JP2959050B2 - Photocurable resin composition - Google Patents

Photocurable resin composition

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JP2959050B2
JP2959050B2 JP2148635A JP14863590A JP2959050B2 JP 2959050 B2 JP2959050 B2 JP 2959050B2 JP 2148635 A JP2148635 A JP 2148635A JP 14863590 A JP14863590 A JP 14863590A JP 2959050 B2 JP2959050 B2 JP 2959050B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光ディスク基板表面改質用の光硬化性樹脂
組成物に関し、詳しくは、デジタルオーディオディス
ク、光ディスクあるいは光磁気ディスクなどの光学ディ
スク基板表面の耐擦傷性を高めかつ、ゴミ、ホコリなど
の付着が少ない低表面抵抗の表面保護コート用光硬化性
樹脂組成物に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photocurable resin composition for modifying the surface of an optical disk substrate, and more particularly, to an optical disk substrate such as a digital audio disk, an optical disk or a magneto-optical disk. The present invention relates to a photocurable resin composition for a surface protective coat having a low surface resistance, which has improved scratch resistance on the surface and little adhesion of dust and dirt.

[従来の技術] 記録層あるいは光反射層からなる光記録層に情報を記
録および再生したり、情報記録層に形成された情報を再
生するデジタルオーディオディスクや光ディスク、光磁
気ディスクの基板として、ポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート、アモルファスポリオレフィンなどの
合成樹脂基板が用いられている。
[Prior Art] Polycarbonate is used as a substrate of a digital audio disk, an optical disk, and a magneto-optical disk for recording and reproducing information on an optical recording layer comprising a recording layer or a light reflecting layer, and reproducing information formed on the information recording layer. Synthetic resin substrates such as polymethyl methacrylate and amorphous polyolefin are used.

これらの樹脂は、光学的に均質で透明性が高く、成形
性、機械的強度等に優れた特徴を有しているが、表面硬
度が低く、基板表面にキズ等がつきやすく、これにより
ディスクに記録された情報の読取り感度が低下したりエ
ラーが発生しやすくなるという欠点を有する。
These resins are optically homogeneous, have high transparency, and have excellent moldability and mechanical strength.However, they have low surface hardness and are easily scratched on the substrate surface. However, there is a disadvantage that the reading sensitivity of the information recorded in the information storage device is lowered and an error easily occurs.

また、合成樹脂基板は、使用時に帯電しやすく、ゴミ
やホコリなどを表面に吸着しやすいため、やはり信号の
読取り感度が低下したり、エラーが発生するなどの欠点
を有する。
In addition, the synthetic resin substrate is easily charged when used, and easily adsorbs dust and dust on the surface, and thus has the disadvantage that the signal reading sensitivity is lowered and an error occurs.

この様な問題点を解決するために、合成樹脂基板上に
光あるいは熱により硬化する樹脂組成物をディピングま
たはスピナー法により塗布し、硬化させることにより基
板を保護する表面保護コート剤が開発されている。
In order to solve such problems, a surface protective coating agent for protecting a substrate by applying a resin composition curable by light or heat on a synthetic resin substrate by a dipping or spinner method and curing the resin composition has been developed. I have.

しかしながら、基板の保護を目的とする従来の保護コ
ートでは基板の帯電性は解決されず、帯電によるゴミや
ホコリの基板への付着による読取り感度の低下、エラー
の発生などが未解決の問題となっている。
However, the conventional protective coat for protecting the substrate cannot solve the charging property of the substrate, and unresolved problems such as a decrease in reading sensitivity due to adhesion of dust and dust to the substrate due to charging and the occurrence of errors. ing.

基板の帯電性を防ぐ方法として、保護コート剤の中
に、帯電防止剤をブレンドする方法も考えられるが、こ
の方法では、ディスクの表面に帯電防止剤がブリードす
るため、デジタルオーディオディスク、光ディスク、光
磁気ディスクなどの光学ディスクには適用できない。
As a method of preventing the chargeability of the substrate, a method of blending an antistatic agent in a protective coating agent is also conceivable. However, in this method, since the antistatic agent bleeds on the surface of the disk, digital audio disks, optical disks, It cannot be applied to optical disks such as magneto-optical disks.

以上のように、現在に至るまで良好な帯電防止能を有
し、かつブリードを起こさない光硬化性樹脂組成物は見
出だされていない。
As described above, up to the present, a photocurable resin composition having good antistatic ability and not causing bleeding has not been found.

[発明が解決しようとする課題] 本発明者らは、上記状況に鑑み、光ディスクのゴミ、
ホコリの付着を防止する良好な帯電防止能を有し、かつ
ブリードを起こさない光硬化性樹脂組成物と、これを保
護コート剤として用いた光記録媒体およびその製造方法
に関するものである。
[Problems to be Solved by the Invention] In view of the above situation, the present inventors consider that dust on an optical disc,
The present invention relates to a photocurable resin composition having good antistatic ability for preventing dust from adhering and causing no bleeding, an optical recording medium using the same as a protective coating agent, and a method for producing the same.

[課題を解決するための手段] 本発明者らは、上記の課題を解決すべく、鋭意検討を
行った。その結果、特定の構造を有し、かつアクリルお
よび/またはメタクリル基を有する重合体を含有する光
硬化性樹脂組成物が光学ディスク基板表面の保護コート
剤として有効であり、基板表面の耐擦傷性を高め、低表
面抵抗値を示し、かつブリードの発生がないという特徴
を有することを見出だし、本発明に到達した。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above problems. As a result, the photocurable resin composition having a specific structure and containing a polymer having an acryl and / or methacryl group is effective as a protective coating agent on the surface of an optical disc substrate, and has a scratch resistance on the substrate surface. , A low surface resistance, and no bleeding.

すなわち本発明は、下記一般式(1) (ただし、R1,R2,R3はそれぞれHあるいはCH3、nは1
〜14の整数、xは0〜0.99,yは0.01〜1の正数) で表される化合物を含む、デジタルオーディオディス
ク、光ディスクあるいは光磁気ディスクなどの光学ディ
スクの保護コート剤として、基板表面の耐擦傷性に優
れ、低表面抵抗値を示し、かつブリード性のない光硬化
性樹脂組成物を提供するものである。
That is, the present invention provides the following general formula (1) (However, R 1 , R 2 and R 3 are each H or CH 3 , and n is 1
An integer of 整数 14, x is 0 to 0.99, and y is a positive number of 0.01 to 1) as a protective coating agent for an optical disk such as a digital audio disk, an optical disk, or a magneto-optical disk. An object of the present invention is to provide a photocurable resin composition having excellent scratch resistance, a low surface resistance value, and no bleeding.

本発明における一般式(1)で表される重合体は、ポ
リエチレングリコールモノアクリル酸エステルまたは/
およびメタクリル酸エステルの重合体とアクリル酸ハラ
イドまたは/およびメタクリル酸ハライドとの反応、あ
るいはアクリル酸または/およびメタクリル酸との反応
から得られる。
The polymer represented by the general formula (1) in the present invention is a polyethylene glycol monoacrylate or /
And methacrylic acid ester polymers and acrylic acid halides and / or methacrylic acid halides or from acrylic acid and / or methacrylic acid.

本発明における、アクリル酸ハライドまたは/および
メタクリル酸ハライドとの反応率、あるいはアクリル酸
または/およびメタクリル酸との反応率は、1%から10
0%の任意の正数であるが、5%〜100%が好ましい。
In the present invention, the reaction rate with acrylic acid halide and / or methacrylic acid halide or the reaction rate with acrylic acid and / or methacrylic acid is from 1% to 10%.
Any positive number of 0%, preferably 5% to 100%.

反応率が1%以下では、光による反応性が低下するた
め、必要とされる物性が発現しない。
If the reaction rate is 1% or less, the reactivity due to light is reduced, and the required physical properties are not exhibited.

本発明における光硬化性樹脂組成物は上記の重合体単
独でもよいし、その他に光により硬化する多官能アクリ
ルまたは/およびメタクリル酸エステルあるいは架橋性
オリゴマーを含む混合物でもよく、その混合比は、光硬
化後の物性を低下しない範囲で任意である。得られる組
成物の粘度等を考慮すると取り扱いのよさから混合物と
した方が好ましい。
The photocurable resin composition in the present invention may be the above polymer alone, or may be a mixture containing a polyfunctional acrylic and / or methacrylic acid ester or a crosslinkable oligomer that is cured by light. It is optional as long as the physical properties after curing are not reduced. In consideration of the viscosity and the like of the obtained composition, it is preferable to use a mixture from the viewpoint of easy handling.

本発明における多官能アクリルまたは/およびメタク
リル酸エステルは、2官能あるいは3官能以上のアクリ
ルまたは/およびメタクリル酸(以下“(メタ)アクリ
ル酸”という)エステルであるが、架橋効率の点から3
官能以上の(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。
The polyfunctional acrylic and / or methacrylic acid ester in the present invention is a bifunctional or trifunctional or more functional acrylic and / or methacrylic acid (hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid”) ester.
More than functional (meth) acrylates are preferred.

本発明で用いる3官能以上の(メタ)アクリル酸エス
テルの代表的なものとして、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチ
レンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、イソシ
アヌール酸エチレンオキサイド・ε−カプロラクトン変
性トリ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレンジイソシ
アネートとグリセリン付加物のジアクリレート・ジメタ
クリレート等を挙げることができる。
Representative examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate used in the present invention include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa. (Meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate , Isocyanuric acid ethylene oxide / ε-caprolactone modified tri (meth) acrylate, with hexamethylene diisocyanate and glycerin It can be mentioned diacrylate dimethacrylate things.

また、本発明で用いる2官能の(メタ)アクリル酸エ
ステルの代表的なものとして、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフ
ェノールA(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサ
イド変性(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ン(メタ)アクリル酸安息香酸エステル、3−(メタ)
アクリロイルオキシグリセリンモノ(メタ)アクリレー
ト、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等
を挙げることができる。
Representative examples of the bifunctional (meth) acrylate used in the present invention include neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and ethylene oxide-modified bisphenol A (meth). ) Acrylate, polyethylene oxide-modified (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate benzoate, 3- (meth)
Acryloyloxyglycerin mono (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate and the like can be mentioned.

本発明で用いる多官能性(メタ)アクリル酸エステル
は少なくとも15重量%以上使用するのが好ましい。
The polyfunctional (meth) acrylate used in the present invention is preferably used in an amount of at least 15% by weight or more.

15重量%より少ない場合、紫外線により硬化した膜の
架橋度が不足し、接着強度などの初期物性の低下のみな
らず湿熱雰囲気下における接着力の低下が著しく実用的
でない。
When the amount is less than 15% by weight, the degree of crosslinking of the film cured by ultraviolet rays is insufficient, and not only the initial physical properties such as the adhesive strength, but also the adhesive strength under a moist heat atmosphere are significantly reduced.

この多官能性(メタ)アクリル酸エステルは、1種類
でも良いし2種類以上を併用しても良い。本発明で用い
る架橋性オリゴマーの代表的なものとして次のものを例
示することができる。
This polyfunctional (meth) acrylate may be used alone or in combination of two or more. The following can be illustrated as typical examples of the crosslinkable oligomer used in the present invention.

ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル
(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレ
ート、エポキシ(メタ)アクリレート、シリコン(メ
タ)アクリレート等である。
Examples thereof include polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and silicon (meth) acrylate.

これらの具体例として、さらに次のものを挙げること
ができる。
The following can be further mentioned as specific examples of these.

ポリブチレンアジペートジアクリレート、ポリプロピ
レングリコールジアクリレート、(ポリエステルグリコ
ールとイソシアナートからなる)ポリウレタンジアクリ
レート、スピログリコールウレタンジアクリレート、ビ
スフェノールA型エポキシアクリレート、ビスフェノー
ルF型エポキシアクリレート、フェノールノボラック型
エポキシアクリレート、クレゾールノボラック型エポキ
シメタクリレート、ポリジメチルシロキサンジメタクリ
レート等である。
Polybutylene adipate diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polyurethane diacrylate (composed of polyester glycol and isocyanate), spiroglycol urethane diacrylate, bisphenol A type epoxy acrylate, bisphenol F type epoxy acrylate, phenol novolak type epoxy acrylate, cresol novolak Epoxy methacrylate, polydimethylsiloxane dimethacrylate and the like.

これらのアクリレート類は実用性に富む架橋性オリゴ
マーとして有用であるが、これら以外に不飽和ポリエス
テルや側鎖に活性基を有するポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリフェニレンオキサイド等の樹脂をアクリル酸エ
ステル変性したものも十分に使用できる。
These acrylates are useful as practically useful crosslinkable oligomers.In addition, resins such as unsaturated polyesters and polyamides having active groups in side chains, such as polyamides, polyurethanes, polyesters, polysulfones, polyethersulfones, and polyphenylene oxides can be used. Acrylic acid ester modified ones can also be used satisfactorily.

本発明で用いる架橋性オリゴマーの分子量はかなり広
い範囲に亘って使用することができるが、好ましくは、
200〜50000である。
Although the molecular weight of the crosslinkable oligomer used in the present invention can be used over a considerably wide range, preferably,
200 to 50000.

本発明の架橋性オリゴマーは少なくとも15重量%以上
用いることが望ましい。
It is desirable to use at least 15% by weight or more of the crosslinkable oligomer of the present invention.

この架橋性オリゴマーは、1種類でも良いし2種類以
上を併用しても良い。
This crosslinkable oligomer may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性樹脂組成物は光開始剤を含有してい
るが、その光開始剤としては、例えばベンジルジメチル
ケタール等のケタール類、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−1−プロピル
エーテル、ベンゾイン、α−メチルベンゾイン等のベン
ゾイン類、9,10−アントラキノン、1−クロルアントラ
キノン、2−クロルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン等のアントラキノン類、ベンゾフェノン、p−
クロルベンゾフェノン、p−ジメチルアミノベンゾフェ
ノン、p,p′−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、
p,p′−テトラエチルジアミノベンゾフェノン等のベン
ゾフェノン類、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフ
ェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
等のアセトフェノン類、ジベンゾスベロン等のスベロン
類、ジフェニルスルフィド、チオキサントン、2−メチ
ル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフ
ィリノプロパノン−1等の含硫黄化合物類、メチレンブ
ルー、エオシン、フルオレセイン等の色素類等が挙げら
れ、単独にまたは2種類以上併用して使用される。
Although the photocurable resin composition of the present invention contains a photoinitiator, examples of the photoinitiator include ketals such as benzyldimethyl ketal, benzoin methyl ether,
Benzoins such as benzoin ethyl ether, benzoin-1-propyl ether, benzoin, α-methylbenzoin, anthraquinones such as 9,10-anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone and 2-ethylanthraquinone, benzophenone, p −
Chlorobenzophenone, p-dimethylaminobenzophenone, p, p'-tetramethyldiaminobenzophenone,
Benzophenones such as p, p'-tetraethyldiaminobenzophenone, acetophenones such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, suberones such as dibenzosuberone, diphenylsulfide, thioxanthone, Sulfur-containing compounds such as methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morphylinopropanone-1 and dyes such as methylene blue, eosin, and fluorescein, and the like, alone or in combination of two or more. Used.

本発明においては、この光開始剤の配合比は、樹脂組
成物全体に対して0.1〜20重量%であり、好ましくは0.5
〜20重量%である。
In the present invention, the compounding ratio of the photoinitiator is 0.1 to 20% by weight based on the whole resin composition, preferably 0.5 to 20% by weight.
~ 20% by weight.

本発明の樹脂組成物は、製造時の熱重合や貯蔵中の暗
反応を防止するために、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、t−ブチルカテコール、p−ベンゾキノン、2,5
−t−ブチルハイドロキノン、フェノチアジン等の公知
の熱重合防止剤を添加するのが望ましい。
The resin composition of the present invention contains hydroquinone monomethyl ether, t-butylcatechol, p-benzoquinone, 2,5,5 to prevent thermal polymerization during production and dark reaction during storage.
It is desirable to add a known thermal polymerization inhibitor such as -t-butylhydroquinone and phenothiazine.

さらに本発明の樹脂組成物は、硬化体の物性を劣化さ
せない範囲で上記添加物の他に消泡剤、レベリング剤等
の各種添加剤を添加しても良い。
Further, in the resin composition of the present invention, various additives such as an antifoaming agent and a leveling agent may be added in addition to the above additives as long as the physical properties of the cured product are not deteriorated.

上記のような樹脂組成物を硬化させてなる有機保護層
は光学ディスク基板上に設けられるが、この様な保護層
を光学ディスク基板上に設けるには以下のようにすれば
良い。
The organic protective layer obtained by curing the resin composition as described above is provided on the optical disk substrate. To provide such a protective layer on the optical disk substrate, the following method may be used.

すなわち、まず刷毛塗り法、スプレー法、浸漬法、バ
ーコート法、ロールコーター法、スピンコーター法等の
塗膜方法を用いて基板上に上記の樹脂組成物を塗布し
て、塗膜を設け、この塗膜を硬化させれば良い。
That is, first, the above resin composition is applied to a substrate using a coating method such as a brush coating method, a spray method, a dipping method, a bar coating method, a roll coater method, and a spin coater method, and a coating film is provided. What is necessary is just to harden this coating film.

塗布厚みは、0.5〜500μm好ましくは1〜50μmであ
る。
The coating thickness is 0.5 to 500 μm, preferably 1 to 50 μm.

塗膜の硬化方法は、紫外線等の光を任意の条件で照射
することにより得られる。
The method of curing the coating film can be obtained by irradiating light such as ultraviolet light under arbitrary conditions.

この際樹脂組成物の硬化性を向上させるために窒素、
アルゴン等の不活性気体雰囲気下で硬化させても何等問
題はない。
At this time, in order to improve the curability of the resin composition, nitrogen,
There is no problem even if curing is performed in an atmosphere of an inert gas such as argon.

上記の光学ディスク基板の材質およびその構成等は何
等限定されるものではない。
The material and the configuration of the optical disc substrate are not limited at all.

[発明の効果] このようにして得られた本発明の光硬化性樹脂組成物
を所定条件で光硬化させたものは、基板表面の耐擦傷性
を高め、低表面抵抗値を示し、かつブリードの発生がな
いという特徴を持ち、デジタルオーディオディスク、光
ディスク、光磁気ディスクなどの光学ディスク基板の表
面の保護コート剤として極めて優れたものである。
[Effects of the Invention] The photocurable resin composition of the present invention obtained in this manner, which is photocured under predetermined conditions, has improved scratch resistance on the substrate surface, exhibits a low surface resistance, and has bleed. It has the characteristic of no occurrence of blemishes, and is extremely excellent as a protective coating agent for the surface of optical disk substrates such as digital audio disks, optical disks, and magneto-optical disks.

[実施例] 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではな
い。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、実施例において得られる諸物性は下記の試験法
により測定した。
The physical properties obtained in the examples were measured by the following test methods.

(1)加速耐久性試験:温度80℃、湿度80%RHの環境に
2000時間放置した。
(1) Accelerated durability test: In an environment with a temperature of 80 ° C and a humidity of 80% RH
Left for 2000 hours.

(2)硬度:JIS−KJ6911に従い鉛筆硬度試験装置にて測
定 (3)顕微鏡観察:偏光顕微鏡を用いて観察を行った。
表面のブリードが認められたものを×、認められなかっ
たものを○とした。
(2) Hardness: Measured with a pencil hardness tester according to JIS-KJ6911. (3) Microscopic observation: Observation was performed using a polarizing microscope.
When the bleeding of the surface was observed, it was evaluated as x, and when it was not observed, it was evaluated as ○.

(4)表面抵抗:表面抵抗測定装置を用い、23℃、50%
RHの条件で表面抵抗を測定した。
(4) Surface resistance: 23 ° C, 50% using a surface resistance measuring device
The surface resistance was measured under the condition of RH.

実施例1 1000mlセパラブルフラスコにノナエチレングリコール
モノメタクリレート96.4g,テトラヒドロフラン400ml,ア
ゾイソブチロニトリル0.32gを加え、脱気後、アルゴン
置換し、55℃で撹拌下5時間反応させた。反応終了後、
ヘキサン2000mlの中に反応溶液を投入して、生成物を
得、その後テトラヒドロフラン500mlに再度溶解し、ヘ
キサン2000mlに投入し生成物を精製し、回収した。得ら
れた重合体を真空下、40℃にて乾燥したところ、収量は
74gであった。
Example 1 96.4 g of nonaethylene glycol monomethacrylate, 400 ml of tetrahydrofuran and 0.32 g of azoisobutyronitrile were added to a 1000 ml separable flask, and after degassing, the atmosphere was replaced with argon and the reaction was carried out at 55 ° C for 5 hours with stirring. After the reaction,
The reaction solution was poured into 2000 ml of hexane to obtain a product, which was then redissolved in 500 ml of tetrahydrofuran, and poured into 2000 ml of hexane to purify and recover the product. When the obtained polymer was dried under vacuum at 40 ° C., the yield was
It was 74 g.

得られた重合体は、赤外吸収スペクトル、1Hおよび13
C−NMRスペクトルからノナエチレングリコールモノメタ
クリレートがラジカル重合したオリゴマー体であること
が確認された。
The resulting polymer had an infrared absorption spectrum, 1 H and 13
From the C-NMR spectrum, it was confirmed that nonaethylene glycol monomethacrylate was an oligomer obtained by radical polymerization.

実施例2 アルゴン雰囲気下で500mlセパラブルフラスコに実施
例1で得られた重合体48.5gをテトラヒドロフラン200ml
に溶解させ、アクリル酸クロライド4.5gを0℃で添加
し、その後、室温で2時間撹拌下、反応した。
Example 2 Under an argon atmosphere, 48.5 g of the polymer obtained in Example 1 was placed in a 500 ml separable flask in 200 ml of tetrahydrofuran.
Was added thereto, and 4.5 g of acrylic acid chloride was added at 0 ° C., followed by a reaction at room temperature for 2 hours with stirring.

反応終了後、水50mlを添加、濾過し、反応物をヘキサ
ン1000mlに投入し生成物を回収した。
After the completion of the reaction, 50 ml of water was added and the mixture was filtered, and the reaction product was poured into 1000 ml of hexane to recover a product.

生成物を真空下40℃にて乾燥したところ、収量は42g
であった。
The product was dried at 40 ° C. under vacuum and the yield was 42 g.
Met.

生成物は、赤外吸収スペクトル、1Hおよび13C−NMRス
ペクトルからアクリル化が45%進行していることが明ら
かとなった。
From the infrared absorption spectrum, 1 H-NMR spectrum, and 13 C-NMR spectrum of the product, it was found that acrylation had progressed by 45%.

実施例3 アクリル酸クロライド9.1gを添加した以外は、実施例
2と同様に反応を行った。
Example 3 A reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 9.1 g of acrylic acid chloride was added.

反応終了後、水50mlを添加、濾過し、反応物をヘキサ
ン1000mlに投入し生成物を回収した。
After the completion of the reaction, 50 ml of water was added and the mixture was filtered, and the reaction product was poured into 1000 ml of hexane to recover a product.

生成物を真空下40℃にて乾燥したところ、収量は45g
であった。
The product was dried at 40 ° C under vacuum, yielding 45g
Met.

生成物は、赤外吸収スペクトル、1Hおよび13C−NMRス
ペクトルからアクリル化が95%進行していることが明ら
かとなった。
The product was found to be 95% acrylated from the infrared absorption spectrum, 1 H and 13 C-NMR spectrum.

実施例4 実施例2で得られた重合体50%、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート30%、1,6−ヘキサンジオールジア
クリレート20%を配合し、全量100gに調整し、これに対
し、5%の1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ンを添加して、光重合性樹脂組成物を構成した。
Example 4 50% of the polymer obtained in Example 2, 30% of pentaerythritol triacrylate and 20% of 1,6-hexanediol diacrylate were blended, and the total amount was adjusted to 100 g. -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone was added to form a photopolymerizable resin composition.

この樹脂組成物を5.25インチのポリカーボネート製光
磁気ディスク上に3000rpmで5秒間スピンコートし、塗
膜を形成した。
This resin composition was spin-coated on a 5.25 inch polycarbonate magneto-optical disk at 3000 rpm for 5 seconds to form a coating film.

ついで、このディスクを出力120Wの高圧水銀灯を用い
て10秒間紫外線露光した。このときの紫外線量は、波長
365nmの積算照度として870mJであった。
Then, the disk was exposed to ultraviolet light for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp with an output of 120 W. The amount of ultraviolet light at this time is the wavelength
The integrated illuminance at 365 nm was 870 mJ.

このようにして硬化した保護コート層を有するディス
クを用いて加速耐久試験を行い、表面抵抗、ディスク表
面の顕微鏡観察、鉛筆硬度の測定を行った。結果を表1
に示す。
An accelerated durability test was performed using the disk having the protective coating layer thus cured, and surface resistance, disk surface microscopic observation, and measurement of pencil hardness were performed. Table 1 shows the results
Shown in

実施例5 実施例3で合成した重合体を用いるほかは、実施例4
と同様に樹脂組成物を配合し、スピンコートを行い、紫
外線露光を行った。
Example 5 Example 4 was repeated except that the polymer synthesized in Example 3 was used.
In the same manner as described above, a resin composition was blended, spin-coated, and exposed to ultraviolet light.

この後、実施例4と同様の試験を行った。結果を表1
に示す。
Thereafter, the same test as in Example 4 was performed. Table 1 shows the results
Shown in

比較例 表面保護コート剤のベースレジンとしてビスフェノー
ルA−エポキシアクリレート40%、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート30%、エチレングリコールジアクリ
レート20%、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート10
%を配合し、全量100gに調整し、これに対し、5%の1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを添加し
て、光重合性樹脂組成物を構成した後、実施例4と同様
にスピンコート、紫外線露光をおこなった。この後、実
施例4と同様の試験を行った。
Comparative Example Bisphenol A-epoxy acrylate 40%, pentaerythritol triacrylate 30%, ethylene glycol diacrylate 20%, 1,6-hexanediol diacrylate 10 as base resin of surface protective coating agent
%, Adjusted to a total amount of 100 g, and 1% of 5%
After adding -hydroxycyclohexyl phenyl ketone to form a photopolymerizable resin composition, spin coating and ultraviolet exposure were performed in the same manner as in Example 4. Thereafter, the same test as in Example 4 was performed.

結果を表1に示す。 Table 1 shows the results.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/24 C08F 299/00 - 299/08 C08F 290/00 - 290/14 C08F 8/00 - 8/50 C08F 2/00 - 2/60 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G11B 7/24 C08F 299/00-299/08 C08F 290/00-290/14 C08F 8/00-8 / 50 C08F 2/00-2/60

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記一般式(1) (ただし、R1,R2,R3はそれぞれHあるいはCH3、nは1
〜14の整数、xは0〜0.99,yは0.01〜1の正数) で表される化合物を含有する光硬化性樹脂組成物を光硬
化させて得られた有機保護層を設けたことを特徴とする
光記録媒体。
1. The following general formula (1) (However, R 1 , R 2 and R 3 are each H or CH 3 , and n is 1
An integer of 1414, x is 0 to 0.99, and y is a positive number of 0.01 to 1). An organic protective layer obtained by photocuring a photocurable resin composition containing a compound represented by An optical recording medium characterized by the following.
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