JP2974315B1 - Stacked semiconductor device - Google Patents

Stacked semiconductor device

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JP2974315B1
JP2974315B1 JP10325681A JP32568198A JP2974315B1 JP 2974315 B1 JP2974315 B1 JP 2974315B1 JP 10325681 A JP10325681 A JP 10325681A JP 32568198 A JP32568198 A JP 32568198A JP 2974315 B1 JP2974315 B1 JP 2974315B1
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

【要約】 【課題】 簡単に同一チップを2つ以上積層することが
できる構造を提供する。 【解決手段】 リードフレーム105を備え、その上方
及び下方にICが形成され、チップ面内の概略同位置に
ボンディングパッドが形成された第1の半導体チップ1
01と第2の半導体チップ103とが配置された積層型
半導体装置Dであって、第1の半導体チップ101とリ
ードフレーム105とをワイヤーボンディングする位置
を、第1の半導体チップ101のボンディングパッド1
01aの位置からチップ面内で離間した位置まで引き出
し線125により引き出し、その位置においてリードフ
レーム105と引き出し線125とがワイヤーボンディ
ングされ、第2の半導体チップ103とリードフレーム
105とは、第2の半導体チップ103のボンディング
パッド103aの位置においてリードフレーム105と
ワイヤーボンディングされている。
An object of the present invention is to provide a structure in which two or more identical chips can be easily stacked. SOLUTION: A first semiconductor chip 1 including a lead frame 105, ICs are formed above and below the lead frame 105, and bonding pads are formed at substantially the same positions in a chip surface.
01 and the second semiconductor chip 103 are arranged, and the position where the first semiconductor chip 101 and the lead frame 105 are wire-bonded is set to the bonding pad 1 of the first semiconductor chip 101.
The lead frame 105 and the lead line 125 are wire-bonded at the position from the position 01a to a position separated in the chip plane by the lead line 125, and the second semiconductor chip 103 and the lead frame 105 are The semiconductor chip 103 is wire-bonded to the lead frame 105 at the position of the bonding pad 103a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パッケージ内に複
数の半導体チップを搭載した積層型半導体装置に関する
ものであり、より詳細には、チップ面内の概略同位置に
前記リードフレームと前記集積回路との電気的接続を形
成するためのワイヤーボンディング用ボンディングパッ
ドが形成された、メモリ回路をその主要部とする少なく
とも2つの半導体チップが積層配置された積層型半導体
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stacked semiconductor device having a plurality of semiconductor chips mounted in a package, and more particularly, to the lead frame and the integrated circuit at substantially the same position in a chip surface. The present invention relates to a stacked semiconductor device in which at least two semiconductor chips each including a memory circuit as a main part and having a bonding pad for wire bonding for forming an electrical connection with the semiconductor chip are stacked.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、半導体パッケージ製造技術の急速
な発展に伴い、制限された面積内に、より多くの半導体
チップを収納配置した、積層型半導体装置の研究開発が
盛んになってきている。特に、メモリ回路をその主要部
とする半導体チップにおいては、例えば2つの同一チッ
プを積層することにより、積層型半導体装置全体として
の記憶容量が2倍になり、限られたスペースを有効に利
用して、記憶容量の増加を実現することができる。
2. Description of the Related Art Recently, with the rapid development of semiconductor package manufacturing technology, research and development of a stacked semiconductor device in which a larger number of semiconductor chips are accommodated and arranged in a limited area has been actively conducted. In particular, in a semiconductor chip having a memory circuit as its main part, for example, by stacking two identical chips, the storage capacity of the stacked semiconductor device as a whole is doubled, and the limited space is effectively used. Thus, an increase in storage capacity can be realized.

【0003】従来、複数の半導体チップを同一パッケー
ジ内に収納した構成を有するものとしては、特開平56
−35444公報に開示されているような構成を有する
構造が提案されている。この公報に開示されている積層
構造を図3に示す。この積層構造Aでは、チップ支持体
1の上下の第1及び第2の2つの半導体チップ3・5が
支持されており、上下からリード線7に対してワイヤー
11によりワイヤーボンディングが形成されている。
Conventionally, a semiconductor device having a configuration in which a plurality of semiconductor chips are housed in the same package is disclosed in
A structure having a configuration as disclosed in JP-A-35444 has been proposed. FIG. 3 shows a laminated structure disclosed in this publication. In this laminated structure A, the first and second two semiconductor chips 3 and 5 above and below the chip support 1 are supported, and wire bonding is formed by wires 11 to the lead wires 7 from above and below. .

【0004】また、特開平63−136642公報に
は、図4に示すような構造が開示されている。この構造
は、上下2つの半導体チップ3・5を積層したものであ
る。リード線7は、チップの積層構造の両側に設けられ
た耐熱性絶縁フィルム17・17と接着層15・15を
介して結合されており、かつ、両側のリード線7・7
は、チップ3・5のボンディングパッド5a・5bと、
バンプ21を介して電気的に接続されて、積層構造Bを
形成している。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-136642 discloses a structure as shown in FIG. In this structure, two upper and lower semiconductor chips 3 and 5 are stacked. The lead wires 7 are connected to heat-resistant insulating films 17 and 17 provided on both sides of the laminated structure of the chip via adhesive layers 15 and 15, and the lead wires 7 and 7 on both sides are connected.
Are bonding pads 5a and 5b of chips 3.5
They are electrically connected via the bumps 21 to form a laminated structure B.

【0005】一方、、図5のa)からd)までの工程に
示すような製造方法も考案されている。この製造方法に
よれば、別々の工程により、半導体チップ23及び半導
体チップ25とそれぞれのリード線27a・27bとの
ワイヤーボンディングを行った後に、これら別個に形成
された構造を裏返しして張り合わせて積層構造Cを形成
する。このような工程を用いれば、同じチップを用いて
も積層構造を形成することができ、例えば、2倍の記憶
容量を有する半導体装置を製造することも可能である。
On the other hand, a manufacturing method as shown in steps a) to d) of FIG. 5 has been devised. According to this manufacturing method, after the semiconductor chips 23 and 25 are wire-bonded to the respective lead wires 27a and 27b in separate steps, these separately formed structures are turned upside down and laminated. Form structure C. By using such a process, a stacked structure can be formed using the same chip. For example, a semiconductor device having twice the storage capacity can be manufactured.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、 図3
に示すような積層構造Aにおいては、上下の半導体チッ
プ3・5が同一の集積回路パターンを有しているような
場合には、ワイヤーボンディングを行うためのボンディ
ングパッドの位置も同じであるため、単に2つの半導体
チップを単に裏返して積層構造を形成するような場合に
は、パッドの位置がずれたりして後のワイヤーボンディ
ング工程が複雑化するという問題点があった。さらに、
上下方向からワイヤーボンディングを行わなければなな
らないため、製造工程が複雑になるというような問題点
も存在していた。
However, FIG.
In the laminated structure A as shown in FIG. 7, when the upper and lower semiconductor chips 3 and 5 have the same integrated circuit pattern, the positions of the bonding pads for performing wire bonding are the same. When the two semiconductor chips are simply turned upside down to form a laminated structure, there is a problem that the position of the pads is shifted and the subsequent wire bonding process is complicated. further,
Since the wire bonding must be performed in the vertical direction, there is a problem that the manufacturing process is complicated.

【0007】一方、図4に示すような積層構造Bにおい
ても、半導体チップ3・5を裏返すし必要があるため、
上記の従来例と同様な問題を解決することはできない上
に、バンプを用いてリードとパッドとを接続するという
工程が必要になる関係上、工程の複雑化が避けられなか
った。さらに、2つの半導体チップを一方は裏返して用
いるということに関連して、チップの回路を2種類用意
する必要があるが、2種類のチップを用意する必要性が
生じるが、このことは、製造コストの上昇を招くという
問題点が生じていた。従って、いずれも構造でも、簡単
には、例えば、メモリの同一チップで二倍の容量を得る
ことは困難な構成であった。
On the other hand, also in the laminated structure B as shown in FIG. 4, since the semiconductor chips 3 and 5 need to be turned over,
The same problems as those in the conventional example described above cannot be solved, and the process of connecting leads and pads using bumps is required, so that the process is inevitably complicated. Further, in connection with the use of two semiconductor chips one inside out, it is necessary to prepare two types of chip circuits. However, it becomes necessary to prepare two types of chips. There has been a problem that the cost is increased. Therefore, even with any structure, it is difficult to easily obtain, for example, twice the capacity of the same chip of the memory.

【0008】さらに、図5に示した製造方法によれば、
2種類のチップを用意する必要はなくなるが、別個に二
回の組立工程が必要となり、結局、製造コストが高くな
るという問題点を避けることはできなかった。本発明
は、上記のような問題点を解決し、簡単な構造で、か
つ、例えば、メモリの同一チップで二倍の容量を得るこ
とができるような構造を提供することにある。
Further, according to the manufacturing method shown in FIG.
It is no longer necessary to prepare two types of chips, but two separate assembling steps are required, and as a result, the problem of increased manufacturing costs cannot be avoided. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a simple structure, for example, capable of obtaining a double capacity with the same chip of a memory.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに、以下の手段を講じた。すなわち、請求項1に係る
積層型半導体装置では、リードフレームを備え、該リー
ドフレームの上方及び下方に、予め集積回路が形成され
たチップ面内の概略同位置に前記リードフレームと前記
集積回路との電気的接続を形成するためのワイヤーボン
ディング用ボンディングパッドが形成された第1の半導
体チップと第2の半導体チップとがチップ面を同一方向
に向けた状態で配置された積層型半導体装置であって、
前記第1の半導体チップと前記リードフレームとをワイ
ヤーボンディングする位置を、前記第1の半導体チップ
の面内に予め設けられているボンディングパッドの位置
からチップ面内で離間した位置まで引き出し配線により
引き出し、その引き出された位置において前記リードフ
レームと前記引き出し配線とがワイヤーボンディングさ
れるとともに、前記第2の半導体チップと前記リードフ
レームとは、前記第2の半導体チップの面内に予め設け
られているボンディングパッドと前記リードフレームと
がワイヤーボンディングされていることを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the following means were taken. In other words, the stacked semiconductor device according to claim 1 includes a lead frame, and the lead frame and the integrated circuit are located above and below the lead frame at approximately the same position in a chip surface on which an integrated circuit is formed in advance. A stacked semiconductor device in which a first semiconductor chip on which bonding pads for wire bonding for forming an electrical connection are formed and a second semiconductor chip are arranged with the chip surfaces oriented in the same direction. hand,
A position where the first semiconductor chip and the lead frame are wire-bonded is drawn out from a position of a bonding pad provided in advance in the surface of the first semiconductor chip to a position separated in the chip surface by a lead wiring. The lead frame and the lead-out wiring are wire-bonded at the pulled-out position, and the second semiconductor chip and the lead frame are provided in advance in the plane of the second semiconductor chip. The bonding pad and the lead frame are wire-bonded.

【0010】請求項1に記載された積層型半導体装置で
は、積層構造によりスペース効率が向上する上に、第1
の半導体チップと第2の半導体チップとがチップ面を同
一方向に向けた状態で配置されており、かつ、リードフ
レームとのボンディングを行う位置がお互いに離間して
いるため、ワイヤーボンディング工程が容易となる。
In the stacked semiconductor device according to the present invention, the space efficiency is improved by the stacked structure,
The semiconductor chip and the second semiconductor chip are arranged with the chip surfaces facing in the same direction, and the positions for bonding with the lead frame are separated from each other, so that the wire bonding process is easy. Becomes

【0011】請求項2に係る積層型半導体装置では、請
求項1に係る積層型半導体装置において、前記第1の半
導体チップ及び第2の半導体チップは、メモリ回路をそ
の主要部として構成されている同一の半導体チップであ
ることを特徴とする。
In the stacked semiconductor device according to the second aspect, in the stacked semiconductor device according to the first aspect, the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are configured with a memory circuit as a main part. It is characterized by being the same semiconductor chip.

【0012】請求項2に記載された積層型半導体装置で
は、前記第1の半導体チップ及び第2の半導体チップ
は、メモリ回路をその主要部として構成されている同一
の半導体チップであるため、スペース効率の良好な状態
を維持しつつメモリ装置の記憶容量を2倍に向上させる
ことが可能である。請求項3に係る積層型半導体装置で
は、請求項1又は請求項2に記載の積層型半導体装置に
おいて、前記引き出し配線は、前記第1の半導体チップ
上に、ポリイミド絶縁膜を介して配線されていることを
特徴とする。
In the stacked semiconductor device according to the present invention, since the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are the same semiconductor chip having a memory circuit as a main part, a space is not required. It is possible to double the storage capacity of the memory device while maintaining good efficiency. In the stacked semiconductor device according to claim 3, in the stacked semiconductor device according to claim 1 or 2, the lead-out wiring is wired on the first semiconductor chip via a polyimide insulating film. It is characterized by being.

【0013】請求項3に記載された積層型半導体装置で
は、引き出し配線がポリイミド絶縁膜を介して配線され
るため、半導体チップ上に予め形成されている集積回路
に対する影響が少なく、かつ、信頼性の高い引き出し配
線を形成することができる。
In the stacked semiconductor device according to the third aspect, since the lead wiring is wired via the polyimide insulating film, the influence on the integrated circuit formed in advance on the semiconductor chip is small and the reliability is reduced. Can be formed.

【0014】請求項4に係る積層型半導体装置では、請
求項1から3までのいずれか1項に記載の積層型半導体
装置において、前記リードフレームと前記第1の半導体
チップ及び前記第2の半導体チップとは、接着テープを
介して固定されていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the stacked semiconductor device according to any one of the first to third aspects, the lead frame, the first semiconductor chip, and the second semiconductor are provided. The chip is characterized by being fixed via an adhesive tape.

【0015】請求項4に記載された積層型半導体装置で
は、前記リードフレームと前記第1の半導体チップ及び
前記第2の半導体チップとは、接着テープを介して固定
されているため、半導体チップを容易かつ確実に半導体
パッケージに固定することができる。
In the stacked semiconductor device according to the present invention, since the lead frame is fixed to the first semiconductor chip and the second semiconductor chip via an adhesive tape, the semiconductor chip may not be connected. It can be easily and reliably fixed to the semiconductor package.

【0016】以上に述べたように、本発明の特徴は、第
1に、パッドまで形成された回路が同一のチップにおい
て一方はポリイミドを塗布し、その上に金属配線を形成
し、元々のチップのパッドからパッドの位置を変更し、
リードフレームを挟むように接着テープで組み立てた積
層型半導体装置である。
As described above, the feature of the present invention is that, first, in a chip in which a circuit formed up to a pad is the same, one of the chips is coated with polyimide, and a metal wiring is formed thereon, thereby forming an original chip. Change the position of the pad from the pad of
This is a stacked semiconductor device assembled with an adhesive tape so as to sandwich a lead frame.

【0017】第2に、チップは主にメモリ回路を有する
ものであり、回路はパッドがセンタ部分に配置されたも
のか、周辺部に配置されたものかのいずれかを使用し、
センタ部分にパッドが配置されたものは、一方をポリイ
ミド上の金属配線にてボンディング点が周辺へ移動する
ように配線し、リードの上でへワイヤボンディングにて
組み立て、もう一方はリードの下でセンタパッドからリ
ードへワイヤボンディングして組み立てている。
Second, the chip mainly has a memory circuit, and the circuit uses either a pad arranged in a center portion or a pad arranged in a peripheral portion,
In the case where the pad is placed in the center part, one is wired with metal wiring on polyimide so that the bonding point moves to the periphery, assembled by wire bonding on the lead, and the other is under the lead Assembled by wire bonding from center pad to lead.

【0018】第3に、同じく、チップの周辺にパッドを
有するチップは、一方をポリイミド上に周辺パッドから
中央付近へパッドが移動するように金属配線を形成し、
同様に組み立てている。
Third, similarly, a chip having pads on the periphery of the chip is formed with metal wiring on one side of the polyimide so that the pad moves from the peripheral pad to the vicinity of the center,
Assembled similarly.

【0019】第4に、全体を樹脂封入し、リードを曲げ
て、いわゆるTSOP型のパッケージとし 、プリント
板への実装方法がTSOPと同様になる。
Fourth, the whole is encapsulated with resin, and the leads are bent to form a so-called TSOP type package. The mounting method on a printed board is the same as that of TSOP.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。本発明の構成を図面を用
いて説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態とし
て示した積層型半導体装置を示している。この積層型半
導体装置Dでは、厚さ200〜300ミクロン程度の半
導体メモリチップ101・103の中央部分にのみパッ
ド101a・103aが配列された同一の二つのチップ
を、スタック方式で組み立てた半導体装置の構成であ
る。チップ101は、厚さ125ミクロンのリード線1
05の下に厚さ60ミクロンの接着テープ107を配置
して、リード線105とチップ101とを接合してい
る。センタパッド101aからリード線105へは、直
径20〜30ミクロンのワイヤー111によりワイヤー
ボンディングを行う。次にチップ103は、チップ表面
に厚さ10ミクロンのポリイミド膜121を塗布し、パ
ッド103aから周辺の所定の位置まで厚さ1〜2ミク
ロンの引き出し線(金属配線)125を蒸着法等を用い
て形成する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The configuration of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a stacked semiconductor device shown as a first embodiment of the present invention. In this stacked semiconductor device D, the same two chips in which pads 101a and 103a are arranged only in the central portion of semiconductor memory chips 101 and 103 having a thickness of about 200 to 300 microns are assembled by a stack method. Configuration. The chip 101 is a lead wire 125 having a thickness of 125 microns.
An adhesive tape 107 having a thickness of 60 microns is arranged below the lead wire 05 and the lead wire 105 and the chip 101 are joined. Wire bonding is performed from the center pad 101a to the lead wire 105 using a wire 111 having a diameter of 20 to 30 microns. Next, the chip 103 is coated with a polyimide film 121 having a thickness of 10 μm on the chip surface, and a lead wire (metal wiring) 125 having a thickness of 1 to 2 μm is formed from the pad 103a to a predetermined peripheral position by a vapor deposition method or the like. Formed.

【0021】次に、チップ103をリード線105の上
の接着テープ135を用いてリード線105とチップ1
03の裏面とを接合する。そして、引き出し線125の
端部からリード線105へとワイヤー141によりワイ
ヤーボンディングを行う。次に、金型を用いて樹脂15
5を封入し、所定の外形形状を形成する。次いで、リー
ド線105を下方に曲げて厚さ1000ミクロンのTS
OPのパッケージDとする。
Next, the chip 103 is connected to the lead wire 105 and the chip 1 by using an adhesive tape 135 on the lead wire 105.
03 is bonded to the back surface. Then, wire bonding is performed by a wire 141 from the end of the lead wire 125 to the lead wire 105. Next, using a mold, the resin 15
5 to form a predetermined outer shape. Next, the lead wire 105 is bent downward to form a 1000 micron thick TS.
This is an OP package D.

【0022】次に、本発明の積層型半導体装置の第2の
実施の形態について図2を参照して説明する。図2は同
じメモリ回路を有する2つの半導体チップ201・20
3であって、周辺のみにパッド201a・201b、2
03a・203bが配置されたチップを上下方向に2個
積層配置する構成を示している。
Next, a stacked semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows two semiconductor chips 201 and 20 having the same memory circuit.
3, pads 201a and 201b,
This shows a configuration in which two chips on which 03a and 203b are arranged are vertically stacked.

【0023】この積層構造を製造するためには、まず、
チップ201の表面に第1の実施の形態におけるチップ
103の場合と同様にして、引き出し線(金属配線)2
25を形成する。チップ201とリード線205とは、
接着テープ207を介して接合する。引き出し線225
は、ボンディング位置を、周辺のパッド201a・20
1bからチップの中央部に移動可能なように配置されて
いる。中央付近に再配置された引き出し線225の端部
225a・225bからリード線205に向けてワイヤ
ー231によりワイヤーボンディングを行う。次に、チ
ップ203に関しては、リード線205の上に同じく接
着テープ251を介して接合し、周辺のパッド203a
・203bからリード線205に向かってワイヤー26
1によりワイヤーボンディングを行う。最後に、第1の
実施の形態と同様に、同様に樹脂封入、リード成形を行
って製品とする。
In order to manufacture this laminated structure, first,
In the same manner as in the case of the chip 103 in the first embodiment, the lead wire (metal wiring) 2 is provided on the surface of the chip 201.
25 are formed. The chip 201 and the lead wire 205
The bonding is performed via the adhesive tape 207. Leader 225
Indicates the bonding position to the surrounding pads 201a and 20a.
1b so as to be movable to the center of the chip. Wire bonding is performed by wires 231 from the ends 225a and 225b of the lead wire 225 rearranged near the center to the lead wire 205. Next, the chip 203 is bonded to the lead wire 205 via the adhesive tape 251 in the same manner, and the peripheral pads 203 a
The wire 26 from 203b to the lead wire 205
The wire bonding is performed according to 1. Finally, similarly to the first embodiment, resin encapsulation and lead molding are performed to obtain a product.

【0024】以上のような方法によれば、2つのメモリ
チップの表面を、いずれも上方(又は下方)に向けてワ
イヤーボンディングを行うことが出来、かつ、ボンディ
ング位置も異なるため、工程の複雑かを避けつつ、チッ
プの積層構造を実現することができる。
According to the above-described method, wire bonding can be performed with both surfaces of the two memory chips facing upward (or downward), and the bonding positions are also different. And a stacked structure of chips can be realized.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明の積層型半導体装置では、同一の
集積回路が形成された2つのチップのうち一方に金属配
線を施してリードまでのワイヤボンディングに使用する
パッドの位置を移動することにより、上下に積み重ねた
二つの半導体チップをスペース効率良く積層することが
できる。
According to the stacked semiconductor device of the present invention, one of two chips on which the same integrated circuit is formed is provided with metal wiring and the position of a pad used for wire bonding up to a lead is moved. In addition, two semiconductor chips stacked one above the other can be stacked with good space efficiency.

【0026】すなわち、 請求項1に記載された積層型
半導体装置では、積層構造によりスペース効率が向上す
る上に、第1の半導体チップと第2の半導体チップとが
チップ面を同一方向に向けた状態で配置されており、か
つ、リードフレームとのボンディングを行う位置がお互
いに離間しているため、ワイヤーボンディング工程が容
易となる。
That is, in the stacked semiconductor device according to the first aspect, space efficiency is improved by the stacked structure, and the first semiconductor chip and the second semiconductor chip have their chip surfaces oriented in the same direction. Since they are arranged in a state and the positions for bonding with the lead frame are separated from each other, the wire bonding step is facilitated.

【0027】請求項2に記載された積層型半導体装置で
は、前記第1の半導体チップ及び第2の半導体チップ
は、メモリ回路をその主要部として構成されている同一
の半導体チップであるため、スペース効率の良好な状態
を維持しつつメモリ装置の記憶容量を2倍に向上させる
ことが可能である。
In the stacked semiconductor device according to the second aspect, since the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are the same semiconductor chip having a memory circuit as a main part thereof, a space is not required. It is possible to double the storage capacity of the memory device while maintaining good efficiency.

【0028】従って、従来は、二倍の容量を有する半導
体装置を得るためにはチップの回路を新規設計する必要
があったが、本発明の方式では既存の十分量産の採算に
合うチップを使用するので低コストで製造できる。
Therefore, conventionally, it was necessary to newly design a chip circuit in order to obtain a semiconductor device having twice the capacity. However, in the system of the present invention, a chip which is suitable for existing mass production is used. Therefore, it can be manufactured at low cost.

【0029】請求項3に記載された積層型半導体装置で
は、引き出し配線がポリイミド絶縁膜を介して配線され
るため、半導体チップ上に予め形成されている集積回路
に対する影響が少なく、かつ、信頼性の高い引き出し配
線を形成することができる。
In the stacked semiconductor device according to the third aspect, since the lead wiring is wired via the polyimide insulating film, the influence on the integrated circuit formed in advance on the semiconductor chip is small and the reliability is improved. Can be formed.

【0030】請求項4に記載された積層型半導体装置で
は、前記リードフレームと前記第1の半導体チップ及び
前記第2の半導体チップとは、接着テープを介して固定
されているため、半導体チップを容易かつ確実に半導体
パッケージに固定することができる。
In the stacked semiconductor device according to the fourth aspect, since the lead frame is fixed to the first semiconductor chip and the second semiconductor chip via an adhesive tape, the semiconductor chip is mounted on the semiconductor chip. It can be easily and reliably fixed to the semiconductor package.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態として示した半導
体チップの積層構造の側面図である。
FIG. 1 is a side view of a stacked structure of a semiconductor chip shown as a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第2の実施の形態として示した半導
体チップの積層構造の側面図である。
FIG. 2 is a side view of a stacked structure of a semiconductor chip shown as a second embodiment of the present invention.

【図3】 半導体チップの積層構造に関する第1の従来
例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a first conventional example relating to a laminated structure of a semiconductor chip.

【図4】 半導体チップの積層構造に関する第2の従来
例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a second conventional example relating to a laminated structure of a semiconductor chip.

【図5】 半導体チップの積層構造に関する第3の従来
例として示した製造工程である。
FIG. 5 shows a manufacturing process shown as a third conventional example relating to a laminated structure of a semiconductor chip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

D 積層構造 101 第1の半導体チップ 101a 第1の半導体チップのボンディングパッド 103 第2の半導体チップ 103a 第2の半導体チップのボンディングパッド 105 リード線(リードフレーム) 107 接着テープ 111 ワイヤー 121 ポリイミド 125 引き出し線(金属配線) 135 接着テープ 141 ワイヤー D Stacked structure 101 First semiconductor chip 101a Bonding pad of first semiconductor chip 103 Second semiconductor chip 103a Bonding pad of second semiconductor chip 105 Lead wire (lead frame) 107 Adhesive tape 111 Wire 121 Polyimide 125 Lead wire (Metal wiring) 135 Adhesive tape 141 Wire

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 リードフレームを備え、該リードフレー
ムの上方及び下方に、予め集積回路が形成されたチップ
面内の概略同位置に前記リードフレームと前記集積回路
との電気的接続を形成するためのワイヤーボンディング
用ボンディングパッドが形成された第1の半導体チップ
と第2の半導体チップとがチップ面を同一方向に向けた
状態で配置された積層型半導体装置であって、 前記第1の半導体チップと前記リードフレームとをワイ
ヤーボンディングする位置を、前記第1の半導体チップ
の面内に予め設けられているボンディングパッドの位置
からチップ面内で離間した位置まで引き出し配線により
引き出し、その引き出された位置において前記リードフ
レームと前記引き出し配線とがワイヤーボンディングさ
れるとともに、 前記第2の半導体チップと前記リードフレームとは、前
記第2の半導体チップの面内に予め設けられているボン
ディングパッドと前記リードフレームとがワイヤーボン
ディングされていることを特徴とする積層型半導体装
置。
1. A semiconductor device comprising a lead frame, wherein electrical connections between the lead frame and the integrated circuit are formed above and below the lead frame at approximately the same position in a chip surface on which an integrated circuit is formed in advance. A stacked semiconductor device in which a first semiconductor chip on which a bonding pad for wire bonding is formed and a second semiconductor chip are arranged with the chip surfaces facing in the same direction, wherein the first semiconductor chip The position where the wire bonding is performed between the lead frame and the lead frame is drawn out from the position of a bonding pad provided in advance in the plane of the first semiconductor chip to a position separated in the plane of the chip by a lead wiring. In the above, the lead frame and the lead-out wiring are wire-bonded, and the second The conductor chip and the lead frame, a stacked semiconductor device in which the bonding pads are provided in advance in the plane of the second semiconductor chip and the lead frame is characterized in that it is wire bonding.
【請求項2】 前記第1の半導体チップ及び第2の半導
体チップは、メモリ回路をその主要部として構成されて
いる同一の半導体チップであることを特徴とする請求項
1に記載の積層型半導体装置。
2. The stacked semiconductor according to claim 1, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are the same semiconductor chip having a memory circuit as a main part. apparatus.
【請求項3】 前記引き出し配線は、前記第1の半導体
チップ上に、ポリイミド絶縁膜を介して配線されている
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の積層型半導体
装置。
3. The stacked semiconductor device according to claim 1, wherein the lead wiring is wired on the first semiconductor chip via a polyimide insulating film.
【請求項4】 前記リードフレームと前記第1の半導体
チップ及び前記第2の半導体チップとは、接着テープを
介して固定されていることを特徴とする請求項1から3
までのいずれか1項に記載の積層型半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the lead frame, the first semiconductor chip, and the second semiconductor chip are fixed via an adhesive tape.
13. The stacked semiconductor device according to claim 1.
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