chromium plating is performed directly on iron-based metals, cracks occur and the rust-prevention effect is low. First, copper plating was performed, followed by nickel plating, and then chrome plating was performed. Degreasing of iron-based metal surface → washing with water →
Pickling → water washing → copper strike → copper plating → water washing → nickel plating → water washing → chrome plating. Nevertheless, it has not been possible to completely avoid the occurrence of cracks yet, and it is difficult to obtain satisfactory plating. Plating on plastics is mainly performed for decorative purposes. Chemical plating (usually chemical copper plating or chemical nickel plating) is performed, followed by copper plating, then nickel plating, and then chrome plating. Have been done. Degreasing of plastics surface → pre-etching → etching → catalyzing → accelerate → electroless copper plating → water washing → copper plating → water washing → nickel plating → water washing → chrome plating. Also in this case, cracks occur when chromium plating is suddenly performed on the chemical plating layer. Also, in the case of plating on zinc-based metal, after plating copper on zinc-based metal and then nickel plating,
Chrome plating is performed. Degreasing of zinc-based metal surface → water washing → pickling → water washing → copper strike → copper plating → water washing → nickel plating → water washing → chrome plating. Al, Al alloy, C
The same applies to u and Cu alloys. In this way, it is possible to perform chrome plating directly on metal surfaces such as iron-based metals, plastics and zinc-based metals, copper-based metals, and aluminum-based metals that are not considered to be directly chrome-plated. If possible, a step of copper plating or nickel plating is not required as a pre-stage of chromium plating, and the industrial significance is extremely large. It would be even better if the chrome plating process itself could be sped up faster than ever.

【0003】[0003]

【目的】本発明は、鉄系金属、プラスチックス、亜鉛系
金属、銅系金属、アルミニウム系金属などの直接のクロ
ムめっきが不可能と考えられていた金属表面に対するク
ロムめっきを、従来の方法である予備めっき工程を省略
し、かつクロムめっき速度を高速化し、そのうえ、得ら
れたクロムめっき層のマイクロクラックの発生がない新
規なクロムめっき法を提供する点にある。
The object of the present invention is to provide a conventional method for performing chromium plating on metal surfaces, such as iron-based metals, plastics, zinc-based metals, copper-based metals, and aluminum-based metals, for which direct chromium plating was considered impossible. An object of the present invention is to provide a novel chromium plating method in which a certain pre-plating step is omitted, the chromium plating speed is increased, and further, microcracks do not occur in the obtained chromium plating layer.

【0004】[0004]

【構成】本発明の第一は、その金属表面には直接クロム
めっきができないとされている金属表面に対して、クロ
ム以外の他の金属をあらかじめめっきするという前処理
を経ることなく、振動羽根に15〜60Hz、振幅2〜
30mmの振動を与えて処理液を振動撹拌させながら直
接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法
に関する。本発明の第二は、鉄系金属表面にクロムめっ
きを行うにあたり、銅めっき工程−ニッケルめっき工程
を経ることなく、振動羽根に15〜60Hz、振幅2〜
30mmの振動を与えて処理液を振動撹拌させながら直
接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法
に関する。本発明の第三は、プラスチックス表面にクロ
ムめっきを行うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅め
っき工程−ニッケルめっき工程を経ることなく、振動羽
根に15〜60Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて
処理液を振動撹拌させながら直接クロムめっきを行うこ
とを特徴とするクロムめっき法に関する。本発明の第四
は、亜鉛系金属表面にクロムめっきを行うにあたり、銅
めっき工程後のニッケルめっきを経ることなく、振動羽
根に15〜60Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて
処理液を振動撹拌させながら、銅めっき層上に直接クロ
ムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関す
る。本発明の第五は、銅系金属表面にクロムめっきを行
うにあたり、ニッケルめっきを経ることなく、振動羽根
に15〜60Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて処
理液を振動撹拌させながら直接クロムめっきを行うこと
を特徴とするクロムめっき法に関する。本発明の第六
は、アルミニウム系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、下地めっきを経ることなく、振動羽根に15〜6
0Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて処理液を振動
撹拌させながら直接クロムめっきを行うことを特徴とす
るクロムめっき法に関する。本発明は、いずれにしても
今までその金属表面には直接クロムめっきができないと
されている金属表面に対して、振動撹拌下に直接被めっ
き体に対してクロムめっきを行うことができることを発
見したことに基づくものであり、これにより今まで必要
とされていたクロムめっきのための前めっき工程を省略
することおよびクロムめっきの速度を大幅に向上した点
に大きな特徴を有する。
The first aspect of the present invention is to provide a vibrating blade without a pretreatment of pre-plating a metal other than chromium on a metal surface whose chromium plating cannot be performed directly on the metal surface. 15 ~ 60Hz, amplitude 2 ~
The present invention relates to a chromium plating method in which chromium plating is performed directly while applying a vibration of 30 mm to vibrate and stir the treatment liquid. In the second aspect of the present invention, when performing chromium plating on an iron-based metal surface, the vibration blades are subjected to 15 to 60 Hz and an amplitude of 2 to 2 without passing through a copper plating step and a nickel plating step.
The present invention relates to a chromium plating method in which chromium plating is performed directly while applying a vibration of 30 mm to vibrate and stir the treatment liquid. A third aspect of the present invention is to perform chromium plating on the surface of plastics, and apply a vibration of 15 to 60 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm to the vibrating blade on the electroless copper plating layer without passing through a copper plating step and a nickel plating step. And directly performing chromium plating while vibrating and stirring the treatment liquid. A fourth aspect of the present invention is that, when performing chromium plating on a zinc-based metal surface, the treatment liquid is vibrated by applying vibration of 15 to 60 Hz and amplitude of 2 to 30 mm to the vibrating blade without passing through nickel plating after the copper plating step. The present invention relates to a chromium plating method characterized by performing chromium plating directly on a copper plating layer while stirring. A fifth aspect of the present invention is that, when performing chromium plating on a copper-based metal surface, the vibrating blade is subjected to a vibration of 15 to 60 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm without subjecting to nickel plating, and the chromium plating is performed directly while vibrating and stirring the treatment liquid. The present invention relates to a chromium plating method characterized by performing plating. A sixth aspect of the present invention is that, when performing chromium plating on the surface of an aluminum-based metal, the vibrating blade can be provided with 15 to 6
The present invention relates to a chromium plating method, wherein chromium plating is performed directly while applying vibration at 0 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm to vibrate and stir the treatment liquid. According to the present invention, it has been discovered that chromium plating can be performed directly on the object to be plated under vibration agitation on the metal surface which has been considered to be incapable of direct chromium plating on the metal surface. This is a major feature in that the previously required pre-plating step for chromium plating has been omitted, and the speed of chromium plating has been greatly improved.

【0005】本発明に用いる振動撹拌手段は、15〜6
0Hz、好ましくは20〜40Hzでの振動を発生させ
る、振動モータによる振動を液中の振動板に伝え、液体
にこの振動を伝えることにもとづく本発明者が開発した
新しい撹拌手段であり、その基本的考え方は特開平3−
275130号公報に開示したとおりであり、また、そ
の変形撹拌手段は特願平4−286544号として平成
4年9月14日に出願している。さらに、振動撹拌に関
連する技術を特願平5−116566号、5−1390
28号として出願している。この振動撹拌は、振動板に
よる振動が系全体に伝えられると、スクリューによる撹
拌に較べて系全体がすみやかに均一化されることは驚く
べきことである。なお、振動板の振幅はとくに制限はな
いが、通常2〜30mm、好ましくは10〜15mmで
ある。
[0005] The vibration stirring means used in the present invention is 15 to 6
This is a new stirring means developed by the present inventors based on transmitting vibration from a vibration motor, which generates vibration at 0 Hz, preferably 20 to 40 Hz, to a vibration plate in a liquid and transmitting this vibration to the liquid. The idea is that of
As disclosed in Japanese Patent Application No. 275130, the modified agitating means was filed on Sep. 14, 1992 as Japanese Patent Application No. 4-286544. Further, a technique related to vibration stirring is disclosed in Japanese Patent Application Nos. 5-116566 and 5-1390.
No. 28 has been filed. It is surprising that, in this vibration stirring, when the vibration by the diaphragm is transmitted to the entire system, the whole system is promptly homogenized as compared with the stirring by the screw. The amplitude of the diaphragm is not particularly limited, but is usually 2 to 30 mm, preferably 10 to 15 mm.

【0006】本発明で使用する振動撹拌手段を設けため
っき装置を図1〜2に示す。図3、図4についてはめっ
き用電極を省略して図示されている。振動撹拌手段は、
振動モーター26で発生した振動を振動枠23、振動棒
21を介して振動羽根群22、22……に伝える。振動
羽根群は図2、3に明示されているようにめっき槽29
の両側に設置する。振動モーター26よりの振動が槽2
9本体に影響しないようにするため、振動枠23はスプ
リング24と台座25を介して架台に取付けられてい
る。また、27は電極であり、28は液温を保持するた
めの加熱用ヒーターである。振動羽根は、水平であって
もよいがやや傾斜をつけて取付けることが好ましい。傾
斜の程度は水平方向を基準にして0〜45°、好ましく
は10〜20°の角度で取付けることが好ましい。本実
施例では15°でセットした。振動羽根の幅は特に制限
はないが30mm以上程度あれば充分その効力を発揮す
る。通常30〜100mm、好ましくは50〜80mm
程度である。撹拌羽根同士の間隔はとくに制限はないが
通常10〜80mm、好ましくは30〜40mmであ
り、本実施例では35mm間隔とした。また、左右の振
動羽根22の位置は、同一の高さでもよいが、ややずら
せた位置に設けることもできる。最上位の振動羽根は液
面から約100mm下の位置にすることが好ましい。こ
れより上に設けるとその振幅により多少異なるが、液が
飛び散るので好ましくない。最下位の振動羽根は底から
約50mm上の位置とすることが好ましい。本発明の振
動羽根は幅80mm、長さ400mm、間隔35mmと
した。
FIGS. 1 and 2 show a plating apparatus provided with vibration stirring means used in the present invention. 3 and 4, the plating electrodes are omitted. The vibration stirring means
The vibration generated by the vibration motor 26 is transmitted to the vibration blade groups 22, 22,... Via the vibration frame 23 and the vibration rod 21. As shown in FIGS. 2 and 3, the vibrating blade group is
Install on both sides of the. Vibration from vibration motor 26 is tank 2
The vibration frame 23 is attached to the gantry via a spring 24 and a pedestal 25 so as not to affect the body 9. Reference numeral 27 denotes an electrode, and reference numeral 28 denotes a heater for maintaining a liquid temperature. The vibrating blade may be horizontal, but is preferably mounted with a slight inclination. The degree of the inclination is preferably set at an angle of 0 to 45 °, preferably 10 to 20 ° with respect to the horizontal direction. In this embodiment, the angle is set at 15 °. The width of the vibrating blade is not particularly limited, but the effect is sufficiently exhibited if it is at least about 30 mm. Usually 30 to 100 mm, preferably 50 to 80 mm
It is about. Although the interval between the stirring blades is not particularly limited, it is usually 10 to 80 mm, preferably 30 to 40 mm, and in this example, the interval was 35 mm. The positions of the left and right vibrating blades 22 may be the same height, but may be provided at slightly shifted positions. The uppermost vibrating blade is preferably located at a position about 100 mm below the liquid level. If it is provided above this, it slightly varies depending on its amplitude, but it is not preferable because the liquid scatters. The lowest vibrating blade is preferably located at a position about 50 mm above the bottom. The vibrating blade of the present invention had a width of 80 mm, a length of 400 mm, and an interval of 35 mm.

【0007】振動撹拌手段における振動板の設け方は、
大別すると3つのタイプに分けることができる。 (1)めっき槽の周辺部に周辺に沿って幅2〜10cm
程度の振動板を上下に多数枚を設けるタイプ、(図1〜
3参照)(上下振動) (2)めっき槽の底部に槽のほぼ全面に1枚ないし2枚
の振動板を設けるタイプ、(図4参照)(上下振動) (3)めっき槽の底部に横方向に振動する振動板を設け
るタイプ(図5〜9参照) (4)めっき槽の中央部に、プロペラ撹拌翼のかわり
に、プロペラの長さと同程度またはそれ以下の大きさの
任意形状の振動板を上下に多数枚設けるタイプ、(特願
平4−286544号参照) があるが、とくに(1)のタイプのものが好ましい。め
っき電極の位置は、振動版の上方、あるいは振動版の内
側または外側であることができる。
The method of providing the vibration plate in the vibration stirring means is as follows.
It can be roughly divided into three types. (1) 2 to 10 cm wide along the periphery of the plating tank
A type in which a number of diaphragms are provided at the top and bottom,
(Refer to 3) (Vertical vibration) (2) A type in which one or two diaphragms are provided on almost the entire bottom of the plating tank at the bottom of the plating tank (see FIG. 4) (Vertical vibration) (3) Sideways on the bottom of the plating tank Type with a vibrating plate that vibrates in the direction (see Figs. 5 to 9). (4) Instead of a propeller agitating blade at the center of the plating tank, vibration of an arbitrary shape with a size equal to or less than the length of the propeller There is a type in which a large number of plates are provided vertically (see Japanese Patent Application No. 4-286544), but the type (1) is particularly preferred. The position of the plating electrode can be above the vibrating plate, or inside or outside the vibrating plate.

【0008】振動板の振動のさせ方は、前記公報や明細
書記載のように振動板を均一に振動させてもよいが、振
動板の1箇所または2箇所を振動軸に連結して振動させ
ることもできる。この場合、液槽が四角形のときは振動
板の一辺の両端部に振動軸を一本づつ二本設けてもよい
が、辺の中央に一本設けることもできる。また振動板の
一つの角部に一本の振動軸を設けてもよい。振動軸をと
りつけた辺の対角辺あるいは振動軸をとりつけた角部以
外の角部は固定軸により支持する。固定軸には弾性体、
たとえば、ゴム、スプリング、空気バネ等を介して振動
板を固定することが好ましいが、振動板自体の弾力にた
よることも可能である。図5にその一具体例を示す。振
動モーターに任意の手段で連結した振動伝達棒5を介し
て振動棒1,2を設け、この振動棒1,2にはゴム片
8,9を用いて振動板6を固定する一方、固定棒3,4
には、振動板6の振動を支持する支持用ゴム片10,1
1を固定し、これに振動板6を連結する。振動板6は、
支持用ゴム片10,11を支点として振動伝達棒1,2
の上下軸にあわせて扇をあおぐように振動するのでこれ
を槽中におさえることにより、液体、粉体、粒体等の混
合撹拌を行うことができる。
The diaphragm may be vibrated uniformly as described in the above-mentioned publication or the specification. However, one or two portions of the diaphragm are connected to a vibration axis to vibrate. You can also. In this case, when the liquid tank is rectangular, two vibrating axes may be provided one by one at both ends of one side of the diaphragm, but one vibrating shaft may be provided at the center of the side. Also, one vibration axis may be provided at one corner of the diaphragm. Corners other than the diagonal sides of the side where the vibration axis is attached or corners where the vibration axis is attached are supported by fixed axes. An elastic body on the fixed shaft,
For example, it is preferable to fix the diaphragm via rubber, a spring, an air spring, or the like, but it is also possible to rely on the elasticity of the diaphragm itself. FIG. 5 shows a specific example thereof. Vibration rods 1 and 2 are provided via vibration transmission rods 5 connected to the vibration motor by any means, and the vibration plates 6 are fixed to the vibration rods 1 and 2 by using rubber pieces 8 and 9, while the fixed rods are fixed. 3,4
The supporting rubber pieces 10, 1 for supporting the vibration of the diaphragm 6
1 is fixed, and the diaphragm 6 is connected thereto. The diaphragm 6
Vibration transmitting rods 1 and 2 with supporting rubber pieces 10 and 11 as fulcrums
The fan is vibrated so as to lift the fan in accordance with the vertical axis. By holding the fan in the tank, it is possible to mix and agitate liquids, powders, granules and the like.

【0009】本発明で使用する横振動撹拌手段を設けた
めっき装置の概要を図6〜9に示す。図6は、本発明で
使用する横振動撹拌装置の上面図を示し、図7はその断
面図を示す。31は、横方向に振動を発生する振動モー
タであり、32はその振動を伝達するためのコの字状振
動伝達子であり、槽または任意の支持物に直接またはス
ライドベアリング13などを介して取付けられている。
33は、振動モーター31で発生した振動が減衰しない
ようにするための支持体であり、34は、振動羽根36
をつけた振動子35を吊り下げかつコの字状振動伝達子
の振動を振動子35に伝達する役目をする垂直振動伝達
子である。振動羽根36は振動モーター31の振動によ
り振動撹拌作用を槽内の液体や粉体などに与える働きを
する。支持体33の両側には例えばスプリングのような
弾性体38,38が設けられており、コの字状振動伝達
子32の振動が減衰しないようにするとともに振動モー
ター31の側の重量とほぼ同じ重量にして無用振動によ
り発生する音を最小限に抑えこむ。コの字形の振動伝達
子を介して該槽の一方の側に設置されている振動モータ
ーとその対向する側に設けられた弾性体とその保持機構
との両者間では重量的にほぼバランスが取れるよう調整
されていることが好ましい。
FIGS. 6 to 9 show an outline of a plating apparatus provided with a transverse vibration stirring means used in the present invention. FIG. 6 shows a top view of the lateral vibration stirring device used in the present invention, and FIG. 7 shows a cross-sectional view thereof. Numeral 31 denotes a vibration motor for generating vibration in the lateral direction, and numeral 32 denotes a U-shaped vibration transmitter for transmitting the vibration, which is transmitted directly to the tank or any supporting member or via the slide bearing 13 or the like. Installed.
33 is a support for preventing the vibration generated by the vibration motor 31 from attenuating, and 34 is a vibrating blade 36
This is a vertical vibration transmitter that serves to suspend the vibrator 35 with a mark and transmit the vibration of the U-shaped vibration transmitter to the vibrator 35. The vibrating blade 36 has a function of imparting a vibrating stirring action to liquid, powder, and the like in the tank by the vibration of the vibration motor 31. On both sides of the support 33, elastic bodies 38, 38 such as springs are provided, so that the vibration of the U-shaped vibration transmitter 32 is not attenuated and the weight of the vibration motor 31 is substantially the same. The noise generated by unnecessary vibrations is minimized. Through the U-shaped vibration transmitter, the weight of the vibration motor installed on one side of the tank and the elastic body provided on the opposite side thereof and the holding mechanism thereof are almost balanced. It is preferable that it is adjusted as follows.

【0010】振動羽根は任意枚数を振動子に付設すれば
よい。振動羽根は振動子上に垂直にあるいは斜めに取り
付ける〔図10の(a)〜(d)参照〕。振動羽根の取
付け方は振動子に溶接することもできるし、着脱自在と
することもできる。とくに羽根を振動子に押込式にとり
つける方式を採用すれば、必要とする撹拌条件に応じて
振動羽根の大きさを変更したり、振動羽根の数を変更す
ることができるので、好ましい。また、羽根の取付角度
を変更できるようにすることもできる。槽の大きさが幅
800mm、長さ1000mm、深さ1100mmの場
合には、例えば、50mm間隔で幅80mm、長さ50
0mm、厚さ0.15mmの振動羽根を取り付けること
により充分撹拌効果を挙げることができる。
Any number of vibrating blades may be attached to the vibrator. The vibrating blades are mounted vertically or obliquely on the vibrator (see FIGS. 10A to 10D). The vibrating blade can be attached to the vibrator by welding or can be detached. In particular, it is preferable to employ a method in which the blades are attached to the vibrator in a push-in manner, because the size of the vibrating blades and the number of the vibrating blades can be changed according to the required stirring conditions. Further, it is also possible to change the mounting angle of the blade. When the size of the tank is 800 mm in width, 1000 mm in length, and 1100 mm in depth, for example, 80 mm in width and 50 in length at 50 mm intervals.
By attaching a vibrating blade having a thickness of 0 mm and a thickness of 0.15 mm, a sufficient stirring effect can be obtained.

【0011】コの字状の振動伝達子の両先端部を弾性体
を介して受け取めている支持体の存在は、振動モーター
により発生した横方向の振動が減衰しないようにするた
め、地盤と同じようにしっかりした構造体のものとする
ことが好ましい。例えば、地盤に基礎を打ち、それに垂
直に立ち上ったH型鋼材、あるいは鉄筋、鉄骨入りコン
クリート壁などを用いることができる。槽の壁が充分に
しっかりしているときは槽の壁をもって支持体とするこ
ともできる。
The presence of the support which receives the two ends of the U-shaped vibration transmitter via the elastic body makes it possible to prevent the lateral vibration generated by the vibration motor from attenuating. It is preferred to have a similarly robust structure. For example, it is possible to use an H-shaped steel material or a reinforcing steel bar, a concrete wall containing a steel frame, or the like, which is formed by laying a foundation on the ground and standing vertically on the foundation. When the vessel wall is sufficiently firm, the vessel wall can be used as a support.

【0012】前記弾性体は、振動伝達子の振動をうけと
め、前記支持体からその振動をはねかえす役割を果すも
のであり、強いバネ力をもつものが好ましい。例えば、
図8に示すように、丸棒37のまわりにバネ鋼により作
った直径3〜10mmのスプリング38をはめこんだも
のを前記弾性体として使用することができる。前記弾性
体は前記支持体の振動モーター側とその反対側とに対照
的に設置することが好ましい。図8のものは、そのよう
な構造になっており、バネは止め板39で固定されてい
る。
The elastic body serves to receive the vibration of the vibration transmitter and repel the vibration from the support, and preferably has a strong spring force. For example,
As shown in FIG. 8, a spring in which a spring 38 made of spring steel and having a diameter of 3 to 10 mm is fitted around a round bar 37 can be used as the elastic body. It is preferable that the elastic body is installed in contrast to the vibration motor side of the support and the opposite side. 8 has such a structure, and the spring is fixed by a stopper plate 39. FIG.

【0013】本発明においては、振動撹拌手段に加えて
さらにエアレーション手段を付設することができる。
In the present invention, aeration means can be additionally provided in addition to the vibration stirring means.

【0014】本発明で用いるクロムめっき浴の組成は、
従来のクロムめっき浴の各種組成のものを使用すること
ができる。代表的処方としては、 (a)クロム酸(CrO3) 100〜500g/l 硫酸 0.5〜7.7g/l (b)クロム酸(CrO3) 200〜300g/l 硫酸 0.25〜3g/l ケイフッ化ナトリウム(Na2SiF6) 0.5〜20
g/l
The composition of the chromium plating bath used in the present invention is as follows:
Various compositions of conventional chromium plating baths can be used. Representative formulation, (a) chromic acid (CrO 3) 100~500g / l sulfuric acid 0.5~7.7g / l (b) chromic acid (CrO 3) 200~300g / l sulfuric acid 0.25~3g / l fluorosilicate sodium (Na 2 SiF 6) 0.5~20
g / l

【0015】本発明における鉄系金属とは鉄または鉄を
主成分とする合金であり、亜鉛系金属とは亜鉛または亜
鉛を主成分とする合金であり、銅系金属とは銅または銅
を主成分とする合金であり、アルミニウム系金属とはア
ルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金であ
る。プラスチックスは、ABS、ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどいずれのプラスチックスも対照物とするこ
とができる。
In the present invention, the iron-based metal is iron or an alloy mainly containing iron, the zinc-based metal is zinc or an alloy mainly containing zinc, and the copper-based metal is mainly copper or copper. An aluminum-based metal is aluminum or an alloy containing aluminum as a main component. As the plastics, any plastics such as ABS, polyethylene, and polypropylene can be used as a control.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

実施例1(鉄系金属へのめっき)(吊下げ式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→クロムめっき 使用装置:図 に示す振動撹拌手段を有するFRP製め
っき槽(容量200リットル)で、振動数は27Hzと
した。 陽極:チタン上に酸化インジウムをコーティングしたも
の 液温:60℃ 被めっき体:鋼鉄製ディスク(直径55mm) (厚さ5mm) めっき浴組成: CrO3 300g/l H2SO4 3g/l 以上の条件下で鋼鉄上に直接クロムめっきを行ったとこ
ろ、 電流密度 80A/dm2 とすることができ、この状態で20分間めっきを行っ
た。その結果、中心部7μm厚、外周部20μm厚のク
ラックのないクロムめっき層を得ることができた。振動
撹拌を伴わない場合より高速でめっきができた。JIS
の塩水噴霧試験は96時間後も合格であった。また、振
動撹拌を伴わない場合、電流密度が40A/dm2に減
少し、同じ膜厚を得るためのクロムめっき工程の所要時
間は振動撹拌を行わない場合の1/2であった。
Example 1 (plating on iron-based metal) (hanging type) Basic process: degreasing → water washing → pickling → water washing → chrome plating Applicable equipment: FRP plating tank with vibration stirring means shown in the figure (capacity 200 liters) The frequency was 27 Hz. Anode: titanium coated with indium oxide Liquid temperature: 60 ° C. Plated object: steel disc (diameter 55 mm) (thickness 5 mm) Plating bath composition: CrO 3 300 g / l H 2 SO 4 3 g / l or more When chromium plating was performed directly on steel under the conditions, a current density of 80 A / dm 2 was obtained, and plating was performed in this state for 20 minutes. As a result, a crack-free chromium plating layer having a thickness of 7 μm at the center and a thickness of 20 μm at the outer periphery could be obtained. Plating was achieved at a higher speed than without vibration stirring. JIS
The salt spray test passed after 96 hours. Further, when no vibration stirring was performed, the current density was reduced to 40 A / dm 2 , and the time required for the chromium plating step to obtain the same film thickness was 場合 of that when no vibration stirring was performed.

【0017】比較例1 振動撹拌を行わない以外は、実施例1を繰り返した。そ
の結果、電流密度40A/dm2、膜厚11μmのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くJISの塩水
噴霧試験は96時間後では完全に不合格であった。
Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that no vibration stirring was performed. As a result, a chromium plating film having a current density of 40 A / dm 2 and a film thickness of 11 μm was obtained, but had many cracks and failed the JIS salt spray test completely after 96 hours.

【0018】実施例2(鉄系金属へのめっき)(吊下げ
式) 振動数を28Hz、電流密度60A/dm2とし、被め
っき体を鉄製シャフト(直径10mm、長さ135m
m)にクロムめっきを行った。クロムめっきの厚さは2
0〜22μmで、クラックの発生は認められなかった。
JISの塩水噴霧試験は96時間後でも合格であった。
Example 2 (Plating on iron-based metal) (suspension type) The frequency was 28 Hz, the current density was 60 A / dm 2, and the object to be plated was an iron shaft (diameter 10 mm, length 135 m).
m) was chromium plated. Chrome plating thickness is 2
No cracks were observed at 0 to 22 μm.
The JIS salt spray test passed even after 96 hours.

【0019】比較例2 振動撹拌を行わない以外は、実施例2を繰り返した。そ
の結果、電流密度40A/dm2、膜厚11μmのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くJISの塩水
噴霧試験は96時間後では完全に不合格であった。
Comparative Example 2 Example 2 was repeated except that no vibration stirring was performed. As a result, a chromium plating film having a current density of 40 A / dm 2 and a film thickness of 11 μm was obtained, but had many cracks and failed the JIS salt spray test completely after 96 hours.

【0020】比較例3(鉄系金属へのめっき)(吊下げ
式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 実施例2の被めっき体を用い、通常どおり銅めっき−ニ
ッケルめっきを施したものに、クロムめっきを行った
(振動撹拌なし)。 硫酸銅めっき浴 硫酸銅 230g/l 硫酸 50g/l 光沢剤 少量 液温 25℃ 陰極電流密度 3A/dm2 時間 ニッケルめっき浴 硫酸ニッケル 240g/l 塩化ニッケル 45g/l ホウ酸 30g/l 光沢剤 少量 液温 50℃ 電流密度 5A/dm2 クロムめっき浴 CrO3 300g/l H2SO4 3g/l よりなるサージェント浴を用いた。 液温:60℃ 電流密度:50A/dm2 めっき時間:30分 その結果、25μm厚のクロムめっき層が得られたが、
多数のマイクロクラックが認められた。JISの塩水噴
霧試験のけっかは96時間後不合格であった。
Comparative Example 3 (plating on iron-based metal) (hanging type) Basic process: degreasing → water washing → pickling → water washing → copper strike → copper plating → water washing → nickel plating → water washing → chrome plating Using a body to be plated, chrome plating was performed on a copper-nickel plated one as usual (no vibration stirring). Copper sulfate plating bath Copper sulfate 230g / l Sulfuric acid 50g / l Brightener small amount Liquid temperature 25 ° C Cathode current density 3A / dm 2 hours Nickel plating bath Nickel sulfate 240g / l Nickel chloride 45g / l Boric acid 30g / l Brightener small amount liquid Temperature 50 ° C. Current density 5 A / dm 2 Chromium plating bath A surge bath composed of CrO 3 300 g / l H 2 SO 4 3 g / l was used. Solution temperature: 60 ° C. Current density: 50 A / dm 2 Plating time: 30 minutes As a result, a chromium plating layer having a thickness of 25 μm was obtained.
Many microcracks were observed. The salt spray test of JIS failed after 96 hours.

【0021】実施例3(鉄製品へのバレルめっき) 本実施例に用いるバレルめっき装置は、図11(上面
図)、図12(断面図)に示すものである。振動撹拌手
段は、振動モーター56で発生した振動を振動枠53、
振動棒51を介して振動羽根群52、52……に伝え
る。振動羽根群は図6〜8に明示されているように循環
槽59の両側に設置する。振動モーター56よりの振動
が循環槽59本体に影響しないようにするため、振動枠
53はスプリング54と台座55を介して本体に取付け
られている。振動羽根の傾斜の程度は水平方向を基準に
して15゜でセットした。振動羽根の幅80mm、撹拌
羽根同士の間隔は35mmとした。図12に示すとお
り、振動羽根部分は、バレル63と電極57の間に設け
られている。バレル63は、穴径3mmの多数の穴を有
する八角形筒体で約3リットルの容量の硬質塩化ビニル
樹脂よりなるものである。被めっき物品としては、直径
20mm、長さ20mmの鉄製円柱体を用いた。このも
のは銅めっき、ニッケルめっきを施していないものであ
る。クロムめっき浴の組成はつぎのとおりとした。 無水クロム酸(CrO3) 250g/l 硫酸(H2SO4) 2.5g/l 陰極電流密度25A/dm2、めっき温度60℃、バレ
ル回転数6r.p.m.で、1時間めっきした。なお、
被めっき物品はバレル容積の1/3になるように充填し
た。めっき終了後は、水洗、酸中和、水洗、乾燥を行っ
た。この結果、振動撹拌を行わない場合は電流密度が上
らず、クロムめっき膜がほとんど形成できないのに較
べ、本実施例3のものは、膜厚10μmのクロム膜が均
一に形成されており、この膜厚は吊り具を用いためっき
の場合とほゞ同様であった。
Embodiment 3 (Barrel Plating on Iron Products) The barrel plating apparatus used in this embodiment is shown in FIG. 11 (top view) and FIG. 12 (cross-sectional view). The vibration stirring means converts the vibration generated by the vibration motor 56 into the vibration frame 53,
The vibration is transmitted to the vibrating blade groups 52, 52,. The vibrating blade group is installed on both sides of the circulation tank 59 as clearly shown in FIGS. In order to prevent the vibration from the vibration motor 56 from affecting the main body of the circulation tank 59, the vibration frame 53 is attached to the main body via a spring 54 and a pedestal 55. The degree of inclination of the vibrating blade was set at 15 ° with respect to the horizontal direction. The width of the vibrating blade was 80 mm, and the interval between the stirring blades was 35 mm. As shown in FIG. 12, the vibrating blade portion is provided between the barrel 63 and the electrode 57. The barrel 63 is an octagonal cylindrical body having a large number of holes having a diameter of 3 mm and made of a hard vinyl chloride resin having a capacity of about 3 liters. As an article to be plated, an iron cylinder having a diameter of 20 mm and a length of 20 mm was used. This is not plated with copper or nickel. The composition of the chromium plating bath was as follows. Chromic anhydride (CrO 3 ) 250 g / l Sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 2.5 g / l Cathode current density 25 A / dm 2 , plating temperature 60 ° C., barrel rotation speed 6 r. p. m. For one hour. In addition,
The article to be plated was filled so as to be 1/3 of the barrel volume. After the plating was completed, washing with water, acid neutralization, washing with water, and drying were performed. As a result, in the case where the vibration stirring is not performed, the current density does not increase and almost no chromium plating film can be formed, whereas in the case of the third embodiment, the chromium film having a thickness of 10 μm is formed uniformly. This film thickness was almost the same as in the case of plating using a hanging tool.

【0022】実施例4(鉄製品へのバレルめっき) クロムめっき浴として下記の組成のものを用い、陰極電
流密度50A/dm2、めっき温度55℃としたほかは
実施例1を繰り返した。 無水クロム酸(CrO3) 260g/l ケイフッ化カリウム(K2SiF6) 4g/l 重クロム酸カリ(K2Cr27) 25g/l 硫酸(H2SO4) 1g/l この結果、実施例1に較べ約1.3倍の早さでクロムめ
っき層が形成された。
Example 4 (Barrel plating on iron products) Example 1 was repeated except that a chromium plating bath having the following composition was used, the cathode current density was 50 A / dm 2 , and the plating temperature was 55 ° C. Chromic anhydride (CrO 3 ) 260 g / l Potassium silicofluoride (K 2 SiF 6 ) 4 g / l Potassium dichromate (K 2 Cr 2 O 7 ) 25 g / l Sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 1 g / l The chromium plating layer was formed about 1.3 times faster than in Example 1.

【0023】実施例5(プラスチックスへのめっき) 基本プロセス:脱脂→プレエッチング→エッチング→キ
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→クロムめっき ポリアセタールディスク(直径20mm、厚さ20m
m)に化学めっき(化学銅めっき)を施して表面を活性
化した後、これに直接振動撹拌下にクロムめっきを行っ
た。めっき条件は実施例1と同様に行い、めっき時間は
20分とした。クロムめっき層の厚みは20μmであ
り、マイクロクラックの発生は認められなかった。JI
Sによる塩水噴霧試験の結果は、96時間後も合格であ
った。
Example 5 (Plating on plastics) Basic process: degreasing → pre-etching → etching → catalyzing → accelerate → electroless copper plating → chrome plating Polyacetal disc (diameter 20 mm, thickness 20 m)
m) was subjected to chemical plating (chemical copper plating) to activate the surface, and then this was directly subjected to chromium plating under vibrational stirring. The plating conditions were the same as in Example 1, and the plating time was 20 minutes. The thickness of the chromium plating layer was 20 μm, and no generation of microcracks was observed. JI
The result of the salt spray test by S was still passed after 96 hours.

【0024】比較例4(プラスチックスへのめっき) 基本プロセス:脱脂→プレエッチング→エッチング→キ
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→銅めっき→ニッケルめっき→クロムめっき 実施例2と同一のポリアセタールディスクに、比較例1
と同様に銅めっき、ニッケルめっきを施した後、クロム
めっきを行った(振動撹拌なし)。20分間めっき後、
クロムめっき層の厚みは11μmであり、マイクロクラ
ックの存在が認められた。JISによる塩水噴霧試験の
結果は、96時間後、不合格であった。
Comparative Example 4 (Plating on plastics) Basic process: degreasing → pre-etching → etching → catalyzing → accelerate → electroless copper plating → copper plating → nickel plating → chrome plating Same polyacetal disc as in Example 2 Comparative Example 1
In the same manner as described above, copper plating and nickel plating were performed, and then chromium plating was performed (no vibration stirring). After plating for 20 minutes,
The thickness of the chromium plating layer was 11 μm, and the presence of microcracks was recognized. The result of the salt spray test according to JIS was rejected after 96 hours.

【0025】実施例6(亜鉛系金属へのめっき)(吊下
げ方式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→クロムめっき 銅めっきされた亜鉛系金属ディスク(直径20mm、厚
さ20mm)に、振動数を28Hzとした以外は、実施
例1と同様にして20分間クロムめっきを行った。その
結果は、マイクロクラックの発生は認められず、JIS
の塩水噴霧試験において96時間後も合格であった。
Example 6 (Plating on zinc-based metal) (hanging method) Basic process: degreasing → water washing → pickling → water washing → copper strike → copper plating → water washing → chrome plating Copper-plated zinc-based metal disc ( Chromium plating was performed for 20 minutes in the same manner as in Example 1 except that the frequency was 28 Hz (diameter: 20 mm, thickness: 20 mm). As a result, no occurrence of microcracks was observed and JIS
Was passed after 96 hours in the salt spray test.

【0026】比較例5(亜鉛系金属へのめっき)(吊下
げ方式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 銅ストライク処理された亜鉛系金属ディスク(直径20
mm、厚さ20mm)に、比較例1と同様の処方で通常
の基本プロセスにより、銅めっき→ニッケルめっき→ク
ロムめっきを行った。クロムめっきの時間は20分とし
た。その結果は、クロムめっき層にマイクロクラックが
発生していた。
Comparative Example 5 (Plating on zinc-based metal) (suspension method) Basic process: degreasing → water washing → pickling → water washing → copper strike → copper plating → water washing → nickel plating → water washing → chrome plating Copper strike treatment Zinc-based metal disc (diameter 20
mm, thickness 20 mm) by the same basic process as in Comparative Example 1 and copper plating → nickel plating → chrome plating. The chromium plating time was 20 minutes. As a result, microcracks occurred in the chromium plating layer.

【0027】実施例7(アルミ系金属へのめっき)(吊
下げ方式) クロムめっき浴として CrO3 300g/l H2SO4 1g/l を用い、アルミダイキャスト製品(直径55mm、厚さ
5mm)の試料に実施例1と同様に振動数27Hz、液
温60℃で電流密度80A/dm2、20分間のめっき
を行った。膜厚平均15μmのクラックのないクロムめ
っき層を得ることができた。通常、中間処理として従来
から行われている亜鉛置換法や亜鉛合金置換法等の処理
層を設ける必要がなく、マイクロクラックの発生のない
防食性のめっき層を高速度で得ることができた。なお、
通常の脱脂、水洗、活性化処理は常法により行ってい
る。
Example 7 (Plating on aluminum-based metal) (suspension method) An aluminum die-cast product (diameter 55 mm, thickness 5 mm) using CrO 3 300 g / l H 2 SO 4 1 g / l as a chromium plating bath In the same manner as in Example 1, plating was performed on the sample at a frequency of 27 Hz, a liquid temperature of 60 ° C. and a current density of 80 A / dm 2 for 20 minutes. A crack-free chromium plating layer having an average thickness of 15 μm was obtained. Usually, it is not necessary to provide a treatment layer such as a zinc substitution method or a zinc alloy substitution method which has been conventionally performed as an intermediate treatment, and a corrosion-resistant plating layer free from microcracks can be obtained at a high speed. In addition,
Ordinary degreasing, water washing, and activation treatments are carried out by ordinary methods.

【0028】[0028]

【効果】【effect】

(1)本発明は、振動撹拌を用いることにより、鉄系合
金、プラスチックスあるいは亜鉛系金属にクロムめっき
をするにあたり、今まで必要とされていた予備めっき工
程を簡略化することができた。この工程簡略化は、作業
効率の大巾な向上につながるとともに、予備めっき液も
不要となるから、廃水処理上のメリットも大きく、極め
て大きな効果である。 (2)本発明は、振動撹拌を用いることにより、従来法
におけるクロムめっきの速さに比較してほぼ2倍のめっ
き速度を得ることができる。このことは振動撹拌により
高い電流密度を達成できることと深い関係を有する。一
例を挙げれば、従来のクロムめっきでは、 電流密度40A/dm2、20分でクロムめっき厚11
μm であるのに対し、本発明のクロムめっきでは、 電流密度80A/dm2、20分でクロムめっき厚22
μm であるから、同一時間で2倍の厚みのクロムめっきをす
ることができる。いいかえれば、めっき速度は2倍にな
っていることが明らかである。 (3)得られたクロムめっき層は、従来品のようなマイ
クロクラックがなく、従来品に較べて耐久性が一層向上
した。
(1) In the present invention, the use of vibration stirring can simplify the pre-plating step that has been required until now when chromium plating is performed on iron-based alloys, plastics, or zinc-based metals. This simplification of the process leads to a drastic improvement in working efficiency, and also eliminates the need for a pre-plating solution. (2) According to the present invention, the use of the vibration stirring makes it possible to obtain a plating speed almost twice as fast as the chromium plating speed in the conventional method. This is closely related to the fact that a high current density can be achieved by vibratory stirring. For example, in the conventional chromium plating, the current density is 40 A / dm 2 , and the chromium plating thickness is 11 in 20 minutes.
In contrast, the chromium plating of the present invention has a current density of 80 A / dm 2 and a chromium plating thickness of 22 in 20 minutes.
Since it is μm, it is possible to perform chrome plating of twice the thickness in the same time. In other words, it is clear that the plating rate has doubled. (3) The obtained chromium plating layer did not have microcracks unlike the conventional product, and the durability was further improved as compared with the conventional product.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の上面図
である。
FIG. 1 is a top view of a vibration stirrer used in an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の側面図
である。
FIG. 2 is a side view of the vibration stirrer used in the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置のもう一
方の側からみた側面図である。
FIG. 3 is a side view of the vibration stirrer used in the embodiment of the present invention as viewed from the other side.

【図4】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の要部の
みの斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of only a main part of the vibration stirrer used in the embodiment of the present invention.

【図5】本発明のめっき方法に用いることのできる上下
振動撹拌手段の変形例を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a modified example of the vertical vibration stirring means that can be used in the plating method of the present invention.

【図6】本発明の実施例で用いる横方向振動撹拌装置の
上面図である。
FIG. 6 is a top view of the lateral vibration stirrer used in the embodiment of the present invention.

【図7】図6の断面図である。FIG. 7 is a sectional view of FIG. 6;

【図8】図6のA部分の拡大断面図である。8 is an enlarged sectional view of a portion A in FIG.

【図9】振動伝達機構と振動子の概略図である。FIG. 9 is a schematic diagram of a vibration transmission mechanism and a vibrator.

【図10】振動羽根の振動子への取付け態様のいろいろ
を(a)から(d)に示す。
FIGS. 10A to 10D show various modes of attaching the vibrating blade to the vibrator. FIGS.

【図11】振動撹拌手段を備えたバレルめっき装置の上
面図である。
FIG. 11 is a top view of a barrel plating apparatus provided with a vibration stirrer.

【図12】図11の断面図である。FIG. 12 is a sectional view of FIG. 11;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 振動棒 2 振動棒 3 固定棒 4 固定棒 5 振動伝達棒 6 振動板 7 槽底部 8 支持用ゴム片 9 支持用ゴム片 10 支持用ゴム片 11 支持用ゴム片 21 振動棒 22 振動羽根 23 振動枠 24 スプリング 25 台座 26 振動モーター 27 電極 28 加熱用ヒーター 29 めっき槽 31 振動モーター 32 コの字状振動伝達子 33 支持体 34 垂直振動伝達子 35 振動子 36 振動羽根 37 丸棒 38 スプリング 39 止め板 40 ヒーター 41 電極 42 槽 43 スライドベアリング 51 振動棒 52 振動羽根 53 振動枠 54 スプリング 55 台座 56 振動モーター 57 電極 59 槽 62 回転軸 63 バレル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vibration bar 2 Vibration bar 3 Fixed bar 4 Fixed bar 5 Vibration transmission bar 6 Vibrating plate 7 Tank bottom 8 Supporting rubber piece 9 Supporting rubber piece 10 Supporting rubber piece 11 Supporting rubber piece 21 Vibrating rod 22 Vibrating blade 23 Vibration Frame 24 Spring 25 Pedestal 26 Vibration motor 27 Electrode 28 Heating heater 29 Plating bath 31 Vibration motor 32 U-shaped vibration transmitter 33 Support 34 Vertical vibration transmitter 35 Vibrator 36 Vibrating blade 37 Round bar 38 Spring 39 Stop plate Reference Signs List 40 heater 41 electrode 42 tank 43 slide bearing 51 vibrating rod 52 vibrating blade 53 vibrating frame 54 spring 55 pedestal 56 vibrating motor 57 electrode 59 tank 62 rotating shaft 63 barrel

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 その金属表面には直接クロムめっきがで
きないとされている金属表面に対して、クロム以外の他
の金属をあらかじめめっきするという前処理を経ること
なく、振動羽根に15〜60Hz、振幅2〜30mmの
振動を与えて処理液を振動撹拌させながら直接クロムめ
っきを行うことを特徴とするクロムめっき法。
1. A vibrating blade having a frequency of 15 to 60 Hz without a pretreatment of plating a metal other than chromium in advance on a metal surface on which the chromium plating cannot be directly performed. A chromium plating method, wherein chromium plating is performed directly while applying a vibration having an amplitude of 2 to 30 mm to vibrate and stir the treatment liquid.
【請求項2】 鉄系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、銅めっき工程−ニッケルめっき工程を経ることな
く、振動羽根に15〜60Hz、振幅2〜30mmの振
動を与えて処理液を振動撹拌させながら直接クロムめっ
きを行うことを特徴とするクロムめっき法。
2. In performing chromium plating on a surface of an iron-based metal, a vibration liquid having a vibration of 15 to 60 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm is applied to the vibrating blade without passing through a copper plating step and a nickel plating step to vibrate and agitate the treatment liquid. A chromium plating method characterized by performing chrome plating directly.
【請求項3】 プラスチックス表面にクロムめっきを行
うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅めっき工程−ニ
ッケルめっき工程を経ることなく、振動羽根に15〜6
0Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて処理液を振動
撹拌させながら直接クロムめっきを行うことを特徴とす
るクロムめっき法。
3. When performing chromium plating on the surface of plastics, the vibrating blade may be coated on the electroless copper plating layer by 15 to 6 without passing through a copper plating step and a nickel plating step.
A chromium plating method, wherein chromium plating is performed directly while applying vibration at 0 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm to vibrate and agitate the treatment liquid.
【請求項4】 亜鉛系金属表面にクロムめっきを行うに
あたり、銅めっき工程後のニッケルめっきを経ることな
く、振動羽根に15〜60Hz、振幅2〜30mmの振
動を与えて処理液を振動撹拌させながら、銅めっき層上
に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっ
き法。
4. When performing chromium plating on the surface of a zinc-based metal, a vibration liquid having a vibration of 15 to 60 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm is applied to the vibrating blade without passing through nickel plating after the copper plating step to vibrate and stir the treatment liquid. A chromium plating method characterized by performing chromium plating directly on a copper plating layer.
【請求項5】 銅系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、ニッケルめっきを経ることなく、振動羽根に15
〜60Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて処理液を
振動撹拌させながら直接クロムめっきを行うことを特徴
とするクロムめっき法。
5. When chromium plating is performed on the surface of a copper-based metal, the vibrating blade is not plated with nickel, and
A chromium plating method, wherein chromium plating is performed directly while applying a vibration of up to 60 Hz and an amplitude of 2 to 30 mm to vibrate and stir the treatment liquid.
【請求項6】 アルミニウム系金属表面にクロムめっき
を行うにあたり、下地めっきを経ることなく、振動羽根
に15〜60Hz、振幅2〜30mmの振動を与えて処
理液を振動撹拌させながら直接クロムめっきを行うこと
を特徴とするクロムめっき法。
6. In performing chromium plating on the surface of an aluminum-based metal, chrome plating is performed directly by applying vibration of 15 to 60 Hz and amplitude of 2 to 30 mm to the vibrating blades without passing through a base plating and vibrating and stirring the treatment liquid. A chromium plating method characterized by performing.
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