JP2975785B2 - Texture device - Google Patents

Texture device

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JP2975785B2
JP2975785B2 JP4300987A JP30098792A JP2975785B2 JP 2975785 B2 JP2975785 B2 JP 2975785B2 JP 4300987 A JP4300987 A JP 4300987A JP 30098792 A JP30098792 A JP 30098792A JP 2975785 B2 JP2975785 B2 JP 2975785B2
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contact roll
cam
polishing
gantry
substrate
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幸治 西村
道敏 宮崎
智雄 茂
宗明 森永
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Mitsubishi Chemical Corp
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ディスク状材料に対し
て高速でコンタクトロールを往復動させて研磨するテキ
スチャー装置に関し、特にハードディスク等の研磨に好
適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a texture device for polishing a disk-shaped material by reciprocating a contact roll at a high speed, and is particularly suitable for polishing a hard disk or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、ハードディスクは使用に際して高
速で回転して磁気ヘッドを浮上させ、ハードディスクへ
の記録の書き込み及び読み出し等を、この磁気ヘッドを
介して行っている。
2. Description of the Related Art Normally, a hard disk is rotated at a high speed when used to float a magnetic head, and writing and reading of data to and from the hard disk are performed through the magnetic head.

【0003】近年の高密度記録化の要求に対応して、ハ
ードディスクのディスク表面からの高さである飛行高さ
を低くすることが求められている。この為、ディスク表
面を平滑化することが必要であり、従来からハードディ
スクの磁性層形成前の基板表面を研磨加工(テキスチャ
ー加工)していた。この一方、あまりにディスク表面を
平滑化すると、ハードディスクの起動時に磁気ヘッドが
ディスク表面に付着する虞を有していた。
In response to recent demands for high-density recording, it has been required to reduce the flying height, which is the height of the hard disk from the disk surface. For this reason, it is necessary to smooth the disk surface, and the substrate surface before the formation of the magnetic layer of the hard disk has conventionally been polished (textured). On the other hand, if the disk surface is too smooth, the magnetic head may adhere to the disk surface when the hard disk is started.

【0004】従って、微細な凹凸を表面上に形成すべ
く、この研磨加工には、研磨テープあるいは研磨パッド
をゆっくり揺動することにより、ハードディスクの回転
中心と同軸状に研磨加工を行う(いわゆる、サーキュラ
ー加工)方法の他、高速で研磨テープあるいは研磨パッ
ドを振動させるように高速で往復動させてハードディス
クの表面に、これら研磨テープ等による条痕を交差させ
て形成するクロス加工方法が知られている。
Accordingly, in order to form fine irregularities on the surface, the polishing is performed coaxially with the center of rotation of the hard disk by slowly swinging a polishing tape or a polishing pad (so-called polishing process). In addition to the circular processing method, a cross processing method is known in which a polishing tape or a polishing pad is reciprocated at a high speed so as to vibrate the polishing tape at a high speed so that the marks formed by the polishing tape or the like cross on the surface of the hard disk. I have.

【0005】このクロス加工方法の一例を図7に示す。
すなわち図7に示すように、研磨テープ104が張架さ
れたコンタクトロール70が往復動して、基板102上
に研磨テープ104により研磨されて形成される条痕A
の交差する角度(以下、クロスハッチ角という)θが、
通常5°から30°程度の角度を有するようになってい
て、このクロス加工方法が高密度記録に伴って広く用い
られるようになった。
FIG. 7 shows an example of this cloth processing method.
That is, as shown in FIG. 7, the contact roll 70 on which the polishing tape 104 is stretched reciprocates, and the striation A formed on the substrate 102 by being polished by the polishing tape 104 is formed.
(Hereinafter referred to as the cross hatch angle) θ
Usually, it has an angle of about 5 ° to 30 °, and this cross processing method has been widely used with high-density recording.

【0006】このテキスチャー加工には、研磨テープに
よる研磨加工、遊離砥粒を表面に付着してしみ込ませた
研磨パッド等が用いられている。
For this texturing, a polishing process using a polishing tape, a polishing pad having loose abrasive particles adhered to the surface and impregnated are used.

【0007】さらに、このテキスチャー加工後の基板上
に、磁性層、保護層、潤滑層等を乗せて、ハードディス
クが完成することとなる。
Further, a magnetic layer, a protective layer, a lubricating layer, and the like are placed on the substrate after the texture processing, thereby completing a hard disk.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、ディス
クを構成する基板の研磨加工の際には、基板を回転しつ
つ基板に対して研磨テープ、あるいは研磨パッドを基板
の半径方向に沿って往復動することにより、研磨作業を
行っていた。
As described above, when polishing a substrate constituting a disk, a polishing tape or a polishing pad is applied to the substrate along the radial direction of the substrate while rotating the substrate. The polishing operation was performed by reciprocating.

【0009】しかし、従来は、基板に対して研磨テープ
等を往復動する際に、コンタクトロールだけでなく装置
全体を往復動していたので、1分当たり200〜400
回程度の往復動が限界であった。しかも、同一のクロス
角とするには、基板を回転するスピンドルの回転数を、
この往復動の速さに合わせて設定しなければならない
為、80〜160rpm程度とするのが限界であった。
この為、研磨加工の処理速度の向上を図ることが困難で
あり、多量の基板を連続して研磨加工する際の生産性を
高めることが出来ないという欠点を有していた。
However, conventionally, when the polishing tape or the like is reciprocated with respect to the substrate, not only the contact roll but also the entire apparatus is reciprocated.
The number of reciprocating motions was about the limit. Moreover, in order to obtain the same cross angle, the number of rotations of the spindle for rotating the substrate is
Since it must be set in accordance with the speed of this reciprocation, the limit is about 80 to 160 rpm.
For this reason, it has been difficult to improve the processing speed of the polishing process, and there has been a drawback that the productivity in continuously polishing a large number of substrates cannot be increased.

【0010】本発明は、上記事実を考慮し、コンタクト
ロールを高速で往復動することを可能とし、基板等のデ
ィスク状材料を研磨する際の生産性を高めるテキスチャ
ー装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a texture device that enables a contact roll to reciprocate at a high speed and enhances productivity when polishing a disk-shaped material such as a substrate. I do.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1によるテキスチ
ャー装置は、ディスク状材料をテキスチャー処理するテ
キスチャー装置であって、 研磨テープの端部を保持する
テープリールを保持する架台と、 前記研磨テープが張架
されており、ディスク状材料の表面にこの研磨テープを
圧接するコンタクトロールと、前記コンタクトロールを
支持する支持部と、 前記架台に接続され、前記支持部を
前記架台に対して相対的かつ前記ディスク状材料の回転
方向に交差する方向に往復動可能に支持するアームと、
前記架台に接続され、前記支持部を介して前記コンタク
トロールを往復動する駆動手段と、を有することを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a texturing apparatus for texturing a disk-shaped material.
A kissing device for holding an end of a polishing tape
A cradle for holding a tape reel, the polishing tape is stretched, a contact roll for pressing the polishing tape on the surface of the disk-shaped material, a support portion for supporting the contact roller is connected to said frame, The support
Rotation of the disc-shaped material relative to the gantry
An arm that supports reciprocally in a direction crossing the direction,
Connected to said frame, and having a drive means for reciprocating said contact roll through said support portion.

【0012】[0012]

【0013】請求項2によるテキスチャー装置は、請求
項1に記載された駆動手段がカム方式であることを特徴
とする。
[0013] Texture apparatus of claim 2, wherein
Item 1 is characterized in that the driving means is of a cam type.

【0014】[0014]

【作用】請求項1による作用は以下のようになる。The operation according to the first aspect is as follows.

【0015】駆動手段が作動すると、支持部が架台に対
して往復動する。従って、支持部と一体となってコンタ
クトロールが回転しているディスクの表面上を往復動
し、コンタクトロールに張架された研磨テープがディス
クの表面を圧接して、研磨する。
When the driving means is operated, the support portion reciprocates with respect to the gantry. Therefore, the contact roll reciprocates on the rotating disk surface integrally with the supporting portion, and the polishing tape stretched on the contact roll presses the disk surface to perform polishing.

【0016】すなわち、軽量なコンタクトロール及びコ
ンタクトロールを支持する支持部のみが架台に対して往
復動することとなり、往復動の際の慣性力が小さくなる
結果、高速度での往復動が可能となる。
That is, only the lightweight contact roll and the supporting portion supporting the contact roll reciprocate with respect to the gantry, and the inertia force during the reciprocation is reduced, so that reciprocation at a high speed is possible. Become.

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【実施例】本発明の第1実施例に係るテキスチャー装置
を図1、図2、図3及び図5に示し、これらの図に基づ
き本実施例を説明する。尚、本実施例はカム方式を一例
として用いたものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A texture apparatus according to a first embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1, 2, 3 and 5, and this embodiment will be described with reference to these figures. In this embodiment, a cam system is used as an example.

【0019】本実施例の全体構成を表わす図1に示すよ
うに、テキスチャー装置10の外枠を形成する架台12
には、駆動モータ14が固定されていて、駆動モータ1
4の回転軸14Aにギヤ20が取り付けられている。ま
た、架台12には、ブラケット16がねじ32を介して
ねじ止められており、ブラケット16の先端側にギヤ2
0とかみ合うギヤ22が回転自在に支持されている。こ
のギヤ22にはギヤ22と同軸にプーリ26が取り付け
られていて、プーリ26にゴムベルト24が巻き掛けら
れている。
As shown in FIG. 1 showing the overall structure of this embodiment, a gantry 12 forming an outer frame of a texture device 10 is provided.
The drive motor 14 is fixed to the
The gear 20 is attached to the fourth rotation shaft 14A. A bracket 16 is screwed to the gantry 12 via a screw 32.
A gear 22 that meshes with 0 is rotatably supported. A pulley 26 is mounted on the gear 22 coaxially with the gear 22, and a rubber belt 24 is wound around the pulley 26.

【0020】一方、ブラケット16の下側には、他のブ
ラケット18がねじ32を介して架台12にねじ止めら
れており、このブラケット18の先端側に、一対のプー
リ28、30が相互に一体的に回転するように支持され
ている。そして、プーリ28にはゴムベルト24が巻き
掛けられており、プーリ26の回転がこれらのプーリ2
8、30に伝達させるようになっている。
On the other hand, on the lower side of the bracket 16, another bracket 18 is screwed to the gantry 12 via a screw 32, and a pair of pulleys 28, 30 are integrated with each other on the tip side of the bracket 18. It is supported so that it can rotate. A rubber belt 24 is wound around the pulley 28, and the rotation of the pulley 26
8 and 30.

【0021】また、ブラケット18の下側に突出する連
結片18Aには、回転軸41を介して、駆動手段である
偏心カム42を回転自在に支持するカム支持体36の連
結部36Aがねじ止められており、このねじ止めによ
り、ブラケット18にカム支持体36が支持固定されて
いる。そして、図3に示すように、回転軸41に対する
この偏心カム42の中心のずれ量を偏心量Wとし、この
偏心量Wを、例えば0.25〜2.5mmの値としてい
る。さらに、この回転軸41には、回転軸41と同軸に
プーリ40が取り付けられていて、プーリ40とプーリ
30とを繋ぐようにゴムベルト38が巻き掛けられてい
る。
A connecting portion 36A of a cam support 36, which rotatably supports an eccentric cam 42 as a driving means, is screwed to a connecting piece 18A protruding below the bracket 18 via a rotating shaft 41. The cam support 36 is supported and fixed to the bracket 18 by the screwing. Then, as shown in FIG. 3, the amount of deviation of the center of the eccentric cam 42 with respect to the rotating shaft 41 is defined as an eccentric amount W, and the eccentric amount W is set to, for example, a value of 0.25 to 2.5 mm. Further, a pulley 40 is attached to the rotary shaft 41 coaxially with the rotary shaft 41, and a rubber belt 38 is wound around the pulley 40 so as to connect the pulley 40 and the pulley 30.

【0022】他方、架台12の下側には、架台12から
突出した取付部48にねじ54のねじ止めにより固定さ
れたアーム50が、位置している。このアーム50の先
端側50Bは、屈曲して図1上、下側に延びるアーム5
2の基端側52Aを挟持しており、このアーム52に
は、内部にスライドブシュ76、86が嵌合された支持
体60が、一対のねじ58を介して固定されている。
On the other hand, an arm 50 fixed to a mounting portion 48 protruding from the gantry 12 by screwing a screw 54 is located below the gantry 12. The distal end 50B of the arm 50 is bent and extends upward and downward in FIG.
A support body 60 in which slide bushes 76 and 86 are fitted is fixed to the arm 52 via a pair of screws 58.

【0023】また、図2に示すように、スライドブシュ
76にはコンタクトロール70を左端側に回転自在に支
持したスライドピン72が図上、左右方向に往復動自在
に支持されており、図1及び、研磨テープの走行系を概
念的に表す図5に示すように、このコンタクトロール7
0に、ガイドローラ94を介して供給リール96側から
送られる研磨テープ104が、巻き掛けられている。そ
して、研磨テープ104は図1上、図示しないテープ送
りローラ95を介して、架台12に内蔵されたモータに
より回転されるようになっている巻取リール98に、巻
き取られるようになっている。ここで研磨テープ104
の種類としては、代表的には、2500〜6000♯程
度のアルミナ砥粒を担持したものが用いられる
As shown in FIG. 2, the slide bush 76 is provided with a slide pin 72 rotatably supporting the contact roll 70 at the left end side so as to be reciprocally movable in the left-right direction in FIG. As shown in FIG. 5, which conceptually shows a traveling system of the polishing tape, the contact roll 7
The polishing tape 104 sent from the supply reel 96 side via the guide roller 94 is wound around 0. The polishing tape 104 is wound on a take-up reel 98 rotated by a motor built in the gantry 12 via a tape feed roller 95 (not shown) in FIG. . Here, the polishing tape 104
As the type, those carrying alumina abrasive grains of about 2500 to 6000 ° are typically used .

【0024】尚、供給リール96側のガイドローラ94
と、巻取リール98側のテープ送りローラ95との間に
送られる研磨テープ104に所定のテンション付与すべ
く、図示しないモータ、滑り機構等の機構が架台12に
内蔵されている。従って、研磨テープ104は、それぞ
れガイドローラ94に案内されると共に定テンションを
加えられつつ、巻取リール98に巻き取られるようにな
っている。そして、コンタクトロール70が、基板10
2のディスク表面とこの研磨テープ104を介して接し
ている。
The guide roller 94 on the supply reel 96 side
A mechanism such as a motor and a sliding mechanism (not shown) is provided in the gantry 12 so as to apply a predetermined tension to the polishing tape 104 fed between the tape and the tape feed roller 95 on the take-up reel 98 side. Therefore, the polishing tape 104 is wound on the winding reel 98 while being guided by the guide rollers 94 and being given a constant tension. Then, the contact roll 70 is
2 is in contact with the disk surface via the polishing tape 104.

【0025】尚、基板102には、非磁性基板を用いる
が、基板102の材質としては特に制限はなく、通常、
無電解めっき法により形成したニッケル−リン層を設け
たアルミニュウム系合金板(例えば、厚さ1から3mm程
度)が用いられる。但し、その他、銅、チタン等の金属
基板、ガラス基板、セラミック基板、炭素質基板または
樹脂基板等を用いることもできる。
Although a non-magnetic substrate is used as the substrate 102, the material of the substrate 102 is not particularly limited.
An aluminum alloy plate (for example, having a thickness of about 1 to 3 mm) provided with a nickel-phosphorus layer formed by electroless plating is used. However, a metal substrate such as copper or titanium, a glass substrate, a ceramic substrate, a carbonaceous substrate, a resin substrate, or the like can also be used.

【0026】さらに具体的な例としては、アルミニュウ
ム−マグネシウム合金基板の表面に、ニッケル−リンの
無電解めっき膜の下地膜(例えば、厚さ20から30μ
m程度)を設けたものであって、この下地膜に鏡面加工
を施した下地膜形成基板(この基板をサブストレイトと
も呼ぶ)が用いられる。
As a more specific example, a nickel-phosphorous electroless plating film (for example, having a thickness of 20 to 30 μm) is formed on the surface of an aluminum-magnesium alloy substrate.
m), and a base film forming substrate (this substrate is also called a substrate) in which the base film is mirror-finished is used.

【0027】一方、スライドピン72の図2上、右端側
には、ベアリング88を介してローラ90を回転自在に
支持したカム当接体80が固定されており、スライドピ
ン72の外周に巻き付けられたコイルスプリング74
が、カム当接体80及びスライドピン72と、支持体6
0との間を、離間するように位置している。この為、ロ
ーラ90がコイルスプリング74の押圧力で偏心カム4
2の外周に当接することとなる。尚、コイルスプリング
74のばね定数は、常時ローラ90が偏心カム42と接
して偏心カム42の形状に沿って往復動するように、通
常、0.05〜0.3Kg/mm程度、としている。また、
コイルスプリング74の取付時の押付け荷重範囲は、通
常1〜3Kgf程度である。
On the other hand, a cam contact body 80 rotatably supporting a roller 90 via a bearing 88 is fixed to the right end side of the slide pin 72 in FIG. 2, and is wound around the outer periphery of the slide pin 72. Coil spring 74
The cam contact body 80 and the slide pin 72 and the support 6
It is positioned so as to be separated from zero. Therefore, the roller 90 is pressed by the eccentric cam 4 by the pressing force of the coil spring 74.
2 comes into contact with the outer periphery. The spring constant of the coil spring 74 is usually about 0.05 to 0.3 kg / mm so that the roller 90 always contacts the eccentric cam 42 and reciprocates along the shape of the eccentric cam 42. Also,
The pressing load range when the coil spring 74 is attached is usually about 1 to 3 kgf.

【0028】さらに、カム当接体80には、スライドピ
ン72と平行に伸びるように位置するスライドピン82
の右端側が固定されていて、スライドピン82の左端側
がスライドブシュ86に嵌入されている。従って、支持
体60に対してカム当接体80が相対的に移動する際
に、一対のスライドピン72、82を有することから支
持体60とカム当接体80との間の相対回転が抑制さ
れ、また、これらスライドピン72、82、カム当接体
80、及びローラ90等がコンタクトロール70の支持
部となる。
Further, the cam contact body 80 has a slide pin 82 positioned so as to extend in parallel with the slide pin 72.
Is fixed at the right end, and the left end of the slide pin 82 is fitted into the slide bush 86. Accordingly, when the cam contact body 80 moves relative to the support body 60, the relative rotation between the support body 60 and the cam contact body 80 is suppressed because the pair of slide pins 72 and 82 are provided. In addition, the slide pins 72 and 82, the cam contact body 80, the roller 90, and the like serve as a support portion of the contact roll 70.

【0029】次に、本実施例による作用を説明する。駆
動モータ14の駆動回転によりギヤ20を介してギヤ2
2が回転し、プーリ26が回転される。この為、ゴムベ
ルト24、38及びプーリ28、30を介してプーリ4
0が回転され(例えば、400〜3000rpm程度)、
この結果として偏心カム42が回転し、偏心カム42と
接するローラ90と共にカム当接体80が、スライドブ
シュ76、86に案内されて、架台12に対して往復動
する。
Next, the operation of this embodiment will be described. The gear 2 is driven through the gear 20 by the drive rotation of the drive motor 14.
2 rotates, and the pulley 26 rotates. For this reason, the pulley 4 is connected via the rubber belts 24, 38 and the pulleys 28, 30.
0 is rotated (for example, about 400 to 3000 rpm),
As a result, the eccentric cam 42 rotates, and the cam contact body 80 is guided by the slide bushes 76 and 86 and reciprocates with respect to the gantry 12 together with the roller 90 that contacts the eccentric cam 42.

【0030】従って、カム当接体80、スライドピン7
2、82と一体となって、コンタクトロール70が円盤
状の基板102の表面であるディスク表面上を往復動
し、コンタクトロール70に巻き掛けられた研磨テープ
104がディスク表面を研磨する。そして、この際の往
復動の幅Sは、偏心量Wの値の2倍の大きさとなる。
Therefore, the cam contact member 80, the slide pin 7
The contact roll 70 reciprocates on the surface of the disk, which is the surface of the disk-shaped substrate 102, and the polishing tape 104 wrapped around the contact roll 70 polishes the surface of the disk. The width S of the reciprocation at this time is twice as large as the value of the amount of eccentricity W.

【0031】すなわち、軽量なコンタクトロール70及
びコンタクトロール70を支持する支持部のみが架台1
2に対して往復動することとなり、コンタクトロール7
0を往復動する際の慣性力が小さくなる結果、高速度で
のコンタクトロール70の往復動が可能となる。具体的
には、従来と同一のクロスハッチ角θであっても、コン
タクトロール70の往復動としては、1分間当たり22
00回の往復動が出来るようになり、これに合わせて、
基板102の駆動回転用のスピンドルの回転数を300
rpm程度とした。
That is, only the lightweight contact roll 70 and the supporting portion for supporting the contact roll 70
Reciprocating with respect to the contact roll 7
As a result, the inertial force at the time of reciprocating at 0 is reduced, so that the contact roll 70 can reciprocate at a high speed. Specifically, even if the crosshatch angle θ is the same as the conventional one, the reciprocating motion of the contact roll 70 is 22 minutes per minute.
00 reciprocating motions can be performed.
The number of rotations of the spindle for driving and rotating the substrate 102 is 300
rpm.

【0032】また、スライドピン82をスライドピン7
2と平行に設置して、コンタクトロール70、コイルス
プリング74及び偏心カム42を直線上からずらすこと
から、偏心カム42を高速回転しても、コンタクトロー
ル70、スライドピン72、コイルスプリング74等が
回動してコンタクトロール70が、がたつくことがない
だけでなく、支持体60に対してコンタクトロール70
が強固に取り付けられる。
Further, the slide pin 82 is
2, the contact roll 70, the coil spring 74, and the eccentric cam 42 are shifted from the straight line so that even if the eccentric cam 42 is rotated at a high speed, the contact roll 70, the slide pin 72, the coil spring 74, etc. When the contact roll 70 is rotated, the contact roll 70 does not rattle.
Is firmly attached.

【0033】次に、本発明の第2実施例に係るテキスチ
ャー装置を図6に示し、この図に基づき本実施例を説明
する。尚、第1実施例と同一の部材には同一の符号を付
し、重複した説明を省略する。
Next, a texture device according to a second embodiment of the present invention is shown in FIG. 6, and this embodiment will be described with reference to FIG. Note that the same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0034】図6に本実施例の全体構成を表わす。テキ
スチャー装置10の外枠を形成する架台12の右下部分
には、回転軸41を介して、偏心カム42を回転自在に
支持するカム支持体36の連結部36Bがねじ止められ
ており、このねじ止めにより、架台12にカム支持体3
6が支持固定されている。
FIG. 6 shows the overall configuration of this embodiment. A connecting portion 36B of a cam support 36 which rotatably supports an eccentric cam 42 is screwed to a lower right portion of the gantry 12 forming an outer frame of the texture device 10 via a rotary shaft 41. The cam support 3 is attached to the gantry 12 by screwing.
6 is supported and fixed.

【0035】また、架台12の下側には、架台12にブ
ラケット112が固定されて、位置している。このブラ
ケット112の先端部を往復動可能に貫通したアーム1
50が、ブラケット112に支持されている。このアー
ム150の先端側150Bは、屈曲して図1上、下側に
延びるアーム52の基端側52Aを挟持し、このアーム
52が、コンタクトロール70を回転自在に支持してい
る。
A bracket 112 is fixed to the gantry 12 below the gantry 12. An arm 1 that penetrates the tip of the bracket 112 so as to be able to reciprocate.
50 is supported by the bracket 112. The distal end 150B of the arm 150 clamps the base end 52A of the arm 52 which is bent and extends downward in FIG. 1, and the arm 52 rotatably supports the contact roll 70.

【0036】一方、アーム150の基端側150Aに
は、ベアリング88(図2参照)を介してローラ90を
回転自在に支持したカム当接体80が固定されており、
アーム150の外周に巻き付けられたコイルスプリング
74が、カム当接体80とブラケット112との間を、
離間するように位置している。
On the other hand, a cam contact body 80 rotatably supporting a roller 90 via a bearing 88 (see FIG. 2) is fixed to the base end 150A of the arm 150.
A coil spring 74 wound around the outer periphery of the arm 150 causes a gap between the cam contact body 80 and the bracket 112 to move.
It is located to be separated.

【0037】他方、架台12の下側に位置する取付部4
8に取り付けられた連結材49とアーム150との間に
は、例えばLMガイド、リニアブシュ等により構成され
て直線状の移動を可能とする直線運動軸受110が介在
されている。
On the other hand, the mounting portion 4 located below the mount 12
A linear motion bearing 110 which is constituted by, for example, an LM guide, a linear bush, or the like and is capable of linear movement is interposed between the connecting member 49 attached to the arm 8 and the arm 150.

【0038】また、本実施例においては、これらアーム
52、150、カム当接体80、及びローラ90等がコ
ンタクトロール70の支持部となる。
In the present embodiment, the arms 52 and 150, the cam contact member 80, the roller 90, and the like serve as a support for the contact roll 70.

【0039】次に、本実施例による作用を説明する。駆
動モータ14の駆動回転によりギヤ20を介してギヤ2
2が回転し、プーリ26が回転される。この為、ゴムベ
ルト38を介してプーリ40が回転され(例えば、40
0〜3000rpm程度)、この結果として偏心カム42
が回転し、偏心カム42と接するローラ90と共にカム
当接体80が、ブラケット112及び直線運動軸受11
0に案内されて、架台12に対して往復動する。
Next, the operation of this embodiment will be described. The gear 2 is driven through the gear 20 by the drive rotation of the drive motor 14.
2 rotates, and the pulley 26 rotates. For this reason, the pulley 40 is rotated via the rubber belt 38 (for example, 40
0 to 3000 rpm). As a result, the eccentric cam 42
The cam contact body 80 together with the roller 90 that contacts the eccentric cam 42 is rotated by the bracket 112 and the linear motion bearing 11.
0, and reciprocate with respect to the gantry 12.

【0040】従って、カム当接体80、アーム52、1
50と一体となって、コンタクトロール70が円盤状の
基板102の表面であるディスク表面上を往復動し、コ
ンタクトロール70に巻き掛けられた研磨テープ104
がディスク表面を研磨する。
Therefore, the cam contact member 80, the arms 52, 1
The contact roll 70 reciprocates on the disk surface, which is the surface of the disk-shaped substrate 102, and the polishing tape 104 wound around the contact roll 70.
Polishes the disk surface.

【0041】すなわち、軽量なコンタクトロール70及
びコンタクトロール70を支持する支持部のみが架台1
2に対して往復動することとなり、コンタクトロール7
0を往復動するの際の慣性力が小さくなる結果、高速度
でのコンタクトロール70の往復動が可能となる。具体
的には、第1実施例と同様に従来と同一のクロスハッチ
角θであっても、コンタクトロール70の往復動として
は、1分間当たり2200回の往復動が出来るようにな
り、これに合わせて、基板102の駆動回転用のスピン
ドルの回転数を300rpm程度とした。
That is, only the lightweight contact roll 70 and the supporting portion for supporting the contact roll 70
Reciprocating with respect to the contact roll 7
As a result of a reduction in the inertial force when the contact roll 70 reciprocates, the contact roll 70 can reciprocate at a high speed. Specifically, as in the first embodiment, even if the crosshatch angle θ is the same as the conventional one, the reciprocating motion of the contact roll 70 can be performed 2,200 reciprocating motions per minute. In addition, the rotational speed of the spindle for driving and rotating the substrate 102 was set to about 300 rpm.

【0042】尚、第1及び第2実施例において、カムを
円形とすると共に軸心をずらした偏心カムとしたが、こ
れに限らず例えば、図4(a)示すように、カム110
の一部に突出部110Aを設けたものであってもよく、
図4(b)示すように、楕円形状のカム112としても
よく、図4(c)示すように、2以上の突出部114A
を有するカム114としてもよい。そして、コンタクト
ロール70は、楕円形状のカム112とした場合、カム
112の1回転で当然に2回往復動することとなり、カ
ム114の1回転で3回往復動することとなる。
In the first and second embodiments, the cam is circular and the eccentric cam is shifted from the axis. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG.
May be provided with a protruding portion 110A at a part thereof,
As shown in FIG. 4B, an elliptical cam 112 may be used, and as shown in FIG.
May be used as the cam 114. When the contact roll 70 is an elliptical cam 112, the contact roll 70 reciprocates naturally twice with one rotation of the cam 112, and reciprocates three times with one rotation of the cam 114.

【0043】そして、上記実施例においては、駆動手段
をカムとしたが、駆動手段としてはカム方式以外にクラ
ンク、エアシリンダ、電磁石等を用いたものとしてもよ
い。
In the above embodiment, the driving means is a cam. However, the driving means may be a cam, an air cylinder, an electromagnet, or the like.

【0044】さらに、上記実施例において、基板102
の片面側の研磨加工のみについて説明したが、テキスチ
ャー装置10をもう1台設置して、同時に基板102の
両面を加工することとしてもよい。
Further, in the above embodiment, the substrate 102
Although only one side of the polishing process has been described, another texture device 10 may be installed and both sides of the substrate 102 may be processed at the same time.

【0045】また、上記実施例においては、研磨テープ
を用いた研磨加工を通して説明したが、遊離砥粒を表面
に付着してしみ込ませた研磨パッド又は、表面を粗面化
した研磨ロールをコンタクトロールとして採用し、コン
タクトロールを直接にディスク表面に当接して研磨を行
う研磨加工に、適用することとしてもよい。更に、ディ
スクと研磨テープとの接触面に界面活性剤水溶液を注ぎ
ながら研磨加工を行うこともできる。
Further, in the above embodiment, the description has been made through the polishing process using a polishing tape. However, a polishing pad in which free abrasive grains are adhered to and impregnated on a surface, or a polishing roll having a roughened surface is a contact roll. The present invention may be applied to a polishing process in which a contact roll is brought into direct contact with a disk surface to perform polishing. Further, the polishing can be performed while pouring the aqueous solution of the surfactant on the contact surface between the disk and the polishing tape.

【0046】尚、研磨加工の際に用いられる遊離砥粒と
しては、代表的には、アルミナ系スラリーのポリプラ7
00やポリプラ103(共に、株式会社フジミインコー
ポレーテッド社の登録商標)、ダイヤモンド系スラリ
ー、SiC系スラリー等が用いられ、研磨パッドとして
は、代表的には、Surfin100やSurfinX
XX−5(共に、株式会社フジミインコーポレーテッド
社の登録商標)等が用いられる。
As the loose abrasive used in the polishing process, typically, an alumina slurry polypropylene 7 is used.
00 and Polypla 103 (both are registered trademarks of Fujimi Incorporated Co., Ltd.), diamond-based slurry, SiC-based slurry, and the like. As a polishing pad, typically, Surfin100 or SurfinX is used.
XX-5 (both are registered trademarks of Fujimi Incorporated) is used.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明のテキスチャー装置は、以上のよ
うに説明した構成とした結果、コンタクトロールを高速
で往復動することが可能となり、ディスク状材料を研磨
加工する際の生産性を高めることを可能とした。
As described above, the texture device of the present invention can reciprocate the contact roll at a high speed as a result of the configuration described above, and can increase the productivity when polishing a disk-shaped material. Was made possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係るテキスチャー装置の
全体構成側面図である。
FIG. 1 is an overall configuration side view of a texture device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の2−2矢視線図である。FIG. 2 is a view taken in the direction of arrow 2-2 in FIG. 1;

【図3】本発明の第1実施例に係るテキスチャー装置の
要部断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a main part of the texture device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例に係るテキスチャー装置のカム
形状を表す正面図である。
FIG. 4 is a front view showing a cam shape of the texture device according to the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1実施例に係るテキスチャー装置に
おける研磨テープの走行系を示す概念図である。
FIG. 5 is a conceptual diagram showing a running system of a polishing tape in the texture device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2実施例に係るテキスチャー装置の
全体構成側面図である。
FIG. 6 is a side view of the overall configuration of a texture device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】クロス加工を説明する斜視図である。FIG. 7 is a perspective view illustrating cloth processing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 テキスチャー装置 12 架台 14 駆動モータ 16 ブラケット 18 ブラケット 36 カム支持体 42 偏心カム 52 アーム(支持部) 60 支持体 70 コンタクトロール 72 スライドピン(支持部) 80 カム当接体(支持部) 82 スライドピン(支持部) 90 ローラ(支持部) 102 基板 104 研磨テープ 150 アーム(支持部) A 条痕 W 偏心量 θ クロスハッチ角 Reference Signs List 10 texture device 12 gantry 14 drive motor 16 bracket 18 bracket 36 cam support 42 eccentric cam 52 arm (support) 60 support 70 contact roll 72 slide pin (support) 80 cam contact body (support) 82 slide pin (Supporting part) 90 Roller (Supporting part) 102 Substrate 104 Polishing tape 150 Arm (Supporting part) A Streak W Eccentricity θ Cross hatch angle

フロントページの続き (72)発明者 森永 宗明 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化 成株式会社水島工場内 (56)参考文献 特開 平2−199617(JP,A) 特開 昭63−200958(JP,A) 特開 平1−115564(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B24B 21/00 B24B 35/00 G11B 5/84 Continuation of the front page (72) Inventor Muneaki Morinaga 3-10, Utsudori, Kurashiki-shi, Okayama Prefecture Inside the Mizushima Plant of Mitsubishi Chemical Corporation (56) References JP-A-2-199617 (JP, A) JP-A-63- 200958 (JP, A) JP-A-1-115564 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B24B 21/00 B24B 35/00 G11B 5/84

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ディスク状材料をテキスチャー処理する
テキスチャー装置であって、 研磨テープの端部を保持するテープリールを保持する架
台と、 前記研磨テープが張架されており、ディスク状材料の表
面にこの研磨テープを圧接するコンタクトロールと、 前記コンタクトロールを支持する支持部と、 前記架台に接続され、前記支持部を前記架台に対して相
対的かつ前記ディスク状材料の回転方向に交差する方向
に往復動可能に支持するアームと、 前記架台に接続され、前記支持部を介して前記コンタク
トロールを往復動する駆動手段と、 を有することを特徴とするテキスチャー装置。
1. A texturing apparatus for texturing a disk-shaped material, comprising: a gantry for holding a tape reel holding an end of a polishing tape; and a pedestal on which the polishing tape is stretched. A contact roll that presses the polishing tape, a support portion that supports the contact roll, and a support portion that is connected to the gantry, and moves the support portion relative to the gantry and in a direction that intersects the rotation direction of the disc-shaped material. A texture device, comprising: an arm that supports reciprocally; and a driving unit that is connected to the gantry and reciprocates the contact roll via the support.
【請求項2】 駆動手段がカム方式であることを特徴と
する請求項1記載のテキスチャー装置。
2. The texture device according to claim 1, wherein the driving means is of a cam type.
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