JP2970848B2 - 電磁式印字ヘッドならびにその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電磁式のワイヤド
ット方式印字ヘッド、特にその構成部品であるアーマチ
ュア及び表面処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図３に、従来一般的に使用されている電
磁式印字ヘッドの構成概略を示す。印字ヘッド１０にお
いて、アーマチュア１１は、筐体（図示略）に固定され
た支点１２を中心にして、通電時にその一端部吸引面１
５を励磁コイル１６に吸引され、その他端部に設けた印
字ワイヤ１４にインクリボン（図示略）を介して打撃印
字を行わせる。アーマチュア受部材１８は、非通電時に
リターンスプリング１７のスプリング力によるアーマチ
ュア１１復帰位置をアーム１３のストッパ部１９ととも
に規定する。

【０００３】アーマチュア１１は通常、磁性材料である
４９Ｃｏ−２Ｖ鋼製であり、その表面は図３（ｂ）に示
されるように無電解ニッケルメッキ処理によるニッケル
メッキ層３１に被覆されている。しかし、このままでは
支点１２部分の摩耗が激しく印字ヘッドの寿命が短くな
ってしまうので、その対策として例えばセラミックス等
耐摩耗性材料からなるブッシュ３２を圧入して摩耗を防
止するのが一般的であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ブッシュ圧入
による部品費用の増加、及び製造時間や手間の増大にと
もない、電磁式印字ヘッドのコストが上昇してしまうと
いう問題点があった。

【０００５】そこで、本発明の課題は、支点部分の摩耗
性に優れたアーマチュアを有する電磁式印字ヘッドを提
供し、かつそのような電磁式印字ヘッドを効率的に製造
するための製造方法を提供しすることによりブッシュの
使用を廃止して、電磁式印字ヘッドのコストを低下する
ことである。

【０００６】

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の、本発明の電磁式印字ヘッドは、アーマチュアの少な
くとも支点部表面にＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチ
レン）含有ニッケル複合メッキ層を備えてなることを特
徴とする。これにより、支点部表面の耐磨耗性が向上し
て、ブッシュを使用する必要がなくなる。

【０００８】

【０００９】また、本発明の電磁式印字ヘッドは、アー
マチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレ
ン）含有無電解ニッケル複合メッキ処理を行って得られ
ることを特徴とする。これにより、従来の無電解ニッケ
ルメッキ処理において使用されていた装置及び工程をほ
ぼそのまま使用して、アーマチュア表面特に支点部表面
の耐摩耗性を従来のブッシュと同等以上とすることがで
き、ブッシュを使用する必要がなくなる。

【００１０】また、本発明の電磁式印字ヘッドは、アー
マチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレ
ン）含有無電解ニッケル複合メッキ処理を行った後に、
さらに熱処理を行って得られることを特徴とする。これ
により、アーマチュア表面の機械的特性、特に硬度がさ
らに向上する。

【００１１】

【００１１】また、本発明の電磁式印字ヘッドの製造方
法は、アーマチュアの表面に少なくとも耐摩耗性メッキ
処理を行うことを特徴とする。これにより、アーマチュ
ア表面、特に支点部表面の耐摩耗性が向上してブッシュ
を使用する必要がなくなる。

【００１２】また、本発明の電磁式印字ヘッドの製造方
法は、アーマチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテトラフル
オロエチレン）含有無電解ニッケル複合メッキ処理を行
うことを特徴とする。これにより、従来の無電解ニッケ
ルメッキ処理において使用されていた装置及び工程をほ
ぼそのまま使用して、アーマチュア表面特に支点部表面
の耐摩耗性を従来のブッシュと同等以上とすることがで
き、ブッシュを使用する必要がなくなる。

【００１３】また本発明の電磁式印字ヘッドの製造方法
は、アーマチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテトラフルオ
ロエチレン）含有無電解ニッケル複合メッキ処理を行っ
た後に、さらに熱処理を行うことを特徴とする。これに
より、アーマチュア表面の機械的特性、特に硬度がさら
に向上する。

【００１４】また本発明の電磁式印字ヘッドの製造方法
は、真空中において３５０〜４００℃で１〜１．５時間
アーマチュアの熱処理を行うことを特徴とする。これに
より、アーマチュア表面の硬度がハイス鋼と同等レベル
に向上する。

【００１５】

【実施例】本発明の第一の実施例について以下に説明す
る。図３において示したものと同様の構成の印字ヘッド
において、磁性材料である４９Ｃｏ−２Ｖ鋼製のアーマ
チュア 表面にＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレ
ン）含有無電解複合ニッケルメッキ処理を行った。この
ときのアーマチュア断面を図１（ｂ）に示す。このとき
のメッキ条件は、一般的に行なわれているＰＴＦＥ（ポ
リテトラフルオロエチレン）含有無電解複合ニッケルメ
ッキ処理条件に従った。

【００１６】また、第二、第三、第四の実施例として、
実施例１と同様のメッキ処理後、以下の条件において熱
処理を行った。 （実施例２）真空中において３５０℃で１時間熱処理。 （実施例３）真空中において４００℃で１時間熱処理。 （実施例４）真空中において４００℃で１．５時間熱処
理。

【００１７】また、実施例との比較例として以下を用意
した。 （比較例１）表面処理を全く行っていない４９Ｃｏ−２
Ｖ鋼製のアーマチュア。 （比較例２）無電解ニッケルメッキ処理を行った４９Ｃ
ｏ−２Ｖ製のアーマチュア。 （比較例３）セラミックス製のブッシュ。 （比較例４）ＰＴＦＥ含有無電解ニッケル複合メッキ処
理を行った後、真空中において３００℃で１時間熱処理
を行ったアーマチュア。 （比較例５）ＰＴＦＥ含有無電解ニッケル複合メッキ処
理を行った後、真空中において５００℃で１時間熱処理
を行ったアーマチュア。

【００１８】実施例１〜４のアーマチュア、比較例２の
アーマチュア、及び比較例２のアーマチュア支点部にセ
ラミックス製ブッシュを装着したものについて、それぞ
れを電磁式印字ヘッドに実際に組み込んで、その支点部
に摺動を加えたときの表面状態を観察した。その結果、
実施例１〜４のアーマチュアについては２×１０⁷ 回ま
で支点部の摩耗が認められなかった。また、比較例２の
アーマチュア支点部にブッシュを装着したものについて
も、同様であった。それに対し、比較例２のアーマチュ
アについては２×１０⁶ 回で支点部の摩耗が観察され
た。従って、本発明によれば、従来の無電解ニッケルメ
ッキに比較してアーマチュア支点部の耐摩耗性が向上
し、ブッシュを使用する必要がなくなる。

【００１９】また、各実施例及び比較例それぞれについ
て、アーマチュア支点部の硬度測定を行った。測定は、
ヴィッカース硬度測定法を使用した。結果を図２に示
す。実施例１における硬度は５００Ｈｖであり、比較例
２の無電解ニッケルメッキと変わりない。しかし、熱処
理を行った実施例２〜４においては硬度が８５０Ｈｖ以
上とハイス鋼レベルにまで向上した。比較例４において
も硬度は上昇しているものの実施例２〜４ほどではな
い。従って熱処理の温度条件は３５０℃を下限とするこ
とが望ましい。また、比較例５における硬度は実施例２
〜４と大差ないが、実操業上の効率を考慮すると熱処理
条件は４００℃を上限とするのが望ましい。また、熱処
理時間は約１〜１．５時間が望ましい。

【００２０】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、アーマ
チュア表面特に支点部表面の耐摩耗性を効率的に改善す
ることができ、ブッシュ使用を廃止することが可能とな
る。従って、電磁式印字ヘッドのコスト削減に寄与す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の印字ヘッドの概略を示す説明図であ
る。

【図２】本発明の実施例及び比較例における硬度測定結
果を示すである。

【図３】従来の印字ヘッドの概略を示す説明図である。

【符号の説明】

１０ 印字ヘッド １１ アーマチュア １２ 支点 １３ アーム １４ 印字ワイヤ １５ 吸引面 １６ 励磁コイル １７ リターンスプリング １８ アーマチュア受部材 １９ ストッパ部 ２０ ＰＴＦＥ含有無電解ニッケル複合メッキ層 ３１ 無電解ニッケルメッキ層 ３２ ブッシュ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B41J 2/235 - 2/245 B41J 2/275 - 2/28

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アーマチュアの少なくとも支点部表面に
   ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）含有ニッケル
   複合メッキ層を備えてなることを特徴とする電磁式印字
   ヘッド。
2. 【請求項２】 アーマチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテ
   トラフルオロエチレン）含有ニッケル複合メッキ処理を
   行って得られることを特徴とする電磁式印字ヘッド。
3. 【請求項３】 アーマチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテ
   トラフルオロエチレン）含有ニッケル複合メッキ処理を
   行った後に、さらに熱処理を行って得られることを特徴
   とする電磁式印字ヘッド。
4. 【請求項４】 真空中において３５０〜４００℃で約１
   〜１．５時間アーマチュアの熱処理を行って得られるこ
   とを特徴とする請求項３に記載の電磁式印字ヘッド。
5. 【請求項５】 アーマチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテ
   トラフルオロエチレン）含有ニッケル複合メッキ処理を
   行うことを特徴とする電磁式印字ヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】 アーマチュアの表面にＰＴＦＥ（ポリテ
   トラフルオロエチレン）含有ニッケル複合メッキ処理を
   行った後に、さらに熱処理を行うことを特徴とする電磁
   式印字ヘッドの製造方法。
7. 【請求項７】 真空中において３５０〜４００℃で約１
   〜１．５時間アーマチュアの熱処理を行うことを特徴と
   する請求項６に記載の電磁式印字ヘッドの製造方法。