JP2984092B2 - Method for producing propylene-ethylene block copolymer - Google Patents

Method for producing propylene-ethylene block copolymer

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JP2984092B2
JP2984092B2 JP3162973A JP16297391A JP2984092B2 JP 2984092 B2 JP2984092 B2 JP 2984092B2 JP 3162973 A JP3162973 A JP 3162973A JP 16297391 A JP16297391 A JP 16297391A JP 2984092 B2 JP2984092 B2 JP 2984092B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はプロピレン−エチレンブ
ロック共重合体の製造方法に関し、より詳しくは、耐衝
撃性と剛性のバランスに優れ、かつポリマーの落下速度
の大なるプロピレン−エチレンブロック共重合体を製造
する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a propylene-ethylene block copolymer, and more particularly, to a propylene-ethylene block copolymer having a good balance between impact resistance and rigidity and a high polymer falling speed. The present invention relates to a method for producing a coalescence.

【0002】[0002]

【従来の技術】さまざまな種類の高立体規則性触媒を用
いて製造される高結晶性ポリプロピレンは、剛性や耐熱
性に優れていることから、近年需要が急増している。し
かしながら、これらの性質も、使用目的によっては未だ
不十分であり、剛性を改良する方法が種々提案されてい
るが、それらの多くはポリプロピレンに核剤等を添加す
るなどの後処理を施す方法である。従って、プロセス面
でコスト高である上、添加剤によっては成形品の外観を
損うものもある。添加剤による処理なしで、重合方法に
より剛性を改良する方法も提案されているが、いずれも
剛性は不十分である。さらに、ポリプロピレンは本来、
耐衝撃強度が低いという欠点を有するため、エチレンな
ど他のオレフィンと共重合することによって耐衝撃性を
改良する方法が広く行われている。この方法により耐衝
撃性は向上するが、それに伴って剛性が低下する。そこ
でプロピレンと他のオレフィンの重合比を変えながら段
階的に重合する方法、すなわち多段重合を行うことによ
り、共重合体の剛性と耐衝撃性の物性バランスを改良す
る方法が種々提案されている。しかし、これらの方法に
よっても、十分にすぐれた物性バランスは得られない。
2. Description of the Related Art In recent years, the demand for highly crystalline polypropylene produced by using various kinds of highly stereoregular catalysts has been rapidly increasing because of its excellent rigidity and heat resistance. However, these properties are still inadequate depending on the purpose of use, and various methods for improving rigidity have been proposed, but most of them are methods in which post-treatment such as adding a nucleating agent to polypropylene is performed. is there. Therefore, the cost is high in the process, and some additives impair the appearance of the molded product. A method of improving rigidity by a polymerization method without treatment with an additive has also been proposed, but none of these methods has insufficient rigidity. In addition, polypropylene is inherently
Because of the drawback of low impact strength, methods for improving impact resistance by copolymerizing with other olefins such as ethylene are widely used. Although the impact resistance is improved by this method, the rigidity is reduced accordingly. Therefore, various methods have been proposed in which polymerization is performed stepwise while changing the polymerization ratio of propylene and other olefins, that is, a method of improving the balance between rigidity and impact resistance of the copolymer by performing multistage polymerization. However, even with these methods, a sufficiently good balance of physical properties cannot be obtained.

【0003】また、従来のプロピレンエチレンとブロッ
ク共重合により生成されるポリマーのパウダーは、時と
してすべり性が悪化し、それが原因となって反応器から
移送する工程で閉塞トラブルを生じることがあった。こ
のため、共重合段の組成比あるいはエチレン含有量を減
少させるなどの措置を余儀なくされ、生成ポリマーが目
的の物性値を満たさないなどの弊害が生じることがあ
る。
[0003] Further, the conventional powder of polymer produced by block copolymerization with propylene ethylene sometimes deteriorates in slipperiness, which may cause a blockage trouble in the step of transferring from the reactor. Was. For this reason, measures such as reducing the composition ratio or ethylene content of the copolymerization stage are inevitable, and adverse effects may occur such that the produced polymer does not satisfy the desired physical properties.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、より効果的
に耐衝撃性と剛性のバランスに優れ、かつポリマーの落
下速度が大きく、すべり性の改良されたプロピレン−エ
チレンブロック共重合体を製造する方法を提供すること
を目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is to produce a propylene-ethylene block copolymer having more excellent balance between impact resistance and rigidity, a high polymer falling speed, and improved slipperiness. The purpose is to provide a way to:

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
行った結果、特定の有機珪素化合物をプロピレンとエチ
レンの共重合時に添加する重合方法を採用することによ
って、本発明の目的が達成しうることを見出すに至っ
た。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have achieved the object of the present invention by adopting a polymerization method in which a specific organic silicon compound is added during the copolymerization of propylene and ethylene. I have come up with something that I can do.

【0006】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、 (A)マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子供与性
化合物を必須成分とする固体触媒成分、 (B)有機金属化合物及び (C)Si−O−C結合を有する有機珪素化合物 からなる重合触媒の存在下、(1)プロピレンを重合し
て高結晶性ポリプロピレンを製造する工程(a)及び
(2)プロピレンとエチレンを共重合する工程(b)か
らなるプロピレン−エチレンブロック共重合体を製造す
る方法において、該工程(b)を、更に下記一般式の有
機珪素化合物の存在下行うことを特徴とするプロピレン
−エチレンブロック共重合体の製造法にある: (D)一般式
The gist of the present invention is that (A) a solid catalyst component containing magnesium, titanium, halogen and an electron donating compound as essential components, (B) an organometallic compound, and (C) Si—O— In the presence of a polymerization catalyst comprising an organic silicon compound having a C bond, (a) from the step (a) of polymerizing propylene to produce a highly crystalline polypropylene and (2) the step (b) of copolymerizing propylene with ethylene In the method for producing a propylene-ethylene block copolymer, wherein the step (b) is further performed in the presence of an organosilicon compound represented by the following general formula. : (D) General formula

【化2】 〔但し、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環
式炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の脂肪族若しく
は脂環式炭化水素基又はR4 O、R3 はメチル基若しく
はエチル基であり、xは1若しくは2、yは0若しくは
1、zは2若しくは3、x+y+z=4、R4 はR1
同意義である〕。
Embedded image [However, R 1 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, R 2 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or R 4 O, R 3 is A methyl group or an ethyl group, x is 1 or 2, y is 0 or 1, z is 2 or 3, x + y + z = 4, and R 4 is the same as R 1 ].

【0007】固体触媒成分 本発明で用いられる触媒(以下本発明の触媒という)の
一成分である固体触媒成分(以下、成分Aという)は、
マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子供与性化合物
を必須成分とするが、このような成分は通常マグネシウ
ム化合物、チタン化合物及び電子供与性化合物、更に前
記各化合物がハロゲンを有しない化合物の場合は、ハロ
ゲン含有化合物を、それぞれ接触することにより調製さ
れる。
Solid catalyst component A solid catalyst component (hereinafter referred to as component A), which is one component of the catalyst used in the present invention (hereinafter referred to as the catalyst of the present invention), comprises:
Magnesium, titanium, halogen and an electron donating compound are essential components. Such components are usually magnesium compounds, titanium compounds and electron donating compounds, and when each of the above compounds has no halogen, it contains halogen. The compounds are prepared by contacting each.

【0008】(1)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式MgR1 2 で表わされ
る。式において、R1及びR2 は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、R1 及びR2 の炭化水素基としては、炭
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
(1) Magnesium compound The magnesium compound is represented by the general formula MgR 1 R 2 . In the formula, R 1 and R 2 represent the same or different hydrocarbon groups, OR groups (R is a hydrocarbon group), and halogen atoms.
More specifically, as the hydrocarbon group of R 1 and R 2 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group is used. 12 alkyl groups, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group is chlorine as a halogen atom,
Bromine, iodine, fluorine and the like.

【0009】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr :プ
ロピル、Bu:ブチル、He:ヘキシル、Oct:オク
チル、Ph:フェニル、cyHe:シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。MgMe2 ,MgEt2 , Mgi−P
2 , MgBu2 ,MgHe2 ,MgOct2 ,MgE
tBu,MgPh2 ,MgcyHe2 ,Mg(OMe)
2 ,Mg(OEt)2 ,Mg(OBu)2 ,Mg(OH
e)2 ,Mg(OOct)2 ,Mg(OPh)2 ,Mg
(OcyHe)2 , EtMgCl,BuMgCl,He
MgCl,i−BuMgCl,t−BuMgCl,Ph
MgCl,PhCH2 MgCl,EtMgBr,BuM
gBr,PhMgBr,BuMgI,EtMgCl,B
uOMgCl,HeOMgCl,PhOMgCl,Et
OMgBr,BuOMgBr,EtOMgI,MgCl
2 ,MgBr2 ,MgI2
Specific examples of these compounds are shown below. In the chemical formula, Me: methyl, Et: ethyl, Pr: propyl, Bu: butyl, He: hexyl, Oct: octyl, Ph: phenyl, and cyHe: cyclohexyl Show. MgMe 2 , MgEt 2 , Mgi-P
r 2 , MgBu 2 , MgHe 2 , MgOct 2 , MgE
tBu, MgPh 2 , MgcyHe 2 , Mg (OMe)
2 , Mg (OEt) 2 , Mg (OBu) 2 , Mg (OH
e) 2 , Mg (OOct) 2 , Mg (OPh) 2 , Mg
(OcyHe) 2 , EtMgCl, BuMgCl, He
MgCl, i-BuMgCl, t-BuMgCl, Ph
MgCl, PhCH 2 MgCl, EtMgBr, BuM
gBr, PhMgBr, BuMgI, EtMgCl, B
uOMgCl, HeOMgCl, PhOMgCl, Et
OMgBr, BuOMgBr, EtOMgl, MgCl
2 , MgBr 2 , MgI 2 .

【0010】上記マグネシウム化合物は、成分Aを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
n M(OR) m-n のアルコキシ基含有化合物〔式にお
いて、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20
個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミニウム、珪素
又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、mは
Mの原子価、m>n≧0を示す。〕を接触させる方法が
挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のX及
びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エチル
(Et) 、プロピル、(Pr)、i−プロピル(i−P
r) 、ブチル(Bu) 、i−ブチル(i−Bu) 、ヘキ
シル(He)、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、3−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
The above magnesium compound can be prepared from metallic magnesium or another magnesium compound when preparing component A. Examples thereof include metallic magnesium, halogenated hydrocarbons and alkoxy group-containing compounds of the general formula X n M (OR) mn wherein X is a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1-20
Hydrocarbon groups, M is a boron, carbon, aluminum, silicon or phosphorus atom, R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, m is a valence of M, and m> n ≧ 0. ] Is contacted. Examples of the hydrocarbon group of X and R in the general formula of the alkoxy group-containing compound include methyl (Me), ethyl (Et), propyl, (Pr), and i-propyl (i-P
r), alkyl groups such as butyl (Bu), i-butyl (i-Bu), hexyl (He) and octyl (Oct); cycloalkyl groups such as cyclohexyl (cyHe) and methylcyclohexyl; allyl, propenyl, butenyl and the like. Phenyl (Ph), tolyl, aryl groups such as xylyl group, phenethyl, aralkyl such as 3-phenylpropyl and the like. Among these, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is particularly desirable. Hereinafter, specific examples of the alkoxy group-containing compound will be described.

【0011】Mが炭素の場合の化合物 式 C(OR)4 に含まれるC(OMe)4 ,C(OE
t)4 , C(OPr) 4 , C(OBu)4 , C(Oi−
Bu)4 ,C(OHe)4 , C(OOct)4:式 X
C(OR)3 に含まれるHC(OMe)3 , HC(OE
t)3 ,HC(OPr)3 , HC(OBu)3 ,HC
(OHe)3 , HC(OPh)3 ;MeC(OM
e)3 , MeC(OEt)3 ,EtC(OMe)3 ,E
tC(OEt)3,cyHeC(OEt)3 , PhC
(OMe)3 ,PhC(OEt)3 ,CH2ClC(O
Et)3 ,MeCHBrC(OEt)3 , MeCHCl
C(OEt) 3 ;ClC(OMe)3 ,ClC(OE
t)3 ,ClC(Oi−Bu)3 ,BrC(OE
t)3 ;式 X2 C(OR)2 に含まれるMeCH(O
Me)2 , MeCH(OEt)2 , CH2 (OM
e)2 , CH2 (OEt)2 ,CH2 ClCH(OE
t)2 ,CHCl2 CH(OEt)2 ,CCl3 CH
(OEt)2 ,CH 2 BrCH(OEt)2 ,PhCH
(OEt)2
Compounds wherein M is carbon Formula C (OR)Four(OMe) contained inFour, C (OE
t)Four, C (OPr) Four, C (OBu)Four, C (Oi-
Bu)Four, C (OHe)Four, C (OOct)Four: Formula X
C (OR)Three(OMe) contained inThree, HC (OE
t)Three, HC (OPr)3,HC (OBu)Three, HC
(OHe)Three, HC (OPh)ThreeMeC (OM
e)Three, MeC (OEt)Three, EtC (OMe)Three , E
tC (OEt)Three, CyHeC (OEt)Three, PhC
(OMe)Three, PhC (OEt)Three, CHTwoClC (O
Et)Three, MeCHBrC (OEt)Three, MeCHCl
C (OEt) Three; ClC (OMe)Three, ClC (OE
t)Three, ClC (Oi-Bu)Three, BrC (OE
t)ThreeFormula XTwoC (OR)TwoMeCH (O
Me)Two, MeCH (OEt)Two, CHTwo(OM
e)Two, CHTwo(OEt)Two, CHTwoClCH (OE
t)Two, CHClTwoCH (OEt)Two, CClThreeCH
(OEt)Two, CH TwoBrCH (OEt)Two, PhCH
(OEt)Two.

【0012】Mが珪素の場合の化合物 式 Si(OR)4 に含まれるSi(OMe)4 ,Si
(OEt)4 ,Si(OBu)4 ,Si(Oi−Bu)
4 ,Si(OHe)4 ,Si(OOct)4 ,Si(O
Ph)4 :式 XSi(OR)3 に含まれるHSi(O
Et)3 ,HSi(OBu)3 ,HSi(OHe)3
HSi(OPh)3 ;MeSi(OMe)3 ,MeSi
(OEt)3 ,MeSi(OBu)3 ,EtSi(OE
t)3 ,PhSi(OEt)3 ,EtSi(OP
h)3 ;ClSi(OMe)3 ,ClSi(OE
t)3 ,ClSi(OBu)3 ,ClSi(OP
h)3 ,BrSi(OEt)3 ;式 X2 Si(OR)
2 に含まれるMe2 Si(OMe)2 ,Me2Si(O
Et)2 ,Et2 Si(OEt)2 ;MeClSi(O
Et)2 ;CHCl2 SiH(OEt)2 ;CCl3
iH(OEt)2 ;MeBeSi(OEt)2 :X3
iORに含まれるMe3 SiOMe,Me3 SiOE
t,Me3SiOBu,Me3 SiOPh,Et3 Si
OEt,Ph3 SiOEt。
Compound when M is silicon Si (OMe) 4 , Si contained in formula Si (OR) 4
(OEt) 4 , Si (OBu) 4 , Si (Oi-Bu)
4 , Si (OHe) 4 , Si (OOct) 4 , Si (O
Ph) 4 : HSi (O) contained in the formula XSi (OR) 3
Et) 3 , HSi (OBu) 3 , HSi (OHe) 3 ,
HSi (OPh) 3 ; MeSi (OMe) 3 , MeSi
(OEt) 3 , MeSi (OBu) 3 , EtSi (OE
t) 3 , PhSi (OEt) 3 , EtSi (OP
h) 3 ; ClSi (OMe) 3 , ClSi (OE
t) 3 , ClSi (OBu) 3 , ClSi (OP
h) 3 , BrSi (OEt) 3 ; Formula X 2 Si (OR)
2 contained in Me 2 Si (OMe) 2 , Me 2 Si (O
Et) 2 , Et 2 Si (OEt) 2 ; MeClSi (O
Et) 2 ; CHCl 2 SiH (OEt) 2 ; CCl 3 S
iH (OEt) 2 ; MeBeSi (OEt) 2 : X 3 S
Me 3 SiOMe, Me 3 SiOE contained in iOR
t, Me 3 SiOBu, Me 3 SiOPh, Et 3 Si
OEt, Ph 3 SiOEt.

【0013】Mが硼素の場合の化合物 式 B(OR)3 に含まれるB(OEt)3 ,B(OB
u)3 , B(OHe)3 ,B(OPh)3
Compound when M is boron B (OEt) 3 , B (OB) contained in formula B (OR) 3
u) 3 , B (OHe) 3 , B (OPh) 3 .

【0014】Mがアルミニウムの場合の化合物 式 Al(OR)3 に含まれるAl(OMe)3 ,Al
(OEt)3 ,Al(OPr)3 ,Al(Oi−Pr)
3 ,Al(OBu)3 ,Al(Ot−Bu)3,Al
(OHe)3 ,Al(OPh)3
Compound when M is aluminum Al (OMe) 3 , Al contained in formula Al (OR) 3
(OEt) 3 , Al (OPr) 3 , Al (Oi-Pr)
3 , Al (OBu) 3 , Al (Ot-Bu) 3 , Al
(OHe) 3 , Al (OPh) 3 .

【0015】Mが燐の場合の化合物 式 P(OR)3 に含まれるP(OMe)3 , P(OE
t)3 , P(OBu) 3 ,P(OHe)3 ,P(OP
h)3
Compound where M is phosphorus Formula P (OR)Three(OMe) contained inThree, P (OE
t)Three, P (OBu) Three, P (OHe)Three, P (OP
h)Three.

【0016】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIa族金属(M)の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 MgR1
2 ・n(MR3 m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3 は炭素数
1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、mは金属Mの原子価
を、nは0.1〜10の数を示す。MR3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、AlMe3 , AlEt3
Ali−Bu3 ,AlPh3 ,ZnMe2 ,ZnE
2 ,ZnBu2 ,ZnPh2 ,CaEt2 ,CaPh
2 等が挙げられる。
Further, as the magnesium compound, a complex with an organic compound of a metal (M) of Group II or IIIa of the periodic table can be used. The complex has the general formula MgR 1 R
2 · n (MR 3 m ). Examples of the metal include aluminum, zinc, and calcium, and R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. M represents the valence of the metal M, and n represents a number of 0.1 to 10. Specific examples of the compound represented by MR 3 m include AlMe 3 , AlEt 3 ,
Ali-Bu 3, AlPh 3, ZnMe 2, ZnE
t 2 , ZnBu 2 , ZnPh 2 , CaEt 2 , CaPh
And the like.

【0017】(3)チタン化合物 チタン化合物は、三価及び四価のチタン化合物であり、
それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チタン、ト
リクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシチタン、
ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキシチタ
ン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエトキシ
チタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブトキシチ
タン、三塩化チタン等を挙げることができる。これらの
中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタン、ジ
クロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシチタン
等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に四塩化
チタンが望ましい。
(3) Titanium compound Titanium compounds are trivalent and tetravalent titanium compounds,
To illustrate them, titanium tetrachloride, titanium tetrabromide, trichloroethoxy titanium, trichlorobutoxy titanium,
Examples thereof include dichlorodiethoxytitanium, dichlorodibutoxytitanium, dichlordiphenoxytitanium, chlorotriethoxytitanium, chlorotributoxytitanium, tetrabutoxytitanium, and titanium trichloride. Among these, tetravalent titanium halides such as titanium tetrachloride, trichloroethoxytitanium, dichlorodibutoxytitanium and dichlorodiphenoxytitanium are desirable, and titanium tetrachloride is particularly desirable.

【0018】(4)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。
(4) Electron-donating compounds The electron-donating compounds include carboxylic acids, carboxylic anhydrides, carboxylic esters, carboxylic halides, alcohols, ethers, ketones, amines,
Examples include amides, nitriles, aldehydes, alcoholates, phosphorus, arsenic, and antimony compounds bonded to an organic group via carbon or oxygen, phosphoamides, thioethers, thioesters, and carbonate esters. Of these, carboxylic acids, carboxylic anhydrides, carboxylic esters, carboxylic halides, alcohols and ethers are preferably used.

【0019】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。
Specific examples of carboxylic acids include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, caproic acid, pivalic acid, acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid, and malonic acid. , Succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, maleic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as fumaric acid, aliphatic oxycarboxylic acids such as tartaric acid, cyclohexane monocarboxylic acid, cyclohexene monocarboxylic acid, cis-1,2- Cyclohexanedicarboxylic acid, cis-4-methylcyclohexene-1,
Alicyclic carboxylic acids such as 2-dicarboxylic acid, benzoic acid, toluic acid, anisic acid, p-tert-butyl benzoic acid, naphthoic acid, aromatic monocarboxylic acids such as cinnamic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Terephthalic acid, naphthalic acid, trimellitic acid, hemimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid,
And aromatic polycarboxylic acids such as melitic acid. As the carboxylic acid anhydride, the acid anhydrides of the above carboxylic acids can be used.

【0020】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、p−トルイル酸メチル、p
−第三級ブチル安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。
As the carboxylic acid ester, mono- or polyvalent esters of the above carboxylic acids can be used. Specific examples thereof include butyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl isobutyrate, propyl pivalate, and pivalic acid. Isobutyl, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, diethyl malonate, diisobutyl malonate, diethyl succinate, dibutyl succinate, diisobutyl succinate, diethyl glutarate, dibutyl glutarate, diisobutyl glutarate, Diisobutyl adipate, dibutyl sebacate, diisobutyl sebacate, diethyl maleate, dibutyl maleate, diisobutyl maleate,
Monomethyl fumarate, diethyl fumarate, diisobutyl fumarate, diethyl tartrate, dibutyl tartrate, diisobutyl tartrate, ethyl cyclohexanecarboxylate, methyl benzoate, ethyl benzoate, methyl p-toluate, p
-Tert-butyl ethyl benzoate, ethyl p-anisate,
α-ethyl ethyl naphthoate, isobutyl α-naphthoate, ethyl cinnamate, monomethyl phthalate, monobutyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, phthalic acid Diallyl, diphenyl phthalate, diethyl isophthalate, diisobutyl isophthalate, diethyl terephthalate, dibutyl terephthalate, diethyl naphthalate, dibutyl naphthalate, triethyl trimellitate, tributyl trimellitate, tetramethyl pyromellitate, tetraethyl pyromellitate, tetraethyl pyromellitate And the like.

【0021】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイ
ル酸ブロミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
As the carboxylic acid halide, acid halides of the above carboxylic acids can be used.
Specific examples thereof include acetate chloride, acetate bromide, acetate iodide, propionate chloride, butyrate chloride,
Butyric acid bromide, Butyric acid iodide, Pivalic acid chloride, Pivalic acid bromide, Acrylic acid chloride, Acrylic acid bromide, Acrylic acid iodide, Methacrylic acid chloride, Methacrylic acid bromide, Methacrylic acid iodide, Crotonic acid chloride, Malonic acid chloride, Malonic acid bromide, Succinic chloride, succinic bromide,
Glutaric acid chloride, glutaric acid bromide, adipic acid chloride, adipic acid bromide, sebacic acid chloride,
Sebacic acid bromide, maleic acid chloride, maleic acid bromide, fumaric acid chloride, fumaric acid bromide, tartaric acid chloride, tartaric acid bromide, cyclohexanecarboxylic acid chloride, cyclohexanecarboxylic acid bromide, 1-
Cyclohexenecarboxylic acid chloride, cis-4-methylcyclohexenecarboxylic acid chloride, cis-4-methylcyclohexenecarboxylic acid bromide, benzoyl chloride,
Benzoyl bromide, p-toluic acid chloride, p-toluic acid bromide, p-anisic acid chloride, p-anisic acid bromide, α-naphthoic acid chloride, cinnamic acid chloride,
Examples include cinnamic acid bromide, phthalic acid dichloride, phthalic acid dibromide, isophthalic acid dichloride, isophthalic acid dibromide, terephthalic acid dichloride, and naphthalic acid dichloride. Further, monoalkyl halides of dicarboxylic acids such as adipic acid monomethyl chloride, maleic acid monoethyl chloride, maleic acid monomethyl chloride and phthalic acid butyl chloride can also be used.

【0022】アルコール類は、一般式 ROHで表わさ
れる。式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、p−ターシャリーブチルフェノール、
n−オクチルフェノール等である。エーテル類は、一般
式ROR1 で表わされる。式においてR,R1 は炭素数
1〜12個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリール、アルアルキルであり、RとR1 は同じでも異
ってもよい。その具体例としては、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブ
チルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジ−2−エチル
ヘキシルエーテル、ジアリルエーテル、エチルアリルエ
ーテル、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエーテル、
アニソール、エチルフェニルエーテル等である。
Alcohols are represented by the general formula ROH. In the formula, R is alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl, aralkyl having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples include methanol, ethanol,
Propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, pentanol, hexanol, octanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, allyl alcohol, phenol, cresol, xylenol, ethylphenol, isopropylphenol, p-tert-butylphenol,
and n-octylphenol. Ethers represented by the general formula ROR 1. In the formula, R and R 1 are alkyl, alkenyl, cycloalkyl having 1 to 12 carbons,
Aryl and aralkyl, and R and R 1 may be the same or different. Specific examples thereof include diethyl ether,
Diisopropyl ether, dibutyl ether, diisobutyl ether, diisoamyl ether, di-2-ethylhexyl ether, diallyl ether, ethyl allyl ether, butyl allyl ether, diphenyl ether,
Anisole, ethyl phenyl ether and the like.

【0023】成分Aの調製法としては、マグネシウム
化合物(成分1)、チタン化合物(成分2)及び電子供
与性化合物(成分3)をその順序に接触させる。成分
1と成分3を接触させた後、成分2を接触させる。成
分1,成分2及び成分3を同時に接触させる等の方法が
採用し得る。又、成分2を用いて接触させる前にハロゲ
ン含有化合物と接触させることもできる。
As a method for preparing component A, a magnesium compound (component 1), a titanium compound (component 2) and an electron donating compound (component 3) are contacted in that order. After contacting component 1 with component 3, component 2 is contacted. A method of simultaneously contacting the component 1, the component 2, and the component 3 can be adopted. It is also possible to contact with a halogen-containing compound before contacting with component 2.

【0024】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIa族、IVa
族、Va族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドと
いう。)等が挙げられる。
Examples of the halogen-containing compound include halogenated hydrocarbons, halogen-containing alcohols, silicon halide compounds having a hydrogen-silicon bond, groups IIa and IVa of the periodic table.
And halides of Group Va elements (hereinafter referred to as metal halides).

【0025】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜
12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロルエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン、1,1,2,
2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、p−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。
Halogenated hydrocarbons include those having 1 to 1 carbon atoms.
Mono- and poly-halogen substituents of 12 saturated or unsaturated aliphatic, cycloaliphatic and aromatic hydrocarbons. Specific examples of such compounds include, for aliphatic compounds, methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, methylene chloride, methylene bromide, methylene iodide, chloroform, bromoform, iodoform, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, Carbon iodide, ethyl chloride, ethyl bromide, ethyl iodide, 1,2-
Dichloroethane, 1,2-dibromoethane, 1,2-diiodoethane, methylchloroform, methylbromoform, methyliodoform, 1,1,2-trichloroethylene, 1,1,2-tribromoethylene, 1,1,2,2
2-tetrachloroethylene, pentachloroethane, hexachloroethane, hexabromoethane, n-propyl chloride, 1,2-dichloropropane, hexachloropropylene, octachloropropane, decabromobutane,
Chlorinated paraffins are chlorocyclopropane, tetrachlorocyclopentane, hexachlorocyclopentagen, and hexachlorocyclohexane for alicyclic compounds, and chlorobenzene, bromobenzene, o-
Examples thereof include dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, hexachlorobenzene, hexabromobenzene, benzotrichloride, p-chlorobenzotrichloride and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0026】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。
As the halogen-containing alcohol, one or two or more hydrogen atoms other than a hydroxyl group in a mono- or polyhydric alcohol having one or more hydroxyl groups in one molecule are substituted with a halogen atom. Means a compound. Examples of the halogen atom include chlorine, bromine, iodine and fluorine atoms, and a chlorine atom is preferable.

【0027】それら化合物を例示すると、2−クロルエ
タノール、1−クロル−2−プロパノール、3−クロル
−1−プロパノール、1−クロル−2−メチル−2−プ
ロパノール、4−クロル−1−ブタノール、5−クロル
−1−ペンタノール、6−クロル−1−ヘキサノール、
3−クロル−1,2−プロパンジオール、2−クロルシ
クロヘキサノール、4−クロルベンズヒドロール、
(m,o,p)−クロルベンジルアルコール、4−クロ
ルカテコール、4−クロル−(m,o)−クレゾール、
6−クロル−(m,o)−クレゾール、4−クロル−
3,5−ジメチルフェノール、クロルハイドロキノン、
2−ベンジル−4−クロルフェノール、4−クロル−1
−ナフトール、(m,o,p)−クロルフェノール、p
−クロル−α−メチルベンジルアルコール、2−クロル
−4−フェニルフェノール、6−クロルチモール、4−
クロルレゾルシン、2−ブロムエタノール、3−ブロム
−1−プロパノール、1−ブルム−2−プロパノール、
1−ブロム−2−ブタノール、2−ブロム−p−クレゾ
ール、1−ブロム−2−ナフトール、6−ブロム−2−
ナフトール、(m,o,p)−ブロムフェノール、4−
ブロムレゾルシン、(m,o,p)−フロロフェノー
ル、p−イオドフェノール:2,2−ジクロルエタノー
ル、2,3−ジクロル−1−プロパノール、1,3−ジ
クロル−2−プロパノール、3−クロル−1−(α−ク
ロルメチル)−1−プロパノール、2,3−ジブロム−
1−プロパノール、1,3−ジブロム−2−プロパノー
ル、2,4−ジブロムフェノール、2,4−ジブロム−
1−ナフトール:2,2,2−トリクロルエタノール、
1,1,1−トリクロル−2−プロパノール、β,β,
β−トリクロル−tert−ブタノール、2,3,4−
トリクロルフェノール、2,4,5−トリクロルフェノ
ール、2,4,6−トリクロルフェノール、2,4,6
−トリブロムフェノール、2,3,5−トリブロム−2
−ヒドロキシトルエン、2,3,5−トリブロム−4−
ヒドロキシトルエン、2,2,2−トリフルオロエタノ
ール、α,α,α−トリフルオロ−m−クレゾール、
2,4,6−トリイオドフェノール:2,3,4,6−
テトラクロルフェノール、テトラクロルハイドロキノ
ン、テトラクロルビスフェノールA、テトラブロムビス
フェノールA、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−
プロパノール、2,3,5,6−テトラフルオロフェノ
ール、テトラフルオロレゾルシン等が挙げられる。
Examples of these compounds include 2-chloroethanol, 1-chloro-2-propanol, 3-chloro-1-propanol, 1-chloro-2-methyl-2-propanol, 4-chloro-1-butanol, 5-chloro-1-pentanol, 6-chloro-1-hexanol,
3-chloro-1,2-propanediol, 2-chlorocyclohexanol, 4-chlorobenzhydrol,
(M, o, p) -chlorobenzyl alcohol, 4-chlorocatechol, 4-chloro- (m, o) -cresol,
6-chloro- (m, o) -cresol, 4-chloro-
3,5-dimethylphenol, chlorohydroquinone,
2-benzyl-4-chlorophenol, 4-chloro-1
-Naphthol, (m, o, p) -chlorophenol, p
-Chloro-α-methylbenzyl alcohol, 2-chloro-4-phenylphenol, 6-chlorothymol, 4-
Chlorresorcin, 2-bromoethanol, 3-bromo-1-propanol, 1-bromo-2-propanol,
1-bromo-2-butanol, 2-bromo-p-cresol, 1-bromo-2-naphthol, 6-bromo-2-
Naphthol, (m, o, p) -bromophenol, 4-
Bromresorcin, (m, o, p) -fluorophenol, p-iodophenol: 2,2-dichloroethanol, 2,3-dichloro-1-propanol, 1,3-dichloro-2-propanol, 3- Chlor-1- (α-chloromethyl) -1-propanol, 2,3-dibromo-
1-propanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,4-dibromophenol, 2,4-dibromo-
1-naphthol: 2,2,2-trichloroethanol,
1,1,1-trichloro-2-propanol, β, β,
β-trichloro-tert-butanol, 2,3,4-
Trichlorophenol, 2,4,5-trichlorophenol, 2,4,6-trichlorophenol, 2,4,6
-Tribromophenol, 2,3,5-tribromo-2
-Hydroxytoluene, 2,3,5-tribromo-4-
Hydroxytoluene, 2,2,2-trifluoroethanol, α, α, α-trifluoro-m-cresol,
2,4,6-triiodophenol: 2,3,4,6-
Tetrachlorophenol, tetrachlorohydroquinone, tetrachlorobisphenol A, tetrabromobisphenol A, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-
Propanol, 2,3,5,6-tetrafluorophenol, tetrafluororesorcin and the like.

【0028】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、HSiCl3 ,H2SiCl2 ,H3
iCl,HCH3 SiCl2 , HC2 5 SiCl2
H(t−C4 9 )SiCl2 ,HC6 5 SiCl
2 , H(CH3 ) 2 SiCl,H(i−C3 7 2
iCl,H2 2 5 SiCl,H2 (n−C4 9
SiCl、H2 (C6 4 CH3 )SiCl、HSiC
l(C6 5 2 等が挙げられる。
Examples of the silicon halide compound having a hydrogen-silicon bond include HSiCl 3 , H 2 SiCl 2 , H 3 S
iCl, HCH 3 SiCl 2 , HC 2 H 5 SiCl 2 ,
H (t-C 4 H 9 ) SiCl 2, HC 6 H 5 SiCl
2, H (CH 3 ) 2 SiCl, H (i-C 3 H 7 ) 2 S
iCl, H 2 C 2 H 5 SiCl, H 2 (n-C 4 H 9)
SiCl, H 2 (C 6 H 4 CH 3 ) SiCl, HSiC
l (C 6 H 5 ) 2 and the like.

【0029】金属ハライドとしては、B,Al,Ga,
In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
iの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にBCl3 ,BBr3 , BI3 ,AlCl3 ,AlBr
3 , GaCl3 ,GaBr3, InCl3 ,TlC
3 ,SiCl4 ,SnCl4 ,SbCl5 ,SbF5
等が好適である。
As the metal halide, B, Al, Ga,
In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb, B
and i) chlorides, fluorides, bromides, and iodides, especially BCl 3 , BBr 3 , BI 3 , AlCl 3 , and AlBr.
3 , GaCl 3 , GaBr 3 , InCl 3 , TIC
l 3 , SiCl 4 , SnCl 4 , SbCl 5 , SbF 5
Etc. are preferred.

【0030】成分1,成分2及び成分3、更に必要に応
じて接触させることのできるハロゲン含有化合物との接
触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌す
るが、機械的に共粉砕することによりなされる。接触は
40〜150℃の加熱下で行うことができる。
The contact with the component 1, the component 2 and the component 3, and further with the halogen-containing compound which can be brought into contact, if necessary, is carried out by mixing and stirring in the presence or absence of an inert medium. This is done by co-milling. The contact can be performed under heating at 40 to 150 ° C.

【0031】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。
As the inert medium, saturated aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, saturated alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene can be used. .

【0032】本発明における成分Aの望ましい調製法
は、特開昭63−264607号、同58−19850
3号、同62−146904号公報等に開示されている
方法である。より詳細には、 (イ) 金属マグネシウム、(ロ)ハロゲン化炭化水
素、(ハ) 一般式Xn M(OR)m-n の化合物(前記の
アルコキシ基含有化合物と同じ)を接触させることによ
り得られるマグネシウム含有固体を(ニ) ハロゲン含有
アルコールと接触させ、次いで(ホ)電子供与性化合物
及び(ヘ) チタン化合物と接触させる方法(特開昭63
−264607号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ) 水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
(ニ)電子供与性化合物と接触させ(必要に応じて更に
ハロゲン化チタン化合物と接触させる)る方法(特開昭
62−146904号公報)、 (イ) マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、(ハ)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)
チタン化合物と接触させる方法(特開昭58−1985
03号公報)である。これらの内でも特にの方法が最
も望ましい。上記のようにして成分Aは調製されるが、
成分Aは必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよ
く、更に乾燥してもよい。
The preferred method for preparing component A in the present invention is described in JP-A-63-264607 and JP-A-58-19850.
No. 3, No. 62-146904 and the like. More specifically, it can be obtained by contacting (a) metal magnesium, (b) a halogenated hydrocarbon, and (c) a compound of the general formula X n M (OR) mn (the same as the above-mentioned alkoxy group-containing compound). A method of contacting a magnesium-containing solid with (d) a halogen-containing alcohol and then with (e) an electron-donating compound and (f) a titanium compound (JP-A-63
-264607), (a) magnesium dialkoxide and (b) hydrogen-
After contacting with a silicon halide compound having a silicon bond, (c) contact with a titanium halide compound, and then (d) contact with an electron donating compound (and further contact with a titanium halide compound as necessary) (A) magnesium dialkoxide and (b) hydrogen-
After contacting a silicon halide compound having a silicon bond, (c) contact with an electron donating compound, and then (d)
Method of contacting with a titanium compound (Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-1985)
03 publication). Of these, the particular method is most desirable. Component A is prepared as described above,
Component A may be washed with the above-mentioned inert medium, if necessary, and further dried.

【0033】又、成分Aは、更に有機アルミニウム化合
物の存在下、オレフィンと接触させて成分A中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。
The component A may further contain an olefin polymer formed in the component A upon contact with an olefin in the presence of an organoaluminum compound. The organoaluminum compound is selected from the below-mentioned organometallic compounds which are one component of the catalyst of the present invention.

【0034】オレフィンとしては、エチレンの他プロピ
レン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常100℃以下、望ましくは−10〜+
50℃の温度で行われる。成分A中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分Alg当り通常0.1〜10
0gである。
As the olefin, α-olefins such as propylene, 1-butene, 1-hexene and 4-methyl-1-pentene can be used in addition to ethylene. The contact with the olefin is preferably carried out in the presence of the above-mentioned inert medium. Contact is usually 100 ° C. or less, preferably -10 to +
It is performed at a temperature of 50 ° C. The amount of the olefin polymer contained in the component A is usually 0.1 to 10 per component Alg.
0 g.

【0035】成分Aとオレフィンの接触は、有機アルミ
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Aを調製させる際に用い
られる化合物およびSi−O−C結合もしくはSi−N
−C結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Aは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。
The contact between the component A and the olefin may be carried out in the presence of an electron donating compound together with the organoaluminum compound. The electron donating compound includes a compound used for preparing the component A and a Si—O—C bond or a Si—N
It is selected from organic silicon compounds having a -C bond. Component A, which has come into contact with the olefin, can be optionally washed with the above-mentioned inert medium and further dried.

【0036】有機金属化合物 有機金属化合物(以下成分Bという。)は、周期表第I
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分Bとし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式 Rn Al
3-n (但し、Rはアルキル基又はアリール基、Xはハ
ロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、nは1
≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示されるもので
あり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキルア
ルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウムジ
ハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジア
ルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルア
ルミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし18
個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキルアルミニ
ウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に好ま
しい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどの
トリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、
ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルア
ルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウム
ジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキル
アルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウムメ
トキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチル
アルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジイ
ソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハ
イドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキル
アルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。
又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上のアルミニウ
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能であ
る。そのような化合物としては、例えば
Organometallic compounds Organometallic compounds (hereinafter referred to as component B) are listed in the Periodic Table I.
Organic compounds of Group III or Group III metals. As component B, organic compounds of lithium, magnesium, calcium, zinc and aluminum can be used. Among these, an organoaluminum compound is particularly preferable. The organoaluminum compound may be used, the general formula R n Al
X 3-n (where R represents an alkyl group or an aryl group, X represents a halogen atom, an alkoxy group or a hydrogen atom, and n represents 1
It is an arbitrary number in the range of ≦ n ≦ 3. And C1 to C18 such as trialkylaluminum, dialkylaluminum monohalide, monoalkylaluminum dihalide, alkylaluminum sesquihalide, dialkylaluminum monoalkoxide and dialkylaluminum monohydride.
And preferably an alkylaluminum compound having 2 to 6 carbon atoms or a mixture or complex compound thereof. Specifically, trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, triisobutylaluminum, trialkylaluminum such as trihexylaluminum, dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, diethylaluminum bromide, diethylaluminum iodide,
Monoalkylaluminum dihalides such as dialkylaluminum monohalide such as diisobutylaluminum chloride, methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, methylaluminum dibromide, ethylaluminum dibromide, ethylaluminum diiodide, isobutylaluminum dichloride, and ethylaluminum sesquichloride Dialkyl aluminum monoalkoxides such as alkyl aluminum sesquihalide, dimethyl aluminum methoxide, diethyl aluminum ethoxide, diethyl aluminum phenoxide, dipropyl aluminum ethoxide, diisobutyl aluminum ethoxide, diisobutyl aluminum phenoxide, dimethyl aluminum hydride, diethyl Aluminum hydride, dipropyl aluminum hydride, dialkyl aluminum hydride such as diisobutyl aluminum hydride. Among these, trialkyl aluminum, particularly triethyl aluminum and triisobutyl aluminum are desirable. Further, these trialkylaluminums are other organic aluminum compounds, for example, diethylaluminum chloride, ethylaluminum dichloride, ethylaluminum sesquichloride, diethylaluminum ethoxide, diethylaluminum hydride, or mixtures or complex compounds thereof, which are easily available industrially. Etc. can be used in combination.
An organic aluminum compound in which two or more aluminum atoms are bonded via an oxygen atom or a nitrogen atom can also be used. Such compounds include, for example,

【化3】 等を例示できる。Embedded image Etc. can be exemplified.

【0037】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他LiAl(C
2 5 4 ,LiAl(C7 154 等の化合物が挙げ
られる。
Examples of organic compounds of metals other than aluminum metal include LiAl (C), such as diethyl magnesium, ethyl magnesium chloride, diethyl zinc and the like.
2 H 5) 4, LiAl ( C 7 H 15) compounds such as 4.

【0038】Si−O−C結合を有する有機珪素化合物
(以下、成分Cという。)としては、一般式Rn Si
(OR1 4-n 〔但し、Rは炭化水素基又はハロゲン原
子、R 1 は炭化水素基、0≦n≦3を示す。〕で表され
る化合物が挙げられる。上記一般式におけるRの炭化水
素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基、アルケニル基、アルカジエニル
基、シクロアルケニル基、シクロアルカジニル基等が挙
げられる。Rのハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨ
ウ素等が挙げられる。又、R1 の炭化水素基としてはア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル
基等が挙げられる。更に、n個のRの炭化水素と(4−
n)個のOR1 のR1 の炭化水素基は同じでも異なって
もよい。
Organic silicon compound having Si--O--C bond
(Hereinafter referred to as component C) represented by the general formula RnSi
(OR1)4-n[However, R is a hydrocarbon group or a halogen atom.
Child, R 1Represents a hydrocarbon group and 0 ≦ n ≦ 3. ]
Compounds. R hydrocarbon in the above general formula
As an alkyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl
Group, aralkyl group, alkenyl group, alkadienyl
Group, cycloalkenyl group, cycloalkazinyl group, etc.
I can do it. As the halogen atom for R, chlorine, bromine,
And urine. Also, R1As hydrocarbon groups of
Alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, alkenyl
And the like. Further, n hydrocarbons of R and (4-
n) ORs1R1Hydrocarbon groups are the same but different
Is also good.

【0039】成分Cの具体例としては、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラ
ン、テトライソブトキシシラン、テトラフェノキシシラ
ン、テトラ(p−メチルフェノキシ)シラン、シトラベ
ンジルオキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メ
チルトリフェノキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、エチルトリイソブトキシシラン、エチルトリフェノ
キシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエ
トキシシラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリ
フェノキシシラン、イソブチルトリイソブトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシ
ラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブ
トキシシラン、ジメチルジヘキシルオキシシラン、ジメ
チルジフェノキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、
ジエチルジイソブトキシシラン、ジエチルジフェノキシ
シラン、ジブチルジイソプロポキシシラン、ジブチルジ
ブトキシシラン、ジブチルジフェノキシシラン、ジイソ
ブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジイソブトキシ
シラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエ
トキシシラン、ジフェニルジブトキシシラン、ジベンジ
ルジエトキシシラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジ
アリルジプロポキシシラン、ジフェニルジアリルオキシ
シラン、メチルフェニルジメトキシシラン、クロロフェ
ニルジエトキシシラン等が挙げられる。勿論、本発明の
後記の工程bにおいて使用される有機珪素化合物の使用
は制限されない。
Specific examples of component C include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraisobutoxysilane, tetraphenoxysilane, tetra (p-methylphenoxy) silane, citrabenzyloxysilane, methyltrimethoxysilane , Methyltriethoxysilane, methyltributoxysilane, methyltriphenoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisobutoxysilane, ethyltriphenoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, butyltributoxysilane, butyltriphenoxy Silane, isobutyltriisobutoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, dimethyldiisopropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, dimethyl Hexyloxy silane, dimethyl diphenoxy silane, diethyl diethoxy silane,
Diethyl diisobutoxy silane, diethyl diphenoxy silane, dibutyl diisopropoxy silane, dibutyl dibutoxy silane, dibutyl diphenoxy silane, diisobutyl diethoxy silane, diisobutyl diisobutoxy silane, diphenyl dimethoxy silane, diphenyl diethoxy silane, diphenyl dibutoxy silane, Examples include dibenzyldiethoxysilane, divinyldiphenoxysilane, diallyldipropoxysilane, diphenyldiallyloxysilane, methylphenyldimethoxysilane, and chlorophenyldiethoxysilane. Of course, the use of the organosilicon compound used in the step b described later of the present invention is not limited.

【0040】本発明で用いられる重合触媒は、上記成分
A、成分B及び成分Cの組み合せからなる。成分Aに対
する成分Bの使用量は、成分A中のチタン1グラム原子
当り、通常1〜2,000グラムモル、特に20〜50
0グラムモルが望ましい。又、成分Bと成分Cの比率
は、成分C1モルに対して、成分Bがアルミニウム原子
として、0.1〜40グラム原子、望ましくは1〜25
グラム原子の範囲で選ばれる。
The polymerization catalyst used in the present invention comprises a combination of the above components A, B and C. Component B is used in an amount of usually 1 to 2,000 gmol, especially 20 to 50 gmol, per 1 g atom of titanium in component A.
0 gmol is desirable. The ratio of the component B to the component C is 0.1 to 40 gram atoms, preferably 1 to 25 gram atoms of the component B as aluminum atoms with respect to 1 mol of the component C.
Selected in the range of gram atoms.

【0041】プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法 プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法は、プ
ロピレンを重合して高結晶性ポリプロピレンとする工程
(工程a)と、プロピレンとエチレンを共重合する工程
(工程b)とからなる。
Method for Producing Propylene-Ethylene Block Copolymer In the method for producing propylene-ethylene block copolymer, a step (step a) of polymerizing propylene to form a highly crystalline polypropylene, and copolymerizing propylene with ethylene. Step (Step b).

【0042】(1)工程a 工程aは、前記重合触媒の存在下、プロピレンを重合す
ることからなる。重合反応は、気相、液相のいずれでも
よく、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソ
ブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状モノマー
中で行うことができる。重合温度は、通常−80℃〜+
150℃、好ましくは40〜120℃の範囲である。重
合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。又、得られる重
合体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子量
調節剤を存在せしめることにより行われる。工程aで
は、そこで得られるポリプロピレンが該ブロック共重合
体の50〜98重量%、特に70重量%〜95重量%と
なるようにするのが望ましい。
(1) Step a Step a) comprises polymerizing propylene in the presence of the polymerization catalyst. The polymerization reaction may be any of a gas phase and a liquid phase, and when polymerizing in a liquid phase, normal butane, isobutane, normal pentane, isopentane, hexane,
It can be carried out in an inert hydrocarbon such as heptane, octane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene and in a liquid monomer. The polymerization temperature is usually from -80 ° C to +
It is in the range of 150C, preferably 40-120C. The polymerization pressure may be, for example, 1 to 60 atm. Adjustment of the molecular weight of the resulting polymer is performed by the presence of hydrogen or other known molecular weight regulators. In the step (a), it is desirable that the amount of the polypropylene obtained therefrom is 50 to 98% by weight, particularly 70 to 95% by weight of the block copolymer.

【0043】(2)工程b プロピレンとエチレンの共重合は、前記の重合触媒の
他、前記一般式で表わされる有機珪素化合物(以下、成
分Dという。)の存在下行なわれる。共重合は、そこで
得られる共重合体中のエチレン含有量が30〜95重量
%、望ましくは40〜80重量%となるように、プロピ
レンとエチレンを接触して反応させることによりなされ
る。共重合反応は、工程aで行なわれる重合条件の範囲
の中から適宜選択することができ、又水素等の分子量調
節剤の使用も工程aの場合と同じである。工程bで得ら
れる共重合体の量は、通常該ブロック共重合体の50〜
2重量%であるが、望ましくは30〜5重量%である。
工程bで前記重合触媒と共に用いられる成分Dは、前記
一般式で表わされる。
(2) Step b The copolymerization of propylene and ethylene is carried out in the presence of the above-mentioned polymerization catalyst and an organosilicon compound represented by the above general formula (hereinafter referred to as component D). The copolymerization is carried out by contacting and reacting propylene with ethylene such that the ethylene content in the copolymer obtained therefrom is 30 to 95% by weight, preferably 40 to 80% by weight. The copolymerization reaction can be appropriately selected from the range of polymerization conditions performed in step a, and the use of a molecular weight regulator such as hydrogen is the same as in step a. The amount of the copolymer obtained in the step b is usually 50 to 50% of the block copolymer.
It is 2% by weight, preferably 30 to 5% by weight.
Component D used together with the polymerization catalyst in step b is represented by the general formula.

【0044】有機珪素化合物 本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物(以下、成
分Dという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環式
炭化水素基であるが、望ましくはアルキル基、アルケニ
ル基等の脂肪族炭化水素基であり、特に望ましくはアル
キル基である。なお、アルキル基にあたっては、分岐し
たアルキル基の場合に、好結果を示すことが多い。R2
は炭素数1〜10個の脂肪族若しくは脂環式炭化水素基
又はR4 Oである。該炭化水素基としては、望ましくは
シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカ
ジエニル基等の脂環式炭化水素基である。R4 OのR4
はR1 と同意義である。R 3 はメチル基若しくはエチル
基である。xは1若しくは2、yは0若しくは1、zは
2若しくは3であり、x+y+z=4である。
[0044]Organic silicon compounds An organosilicon compound (hereinafter referred to as a component) which is one component of the catalyst of the present invention.
Minute D. ) Is represented by the above general formula. In the formula
And R1Is aliphatic or alicyclic having 3 to 10 carbon atoms
A hydrocarbon group, preferably an alkyl group or an alkenyl group.
And an aliphatic hydrocarbon group such as
It is a kill group. In addition, the alkyl group is branched
In the case of an alkyl group, good results are often obtained. RTwo
Is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
Or RFourO. The hydrocarbon group is preferably
Cycloalkyl group, cycloalkenyl group, cycloalka
It is an alicyclic hydrocarbon group such as a dienyl group. RFourO's RFour
Is R1Is equivalent to R ThreeIs a methyl group or ethyl
Group. x is 1 or 2, y is 0 or 1, and z is
2 or 3, and x + y + z = 4.

【0045】以下、成分Dの具体例を列挙する。なお、
以下において、Me=メチル、Et=エチル、Pr=プ
ロピル、Bu=ブチル、Amy=アミル、Hex=ヘキ
シル、Oct=オクチル、Dec=デシル、CyPe=
シクロペンチル、CyHe=シクロヘキシル、CyPy
=シクロペンテニル、CyPt=シクロペンタジエニ
ル、CyHy=シクロヘキセニル基をそれぞれ示す。な
お、以下の具体例は、前記一般式において、R3 がメチ
ル基の場合についてのみであり、エチル基の場合は省略
した。それら具体例のR3 のメチル基をエチル基に代え
た化合物も、具体例として挙げることができる。
Hereinafter, specific examples of the component D will be listed. In addition,
In the following, Me = methyl, Et = ethyl, Pr = propyl, Bu = butyl, Amy = amyl, Hex = hexyl, Oct = octyl, Dec = decyl, CyPe =
Cyclopentyl, CyHe = cyclohexyl, CyPy
= Cyclopentenyl, CyPt = cyclopentadienyl, CyHy = cyclohexenyl group. The following specific examples are only for the case where R 3 is a methyl group in the above-mentioned general formula, and are omitted when the R 3 is an ethyl group. Compounds in which the methyl group of R 3 in these specific examples is replaced with an ethyl group can also be mentioned as specific examples.

【0046】○(R1 O)2 Si(OR3 2 の化合物 (n−PrO)2 Si(OMe)2 , (i−PrO)2
Si(OMe)2 ,(t−BuO)2 Si(OM
e)2 ,(s−BuO)2 Si(OMe)2 ,(n−B
uO)2 Si(OMe)2 ,(i−BuO)2 Si(O
Me)2 ,(t−AmyO)2 Si(OMe)2 ,(n
−AmyO)2 Si(OMe)2 ,(n−HexO)2
Si(OMe)2 ,(n−OctO)2 Si(OMe)
2 ,(n−DecO)2 Si(OMe)2 ,(CyPe
O)2 Si(OMe)2 ,(CyHeO)2 Si(OM
e)2 ,(CyPyO)2 Si(OMe)2 ,(CyP
tO)2Si(OMe)2 ,(CyHyO)2 Si(O
Me)2 。 ○(R1 O)(R4 O)Si(OR3 2 の化合物 (i−PrO)(n─BuO)Si(OMe)2 ,(n
−PrO)(t─BuO)Si(OMe)2 ,(t−B
uO)(n─BuO)Si(OMe)2 ,(s−Bu
O)(i─BuO)Si(OMe)2 ,(t−Amy
O)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(n−Amy
O)(i−PrO)Si(OMe)2 ,(n−BuO)
(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(s−BuO)
(s−AmyO)Si(OMe)2 ,(i−BuO)
(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(t−AmyO)
(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(t−AmyO)
(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)
(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(i
−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(n−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(i−Bu
O)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(s−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyPeO)(t−BuO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(n−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(t−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(n−HexO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(n−OctO)Si
(OMe)2 ,(CyHeO)(n−PrO)Si(O
Me)2 ,(CyHeO)(i−PrO)Si(OM
e)2 ,(CyHeO)(n−BuO)Si(OMe)
2 ,(CyHeO)(i−BuO)Si(OMe)2
(CyHeO)(s−BuO)Si(OMe)2 ,(C
yHeO)(t−BuO)Si(OMe)2 ,(CyH
eO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyHe
O)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyHe
O)(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyHe
O)(n−OctO)Si(OMe)2 ,(CyPy
O)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)
(i−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(n
−BuO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(i−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(s−Bu
O)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(t−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyPyO)(n−AmyO)S
i(OMe)2 ,(CyPyO)(t−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyPyO)(n−HexO)Si
(OMe)2 ,(CyPyO)(n−OctO)Si
(OMe)2 ,(CyPtO)(n−PrO)Si(O
Me)2 ,(CyPtO)(i−PrO)Si(OM
e)2 ,(CyPtO)(n−BuO)Si(OMe)
2 ,(CyPyO)(i−BuO)Si(OMe)2
(CyPtO)(s−BuO)Si(OMe)2 ,(C
yPtO)(t−BuO)Si(OMe)2 ,(CyP
tO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyPt
O)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyPt
O)(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyPt
O)(n−OctO)Si(OMe)2 ,(CyHy
O)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)
(i−PrO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(n
−BuO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(i−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(s−Bu
O)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(r−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyHyO)(n−AmyO)S
i(OMe)2 ,(CyHyO)(t−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyHyO)(n−HexO)Si
(OMe)2 ,(CyHyO)(n−Oct)Si(O
Me)2
Compound of (R 1 O) 2 Si (OR 3 ) 2 (n-PrO) 2 Si (OMe) 2 , (i-PrO) 2
Si (OMe) 2 , (t-BuO) 2 Si (OM
e) 2 , (s-BuO) 2 Si (OMe) 2 , (n-B
uO) 2 Si (OMe) 2 , (i-BuO) 2 Si (O
Me) 2 , (t-AmyO) 2 Si (OMe) 2 , (n
—AmyO) 2 Si (OMe) 2 , (n-HexO) 2
Si (OMe) 2 , (n-OctO) 2 Si (OMe)
2 , (n-DecO) 2 Si (OMe) 2 , (CyPe
O) 2 Si (OMe) 2 , (CyHeO) 2 Si (OM
e) 2 , (CyPyO) 2 Si (OMe) 2 , (CyP
tO) 2 Si (OMe) 2 , (CyHyO) 2 Si (O
Me) 2 . ○ Compound of (R 1 O) (R 4 O) Si (OR 3 ) 2 (i-PrO) (n─BuO) Si (OMe) 2 , (n
—PrO) (t─BuO) Si (OMe) 2 , (t−B
uO) (n─BuO) Si (OMe) 2 , (s-Bu
O) (i─BuO) Si (OMe) 2 , (t-Amy)
O) (n-PrO) Si (OMe) 2 , (n-Amy)
O) (i-PrO) Si (OMe) 2 , (n-BuO)
(T-AmyO) Si (OMe) 2 , (s-BuO)
(S-AmyO) Si (OMe) 2 , (i-BuO)
(N-AmyO) Si (OMe) 2 , (t-AmyO)
(N-AmyO) Si (OMe) 2 , (t-AmyO)
(N-HexO) Si (OMe) 2 , (CyPeO)
(N-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (i
-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (n-B
uO) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (i-Bu
O) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (s-BuO)
Si (OMe) 2 , (CyPeO) (t-BuO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (n-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (t-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (n-HexO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (n-OctO) Si
(OMe) 2 , (CyHeO) (n-PrO) Si (O
Me) 2 , (CyHeO) (i-PrO) Si (OM
e) 2 , (CyHeO) (n-BuO) Si (OMe)
2 , (CyHeO) (i-BuO) Si (OMe) 2 ,
(CyHeO) (s-BuO) Si (OMe) 2 , (C
yHeO) (t-BuO) Si (OMe) 2 , (CyH
eO) (n-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyHe)
O) (t-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyHe)
O) (n-HexO) Si (OMe) 2 , (CyHe
O) (n-OctO) Si (OMe) 2 , (CyPy)
O) (n-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPyO)
(I-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (n
-BuO) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (i-B
uO) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (s-Bu
O) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (t-BuO)
Si (OMe) 2 , (CyPyO) (n-AmyO) S
i (OMe) 2 , (CyPyO) (t-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyPyO) (n-HexO) Si
(OMe) 2 , (CyPyO) (n-OctO) Si
(OMe) 2 , (CyPtO) (n-PrO) Si (O
Me) 2 , (CyPtO) (i-PrO) Si (OM
e) 2 , (CyPtO) (n-BuO) Si (OMe)
2 , (CyPyO) (i-BuO) Si (OMe) 2 ,
(CyPtO) (s-BuO) Si (OMe) 2 , (C
yPtO) (t-BuO) Si (OMe) 2 , (CyP
tO) (n-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyPt)
O) (t-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyPt)
O) (n-HexO) Si (OMe) 2 , (CyPt)
O) (n-OctO) Si (OMe) 2 , (CyHy)
O) (n-PrO) Si (OMe) 2 , (CyHyO)
(I-PrO) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (n
-BuO) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (i-B
uO) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (s-Bu
O) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (r-BuO)
Si (OMe) 2 , (CyHyO) (n-AmyO) S
i (OMe) 2 , (CyHyO) (t-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyHyO) (n-HexO) Si
(OMe) 2 , (CyHyO) (n-Oct) Si (O
Me) 2 .

【0047】○(R1 O)R2 Si(OR3 2 の化合
物 (i−PrO)MeSi(OMe)2 ,(i−PrO)
n−PrSi(OMe)2 ,(n−PrO)t−Amy
Si(OMe)2 ,(i−PrO)n−HexSi(O
Me)2 ,(n−BuO)MeSi(OMe)2 ,(t
−BuO)MeSi(OMe)2 ,(s−BuO)Et
Si(OMe)2 ,(i−BuO)i−PrSi(OM
e)2 ,(t−BuO)t−BuSi(OMe)2
(n−BuO)s−BuSi(OMe)2 ,(t−Bu
O)n−AmySi(OMe)2 ,(n−AmyO)i
−PrSi(OMe)2 ,(t−AmyO)t−BuS
i(OMe)2 ,(t−AmyO)t−AmySi(O
Me)2 ,(t−AmyO)MeSi(OMe)2
(n−AmyO)EtSi(OMe)2 ,(n−Hex
O)MeSi(OMe)2 ,(n−HexO)EtSi
(OMe)2 ,(n−HexO)i−PrSi(OM
e)2 ,(n−HexO)t−BuSi(OMe) 2
(n−HexO)n−HexSi(OMe)2 ,(n−
HexO)n−OctSi(OMe)2 ,(n−Oct
O)MeSi(OMe)2 ,(n−OctO)n−Oc
tSi(OMe)2 ,(i−PrO)CyPeSi(O
Me)2 ,(n−PrO)CyPeSi(OMe)2
(n−BuO)CyPeSi(OMe)2 ,(i−Bu
O)CyPeSi(OMe)2 ,(s−BuO)CyP
eSi(OMe)2 ,(t−BuO)CyPeSi(O
Me)2 ,(n−AmyO)CyPeSi(OM
e)2 ,(t−AmyO)CyPeSi(OMe)2
(n−HexO)CyPeSi(OMe)2 ,(n−O
ct)CyPeSi(OMe) 2 ,(i−PrO)Cy
HeSi(OMe)2 ,(n−PrO)CyHeSi
(OMe)2 ,(n−BuO)CyHeSi(OMe)
2 ,(i−BuO)CyHeSi(OMe)2 ,(s−
BuO)CyHeSi(OMe)2 ,(t−BuO)C
yHeSi(OMe)2 ,(n−AmyO)CyHeS
i(OMe)2 ,(t−AmyO)CyHeSi(OM
e)2 ,(n−HexO)CyHeSi(OMe)2
(n−Oct)CyHeSi(OMe)2 ,(n−Pr
O)CyPySi(OMe)2 ,(i−PrO)CyP
ySi(OMe)2 ,(n−BuO)CyPySi(O
Me)2 ,(i−BuO)CyPySi(OMe)2
(s−BuO)CyPySi(OMe)2 ,(t−Bu
O)CyPySi(OMe)2,(n−AmyO)Cy
PySi(OMe)2 ,(t−AmyO)CyPySi
(OMe)2 ,(n−HexO)CyPySi(OM
e)2 ,(n−Oct)CyPySi(OMe)2
(n−PrO)CyPtSi(OMe)2 ,(i−Pr
O)CyPtSi(OMe)2 ,(n−BuO)CyP
tSi(OMe)2 ,(i−BuO)CyPtSi(O
Me)2 ,(s−BuO)CyPtSi(OMe)2
(t−BuO)CyPtSi(OMe)2 ,(n−Am
yO)CyPtSi(OMe)2 ,(t−AmyO)C
yPtSi(OMe)2 ,(n−HexO)CyPtS
i(OMe)2 ,(n−Oct)CyPtSi(OM
e)2 ,n−PrO)CyHySi(OMe)2 ,(i
−PrO)CyHySi(OMe) 2 ,(n−BuO)
CyHySi(OMe)2 ,(i−PrO)CyHyS
i(OMe)2 ,(s−BuO)CyHySi(OM
e)2 ,(t−BuO)CyHySi(OMe)2
(n−AmyO)CyHySi(OMe)2 ,(t−A
myO)CyHySi(OMe)2 ,(n−HexO)
CyHySi(OMe)2,(n−OctO)CyHy
Si(OMe)2 ,(CyPeO)MeSi(OMe)
2 ,(CyPeO)EtSi(OMe)2 ,(CyPe
O)n−PrSi(OMe)2 ,(CyPeO)i−P
rSi(OMe)2 ,(CyPeO)n−BuSi(O
Me)2 ,(CyPeO)i−BuSi(OMe)2
(CyPeO)s−BuSi(OMe)2 ,(CyPe
O)t−BuSi(OMe)2 ,(CyPeO)n−A
mySi(OMe)2 ,(CyPeO)t−AmySi
(OMe)2 ,(CyPeO)n−HexSi(OM
e)2 ,(CyPeO)n−OctSi(OMe)2
(CyHeO)MeSi(OMe)2 ,(CyHeO)
EtSi(OMe)2 ,(CyHeO)n−PrSi
(OMe)2 ,(CyHeO)i−PrSi(OMe)
2 ,(CyHeO)n−BuSi(OMe)2 ,(Cy
HeO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyHeO)s
−BuSi(OMe) 2 ,(CyHeO)t−BuSi
(OMe)2 ,(CyHeO)n−AmySi(OM
e)2 ,(CyHeO)t−AmySi(OMe)2
(CyHeO)n−HexSi(OMe)2 ,(CyH
eO)n−OctSi(OMe)2 ,(CyPyO)M
eSi(OMe)2 ,(CyPyO)EtSi(OM
e)2 ,(CyPyO)n−PrSi(OMe)2
(CyPyO)i−PrSi(OMe) 2 ,(CyPy
O)n−BuSi(OMe)2 ,(CyPyO)i−B
uSi(OMe)2 ,(CyPyO)s−BuSi(O
Me)2 ,(CyPyO)t−BuSi(OMe)2
(CyPyO)n−AmySi(OMe)2 ,(CyP
yO)t−AmySi(OMe)2 ,(CyPyO)n
−HexSi(OMe)2,(CyPyO)n−Oct
Si(OMe)2 ,(CyPtO)MeSi(OMe)
2 ,(CyPtO)EtSi(OMe)2 ,(CyPt
O)n−PrSi(OMe)2 ,(CyPtO)i−P
rSi(OMe)2 ,(CyPtO)n−BuSi(O
Me)2 ,(CyPtO)i−BuSi(OMe)2
(CyPtO)s−BuSi(OMe)2 ,(CyPt
O)t−BuSi(OMe)2 ,(CyPtO)n−A
mySi(OMe)2 ,(CyPtO)t−AmySi
(OMe)2 ,(CyPtO)n−HexSi(OM
e)2 ,(CyPtO)n−OctSi(OMe)2
(CyHyO)MeSi(OMe)2 ,(CyHyO)
EtSi(OMe)2 ,(CyHyO)n−PrSi
(OMe)2 ,(CyHyO)i−PrSi(OMe)
2 ,(CyHyO)n−BuSi(OMe)2 ,(Cy
HyO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyHyO)s
−BuSi(OMe) 2 ,(CyHyO)t−BuSi
(OMe)2 ,(CyHyO)n−AmySi(OM
e)2 ,(CyHyO)t−AmySi(OMe)2
(CyHyO)n−HexSi(OMe)2 ,(CyH
yO)n−OctSi(OMe)2 ,(CyPeO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyPeO)CyHeSi
(OMe) 2 ,(CyPeO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyPeO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
PeO)CyHySi(OMe)2 ,(CyHeO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyHeO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyHeO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyHeO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
HeO)CyHySi(OMe)2 ,(CyPyO)C
yPeSi(OMe) 2 ,(CyPyO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyPyO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyPyO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
PyO)CyHySi(OMe)2 ,(CyPtO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyPtO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyPtO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyPtO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
PtO)CyHySi(OMe)2 ,(CyHyO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyHyO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyHyO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyHyO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
HyO)CyHySi(OMe)2
○ (R1O) RTwoSi (ORThree)TwoCompound
(I-PrO) MeSi (OMe)Two, (I-PrO)
n-PrSi (OMe)Two, (N-PrO) t-Amy
Si (OMe)Two, (I-PrO) n-HexSi (O
Me)Two, (N-BuO) MeSi (OMe)Two, (T
-BuO) MeSi (OMe)Two, (S-BuO) Et
Si (OMe)Two, (I-BuO) i-PrSi (OM
e)Two, (T-BuO) t-BuSi (OMe)Two,
(N-BuO) s-BuSi (OMe)Two, (T-Bu
O) n-AmySi (OMe)Two, (N-AmyO) i
-PrSi (OMe)Two, (T-AmyO) t-BuS
i (OMe)Two, (T-AmyO) t-AmySi (O
Me)Two, (T-AmyO) MeSi (OMe)Two,
(N-AmyO) EtSi (OMe)Two, (N-Hex
O) MeSi (OMe)Two, (N-HexO) EtSi
(OMe)Two, (N-HexO) i-PrSi (OM
e)Two, (N-HexO) t-BuSi (OMe) Two,
(N-HexO) n-HexSi (OMe)Two, (N−
HexO) n-OctSi (OMe)Two, (N-Oct
O) MeSi (OMe)Two, (N-OctO) n-Oc
tSi (OMe)Two, (I-PrO) CyPeSi (O
Me)Two, (N-PrO) CyPeSi (OMe)Two,
(N-BuO) CyPeSi (OMe)Two, (I-Bu
O) CyPeSi (OMe)Two, (S-BuO) CyP
eSi (OMe)Two, (T-BuO) CyPeSi (O
Me)Two, (N-AmyO) CyPeSi (OM
e)Two, (T-AmyO) CyPeSi (OMe)Two,
(N-HexO) CyPeSi (OMe)Two, (N-O
ct) CyPeSi (OMe) Two, (I-PrO) Cy
HeSi (OMe)Two, (N-PrO) CyHeSi
(OMe)Two, (N-BuO) CyHeSi (OMe)
Two, (I-BuO) CyHeSi (OMe)Two, (S−
(BuO) CyHeSi (OMe)Two, (T-BuO) C
yHeSi (OMe)Two, (N-AmyO) CyHeS
i (OMe)Two, (T-AmyO) CyHeSi (OM
e)Two, (N-HexO) CyHeSi (OMe)Two,
(N-Oct) CyHeSi (OMe)Two, (N-Pr
O) CyPySi (OMe)Two, (I-PrO) CyP
ySi (OMe)Two, (N-BuO) CyPySi (O
Me)Two, (I-BuO) CyPySi (OMe)Two,
(S-BuO) CyPySi (OMe)Two, (T-Bu
O) CyPySi (OMe)Two, (N-AmyO) Cy
PySi (OMe)Two, (T-AmyO) CyPySi
(OMe)Two, (N-HexO) CyPySi (OM
e)Two, (N-Oct) CyPySi (OMe)Two,
(N-PrO) CyPtSi (OMe)Two, (I-Pr
O) CyPtSi (OMe)Two, (N-BuO) CyP
tSi (OMe)Two, (I-BuO) CyPtSi (O
Me)Two, (S-BuO) CyPtSi (OMe)Two,
(T-BuO) CyPtSi (OMe)Two, (N-Am
yO) CyPtSi (OMe)Two, (T-AmyO) C
yPtSi (OMe)Two, (N-HexO) CyPtS
i (OMe)Two, (N-Oct) CyPtSi (OM
e)Two, N-PrO) CyHySi (OMe)Two, (I
-PrO) CyHySi (OMe) Two, (N-BuO)
CyHySi (OMe)Two, (I-PrO) CyHyS
i (OMe)Two, (S-BuO) CyHySi (OM
e)Two, (T-BuO) CyHySi (OMe)Two,
(N-AmyO) CyHySi (OMe)Two, (T−A
myO) CyHySi (OMe)Two, (N-HexO)
CyHySi (OMe)Two, (N-OctO) CyHy
Si (OMe)Two, (CyPeO) MeSi (OMe)
Two, (CyPeO) EtSi (OMe)Two, (CyPe
O) n-PrSi (OMe)Two, (CyPeO) i-P
rSi (OMe)Two, (CyPeO) n-BuSi (O
Me)Two, (CyPeO) i-BuSi (OMe)Two,
(CyPeO) s-BuSi (OMe)Two, (CyPe
O) t-BuSi (OMe)Two, (CyPeO) n-A
mySi (OMe)Two, (CyPeO) t-AmySi
(OMe)Two, (CyPeO) n-HexSi (OM
e)Two, (CyPeO) n-OctSi (OMe)Two,
(CyHeO) MeSi (OMe)Two, (CyHeO)
EtSi (OMe)Two, (CyHeO) n-PrSi
(OMe)Two, (CyHeO) i-PrSi (OMe)
Two, (CyHeO) n-BuSi (OMe)Two, (Cy
(HeO) i-BuSi (OMe)Two, (CyHeO) s
-BuSi (OMe) Two, (CyHeO) t-BuSi
(OMe)Two, (CyHeO) n-AmySi (OM
e)Two, (CyHeO) t-AmySi (OMe)Two,
(CyHeO) n-HexSi (OMe)Two, (CyH
eO) n-OctSi (OMe)Two, (CyPyO) M
eSi (OMe)Two, (CyPyO) EtSi (OM
e)Two, (CyPyO) n-PrSi (OMe)Two,
(CyPyO) i-PrSi (OMe) Two, (CyPy
O) n-BuSi (OMe)Two, (CyPyO) i-B
uSi (OMe)Two, (CyPyO) s-BuSi (O
Me)Two, (CyPyO) t-BuSi (OMe)Two,
(CyPyO) n-AmySi (OMe)Two, (CyP
yO) t-AmySi (OMe)Two, (CyPyO) n
-HexSi (OMe)Two, (CyPyO) n-Oct
Si (OMe)Two, (CyPtO) MeSi (OMe)
Two, (CyPtO) EtSi (OMe)Two, (CyPt
O) n-PrSi (OMe)Two, (CyPtO) i-P
rSi (OMe)Two, (CyPtO) n-BuSi (O
Me)Two, (CyPtO) i-BuSi (OMe)Two,
(CyPtO) s-BuSi (OMe)Two, (CyPt
O) t-BuSi (OMe)Two, (CyPtO) n-A
mySi (OMe)Two, (CyPtO) t-AmySi
(OMe)Two, (CyPtO) n-HexSi (OM
e)Two, (CyPtO) n-OctSi (OMe)Two,
(CyHyO) MeSi (OMe)Two, (CyHyO)
EtSi (OMe)Two, (CyHyO) n-PrSi
(OMe)Two, (CyHyO) i-PrSi (OMe)
Two, (CyHyO) n-BuSi (OMe)Two, (Cy
HyO) i-BuSi (OMe)Two, (CyHyO) s
-BuSi (OMe) Two, (CyHyO) t-BuSi
(OMe)Two, (CyHyO) n-AmySi (OM
e)Two, (CyHyO) t-AmySi (OMe)Two,
(CyHyO) n-HexSi (OMe)Two, (CyH
yO) n-OctSi (OMe)Two, (CyPeO) C
yPeSi (OMe)Two, (CyPeO) CyHeSi
(OMe) Two, (CyPeO) CyPySi (OMe)
Two, (CyPeO) CyPtSi (OMe)Two, (Cy
PeO) CyHySi (OMe)Two, (CyHeO) C
yPeSi (OMe)Two, (CyHeO) CyHeSi
(OMe)Two, (CyHeO) CyPySi (OMe)
Two, (CyHeO) CyPtSi (OMe)Two, (Cy
HeO) CyHySi (OMe)Two, (CyPyO) C
yPeSi (OMe) Two, (CyPyO) CyHeSi
(OMe)Two, (CyPyO) CyPySi (OMe)
Two, (CyPyO) CyPtSi (OMe)Two, (Cy
PyO) CyHySi (OMe)Two, (CyPtO) C
yPeSi (OMe)Two, (CyPtO) CyHeSi
(OMe)Two, (CyPtO) CyPySi (OMe)
Two, (CyPtO) CyPtSi (OMe)Two, (Cy
(PtO) CyHySi (OMe)Two, (CyHyO) C
yPeSi (OMe)Two, (CyHyO) CyHeSi
(OMe)Two, (CyHyO) CyPySi (OMe)
Two, (CyHyO) CyPtSi (OMe)Two, (Cy
HyO) CyHySi (OMe)Two.

【0048】○(R1 O)Si(OR3 3 の化合物 (i−PrO)Si(OMe)3 ,(n−BuO)Si
(OMe)3 ,(s−BuO)Si(OMe)3 ,(i
−BuO)Si(OMe)3 ,(t−BuO)Si(O
Me)3 ,(t−AmyO)Si(OMe)3 ,(n−
AmyO)Si(OMe)3 ,(n−HexO)Si
(OMe)3 ,(n−OctO)Si(OMe)3
(n−DecO)Si(OMe)3 ,(CyPeO)S
i(OMe) 3 ,(CyHeO)Si(OMe)3
(CyPyO)Si(OMe)3 ,(CyPtO)Si
(OMe)3 ,(CyHyO)Si(OMe)3
○ (R1O) Si (ORThree)ThreeCompound (i-PrO) Si (OMe)Three, (N-BuO) Si
(OMe)Three, (S-BuO) Si (OMe)Three, (I
-BuO) Si (OMe)Three, (T-BuO) Si (O
Me)Three, (T-AmyO) Si (OMe)Three, (N−
AmyO) Si (OMe)Three, (N-HexO) Si
(OMe)Three, (N-OctO) Si (OMe)Three,
(N-DecO) Si (OMe)Three, (CyPeO) S
i (OMe) Three, (CyHeO) Si (OMe)Three,
(CyPyO) Si (OMe)Three, (CyPtO) Si
(OMe)Three, (CyHyO) Si (OMe)Three.

【0049】成分Dの使用量は成分C1モル当り0.0
1〜100モル、望ましくは0.1〜10モルである。
Component D is used in an amount of 0.0
It is 1 to 100 mol, preferably 0.1 to 10 mol.

【0050】本発明の方法は、工程aと工程bとからな
るが、工程aと工程bは、その順序に、又は逆に行う直
列方式の他、工程aと工程bを並列に行い、それぞれで
得られるポリマーを合体する方法が採用することができ
るが、これらの中でも、特に工程aと工程bをその順序
に行う方法が、装置上有利であり望ましい。
The method of the present invention comprises a step a and a step b. The steps a and b may be performed in order or vice versa. Alternatively, the steps a and b may be performed in parallel. A method of combining the polymers obtained in the above can be adopted, and among these, a method in which step a and step b are performed in that order is particularly advantageous and desirable in terms of the apparatus.

【0051】[0051]

【実施例】本発明を実施例及び比較例により具体的に説
明する。なお、例におけるパーセント(%)は特に断ら
ない限り重量による。ポリマーの物性測定は、該ポリマ
ー粉末に、BHT(2,6−ジターシャリーブチル−4
−メチルフェノール)を0.18重量%、DSTDP
(ジステアリルチオジプロピオネート)を0.08重量
%、IRGANOX1010〔テトラキス−{メチレン
−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシヒ
ドロ−シンナメート)メタン}〕を0.04重量%、カ
ルシウムステアレートを0.06重量%それぞれ添加
し、溶融混練によりペレットとした後、射出成形により
試験片を作成して行った。曲げ弾性率:JIS K 7
203−1982に:デュポン衝撃強度:JIS K
7211−1976にそれぞれ準拠。又、ポリマーのM
FRはASTM D−1238に従って測定した。ま
た、ポリマーの落下速度は、HOSOKAWA MICRON CORP製
POWDER TESTER を用い、110℃に予め加熱したパウダ
ー100ccが落下する速度を測定した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The percentages (%) in the examples are by weight unless otherwise specified. The physical properties of the polymer were measured by adding BHT (2,6-di-tert-butyl-4) to the polymer powder.
0.18% by weight of DSTDP
0.08% by weight of (distearylthiodipropionate), 0.04% by weight of IRGANOX1010 [tetrakis- {methylene- (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyhydro-cinnamate) methane]], calcium stearate After adding 0.06% by weight of each rate and pelletizing by melt-kneading, test pieces were prepared by injection molding. Flexural modulus: JIS K7
203-1982: Dupont impact strength: JIS K
7211-1976. Also, the polymer M
FR was measured according to ASTM D-1238. The falling speed of the polymer is HOSOKAWA MICRON CORP
Using a POWDER TESTER, the falling speed of 100 cc of powder preheated to 110 ° C. was measured.

【0052】実施例1 成分Aの調製 還流冷却器をつけた1リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム(純度99.
5%、平均粒径1.6mm)8.3g及びn−ヘキサン2
50mlを入れ、68℃で1時間攪拌後、金属マグネシウ
ムを取出し、65℃で減圧乾燥するという方法で予備活
性化した金属マグネシウムを得た。次に、この金属マグ
ネシウムに、n−ブチルエーテル140ml及びn−ブチ
ルマグネシウムクロリドのn−ブチルエーテル溶液
(1.75モル/l)を0.5ml加えた懸濁液を55℃
に保ち、更にn−ブチルエーテル50mlにn−ブチルク
ロライド38.5mlを溶解した溶液を50分間で滴下し
た。攪拌下70℃で4時間反応を行った後、反応液を2
5℃に保持した。次いで、この反応液にHC(OC2
5 3 55.7mlを1時間で滴下した。滴下終了後、
60℃で15分間反応を行ない、反応生成固体をn−ヘ
キサン各300mlで6回洗浄し、室温で1時間減圧乾燥
し、マグネシウムを19.0%、塩素を28.9%を含
むマグネシウム含有固体31.6gを回収した。還流冷
却器、攪拌機及び滴下ロートを取付けた300mlの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下マグネシウム含有固体6.3
g及びn−ヘプタン50mlを入れ懸濁液とし、室温で攪
拌しながら2,2,2−トリクロルエタノール20ml
(0.02ミリモル)とn−ヘプタン11mlの混合溶液
を滴下ロートから30分間で滴下し、更に80℃で1時
間攪拌した。得られた固体をろ過し、室温のn−ヘキサ
ン各100mlで4回洗浄し、更にトルエン各100mlで
2回洗浄して固体成分を得た。上記の固体成分にトルエ
ン40mlを加え、更に四塩化チタン/トルエンの体積比
が3/2になるように四塩化チタンを加えて90℃に昇
温した。攪拌下、フタル酸ジn−ブチル2mlとトルエン
5mlの混合溶液を5分間で滴下した後、120℃で2時
間攪拌した。得られた固体状物質を90℃でろ別し、ト
ルエン各100mlで2回、90℃で洗浄した。更に、新
らたに四塩化チタン/トルエンの体積比が3/2になる
ように四塩化チタンを加え、120℃で2時間攪拌し
た。得られた固体物質を110℃でろ別し、室温の各1
00mlのn−ヘキサンにて7回洗浄して成分A5.5g
を得た。
Example 1 Preparation of Component A In a 1-liter reaction vessel equipped with a reflux condenser, a chip-shaped metal magnesium (purity: 99.000) was placed under a nitrogen gas atmosphere.
5%, average particle size 1.6 mm) 8.3 g and n-hexane 2
After adding 50 ml and stirring at 68 ° C. for 1 hour, metallic magnesium was taken out and dried under reduced pressure at 65 ° C. to obtain preactivated metallic magnesium. Next, a suspension obtained by adding 140 ml of n-butyl ether and 0.5 ml of an n-butyl ether solution of n-butylmagnesium chloride (1.75 mol / l) to the metallic magnesium was added at 55 ° C.
And a solution of 38.5 ml of n-butyl chloride dissolved in 50 ml of n-butyl ether was added dropwise over 50 minutes. After conducting the reaction at 70 ° C. for 4 hours with stirring, the reaction solution was added for 2 hours.
It was kept at 5 ° C. Next, HC (OC 2 H) was added to the reaction solution.
The 5) 3 55.7 ml was added dropwise over 1 hour. After dropping,
The reaction was carried out at 60 ° C. for 15 minutes, and the solid produced by the reaction was washed six times with 300 ml each of n-hexane and dried under reduced pressure at room temperature for 1 hour. A magnesium-containing solid containing 19.0% magnesium and 28.9% chlorine 31.6 g were recovered. Under a nitrogen gas atmosphere, a magnesium-containing solid 6.3 was placed in a 300 ml reaction vessel equipped with a reflux condenser, a stirrer and a dropping funnel.
g and n-heptane (50 ml) to give a suspension, and while stirring at room temperature, 2,2,2-trichloroethanol (20 ml).
(0.02 mmol) and 11 ml of n-heptane were added dropwise from a dropping funnel over 30 minutes, and the mixture was further stirred at 80 ° C. for 1 hour. The resulting solid was filtered, washed four times with 100 ml each of n-hexane at room temperature, and twice with 100 ml each of toluene to obtain a solid component. 40 ml of toluene was added to the above solid component, and titanium tetrachloride was further added so that the volume ratio of titanium tetrachloride / toluene was 3/2, and the temperature was raised to 90 ° C. Under stirring, a mixed solution of 2 ml of di-n-butyl phthalate and 5 ml of toluene was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at 120 ° C. for 2 hours. The obtained solid substance was separated by filtration at 90 ° C and washed at 90 ° C twice with 100 ml each of toluene. Further, titanium tetrachloride was newly added so that the volume ratio of titanium tetrachloride / toluene was 3/2, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 2 hours. The solid material obtained was filtered off at 110 ° C.
After washing 7 times with 00 ml of n-hexane, 5.5 g of component A was obtained.
I got

【0053】プロピレンの重合 窒素置換をした充分に乾燥された5リットルのオートク
レーブに、上記で得られた成分A30.6mg、n−ヘプ
タン1リットル中に0.2モルのトリエチルアルミウニ
ムを含む溶液6ml、及びn−ヘプタン1リットル中に
0.04モルのジフェニルジメトキシシランを含む溶液
6mlを混合し、5分間保持したものを入れた。次いで、
水素を12リットル及び液体プロピレン3リットルを圧
入した後、オートクレーブ内部温度を70℃で第1段重
合を行った。重合開始後59分の時点でn−ヘプタン1
リットル中に0.04モルのジイソプロポキシジメトキ
シシランを含む溶液6mlを圧入して、1分後のオートク
レーブの攪拌を停止し、同時に水素及び未反応のプロピ
レンをパージして、オートクレーブ内圧力を0.2kg/
cm2 ・Gとした。第1段目のポリマーを一部採取した
後、系内に水素を導入した。
Polymerization of Propylene In a well-dried 5 liter autoclave with a nitrogen purge, a solution containing 30.6 mg of the component A obtained above and 0.2 mol of triethylaluminum in 1 liter of n-heptane. 6 ml, and 6 ml of a solution containing 0.04 mol of diphenyldimethoxysilane in 1 liter of n-heptane were mixed and the mixture was kept for 5 minutes. Then
After pressurizing 12 liters of hydrogen and 3 liters of liquid propylene, the first-stage polymerization was performed at an internal temperature of the autoclave of 70 ° C. 59 minutes after the start of polymerization, n-heptane 1
6 ml of a solution containing 0.04 mol of diisopropoxydimethoxysilane was introduced into the liter, and the stirring of the autoclave after 1 minute was stopped. At the same time, hydrogen and unreacted propylene were purged, and the pressure in the autoclave was reduced to 0 .2 kg /
cm 2 · G. After partially collecting the first-stage polymer, hydrogen was introduced into the system.

【0054】プロピレンとエチレンの共重合 引き続いて、プロピレンとエチレンのモル比が1.5の
混合ガスを供給して、プロピレン−エチレン共重合を行
った。器内圧力を6kg/cm2 ・Gに保ち、75℃で2時
間共重合を行った。重合終了後、未反応ガスをパージ、
ポリマーを取出し乾燥した。未反応ガス中には0.6モ
ル%の水素が含まれていた。得られたポリマーのMFR
は11.8g/10分であった。分析の結果、共重合に
よって得られたポリマーの生成量は19%であり、エチ
レン含有量は51%であった。また1段目終了後にサン
プリングしたポリマーのMFRは29.5g/10分で
あった。最終ポリマーの物性を測定したところ、曲げ弾
性率は8.13×103 kg/cm2 、デュポン衝撃強度は
84.3kg・cmであった。また、ポリマーの落下速度は
10.1cc/秒であった。
Copolymerization of Propylene and Ethylene Subsequently, a mixed gas having a molar ratio of propylene to ethylene of 1.5 was supplied to perform propylene-ethylene copolymerization. The internal pressure was maintained at 6 kg / cm 2 · G, and copolymerization was carried out at 75 ° C. for 2 hours. After polymerization, purge unreacted gas,
The polymer was removed and dried. The unreacted gas contained 0.6 mol% of hydrogen. MFR of the obtained polymer
Was 11.8 g / 10 minutes. As a result of the analysis, the amount of the polymer obtained by copolymerization was 19%, and the ethylene content was 51%. The MFR of the polymer sampled after the completion of the first stage was 29.5 g / 10 minutes. When the physical properties of the final polymer were measured, the flexural modulus was 8.13 × 10 3 kg / cm 2 and the DuPont impact strength was 84.3 kg · cm. The falling speed of the polymer was 10.1 cc / sec.

【0055】実施例2〜4、比較例1〜3 プロピレンの重合時に用いたジフェニルジメトキシシラ
ンのかわりに、表1に示す有機珪素化合物を用い、かつ
プロピレンとエチレンの共重合時に用いたジイソプロポ
キシジメトキシシランのかわりに表1に示す有機珪素化
合物を用いるか用いないで、さらに同表に示すようなM
FRになるように水素量を調節した以外は、実施例1と
同様にしてプロピレンの共重合を行った。得られた最終
ポリマーの物性も同表に示した。これより、本発明のポ
リマーはバランスよく優れた耐衝撃性と剛性を示し、ま
たすべり性も改良されることがわかる。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 Instead of diphenyldimethoxysilane used in the polymerization of propylene, an organic silicon compound shown in Table 1 was used, and diisopropoxy used in the copolymerization of propylene and ethylene was used. With or without using the organosilicon compounds shown in Table 1 in place of dimethoxysilane, M
Propylene was copolymerized in the same manner as in Example 1 except that the amount of hydrogen was adjusted so as to obtain FR. The physical properties of the final polymer obtained are also shown in the table. This shows that the polymer of the present invention shows excellent impact resistance and rigidity in a well-balanced manner, and also has improved slipperiness.

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の方法により、より効果的に耐衝
撃性と剛性のバランスに優れ、かつポリマーの落下速度
が大きくすべり性の改良されたプロピレンブロック共重
合体を製造することができる。
According to the method of the present invention, it is possible to more effectively produce a propylene block copolymer having an excellent balance between impact resistance and rigidity, a high polymer falling speed, and an improved slip property.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明のプロピレン−エチレンブロッ
ク共重合体を製造する方法を示すフローチャート図であ
る。
FIG. 1 is a flowchart showing a method for producing a propylene-ethylene block copolymer of the present invention.

フロントページの続き (72)発明者 斉藤 博夫 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番 1号 東燃株式会社 総合研究所内 (72)発明者 滝 敬之 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番 1号 東燃株式会社 総合研究所内 (72)発明者 石原 毅 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番 1号 東燃株式会社 総合研究所内 (56)参考文献 特開 平3−162403(JP,A) 特開 平2−173010(JP,A) 特開 平2−77413(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 4/60 - 4/70 Continuing from the front page (72) Inventor Hiroo Saito 1-3-1, Nishitsurugaoka, Oimachi, Irima-gun, Saitama Prefecture Tonen Co., Ltd. (72) Inventor Takayuki Taki 1-3-1, Nishitsurugaoka, Oimachi, Iruma-gun, Saitama No. 1 Tonen Co., Ltd. (72) Inventor Takeshi Ishihara 1-3-1 Nishitsurugaoka, Oi-machi, Iruma-gun, Saitama Prefecture 1 Tonen Co., Ltd. (56) References JP-A-3-162403 (JP, A JP-A-2-173010 (JP, A) JP-A-2-77413 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C08F 4/60-4/70

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(A)マグネシウム,チタン,ハロゲン及
び電子供与性化合物を必須成分とする固体触媒成分、 (B)有機金属化合物及び (C)Si−O−C結合を有する有機珪素化合物からな
る重合触媒の存在下、 (1)プロピレンを重合して高結晶性ポリプロピレンを
製造する工程(a)及び (2)プロピレンとエチレンを共重合する工程(b)か
らなるプロピレン−エチレンブロック共重合体を製造す
る方法において、該工程(b)を、更に下記一般式の有
機珪素化合物の存在下行うことを特徴とするプロピレン
−エチレンブロック共重合体の製造法。 (D)一般式 【化1】 〔但し、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環
式炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の脂肪族若しく
は脂環式炭化水素基又はR4 O、R3 はメチル基若しく
はエチル基であり、xは1若しくは2、yは0若しくは
1、zは2若しくは3、x+y+z=4、R4 はR1
同意義である〕。
1. A solid catalyst component comprising (A) magnesium, titanium, a halogen and an electron donating compound as essential components; (B) an organometallic compound; and (C) an organosilicon compound having a Si--O--C bond. In the presence of a polymerization catalyst, a propylene-ethylene block copolymer comprising (a) a step of producing propylene by polymerizing propylene to produce a highly crystalline polypropylene and (2) a step (b) of copolymerizing propylene and ethylene. A method for producing a propylene-ethylene block copolymer, wherein the step (b) is further performed in the presence of an organic silicon compound represented by the following general formula: (D) General formula [However, R 1 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, R 2 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or R 4 O, R 3 is A methyl group or an ethyl group, x is 1 or 2, y is 0 or 1, z is 2 or 3, x + y + z = 4, and R 4 is the same as R 1 ].
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