JP2985334B2 - Intaglio production method - Google Patents

Intaglio production method

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JP2985334B2 JP3064547A JP6454791A JP2985334B2 JP 2985334 B2 JP2985334 B2 JP 2985334B2 JP 3064547 A JP3064547 A JP 3064547A JP 6454791 A JP6454791 A JP 6454791A JP 2985334 B2 JP2985334 B2 JP 2985334B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は凹版印刷に用いられる凹
版を製造する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an intaglio used for intaglio printing.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、印刷方式としては、凸版式、凹
版式、平版式の3つに大別される。このうち、凹版印刷
方式は、例えばグラビア印刷、紙幣印刷、証券印刷等に
多く用いられている。この凹版印刷方式は、印刷版であ
る凹版に塗材を付着させ、基材シート上に凹部内の塗材
を転移させて凹版印刷を施すものである。そして、最近
では、この凹版印刷方式は、基材シート上に塗材を用い
て凹版印刷により所望の凹凸模様を転移させて、凹凸模
様を有する装飾シートを作成する場合に、多く用いられ
てきている。
2. Description of the Related Art Generally, printing methods are roughly classified into three types: letterpress type, intaglio type, and planographic type. Among them, the intaglio printing method is widely used for, for example, gravure printing, bill printing, securities printing, and the like. In the intaglio printing method, a coating material is attached to an intaglio printing plate, and the intaglio printing is performed by transferring the coating material in the concave portion onto the base sheet. In recent years, this intaglio printing method has been often used when a desired uneven pattern is transferred by intaglio printing using a coating material on a base sheet to create a decorative sheet having an uneven pattern. I have.

【0003】ところで、この種の凹版印刷に用いられる
凹版を製造する方法としては、従来から電鋳法、あるい
はエッチング法が多く採用されてきている。この場合、
まず電鋳法においては、鋭い刃物等で溝を作り、電鋳で
2回型取りして凹版とすることから、凹部のエッジがシ
ャープに角張っており、刷り上がりのインキエッジもシ
ャープなものとなる。しかしながら、パターンの形成が
困難であるという問題があった。
By the way, as a method of manufacturing an intaglio used for this kind of intaglio printing, an electroforming method or an etching method has been often used. in this case,
First, in the electroforming method, a groove is formed with a sharp blade and the like is formed twice by electroforming to form an intaglio, so that the edge of the concave portion is sharp and angular, and the printed ink edge is also sharp. . However, there is a problem that it is difficult to form a pattern.

【0004】一方、エッチング法においては、パターン
の形成が電鋳法よりも非常に容易ではあるが、印刷への
用途が限定されてしまうという問題がある。その理由の
うち大きな割合を占めるのが、エッチング部分の断面形
状のうちエッジがシャープにならず、インキング(ワイ
ピング、ドクタリング)時のインキのエッジが明確でな
く、刷り上がりもエッジがぎざぎざになることが多いた
めである。
On the other hand, in the etching method, although pattern formation is much easier than in the electroforming method, there is a problem that the use for printing is limited. A large proportion of the reasons are that the edge of the cross-sectional shape of the etched portion is not sharp, the edge of the ink at the time of inking (wiping, doctoring) is not clear, and the edge of the print is jagged This is because there are many cases.

【0005】すなわち、エッチング法によって作られた
凹版は、エッチング部分の側面(エッジ)がねているこ
とから、凹部内へのインキの詰まり方が、不安定でしか
も薄くなる。その結果、かかる凹版を用いて印刷をした
時に、設計通りの線幅を得ることが難しく、またインキ
の盛りが薄くなり、さらには線の形状が一定しなくな
る。
That is, in the intaglio produced by the etching method, the side (edge) of the etched portion is resilient, so that the clogging of the ink into the recess is unstable and thin. As a result, when printing is performed using such an intaglio, it is difficult to obtain the designed line width, the ink is thinned, and the shape of the line is not constant.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】以上のような事情か
ら、最近では、エッチング法によっても凹部のエッジが
シャープとなるような凹版の製造方法の実現が、強く要
望されてきている。
Under the circumstances described above, there has recently been a strong demand for a method of manufacturing an intaglio plate in which the edge of a concave portion is sharp even by an etching method.

【0007】本発明は、上記のような問題点を解決する
ために成されたもので、その目的はパターンの形成が容
易なエッチング法によって凹部のエッジがシャープな凹
版を得ることができ、印刷への用途が限定されることが
ない極めて信頼性の高い凹版の製造方法を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an intaglio plate in which the edges of a concave portion are sharp by an etching method in which a pattern can be easily formed. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an intaglio plate having extremely high reliability without limiting the use of the intaglio.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明では、凹版印刷に用いられる凹版の原版をエ
ッチング法により製造する方法において、基板上に凹部
としてエッチングされる金属層をメッキ法により形成す
るに際して、金属層の組成を、下地層側から表面層側へ
の厚さ方向に、エッチングされ易い組成からエッチング
され難い組成へと順次変化させて形成するようにしてい
る。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an intaglio master used for intaglio printing by etching a metal layer to be etched as a recess on a substrate. In the formation by the method, the composition of the metal layer is sequentially changed from a composition that is easily etched to a composition that is not easily etched in the thickness direction from the base layer side to the surface layer side.

【0009】特に、基板上にエッチングストップ層とし
てニッケル層またはニッケル合金層を形成し、さらに当
該エッチングストップ層上に銅とニッケルとの合金層
を、当該銅とニッケルとの割合を下地層側から表面層側
への厚さ方向にニッケルの割合を順次増加させて形成す
るようにしている。
In particular, a nickel layer or a nickel alloy layer is formed as an etching stop layer on a substrate, and further, an alloy layer of copper and nickel is formed on the etching stop layer, and a ratio of the copper and nickel is determined from the underlayer side. It is formed by sequentially increasing the ratio of nickel in the thickness direction toward the surface layer.

【0010】[0010]

【作用】従って、本発明による凹版の製造方法において
は、基板上に凹部としてエッチングされる金属層の組成
を、下地層側から表面層側への厚さ方向に、エッチング
され易い組成からエッチングされ難い組成へと順次変化
させて形成することにより、凹部のエッジがシャープな
凹版を得ることができる。これにより、かかる凹版を用
いて印刷をした時には、設計通りの線幅に近く、またイ
ンキの盛りが厚く、さらに線形状もすっきりしたものに
なる。
Therefore, in the method of manufacturing an intaglio plate according to the present invention, the composition of the metal layer etched as a recess on the substrate is changed from the composition which is easily etched in the thickness direction from the base layer side to the surface layer side. By successively changing the composition to a difficult composition, an intaglio plate with sharp edges can be obtained. As a result, when printing is performed using such an intaglio, the line width is close to the designed line width, the ink is thick, and the line shape is clear.

【0011】[0011]

【実施例】本発明は、凹版印刷に用いられる凹版の原版
を、パターンの形成が容易なエッチング法により製造す
る場合に、基板上に凹部としてエッチングされる金属層
をメッキ法により形成するに際して、金属層の組成を、
下地層側から表面層側への厚さ方向に、エッチングされ
易い組成からエッチングされ難い組成へと順次変化させ
て形成するものである。以下、上記のような考え方に基
づく本発明の一実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。図1は、本発明による凹版を製造する場合の
工程例を示す断面図である。本実施例では、凹版を次の
ような工程により作製する。まず、鉄製の基板1上に、
通常の電気メッキ法によって、エッチングストップ層と
なるニッケル層2を、厚さが約3μmに形成する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a method of manufacturing an intaglio original plate used for intaglio printing by an etching method in which a pattern can be easily formed. The composition of the metal layer
In the thickness direction from the base layer side to the surface layer side, the composition is formed by sequentially changing from a composition that is easily etched to a composition that is not easily etched. Hereinafter, an embodiment of the present invention based on the above concept will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a process for producing an intaglio according to the present invention. In this embodiment, the intaglio is manufactured by the following steps. First, on the iron substrate 1,
A nickel layer 2 serving as an etching stop layer is formed to a thickness of about 3 μm by ordinary electroplating.

【0012】次に、下記に示すようなメッキ浴によっ
て、メッキ開始時の電解電位を−0.75ボルト、メッ
キ終了時の電解電位を−1.0ボルトとなるように、フ
ァンクショクジェネレータを用いて、メッキ中の電解電
位(VS.SCE)をスイープさせながら、厚さが約3
μmの銅(Cu)−ニッケル(Ni)の合金層3を形成
する。
Next, a function generator is used so that the electrolytic potential at the start of plating is -0.75 volts and the electrolytic potential at the end of plating is -1.0 volts in a plating bath as described below. While sweeping the electrolytic potential (VS. SCE) during plating,
A μm copper (Cu) -nickel (Ni) alloy layer 3 is formed.

【0013】次に、以上のようにして形成した銅−ニッ
ケル合金層3を、エッチングレジスト4としてシップレ
イ社製のS−1400、エッチング液として塩化第二鉄
液をそれぞれ用いて、深さ10μmのパターンエッチン
グを行ない、エッチングレジスト4を剥離して凹版の原
版を得た後に、厚さが約1〜2μmのクロム(Cr)メ
ッキ5を施して凹版を作製する。
Next, the copper-nickel alloy layer 3 formed as described above is coated with a 10 μm-depth using S-1400 manufactured by Shipley as an etching resist 4 and a ferric chloride solution as an etching solution. After performing pattern etching and removing the etching resist 4 to obtain an intaglio master, a chrome (Cr) plating 5 having a thickness of about 1 to 2 μm is applied to produce an intaglio.

【0014】なお、ESCAによってメッキ層である銅
−ニッケル合金層3の組成を測定したところ、銅−ニッ
ケル合金層3の下地層、すなわちニッケル層2の付近で
は、ほぼ純銅、銅−ニッケル合金層3の表面層では、銅
−30%ニッケル(at%)と、下地層側から表面層側
への厚さ方向に、ニッケルの含有率が徐々に増加してい
ること、すなわちエッチングされ易い組成からエッチン
グされ難い組成へと順次変化していることが確認でき
た。また、凹部パターンの断面形状を観察したところ、
凹部のエッジがシャープとなっていることが確認でき
た。
When the composition of the copper-nickel alloy layer 3 as a plating layer was measured by ESCA, the underlayer of the copper-nickel alloy layer 3, ie, near the nickel layer 2, was substantially pure copper and the copper-nickel alloy layer. In the surface layer of No. 3, the content of nickel was gradually increased in the thickness direction from the base layer side to the surface layer side from copper-30% nickel (at%). It was confirmed that the composition was gradually changed to a composition that was difficult to be etched. Also, when observing the cross-sectional shape of the concave pattern,
It was confirmed that the edge of the concave portion was sharp.

【0015】上述したように、本実施例では、凹版印刷
に用いられる凹版の原版をエッチング法により製造する
場合に、鉄製の基板1上に凹部としてエッチングされる
金属層である銅−ニッケル合金層3を電気メッキ法によ
り形成するに際して、鉄製の基板1上にエッチングスト
ップ層としてニッケル層2を形成し、さらに当該ニッケ
ル層2上に銅−ニッケル合金層3を、当該銅とニッケル
との割合を下地層側から表面層側への厚さ方向にニッケ
ルの割合を順次増加させて形成することにより、銅−ニ
ッケル合金層3の組成を、下地層側から表面層側への厚
さ方向に、エッチングされ易い組成からエッチングされ
難い組成へと順次変化させて形成するようにしたもので
ある。
As described above, in the present embodiment, when an intaglio master used for intaglio printing is manufactured by an etching method, a copper-nickel alloy layer which is a metal layer etched as a recess on the iron substrate 1 is formed. In forming the layer 3 by electroplating, a nickel layer 2 is formed as an etching stop layer on an iron substrate 1, and a copper-nickel alloy layer 3 is further formed on the nickel layer 2, and the ratio of copper to nickel is determined. By gradually increasing the proportion of nickel in the thickness direction from the underlayer to the surface layer, the composition of the copper-nickel alloy layer 3 is changed in the thickness direction from the underlayer to the surface layer. The composition is formed by sequentially changing from a composition that is easily etched to a composition that is hardly etched.

【0016】従って、鉄製の基板1上に凹部としてエッ
チングされる銅−ニッケル合金層3の組成を、下地層側
から表面層側への厚さ方向に、エッチングされ易い組成
からエッチングされ難い組成へと順次変化させて形成さ
れるため、凹部のエッジがシャープな凹版を得ることが
可能となる。これにより、かかる凹版を用いて印刷をし
た時には、設計通りの線幅に近く、また図2に示すよう
に刷り上がりのインキの盛りが厚く、かつインキエッジ
がシャープで、さらに線形状もすっきりしたものとする
ことができる。尚、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、次のようにしても同様に実施できるもので
ある。
Accordingly, the composition of the copper-nickel alloy layer 3 etched as a recess on the iron substrate 1 is changed from a composition that is easily etched to a composition that is hardly etched in the thickness direction from the base layer side to the surface layer side. , And it is possible to obtain an intaglio plate in which the edge of the concave portion is sharp. As a result, when printing is performed using such an intaglio, the line width is close to the designed line width, and as shown in FIG. 2, the printed ink is thick, the ink edge is sharp, and the line shape is also clear. It can be. It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be similarly implemented in the following manner.

【0017】(a)上記実施例においては、凹部として
エッチングされる金属層を、電気メッキ法により形成す
る場合について説明したが、これに限らず無電気メッキ
法、あるいは気相メッキ法(例えば、蒸着、スパッタリ
ング、イオンプレーティング等)により形成することも
できるものである。ここで、特に気相メッキ法の場合に
は、合金層の組成をかなり自由に変えることができ、電
気メッキ法では無理な組み合わせとすることも可能であ
る。
(A) In the above embodiment, the case where the metal layer to be etched as the concave portion is formed by the electroplating method has been described. However, the present invention is not limited to this, and the electroless plating method or the vapor phase plating method (for example, Evaporation, sputtering, ion plating, etc.). Here, particularly in the case of the vapor phase plating method, the composition of the alloy layer can be changed quite freely, and an unreasonable combination can be made in the case of the electroplating method.

【0018】(b)上記実施例においては、凹部として
エッチングされる金属層を、銅−ニッケルの合金層3に
より形成する場合について説明したが、これに限らず他
の合金層により形成することもできるものである。例え
ば、電気メッキ法によって、銅(Cu)と、ニッケル
(Ni)、コバルト(Co)、鉄(Fe)、スズ(S
n)、亜鉛(Zn)のうちの少なくとも一つとの合金
層、さらに鉄(Fe)またはコバルト(Co)と、タン
グステン(W)またはモリブデン(Mo)のうちの少な
くとも一つとの合金層により形成することもできる。ま
た、気相メッキ法によって、銅(Cu)と、銀(A
g)、クロム(Cr)、スズ(Sn)のうちの少なくと
も一つとの合金層、さらにクロム(Cr)と、鉄(F
e)、ニッケル(Ni)、スズ(Sn)のうちの少なく
とも一つとの合金層により形成することもできる。
(B) In the above embodiment, the case where the metal layer to be etched as the concave portion is formed by the copper-nickel alloy layer 3 has been described. However, the present invention is not limited to this. You can do it. For example, copper (Cu), nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), tin (S
n), an alloy layer of at least one of zinc (Zn), and an alloy layer of iron (Fe) or cobalt (Co) and at least one of tungsten (W) or molybdenum (Mo). You can also. Further, copper (Cu) and silver (A
g), an alloy layer with at least one of chromium (Cr) and tin (Sn), and further, chromium (Cr) and iron (F
e), an alloy layer with at least one of nickel (Ni) and tin (Sn).

【0019】(c)上記実施例においては、エッチング
ストップ層をニッケル層により形成する場合について説
明したが、これに限らず他の金属や合金の層により形成
することもできるものである。例えば、スズ(Sn)と
ニッケル(Ni)との合金層、金(Au)層、銀(A
g)層、リン(P)とニッケル(Ni)、コバルト(C
o)、鉄(Fe)のうちの少なくとも一つとの合金層に
より形成することもできる。なお、エッチングストップ
層は、印刷後のインキの断面形状を図に示す如く、上面
がなるべく平坦であることが望ましい場合において用い
ることが有効である。その要求がない場合は、設けなく
てもかまわない。
(C) In the above embodiment, the case where the etching stop layer is formed of a nickel layer has been described. However, the present invention is not limited to this, and the etching stop layer may be formed of another metal or alloy layer. For example, an alloy layer of tin (Sn) and nickel (Ni), a gold (Au) layer, and a silver (A
g) layer, phosphorus (P) and nickel (Ni), cobalt (C)
o) and an alloy layer with at least one of iron (Fe). It is effective to use the etching stop layer when it is desirable that the upper surface be as flat as possible, as shown in the figure for the cross-sectional shape of the ink after printing. If there is no such request, it may not be provided.

【0020】(d)上記実施例においては、エッチング
液として塩化第二鉄液を用いる場合について説明した
が、これに限らず例えば銅−ニッケル合金層に対して
は、過硫酸アンモン系エッチング液(銅の方がニッケル
よりもエッチングされ易いエッチング液である)を用い
ることもできるものである。
(D) In the above embodiment, the case where a ferric chloride solution is used as an etching solution has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, for a copper-nickel alloy layer, an ammonium persulfate-based etching solution ( Copper is an etchant that is more easily etched than nickel).

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、凹
版印刷に用いられる凹版の原版をエッチング法により製
造する方法において、基板上に凹部としてエッチングさ
れる金属層をメッキ法により形成するに際して、金属層
の組成を、下地層側から表面層側への厚さ方向に、エッ
チングされ易い組成からエッチングされ難い組成へと順
次変化させて形成するようにしたので、パターンの形成
が容易なエッチング法によって凹部のエッジがシャープ
な凹版を得ることができ、印刷への用途が限定されるこ
とがない極めて信頼性の高い凹版の製造方法が提供でき
る。
As described above, according to the present invention, in a method of manufacturing an intaglio original plate used for intaglio printing by an etching method, a method of forming a metal layer to be etched as a concave portion on a substrate by a plating method. The composition of the metal layer is changed in the thickness direction from the base layer side to the surface layer side sequentially from a composition that is easy to be etched to a composition that is difficult to be etched. According to the method, an intaglio having a sharp edge of the concave portion can be obtained, and an extremely reliable method for producing an intaglio without limiting the application to printing can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による凹版の製造方法の一実施例を示す
断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a method for producing an intaglio according to the present invention.

【図2】同実施例におけるインキ印刷時の状態の一例を
示す図。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a state during ink printing in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…鉄製の基板、2…ニッケル層、3…銅−ニッケル合
金層、4…エッチングレジスト、5…クロムメッキ。
1. Iron substrate, 2. Nickel layer, 3. Copper-nickel alloy layer, 4. Etching resist, 5. Chrome plating.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮崎 秀夫 東京都台東区台東一丁目5番1号 凸版 印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−69395(JP,A) 特開 昭58−191195(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41N 1/06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Hideo Miyazaki 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. (56) References JP-A-3-69395 (JP, A) JP-A Sho58 −191195 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) B41N 1/06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 凹版印刷に用いられる凹版の原版をエッ
チング法により製造する方法において、基板上に凹部と
してエッチングされる金属層をメッキ法により形成する
に際して、前記金属層の組成を、下地層側から表面層側
への厚さ方向に、エッチングされ易い組成からエッチン
グされ難い組成へと順次変化させて形成するようにした
ことを特徴とする凹版の製造方法。
In a method of manufacturing an intaglio master used for intaglio printing by an etching method, when forming a metal layer to be etched as a concave portion on a substrate by a plating method, the composition of the metal layer is changed to the underlayer side. A method of manufacturing an intaglio, characterized in that the composition is formed by sequentially changing a composition that is easily etched from a composition that is hardly etched in a thickness direction from the surface layer to the surface layer side.
【請求項2】 基板上にエッチングストップ層としてニ
ッケル層またはニッケル合金層を形成し、さらに当該エ
ッチングストップ層上に銅とニッケルとの合金層を、当
該銅とニッケルとの割合を下地層側から表面層側への厚
さ方向にニッケルの割合を順次増加させて形成するよう
にしたことを特徴とする請求項1に記載の凹版の製造方
法。
2. A nickel layer or a nickel alloy layer is formed as an etching stop layer on a substrate, and further, an alloy layer of copper and nickel is formed on the etching stop layer, and a ratio of the copper and nickel is determined from a base layer side. 2. The method according to claim 1, wherein the ratio of nickel is gradually increased in the thickness direction toward the surface layer.
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