JP2973143B2 - Process for producing 3-acylamino-6-phenyloxy-7-alkylsulfonylamino-4H-1-benzopyran-4-one or a salt thereof - Google Patents

Process for producing 3-acylamino-6-phenyloxy-7-alkylsulfonylamino-4H-1-benzopyran-4-one or a salt thereof

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JP2973143B2
JP2973143B2 JP3292067A JP29206791A JP2973143B2 JP 2973143 B2 JP2973143 B2 JP 2973143B2 JP 3292067 A JP3292067 A JP 3292067A JP 29206791 A JP29206791 A JP 29206791A JP 2973143 B2 JP2973143 B2 JP 2973143B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、抗炎症剤として有用な
3−アシルアミノ−6−フェニルオキシ−7−アルキル
スルホニルアミノ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
誘導体またはその塩の工業的製造法に関する。
The present invention relates to an industrial process for producing a 3-acylamino-6-phenyloxy-7-alkylsulfonylamino-4H-1-benzopyran-4-one derivative or a salt thereof useful as an anti-inflammatory agent. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】抗炎症剤として有用な3−アシルアミノ
−6−フェニルオキシ−7−アルキルスルホニルアミノ
−4H−1−ベンゾピラン−4−オンまたはその塩の製
造法は、特開平2-49778号公報に開示されている。しか
し、該公報記載の種々の方法は、長い工程および低収率
の工程を含むため、特に4H−1−ベンゾピラン−4−
オンの3位にアシルアミノ基を導入した化合物の工業的
製造法としては十分でなかった。また、それらの方法の
中で、中間体である、N−アシルアミノメチル=2−ヒ
ドロキシ−4−低級アルキルスルホニルアミノ−5−フ
ェノキシフェニル=ケトンを環形成化反応に付すことに
より上記目的化合物を得る方法が記載されている。一
方、ベンゼン誘導体にアシルアミノアセチル基を直接的
に導入する手法として、(a)N−アシルグリシン誘導
体、たとえば、アシルアミノ酢酸ハライドを用いた、い
わゆるフリーデル−クラフツ(Friedel−Crafts)反
応による方法{ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー[J.Am.Chem.Soc.,103,6157〜6163(19
81)]、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリ
ー[J.Org.Chem.,50,3481〜3484(1985)}が知られてい
る。
2. Description of the Related Art A method for producing 3-acylamino-6-phenyloxy-7-alkylsulfonylamino-4H-1-benzopyran-4-one or a salt thereof useful as an anti-inflammatory agent is disclosed in JP-A-2-49778. Is disclosed. However, since the various methods described in the publication include long steps and low yield steps, particularly, 4H-1-benzopyran-4-
It was not sufficient as an industrial production method of a compound having an acylamino group introduced at the 3-position of ON. In these methods, the above-mentioned target compound is obtained by subjecting an intermediate, N-acylaminomethyl = 2-hydroxy-4-lower alkylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl = ketone, to a ring-forming reaction. The method of obtaining is described. On the other hand, as a method for directly introducing an acylaminoacetyl group into a benzene derivative, (a) a method by a so-called Friedel-Crafts reaction using an N-acylglycine derivative, for example, an acylaminoacetic acid halide { Journal of American Chemical Society [J. Am. Chem. Soc., 103 , 6157-6163 (19
81)], and Journal of Organic Chemistry [J. Org. Chem., 50 , 3481-3484 (1985)}.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】3−アシルアミノ−6
−フェニルオキシ−7−アルキルスルホニルアミノ−4
H−1−ベンゾピラン−4−オンまたはその塩の工業的
製造法において、工程数が少なく、かつ高収率で目的物
を得る方法の開発が望まれていた。
SUMMARY OF THE INVENTION 3-Acylamino-6
-Phenyloxy-7-alkylsulfonylamino-4
In an industrial process for producing H-1-benzopyran-4-one or a salt thereof, it has been desired to develop a process for obtaining the desired product in a small number of steps and in a high yield.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、特開平2-
49778号公報に開示の製造法の中で、ー般式[3a]
Means for Solving the Problems The present inventors have disclosed Japanese Patent Laid-Open No.
Among the production methods disclosed in Japanese Patent Publication No. 49778, general formula [3a]

【化5】 「式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を;R2は、低級アルキル基を;R4は、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアシル基または水素原
子を、それぞれ示す。」で表わされる化合物またはその
塩を、環形成化反応に付し、目的とする一般式[4]
Embedded image Wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with a halogen atom; R 2 is a lower alkyl group; R 4 is an acyl group or a hydrogen atom optionally substituted with a halogen atom; Or a salt thereof, which is subjected to a ring-forming reaction to obtain the desired general formula [4].

【化6】 「式中、R5は、ハロゲン原子で置換されていもよいア
シル基を;R1およびR2は、それぞれ上記と同様の意味
を有する。」で表わされる3−アシルアミノ−6−フェ
ニルオキシ−7−アルキルスルホニルアミノ−4H−1
−ベンゾピラン−4−オンまたはその塩を得る方法が工
業的に有利な方法であると考え、一般式[3a]の化合
物またはその塩の製造法を種々検討した。
Embedded image Wherein R 5 is an acyl group which may be substituted with a halogen atom; R 1 and R 2 have the same meanings as described above, respectively. -Alkylsulfonylamino-4H-1
The method of obtaining -benzopyran-4-one or a salt thereof was considered to be an industrially advantageous method, and various methods for producing a compound of the general formula [3a] or a salt thereof were examined.

【0005】ベンゼン誘導体に、アシルアミノアセチル
基を直接導入するための手法としての上記(a)の方法
は、通常、低収率である。一方、トリフルオロアセチル
基をベンゼン誘導体に直接導入する上記(a)の方法は比
較的収率が良いが、工業的には極めて不利である。さら
に、ベンゼン誘導体として一般式[1]
The above method (a) as a method for directly introducing an acylaminoacetyl group into a benzene derivative usually has a low yield. On the other hand, the method (a) in which a trifluoroacetyl group is directly introduced into a benzene derivative has a relatively high yield, but is extremely disadvantageous industrially. Further, as a benzene derivative, a compound represented by the general formula [1]:

【化7】 「式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を;R2は、低級アルキル基を;R3は、水素
原子または低級アルキル基を、それぞれ示す。」で表わ
される化合物を用いて反応を行うと、目的とする置換位
置にアシルアミノアセチル基が導入された化合物が得ら
れる一方、R1のハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基のパラ位(4位)にアシルアミノアセチル基
が導入された化合物も多量に得られ、目的とする一般式
[3]
Embedded image Wherein R 1 represents a phenyl group which may be substituted with a halogen atom; R 2 represents a lower alkyl group; and R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. When the reaction is carried out using, a compound having an acylaminoacetyl group introduced at the desired substitution position is obtained, while the phenyl group which may be substituted with a halogen atom of R 1 is substituted at the para position (4 position). A large amount of a compound into which an acylaminoacetyl group has been introduced can be obtained, and the desired compound represented by the general formula [3]

【化8】 の化合物またはその塩を高収率で得ることができない。Embedded image Cannot be obtained in high yield.

【0006】このような状況下、一般式[1]の化合物
に一般式[2]
Under these circumstances, the compound of the general formula [1] is added to the compound of the general formula [2].

【化9】 「式中、R4は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
アシル基または水素原子を示す。」で表わされるニトリ
ル誘導体またはその塩を反応させたところ、意外なこと
に、一般式[3]で表わされる化合物またはその塩が高
収率で得られることを見出し、本発明を完成した。
Embedded image When a nitrile derivative or a salt thereof represented by “wherein R 4 represents an acyl group or a hydrogen atom which may be substituted with a halogen atom” is reacted, unexpectedly, the compound represented by the general formula [3] It has been found that a compound represented by the formula or a salt thereof can be obtained in a high yield, and the present invention has been completed.

【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において、特に断わらない限り、ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子など
を;低級アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、
n-プロピル、iso-プロピル、n-ブチル、iso-ブチル、te
rt-ブチルおよびペンチルなどのようなC15アルキル
基を;アシル基とは、たとえば、ホルミル基またはアセ
チル、プロピオニルおよびブチリル基などのようなC2
8アルカノイル基をそれぞれ意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, unless otherwise specified, a halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; a lower alkyl group includes, for example, methyl, ethyl,
n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, te
rt- butyl and C 1 ~ 5 alkyl group such as pentyl; Acyl groups, e.g., C 2, such as formyl or acetyl, propionyl and butyryl group
~ 8 alkanoyl groups respectively.

【0008】本発明は、以下の製造ルートで示される。The present invention is shown by the following manufacturing route.

【式1】 「式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、それぞれ上
記と同様の意味を有する。」
(Equation 1) "In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each have the same meaning as described above."

【0009】一般式[2]の化合物の塩としては、たと
えば、塩酸塩、硫酸塩および硫酸水素塩などのような鉱
酸との塩が挙げられ、その中で塩酸塩が最も好ましい。
一般式[3]の化合物の塩としては、塩酸塩および硫酸
塩などの鉱酸との塩;シュウ酸塩のようなカルボン酸と
の塩;p-トルエンスルホン酸塩のようなスルホン酸との
塩が挙げられる。一般式[4]の化合物の塩としては、
ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩;
カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属
との塩;アンモニウム塩;トリエチルアミンおよびピリ
ジンなどのアミン類との塩;並びにリジンおよびアルギ
ニンなどのアミノ酸との塩などが挙げられる。
The salt of the compound of the general formula [2] includes, for example, salts with mineral acids such as hydrochloride, sulfate and hydrogensulfate, among which hydrochloride is most preferred.
Salts of the compound of the general formula [3] include salts with mineral acids such as hydrochlorides and sulfates; salts with carboxylic acids such as oxalates; salts with sulfonic acids such as p-toluenesulfonate Salts. As the salt of the compound of the general formula [4],
Salts with alkali metals such as sodium and potassium;
Salts with alkaline earth metals such as calcium and magnesium; ammonium salts; salts with amines such as triethylamine and pyridine; and salts with amino acids such as lysine and arginine.

【0010】つぎに、本発明を前記製造ルートにしたが
って、詳細に説明する。 (1)一般式[1]の化合物を溶媒中、ルイス酸の存在下
またはルイス酸および酸性ガスの存在下、一般式[2]
の化合物またはその塩と反応させることにより一般式
[3]の化合物またはその塩を得ることができる。 この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ニトロベンゼン;ニトロメタンおよびニトロエタンなど
のようなニトロ化合物類;スルホラン;塩化メチレンお
よび1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類;シュウ酸ジエチルおよび酢酸エチルなどのエステル
類;並びにアセトニトリルのようなニトリル類などが挙
げられ、これらは適宜混合して用いてもよい。好ましい
溶媒としては、ニトロベンゼン、ニトロメタンまたはニ
トロエタンなどのようなニトロ化合物類に塩化メチレン
のようなハロゲン化炭化水素類を混合した溶媒が挙げら
れる。この反応に使用されるルイス酸としては、たとえ
ば、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化亜鉛、
塩化スズおよび塩化チタンが挙げられ、特に塩化アルミ
ニウムが好ましい。酸性ガスを使用しない場合、ルイス
酸としては三臭化ホウ素または三塩化ホウ素を使用し、
さらに、塩化アルミニウムまたは臭化アルミニウムを添
加してもよい。この反応に使用される酸性ガスとして
は、たとえば、塩化水素および臭化水素などが挙げられ
る。一般式[2]の化合物またはその塩の使用量は、一
般式[1]の化合物に対し0.3〜3倍モルであり、ルイス
酸の使用量は、一般式[2]の化合物またはその塩に対
し1.1〜5倍モルであり、好ましくは1.1〜4倍モルであ
る。また、酸性ガスの使用量は一般式[2]またはその
塩に対し1〜20倍モルであり、好ましくは1〜4倍モルで
ある。この反応は通常、10〜40℃、好ましくは20〜35℃
で実施される。反応時間は、使用するルイス酸、導入す
る酸性ガス量、反応温度、用いられる有機溶媒により適
宜選択できるが、通常、4〜20時間である。また、この
反応において、反応速度を調節するために、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウムまたは塩化アンモニウムなどを添加
することもできる。この反応において、得られた化合物
を加水分解することによって、一般式[3]の化合物へ
導くことができる。一般式[1]の化合物は、たとえ
ば、特開平2-49778号に記載の方法で、また、一般式
[2]の化合物またはその塩は、たとえば、ケミカル・
ファーマシューティカル・ブレチン[Chem.Pharm.Bul
l.,13,1319〜1325(1965)]に記載の方法で製造すればよ
い。
Next, the present invention will be described in detail according to the manufacturing route. (1) The compound of the general formula [1] is reacted with a compound of the general formula [1] in a solvent in the presence of a Lewis acid or in the presence of a Lewis acid and an acid gas.
By reacting with the compound of the formula (I) or a salt thereof, the compound of the general formula [3] or a salt thereof can be obtained. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction.
Nitrobenzenes; nitro compounds such as nitromethane and nitroethane; sulfolane; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and 1,2-dichloroethane; esters such as diethyl oxalate and ethyl acetate; and nitriles such as acetonitrile. And these may be appropriately mixed and used. Preferred solvents include a mixture of a nitro compound such as nitrobenzene, nitromethane or nitroethane and a halogenated hydrocarbon such as methylene chloride. Examples of the Lewis acid used in this reaction include aluminum chloride, aluminum bromide, zinc chloride,
Examples include tin chloride and titanium chloride, with aluminum chloride being particularly preferred. If no acid gas is used, use boron tribromide or boron trichloride as the Lewis acid,
Further, aluminum chloride or aluminum bromide may be added. Examples of the acidic gas used in this reaction include hydrogen chloride and hydrogen bromide. The amount of the compound of the general formula [2] or a salt thereof is 0.3 to 3 times the molar amount of the compound of the general formula [1]. It is 1.1 to 5 times mol, and preferably 1.1 to 4 times mol. The amount of the acid gas used is 1 to 20 times, preferably 1 to 4 times the mol of the general formula [2] or a salt thereof. This reaction is usually performed at 10 to 40 ° C, preferably 20 to 35 ° C.
Will be implemented. The reaction time can be appropriately selected depending on the Lewis acid to be used, the amount of the acidic gas to be introduced, the reaction temperature, and the organic solvent to be used, but is usually 4 to 20 hours. In this reaction, sodium chloride, potassium chloride, ammonium chloride or the like can be added to adjust the reaction rate. In this reaction, the resulting compound is hydrolyzed to lead to the compound of the general formula [3]. The compound of the general formula [1] can be prepared, for example, by the method described in JP-A-2-49778, and the compound of the general formula [2] or a salt thereof can be prepared, for example, by the method described in Chemical
Pharmaceutical Bulletin [Chem.Pharm.Bul
l, 13 , 1319-1325 (1965)].

【0011】(2)一般式[3]の化合物またはその塩を
環形成化反応に付すことにより、一般式[4]の化合物
またはその塩を得ることができる。 この環形成化反応には環化縮合剤が用いられるが、その
環化縮合剤としては、たとえば、N,N−ジメチルホル
ムアミドジメチルアセタールもしくはN,N−ジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールなどのN,N−ジメチ
ルホルムアミドジ低級アルキルアセタール;N,N−ジ
メチルホルムアミドジシクロヘキシルアセタール;オル
トギ酸メチルもしくはオルトギ酸エチルなどのオルトギ
酸エステルとピリジンまたは無水酢酸の組み合せ;オキ
シ塩化リンとN,N−ジメチルホルムアミドの組合せに
よるビルスマイヤー試薬;またはギ酸と酢酸との混合酸
無水物とギ酸ナトリウムとの組合せなどが挙げられ、こ
れらは、それぞれ、反応系内で調製して用いてもよい。
この反応は溶媒中で行うこともでき、使用される溶媒と
しては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限
定されないが、たとえば、N,N−ジメチルホルムアミ
ドのようなアミド類;メタノ−ルのようなアルコ−ル
類;塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素類;ジオ
キサンおよびテトラヒドロフランなどのエ−テル類;酢
酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;並びにア
セトニトリルのようなニトリル類が挙げられる。また、
環化縮合剤を過剰量用いることによって、溶媒兼用とす
ることもできる。この反応において、副反応を抑制する
ために、氷酢酸などを添加してもよい。環化縮合剤の使
用量は、一般式[3]の化合物またはその塩に対し、1
〜10倍モルである。この反応における反応温度および反
応時間は、通常、−30〜150℃、好ましくは10〜100℃
で、1〜24時間である。
(2) A compound of the general formula [4] or a salt thereof can be obtained by subjecting the compound of the general formula [3] or a salt thereof to a ring-forming reaction. A cyclizing condensing agent is used in the ring forming reaction. Examples of the cyclizing condensing agent include N, N-dimethyl such as N, N-dimethylformamide dimethyl acetal or N, N-dimethylformamide diethyl acetal. Formamide di-lower alkyl acetal; N, N-dimethylformamide dicyclohexyl acetal; Combination of orthoformate such as methyl or ethyl orthoformate with pyridine or acetic anhydride; Vilsmeier by combination of phosphorus oxychloride and N, N-dimethylformamide A reagent; or a combination of a mixed acid anhydride of formic acid and acetic acid and sodium formate, each of which may be prepared and used in a reaction system.
This reaction can be carried out in a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. For example, amides such as N, N-dimethylformamide; methanol Alcohols such as methylene chloride; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; esters such as methyl acetate and ethyl acetate; and nitriles such as acetonitrile. Also,
By using an excess amount of the cyclizing condensing agent, it can be used also as a solvent. In this reaction, glacial acetic acid or the like may be added to suppress a side reaction. The amount of the cyclizing condensing agent used is 1 to the compound of the general formula [3] or a salt thereof.
It is about 10 times mol. The reaction temperature and reaction time in this reaction are usually -30 to 150 ° C, preferably 10 to 100 ° C.
It takes 1 to 24 hours.

【0012】また、R3が低級アルキル基である一般式
[3]の化合物またはその塩は、通常の脱アルキル化、
たとえば、ケミカル・ファーマシューティカル・ブレチ
ン[Chem.Pharm.Bull.,31,4178〜4180(1983)]に記載の
方法で脱アルキル化を行った後、環形成化反応に付せば
よい。また、R4が水素原子である一般式[3]の化合
物またはその塩は、公知のアシル化反応に付し、必要に
応じて上記した脱アルキル反応を行った後、環形成化反
応に付せばよい。上記した製造法における一般式[1]
の化合物、一般式[2]、[3]および[4]の化合物
またはそれらの塩において、異性体(たとえば、光学異
性体、幾何異性体、互変異性体など)が存在する場合、
これらの全ての異性体を使用することができ、また、全
ての水和物、溶媒和物および種々の結晶形を使用するこ
とができる。このようにして得られた本発明の一般式
[3]または[4]の化合物またはそれらの塩は、抽
出、晶出、再結晶およびカラム分離などのような常法に
従って、単離精製することができる。
The compound of the general formula [3] wherein R 3 is a lower alkyl group or a salt thereof can be prepared by the usual dealkylation,
For example, after performing dealkylation by the method described in Chemical Pharmaceutical Bulletin [Chem. Pharm. Bull., 31 , 4178-4180 (1983)], a ring-forming reaction may be performed. Further, the compound of the general formula [3] or a salt thereof in which R 4 is a hydrogen atom is subjected to a known acylation reaction, and if necessary, to the above-described dealkylation reaction, and then to a ring formation reaction. I should do it. General formula [1] in the above-mentioned production method
In the compound of the formula, the compounds of the general formulas [2], [3] and [4] or salts thereof, when isomers (for example, optical isomers, geometric isomers, tautomers, etc.) are present,
All these isomers can be used, and all hydrates, solvates and various crystal forms can be used. The thus-obtained compound of the general formula [3] or [4] of the present invention or a salt thereof may be isolated and purified according to a conventional method such as extraction, crystallization, recrystallization and column separation. Can be.

【実施例】【Example】

【0013】つぎに、本発明を実施例を挙げて説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。また、
IRにおける波数はカルボニルの吸収を示し、表中の
[ ]は再結晶溶媒を示す。
Next, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Also,
The wave number in IR indicates carbonyl absorption, and [] in the table indicates a recrystallization solvent.

【0014】実施例1 ニトロベンゼン300mlに無水塩化アルミニウム10
9.1gを分割添加した後、アミノアセトニトリル・塩
酸塩37.9gを添加し、40℃を維持しながら1時間
撹拌する。反応混合物を10〜15℃に冷却した後、3
−メチルスルホニルアミノ−4−フェノキシアニソール
100gを加える。ついで、撹拌下、反応混合物に塩化
水素ガス30gを25〜30℃を維持しながら10時間
を要して導入する。反応混合物を2N塩酸500mlに
滴下し25〜30℃で1時間、さらに10℃で1時間撹
拌した後、析出晶を濾取する。得られた析出晶を酢酸エ
チル、水およびイソプロピルアルコールで順次洗浄した
後、乾燥させ、アミノメチル=2−メトキシ−4−メチ
ルスルホニルアミノ−5−フェノキシフェニル=ケトン
・塩酸塩・1/2水和物121.5g(収率90.0
%)を得る。 融点;167.0−169.5℃(分解) IR(KBr)cm−1;1675 NMR(DMSO−d)δ値;3.17(3H,
s),3.97(3H,s),4.25(2H,s),
6.91−7.54(7H,m),8.50(4H,b
s)
Example 1 Anhydrous aluminum chloride 10 in 300 ml of nitrobenzene
After 9.1 g was added in portions, 37.9 g of aminoacetonitrile / hydrochloride was added, and the mixture was stirred for 1 hour while maintaining 40 ° C. After cooling the reaction mixture to 10-15 ° C, 3
100 g of methylsulfonylamino-4-phenoxyanisole are added. Then, under stirring, 30 g of hydrogen chloride gas is introduced into the reaction mixture over 10 hours while maintaining 25 to 30 ° C. The reaction mixture is added dropwise to 500 ml of 2N hydrochloric acid, and the mixture is stirred at 25 to 30 ° C. for 1 hour and further at 10 ° C. for 1 hour. The obtained precipitated crystals are washed successively with ethyl acetate, water and isopropyl alcohol, and then dried, and aminomethyl-2-methoxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl = ketone / hydrochloride / 1/2 hydrate 121.5 g (yield 90.0
%). Melting point: 167.0-169.5 ° C (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; 1675 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 3.17 (3H,
s), 3.97 (3H, s), 4.25 (2H, s),
6.91-7.54 (7H, m), 8.50 (4H, b
s)

【0015】同様にして、表1および表2に示す化合物
を得る。なお、表1および表2におけるR1、R3および
Rは、それぞれ、つぎの式
Similarly, compounds shown in Tables 1 and 2 are obtained. Note that R 1 , R 3 and R in Tables 1 and 2 are represented by the following formulas, respectively.

【化10】 で表わされる化合物の置換基を示す。Embedded image Represents a substituent of the compound represented by

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】[0017]

【表2】 [Table 2]

【0018】実施例2 アセトン300mlにギ酸ナトリウム41.2gおよびピバリン酸
クロリド36.6gを順次加え、室温で5〜6時間激しく攪拌
する。ついで、アミノメチル=2−メトキシ−4−メチ
ルスルホニルアミノ−5−フェノキシフェニル=ケトン
・塩酸塩・1/2水和物100gを添加し、室温で3時間攪拌す
る。反応懸濁液に水900mlを滴下し、析出晶を濾取す
る。得られた析出晶を水およびイソプロピルアルコール
で順次洗浄した後、乾燥させ、ホルミルアミノメチル=
2−メトキシ−4−メチルスルホニルアミノ−5−フェ
ノキシフェニル=ケトン87.0g(収率91.0%)を得る。 融点;153-154℃ IR(KBr)cm-1;1679,1655 NMR(DMSO-d6)δ値;3.13(3H,s),3.94(3H,s),4.47(2H,d,
J=5.4Hz),6.90-7.81(7H,m),8.12(1H,s),8.15(1H,t,J=5.
4Hz),9.74(1H,s)
Example 2 41.2 g of sodium formate and 36.6 g of pivalic acid chloride are sequentially added to 300 ml of acetone, and vigorously stirred at room temperature for 5 to 6 hours. Then, 100 g of aminomethyl 2-methoxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl ketone / hydrochloride / 1/2 hydrate is added, and the mixture is stirred at room temperature for 3 hours. 900 ml of water is added dropwise to the reaction suspension, and the precipitated crystals are collected by filtration. The obtained precipitated crystals were washed with water and isopropyl alcohol in that order, dried, and then dried with formylaminomethyl
There are obtained 87.0 g (91.0% yield) of 2-methoxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl ketone. Melting point: 153-154 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1679,1655 NMR (DMSO-d 6 ) δ value; 3.13 (3H, s), 3.94 (3H, s), 4.47 (2H, d,
J = 5.4Hz), 6.90-7.81 (7H, m), 8.12 (1H, s), 8.15 (1H, t, J = 5.
4Hz), 9.74 (1H, s)

【0019】同様にして、表3に示す化合物を得る。な
お、表3におけるR1は、つぎの式
Similarly, the compounds shown in Table 3 are obtained. Note that R 1 in Table 3 is represented by the following equation:

【化11】 で表わされる化合物の置換基を示す。Embedded image Represents a substituent of the compound represented by

【0020】[0020]

【表3】 [Table 3]

【0021】実施例3 アセトニトリル300mlに無水塩化アルミニウム70.5gを20
℃以下に維持しながら分割して添加する。ついで、ホル
ミルアミノメチル=2−メトキシ−4−メチルスルホニ
ルアミノ−5−フェノキシフェニル=ケトン100gおよび
ヨウ化ナトリウム43.6gを順次加え、20℃を維持しなが
ら3時間攪拌する。反応懸濁液を1%亜硫酸ナトリウム水
溶液900mlに滴下した後、10℃まで冷却し、析出晶を濾
取する。得られた析出晶を水およびエタノールで順次洗
浄した後、乾燥させ、ホルミルアミノメチル=2−ヒド
ロキシ−4−メチルスルホニルアミノ−5−フェノキシ
フェニル=ケトン91.5g(収率95.0%)を得る。 融点;173.0-174.5℃ IR(KBr)cm-1;1664,1639 NMR(DMSO-d6)δ値;3.09(3H,s),4.55(2H,d,J=5.4Hz),6.
90-7.50(7H,m),8.14(1H,s),8.15(1H,t,J=5.4Hz),9.68(1
H,s),11.22(1H,s)
EXAMPLE 3 70.5 g of anhydrous aluminum chloride was added to 300 ml of acetonitrile for 20 minutes.
Add in portions while maintaining the temperature below ° C. Then, 100 g of formylaminomethyl = 2-methoxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl = ketone and 43.6 g of sodium iodide are sequentially added, and the mixture is stirred for 3 hours while maintaining 20 ° C. The reaction suspension is dropped into 900 ml of a 1% aqueous solution of sodium sulfite, cooled to 10 ° C., and the precipitated crystals are collected by filtration. The obtained precipitated crystals are washed with water and ethanol in that order and then dried to obtain 91.5 g (yield 95.0%) of formylaminomethyl = 2-hydroxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl = ketone. Melting point: 173.0-174.5 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1664,1639 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 3.09 (3H, s), 4.55 (2H, d, J = 5.4 Hz), 6.
90-7.50 (7H, m), 8.14 (1H, s), 8.15 (1H, t, J = 5.4Hz), 9.68 (1
H, s), 11.22 (1H, s)

【0022】同様にして、つぎの化合物および表4に示
す化合物を得る。 アセチルアミノメチル=2−ヒドロキシ−4−メチルス
ルホニルアミノ−5−フェノキシフェニル=ケトン 融点;191ー192℃[エタノール] IR(KBr)cm-1;1677,1645 NMR(DMSO-d6)δ値;1.87(3H,s),3.08(3H,s),4.45(2H,d,
J=5.8Hz),6.89-7.50(7H,m),8.01(1H,t,J=5.8Hz),9.67(1
H,s),11.27(1H,s)
Similarly, the following compounds and the compounds shown in Table 4 are obtained. Acetylaminomethyl = 2-hydroxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl = ketone Melting point: 191-192 ° C. [ethanol] IR (KBr) cm −1 ; 1677,1645 NMR (DMSO-d 6 ) δ value; 1.87 (3H, s), 3.08 (3H, s), 4.45 (2H, d,
J = 5.8Hz), 6.89-7.50 (7H, m), 8.01 (1H, t, J = 5.8Hz), 9.67 (1
H, s), 11.27 (1H, s)

【0023】なお、表4におけるR1は、つぎの式Note that R 1 in Table 4 is represented by the following formula:

【化12】 で表わされる化合物の置換基を示す。Embedded image Represents a substituent of the compound represented by

【0024】[0024]

【表4】 [Table 4]

【0025】実施例4 塩化メチレン200mlに3−メチルスルホニルアミノ−4
−フェノキシアニソール50gを加え、ついで、5〜10℃で
無水塩化アルミニウム22.7gを加える。反応混合物に三
塩化ホウ素ガス39.9gを導入した後、20〜25℃で5時間攪
拌する。反応混合物にトリクロロアセトアミノアセトニ
トリル68.7gを加え、20〜25℃で20時間攪拌する。反応
混合物を酢酸エチル200mlおよび4N塩酸500mlの混合液に
滴下した後、15〜20℃で30分間攪拌し析出晶を濾取す
る。得られた析出晶を水およびエタノールで順次洗浄し
た後、乾燥させ、トリクロロアセチルアミノメチル=2
−ヒドロキシ−4−メチルスホニルアミノ−5−フェノ
キシフェニル=ケトン58.3g(収率71.0%)を得る。 融点;232-233℃ IR(KBr)cm-1;1720,1649 NMR(DMSO-d6)δ値;3.09(3H,s),4.58(2H,d,J=5.9Hz),6.
91-7.50(7H,m),9.01(1H,t,J=5.9Hz),9.69(1H,s),11.19
(1H,s)
Example 4 3-Methylsulfonylamino-4 in 200 ml of methylene chloride
-50 g of phenoxyanisole are added, followed by 22.7 g of anhydrous aluminum chloride at 5-10 ° C. After introducing 39.9 g of boron trichloride gas into the reaction mixture, the mixture is stirred at 20 to 25 ° C. for 5 hours. 68.7 g of trichloroacetaminoacetonitrile is added to the reaction mixture, and the mixture is stirred at 20 to 25 ° C for 20 hours. After the reaction mixture is added dropwise to a mixture of 200 ml of ethyl acetate and 500 ml of 4N hydrochloric acid, the mixture is stirred at 15 to 20 ° C. for 30 minutes, and the precipitated crystals are collected by filtration. The obtained precipitated crystals were washed with water and ethanol in that order, dried, and trichloroacetylaminomethyl = 2.
58.3 g (71.0% yield) of -hydroxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl ketone are obtained. Melting point: 232-233 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1720,1649 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 3.09 (3H, s), 4.58 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.
91-7.50 (7H, m), 9.01 (1H, t, J = 5.9Hz), 9.69 (1H, s), 11.19
(1H, s)

【0026】実施例5 N,N−ジメチルホルムアミド150mlに N,N−ジメチ
ルホルムアミドジメチルアセタール40.9gを加え、10〜1
5℃に冷却する。この混合液に氷酢酸8.24gおよびホルム
アミノメチル=2−ヒドロキシ−4−メチルスルホニル
アミノ−5−フェノキシフェニル=ケトン50.0gを順次
加え、15〜20℃で5時間攪拌する。反応懸濁液に塩化メ
チレン250mlを加えて、均一に溶解させた液を、水500ml
に滴下した後、pHを5.0に調整する。析出晶を濾取し、
塩化メチレン、水およびエタノールで順次洗浄した後、
乾燥させる。ついで、得られた結晶を苛性カリで含水ア
セトンに溶解させ、塩酸で中和晶出し、結晶を濾取す
る。得られた結晶を水で洗浄した後、乾燥させ、3−ホ
ルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ−6−フェ
ノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン44.4g(収
率86.4%)を得る。 融点;236-238℃ IR(KBr)cm-1;1680,1615 NMR(DMSO-d6)δ値;3.24(3H,s),7.09-7.62(5H,m),7.35
(1H,s),7.72(1H,s),8.36(1H,s),9.28(1H,s),9.79(1H,
s),10.04(1H,s)
Example 5 N, N-dimethylformamide dimethyl acetal (40.9 g) was added to N, N-dimethylformamide (150 ml).
Cool to 5 ° C. 8.24 g of glacial acetic acid and 50.0 g of formaminomethyl = 2-hydroxy-4-methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl = ketone are sequentially added to the mixture, and the mixture is stirred at 15 to 20 ° C. for 5 hours. 250 ml of methylene chloride was added to the reaction suspension, and the solution uniformly dissolved was added to 500 ml of water.
After the addition, the pH is adjusted to 5.0. The precipitated crystals are collected by filtration,
After washing sequentially with methylene chloride, water and ethanol,
dry. Next, the obtained crystals are dissolved in aqueous acetone with caustic potash, neutralized and crystallized with hydrochloric acid, and the crystals are collected by filtration. The obtained crystals are washed with water and dried to obtain 44.4 g (yield 86.4%) of 3-formylamino-7-methylsulfonylamino-6-phenoxy-4H-1-benzopyran-4-one. Melting point: 236-238 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1680,1615 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 3.24 (3H, s), 7.09-7.62 (5H, m), 7.35
(1H, s), 7.72 (1H, s), 8.36 (1H, s), 9.28 (1H, s), 9.79 (1H, s
s), 10.04 (1H, s)

【0027】同様にして、つぎの化合物および表5に示
す化合物を得る。 3−アセチルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ−6
−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン 融点;254-256℃ IR(KBr)cm-1;1665,1615 NMR(DMSO-d6)δ値;2.12(3H,s),3.22(3H,s),7.05-7.61
(5H,m),7.35(1H,s),7.71(1H,s),9.18(1H,s),9.18(1H,
s),9.99(1H,s)
In the same manner, the following compounds and the compounds shown in Table 5 are obtained. 3-acetylamino-7-methylsulfonylamino-6
-Phenoxy-4H-1-benzopyran-4-one Melting point: 254-256 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1665,1615 NMR (DMSO-d 6 ) δ value; 2.12 (3H, s), 3.22 (3H, s), 7.05-7.61
(5H, m), 7.35 (1H, s), 7.71 (1H, s), 9.18 (1H, s), 9.18 (1H,
s), 9.99 (1H, s)

【0028】なお、表5におけるR1は、つぎの式Note that R 1 in Table 5 is represented by the following formula:

【化13】 で表わされる化合物の置換基を示す。Embedded image Represents a substituent of the compound represented by

【0029】[0029]

【表5】 [Table 5]

【0030】実施例6 トリクロロアセチルアミノメチル=2−ヒドロキシ−4
−メチルスルホニルアミノ−5−フェノキシフェニル=
ケトン10gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解
させ、10-15℃に冷却する。この溶液に、N,N−ジメ
チルホルムアミドジメチルアセタール4.95gを加え、20
〜25℃で15時間攪拌する。反応混合物を1N塩酸50mlに滴
下し、析出晶を濾取する。析出晶を水で洗浄後、アセト
ニトリルから再結晶すれば、3−トリクロロアセチルア
ミノ−7−メチルスルホニルアミノ−6−フェノキシ−
4H−1−ベンゾピラン−4−オン7.24g(収率70.9
%)を得る。 融点;216-217℃ IR(KBr)cm-1;1715,1635 NMR(DMSO-d6)δ値;3.24(3H,s),7.09-7.62(5H,m),7.33
(1H,s),7.77(1H,s),8.84(1H,s),9.88(1H,s),10.08(1H,
s)
Example 6 Trichloroacetylaminomethyl 2-hydroxy-4
-Methylsulfonylamino-5-phenoxyphenyl =
10 g of ketone are dissolved in 30 ml of N, N-dimethylformamide and cooled to 10-15 ° C. 4.95 g of N, N-dimethylformamide dimethyl acetal was added to this solution, and 20
Stir at 2525 ° C. for 15 hours. The reaction mixture is added dropwise to 50 ml of 1N hydrochloric acid, and the precipitated crystals are collected by filtration. The precipitate was washed with water and recrystallized from acetonitrile to give 3-trichloroacetylamino-7-methylsulfonylamino-6-phenoxy-
7.24 g of 4H-1-benzopyran-4-one (70.9 yield)
%). Melting point: 216-217 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1715,1635 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 3.24 (3H, s), 7.09-7.62 (5H, m), 7.33
(1H, s), 7.77 (1H, s), 8.84 (1H, s), 9.88 (1H, s), 10.08 (1H, s
s)

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明の方法によれば、抗炎症剤として
有用な3−アシルアミノ−6−フェニルオキシ−7−ア
ルキルスルホニルアミノ−4H−1−ベンゾピラン−4
−オンまたはその塩を高収率で工業的に製造することが
できる。
According to the method of the present invention, 3-acylamino-6-phenyloxy-7-alkylsulfonylamino-4H-1-benzopyran-4 useful as an anti-inflammatory agent.
-One or a salt thereof can be produced industrially in high yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−268178(JP,A) 特開 平2−49778(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 311/00 - 311/22 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-2-268178 (JP, A) JP-A-2-49778 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C07D 311/00-311/22

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(1)ー般式 【化1】 「式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を;R2は、低級アルキル基を;R3は、水素
原子または低級アルキル基を、それぞれ示す。」で表わ
されるベンゼン誘導体に、一般式 【化2】 「式中、R4は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
アシル基または水素原子を示す。」で表わされるニトリ
ル誘導体またはその塩を反応させ、一般式 【化3】 「式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ上記と同
様の意味を有する。」で表わされる化合物またはその塩
を得、さらに、この化合物またはその塩を環形成化反応
に付すことを特徴とする一般式 【化4】 「式中、R5は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
アシル基を;R1およびR2は、それぞれ上記と同様の意
味を有する。」で表わされる3−アシルアミノ−6−フ
ェニルオキシ−7−アルキルスルホニルアミノ−4H−
1−ベンゾピラン−4−オンまたはその塩の製造法。
(1) (1)-General formula Wherein, R 1 represents a phenyl group which may be substituted with a halogen atom; R 2 represents a lower alkyl group; and R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, respectively. The derivative has the general formula Wherein R 4 represents an acyl group or a hydrogen atom which may be substituted by a halogen atom, and a nitrile derivative represented by the formula: Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above, respectively, and a salt thereof, and the compound or a salt thereof is subjected to a ring-forming reaction. A general formula characterized by the following: Wherein R 5 is an acyl group which may be substituted with a halogen atom; R 1 and R 2 have the same meanings as described above, respectively. 7-alkylsulfonylamino-4H-
A method for producing 1-benzopyran-4-one or a salt thereof.
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