JP3293924B2 - Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof - Google Patents

Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof

Info

Publication number
JP3293924B2
JP3293924B2 JP02320493A JP2320493A JP3293924B2 JP 3293924 B2 JP3293924 B2 JP 3293924B2 JP 02320493 A JP02320493 A JP 02320493A JP 2320493 A JP2320493 A JP 2320493A JP 3293924 B2 JP3293924 B2 JP 3293924B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
parts
radiation
present
optical material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP02320493A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06211936A (en
Inventor
克則 志村
一彦 石井
実 横島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP02320493A priority Critical patent/JP3293924B2/en
Publication of JPH06211936A publication Critical patent/JPH06211936A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3293924B2 publication Critical patent/JP3293924B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光信号を高速・高密度
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線或は電子線等により硬化し、記録媒体に対する接着
性、耐湿性の良好な放射線硬化性樹脂組成物、光学材料
用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultraviolet or electron beam which is useful as an optical material such as an overcoat agent, a hard coat agent and a groove material for an optical disk recording medium for recording and reproducing an optical signal at high speed and high density. The present invention relates to a radiation-curable resin composition, a resin composition for an optical material, and a cured product thereof that are cured and have good adhesion to a recording medium and good moisture resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンパクトディスク、光磁気記録ディス
ク等をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等の
透明基板上に蒸着又はスパックリングにより形成された
金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜層
は大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化し
やすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステル
を主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤と
して使用されているが、接着性、耐湿性で不十分であ
り、耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られる。
2. Description of the Related Art Optical disks such as compact disks and magneto-optical recording disks have a structure having a metal thin film layer formed by vapor deposition or spargling on a transparent substrate such as polycarbonate. Since this metal thin film layer is affected by oxygen and moisture in the air and its characteristics are easily deteriorated, conventionally, a UV curable resin mainly composed of a thermoplastic resin or an acrylate ester has been used as an overcoat agent. However, adhesion and moisture resistance are insufficient, and corrosion is observed in the metal thin film layer in an environmental resistance test.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】接着性及び耐湿性に優
れ、耐環境試験において光ディスクの金属薄膜層に腐食
がみられない硬化膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組成
物を提供する。
The present invention provides a radiation-curable resin composition which is excellent in adhesiveness and moisture resistance and can form a cured film in which corrosion is not observed in a metal thin film layer of an optical disk in an environmental resistance test.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究した結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明は、式(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, have completed the present invention. That is, the present invention relates to formula (1)

【0005】[0005]

【化2】 Embedded image

【0006】(式中、R1 は水素原子、メチル基又はエ
チル基、R2 は水素原子又はメチル基、a、bはそれぞ
れ0〜10の数、a+bの平均値は1〜20である。)
で表される化合物(A)、希釈剤として反応性単量体及
び/又は溶剤(B)並びに任意成分としての光重合開始
剤(C)を含有することを特徴とする放射線硬化性樹脂
組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物に関す
る。本発明で使用する式(1)で表される化合物(A)
は、式(2)、
(Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, a and b are each a number from 0 to 10, and the average value of a + b is 1 to 20.) )
A radiation-curable resin composition comprising a compound (A) represented by the formula (I), a reactive monomer and / or a solvent (B) as a diluent, and a photopolymerization initiator (C) as an optional component. And a resin composition for an optical material and a cured product thereof. Compound (A) represented by Formula (1) used in the present invention
Is given by equation (2),

【0007】[0007]

【化3】 Embedded image

【0008】(式中、R1 及びa、bは式(1)と同一
である。)で表される化合物と(メタ)アクリル酸を溶
剤(例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、n
−ヘキサン、n−ヘプタン等)中で脱水反応を行うこと
により得ることができる。反応を促進させるために酸触
媒(例えば、硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等)を使用するのが好ましい。反応中、重合を
防止するために重合禁止剤(例えば、ハイドロキノン、
p−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等)を
使用するのが好ましい。式(2)で表される化合物と
(メタ)アクリル酸の使用割合は、式(2)で表される
化合物の水酸基1当量に対して、(メタ)アクリル酸1
〜2当量を使用するのが好ましい。反応温度は70〜1
50℃が好ましく、反応時間は3〜20時間が好まし
い。
(Wherein R 1 and a and b are the same as those of the formula (1)) and (meth) acrylic acid in a solvent (for example, toluene, benzene, cyclohexane, n
-Hexane, n-heptane, etc.). It is preferable to use an acid catalyst (for example, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, etc.) to promote the reaction. During the reaction, a polymerization inhibitor (for example, hydroquinone,
It is preferable to use p-methoxyphenol, methylhydroquinone, etc.). The use ratio of the compound represented by the formula (2) and (meth) acrylic acid is such that 1 equivalent of the hydroxyl group of the compound represented by the formula (2) is
It is preferred to use ~ 2 equivalents. Reaction temperature is 70-1
The temperature is preferably 50 ° C., and the reaction time is preferably 3 to 20 hours.

【0009】式(2)で表される化合物は、下記構造式
のフルオレン化合物とε−カプロラクトンを反応させる
ことにより得ることができる。
The compound represented by the formula (2) can be obtained by reacting a fluorene compound having the following structural formula with ε-caprolactone.

【0010】[0010]

【化4】 Embedded image

【0011】[0011]

【化5】 Embedded image

【0012】[0012]

【化6】 Embedded image

【0013】前記フルオレン化合物の水酸基1当量あた
り、ε−カプロラクトンを1〜10モルを反応させる。
反応を促進させるために触媒として、塩化第一スズ、テ
トラプロピルチタネート等を使用するのが好ましい。触
媒の使用量は反応混合液に対して50〜5000ppm
が好ましい。反応温度は70〜200℃が好ましく、特
に好ましくは80〜150℃である。反応時間は1〜2
0時間が好ましい。
The fluorene compound is reacted with 1 to 10 moles of ε-caprolactone per equivalent of hydroxyl group.
To promote the reaction, it is preferable to use stannous chloride, tetrapropyl titanate or the like as a catalyst. The amount of the catalyst used is 50 to 5000 ppm based on the reaction mixture.
Is preferred. The reaction temperature is preferably from 70 to 200 ° C, particularly preferably from 80 to 150 ° C. Reaction time is 1-2
0 hours is preferred.

【0014】本発明の組成物中の式(1)で表される化
合物(A)の使用割合は5〜95重量%の範囲が好まし
く、特に好ましくは10〜50重量%である。
The use ratio of the compound (A) represented by the formula (1) in the composition of the present invention is preferably in the range of 5 to 95% by weight, particularly preferably 10 to 50% by weight.

【0015】本発明で使用する希釈剤としての反応性単
量体及び/又は溶剤(B)の具体例としては、反応性単
量体は、例えば、カルビト−ル(メタ)アクリレート、
テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシク
ロペンテニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクトン、ト
リプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナン
ジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ(メタ)アクリレート等を挙げることだできる。溶
剤は、例えば、メチルリチルケトン、カルビトールアセ
テート、ブチルセロソルブアセテート、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテル、ソルベントナフサ等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の希釈剤としての反応性単量体及
び/又は溶剤(B)の使用割合は5〜95重量%の範囲
が好ましく、特に好ましくは50〜90重量%である。
As specific examples of the reactive monomer and / or solvent (B) as a diluent used in the present invention, the reactive monomer includes, for example, carbitol (meth) acrylate,
Tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine,
N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactone, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate,
1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate, and the like. Examples of the solvent include methyllithyl ketone, carbitol acetate, butyl cellosolve acetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, and solvent naphtha. The proportion of the reactive monomer and / or solvent (B) used as a diluent in the composition of the present invention is preferably in the range of 5 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight.

【0016】本発明で任意成分として使用する光重合開
始剤(C)としては、一般の紫外線硬化型樹脂に使用さ
れている各種の光重合開始剤が使用できる。例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、2−メチルベ
ンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ルジメチルケタール、2,2−ジエトキシアセトフェノ
ン、ベンゾイル安息香酸、4−ベンゾイル−4′−メチ
ルジフェニルサルファイド、3,3′−ジメチル−4−
メトキシベンゾフェノン、1−(4−ドデシルフェニ
ル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオフェニ
ル)〕−2−モルホリノプロパン−1、2−クロロチオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4
−ジイソプロピルチオキサントン、2,4,6−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等をそ
の例として挙げることができる。更にこれらの光重合開
始剤には、アミン類等の光重合促進剤を併用することが
できる。
As the photopolymerization initiator (C) used as an optional component in the present invention, various photopolymerization initiators used in general ultraviolet curable resins can be used. For example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin butyl ether, 2-methylbenzoin, benzophenone, Michler's ketone, benzyldimethylketal, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoylbenzoic acid, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide , 3,3'-dimethyl-4-
Methoxybenzophenone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2
-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1
-One, 2-methyl-1- [4- (methylthiophenyl)]-2-morpholinopropane-1, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4
-Diisopropylthioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like can be mentioned as examples. Further, a photopolymerization accelerator such as an amine can be used in combination with these photopolymerization initiators.

【0017】光重合開始剤の本発明の組成物中の使用割
合は、0〜15重量%の範囲が好ましく、特に好ましく
は3〜7重量%である。アミン類等の光重合促進剤とし
ては、例えば、2−ジメチルアミノエチルベンゾエー
ト、ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等がその例として挙げられる。これらの光重合促進
剤の使用割合は、光重合開始剤、100重量部に対し
て、0〜100重量部が好ましい。本発明の樹脂組成物
(A)、(B)及び(C)成分を加熱、混合、溶解する
方法により得ることができる。本発明の組成物には、上
記の成分で十分所期の目的を達成できるが、さらに性能
改良のため、本来の特性を変えない範囲で、シランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の添加物を添
加することができる。
The proportion of the photopolymerization initiator used in the composition of the present invention is preferably in the range of 0 to 15% by weight, particularly preferably 3 to 7% by weight. Examples of photopolymerization accelerators such as amines include 2-dimethylaminoethylbenzoate, dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, and the like. The use ratio of these photopolymerization accelerators is preferably 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the photopolymerization initiator. The resin compositions (A), (B) and (C) of the present invention can be obtained by heating, mixing and dissolving the components. In the composition of the present invention, the above-mentioned components can sufficiently achieve the intended purpose.However, in order to further improve the performance, a silane coupling agent, a polymerization inhibitor, a leveling agent, etc. Additives can be added.

【0018】使用しうるシランカップリング剤の例とし
ては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン等が挙げられる。
Examples of silane coupling agents that can be used include, for example, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like. Can be

【0019】使用しうる重合禁止剤の例としては、例え
ば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、t−ブチルカ
テコール、p−ベンゾキノン、2,5−t−ブチル−ハ
イドロキノン、フェノチアジン等が挙げられる。レベリ
ング剤としては、例えば、モンサント社製の「モダフロ
ー」等が挙げられる。
Examples of the polymerization inhibitor that can be used include, for example, hydroquinone monomethyl ether, t-butylcatechol, p-benzoquinone, 2,5-t-butyl-hydroquinone, phenothiazine and the like. Examples of the leveling agent include “Modaflow” manufactured by Monsanto Co., Ltd.

【0020】これらの添加剤の使用量は本発明の組成物
の0〜5重量%の範囲が好ましい。本発明でいう放射線
とは、電子線、α線、β線、γ線、X線、中性子線又は
紫外線の如き、電離性放射線や光等を総称するものであ
る。本発明の放射線硬化性樹脂組成物の硬化物は常法に
従い、上記した放射線を照射することにより硬化して得
ることができる。本発明の樹脂組成物は、光ディスク記
録媒体用オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の
光学材料として有用であるが、その他、金属、プラスチ
ック、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング
剤、塗料、インキ、レジストレンズ等に使用できる。
The use amount of these additives is preferably in the range of 0 to 5% by weight of the composition of the present invention. Radiation as used in the present invention is a general term for ionizing radiation, light, and the like, such as electron beams, α-rays, β-rays, γ-rays, X-rays, neutron rays or ultraviolet rays. The cured product of the radiation-curable resin composition of the present invention can be obtained by curing by irradiating the above-mentioned radiation according to a conventional method. The resin composition of the present invention is useful as an optical material such as an overcoat agent for an optical disk recording medium, a hard coat agent, and a groove material, but also includes a coating agent for metals, plastics, rubber, paper, wood and ceramics, and a paint. , Ink, resist lens, etc.

【0021】本発明の光学材料樹脂組成物を光ディスク
記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合には、
光ディスクの金属薄膜層上に、スピコーター等塗布装置
を用いて乾燥塗膜厚が2〜10μmとなるような本発明
の組成物が塗布され、更に、紫外線の如き放射線を照射
することによって、金属膜上にオーバーコート(保護)
層が形成される。
When the optical material resin composition of the present invention is used as an overcoat agent for an optical disk recording medium,
The composition of the present invention is applied to the metal thin film layer of the optical disc such that the dry coating thickness is 2 to 10 μm using a coating device such as a spicoter, and further, the metal film is irradiated with radiation such as ultraviolet rays. Overcoat (protection) on top
A layer is formed.

【0022】[0022]

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
詳細に説明する。なお、以下において、部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。
The present invention will be described below in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, all parts are by weight unless otherwise specified.

【0023】化合物(A)の合成例 合成例1 前記式(3)で表される化合物(新日鉄化学(株)製、
商品名「BPHE」)438部、ε−カプロラクトン1
14部、塩化第一スズ0.17部を仕込み、130℃に
加熱し、約10時間反応し、未反応のε−カプロラクト
ンが1重量%以下になったので60℃まで冷却し、次い
でトルエン600部、アクリル酸173部、p−トルエ
ンスルホン酸70部、ハイドロキノン10部を仕込み、
加熱し脱水反応を行い、留出水が36部になるまで反応
を行う。反応温度は105〜125℃であった。次いで
反応液を冷却し、トルエン2000部及び20%苛性ソ
ーダ水溶液250部を仕込み、中和し、次いで20%塩
化ナトリウム水溶液500部を用いて洗浄し、トルエン
を除去し透明淡黄色の固体を得た。屈折率(25℃)は
1.59であった。
Synthesis Example of Compound (A) Synthesis Example 1 A compound represented by the formula (3) (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
438 parts, ε-caprolactone 1 (trade name “BPHE”)
14 parts and stannous chloride 0.17 parts were charged, heated to 130 ° C., and reacted for about 10 hours. Unreacted ε-caprolactone was reduced to 1% by weight or less. Parts, 173 parts of acrylic acid, 70 parts of p-toluenesulfonic acid, and 10 parts of hydroquinone.
The mixture is heated to perform a dehydration reaction, and the reaction is continued until the amount of distillate reaches 36 parts. The reaction temperature was 105-125 ° C. Then, the reaction solution was cooled, 2,000 parts of toluene and 250 parts of a 20% aqueous sodium hydroxide solution were charged and neutralized, and then washed with 500 parts of a 20% aqueous sodium chloride solution to remove toluene to obtain a transparent pale yellow solid. . The refractive index (25 ° C.) was 1.59.

【0024】合成例2 前記式(3)で表される化合物438部、ε−カプロラ
クトン342部、塩化第一スズ0.23部を仕込み、1
30℃に加熱し、約10時間反応し、未反応のε−カプ
ロラクトンが1重量%以下になったので60℃まで冷却
し、次いでトルエン800部、アクリル酸173部、p
−トルエンスルホン酸80部、ハイドロキノン10部を
仕込み、加熱し脱水反応を行い、留出水が36部になる
まで反応を行う。反応温度は110〜125℃であっ
た。次いで反応液を冷却し、トルエン、2500部及び
20%苛性ソーダ水溶液250部を仕込み、中和し、次
いで20%塩化エトリウム水溶液700部を用いて洗浄
し、トルエンを除去し、淡黄色透明液状物を得た。屈折
率(25℃)は1.54であった。
Synthesis Example 2 438 parts of the compound represented by the above formula (3), 342 parts of ε-caprolactone, and 0.23 part of stannous chloride were charged.
The mixture was heated to 30 ° C. and reacted for about 10 hours. Since unreacted ε-caprolactone became 1% by weight or less, it was cooled to 60 ° C., and then 800 parts of toluene, 173 parts of acrylic acid, p
-80 parts of toluenesulfonic acid and 10 parts of hydroquinone are charged, heated and subjected to a dehydration reaction, and the reaction is continued until the amount of distillate reaches 36 parts. The reaction temperature was 110-125 ° C. Next, the reaction solution was cooled, and 2500 parts of toluene and 250 parts of a 20% aqueous sodium hydroxide solution were charged and neutralized, and then washed with 700 parts of a 20% aqueous sodium chloride solution to remove toluene, and a pale yellow transparent liquid was obtained. Obtained. The refractive index (25 ° C.) was 1.54.

【0025】実施例1 合成例1で得た化合物30部、トリメチロールプロパン
トリアクリレート30部、1,6−ヘキサンジオールジ
アクリレート25部、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート10部及びイルガキュアー184(チバ・ガイギー
社製、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)
5部を混合、溶解し、本発明の樹脂組成物を得た。次
に、ポリカーボネート基板にアルミニウムを蒸着した光
ディスクの記録膜の上に、上記で得られた樹脂組成物を
スピンコーターを用いて5μmによるように塗布し、メ
タルハライドランプ(120w/cm) により照射して、
塗膜を硬化させた。得られたオーバーコートされた光デ
ィスクを75℃、85RH%の恒温恒湿槽中に2000
時間放置した後、記録膜を観察した結果、異常は認めら
れなかった。
Example 1 30 parts of the compound obtained in Synthesis Example 1, 30 parts of trimethylolpropane triacrylate, 25 parts of 1,6-hexanediol diacrylate, 10 parts of tetrahydrofurfuryl acrylate and Irgacure 184 (Ciba Geigy) 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone)
Five parts were mixed and dissolved to obtain a resin composition of the present invention. Next, the resin composition obtained above was applied on a recording film of an optical disk in which aluminum was vapor-deposited on a polycarbonate substrate using a spin coater so as to have a thickness of 5 μm, and irradiated with a metal halide lamp (120 w / cm). ,
The coating was cured. The obtained overcoated optical disk was placed in a constant temperature and humidity chamber at 75 ° C. and 85 RH% for 2000 hours.
After standing for a while, the recording film was observed, and no abnormalities were observed.

【0026】実施例2 合成例2で得た化合物40部、ホオペンチルグリコール
ジアクリレート20部、ジシクロペンテニルアクリレー
ト35部及びイルガキュアー184、5部を混合溶解
し、本発明の樹脂組成物を得た。次いで実施例1と同様
にしてオーバーコートされた光ディスクを得た。実施例
1と同様にして、恒温恒湿槽中に2000時間放置後、
記録膜表面を観察した結果、異常は認められなかった。
Example 2 40 parts of the compound obtained in Synthesis Example 2, 20 parts of hopopentyl glycol diacrylate, 35 parts of dicyclopentenyl acrylate, and 184 and 5 parts of Irgacure were mixed and dissolved to obtain a resin composition of the present invention. Was. Next, an overcoated optical disk was obtained in the same manner as in Example 1. After leaving in a thermo-hygrostat for 2000 hours in the same manner as in Example 1,
As a result of observing the recording film surface, no abnormality was recognized.

【0027】比較例1 実施例1において、合成例1で得た化合物30部に代え
てトリメチロールプロパントリアクリレート30部を用
いた以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物を調製
し、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例1
と同様にして、恒温恒湿槽中に50時間放置した後、記
録膜表面を観察した結果、記録膜全面が腐食していた。
Comparative Example 1 A resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 30 parts of trimethylolpropane triacrylate was used in place of 30 parts of the compound obtained in Synthesis Example 1. Thus, an overcoated optical disk was obtained. Example 1
In the same manner as in the above, the recording film surface was observed after standing in a thermo-hygrostat for 50 hours. As a result, the entire recording film was corroded.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、硬化塗膜の記録
媒体に対する接着性、耐湿性が良好であり、光ディスク
の金属層、薄膜層の腐食を長期間に亘って効果的に防止
することができる。従って、本発明の樹脂組成物は特に
光ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極め
て有用である。
The resin composition of the present invention has good adhesion of a cured coating film to a recording medium and good moisture resistance, and effectively prevents corrosion of a metal layer and a thin film layer of an optical disk for a long period of time. be able to. Therefore, the resin composition of the present invention is extremely useful especially as an optical material such as an overcoat agent for an optical disk.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G03F 7/027 G11B 7/24 534 G11B 7/24 534 B41M 5/26 Y (56)参考文献 特開 平4−325508(JP,A) 特開 平5−215902(JP,A) 特開 平5−170702(JP,A) 特開 平7−2939(JP,A) 特開 平4−337307(JP,A) 特開 平6−220148(JP,A) 特開 平6−220131(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 20/00 - 20/70 C08F 299/00 - 299/08 CA(STN) REGISTRY(STN)Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI G03F 7/027 G11B 7/24 534 G11B 7/24 534 B41M 5/26 Y (56) References JP-A-4-325508 (JP, A) JP-A-5-215902 (JP, A) JP-A-5-170702 (JP, A) JP-A-7-2939 (JP, A) JP-A-4-337307 (JP, A) JP-A-6-220148 (JP, A) JP-A-6-220131 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08F 20/00-20/70 C08F 299/00-299/08 CA ( STN) REGISTRY (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】式(1) 【化1】 (式中、R1 は水素原子、メチル基又はエチル基、R2
は水素原子又はメチル基、a、bはそれぞれ0〜10の
数、a+bの平均値は1〜20である。)で表される化
合物(A)、希釈剤として反応性単量体及び/又は溶剤
(B)並びに任意成分として光重合開始剤(C)を含有
することを特徴とする放射線硬化性樹脂組成物。
(1) Formula (1) (Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, R 2
Is a hydrogen atom or a methyl group, a and b are each a number of 0 to 10, and the average value of a + b is 1 to 20. (A), a radiation curable resin composition comprising a reactive monomer and / or a solvent (B) as a diluent and a photopolymerization initiator (C) as an optional component. .
【請求項2】請求項1記載の式(1)で表される化合物
(A)、希釈剤として反応性単量体及び/又は溶剤
(B)並びに任意成分として光重合開始剤(C)を含有
することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。
2. A compound (A) represented by the formula (1) according to claim 1, a reactive monomer and / or a solvent (B) as a diluent and a photopolymerization initiator (C) as an optional component. A resin composition for an optical material, comprising:
【請求項3】請求項1又は請求項2記載の樹脂組成物の
硬化物。
3. A cured product of the resin composition according to claim 1 or 2.
JP02320493A 1993-01-19 1993-01-19 Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof Expired - Fee Related JP3293924B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02320493A JP3293924B2 (en) 1993-01-19 1993-01-19 Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02320493A JP3293924B2 (en) 1993-01-19 1993-01-19 Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06211936A JPH06211936A (en) 1994-08-02
JP3293924B2 true JP3293924B2 (en) 2002-06-17

Family

ID=12104142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP02320493A Expired - Fee Related JP3293924B2 (en) 1993-01-19 1993-01-19 Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3293924B2 (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100574322B1 (en) * 1999-02-04 2006-04-26 제일모직주식회사 Photosensitive resin composition and color filter
KR100574321B1 (en) * 1999-02-04 2006-04-26 제일모직주식회사 Photosensitive resin composition and black matrix
KR100574318B1 (en) * 1999-02-04 2006-04-26 제일모직주식회사 Photosensitive resin composition and color filter
KR100574325B1 (en) * 1999-12-21 2006-04-26 제일모직주식회사 Phtosensitive resin composition with good coating property, developing property and low stain occurrence rate
KR100574326B1 (en) * 1999-12-21 2006-04-26 제일모직주식회사 Photosensitive resin composition with good coating property, developing property and low stain occurrence rate
JP4530565B2 (en) * 2001-03-29 2010-08-25 大阪瓦斯株式会社 Monoacrylate fluorene compound, composition containing the compound, and cured product thereof
JP3912405B2 (en) * 2003-11-11 2007-05-09 三菱化学株式会社 Curable composition, cured product, color filter, and liquid crystal display device
JP2014019710A (en) * 2012-07-12 2014-02-03 Daicel Corp Lactone polymer and manufacturing method thereof
JP2019143057A (en) * 2018-02-22 2019-08-29 東洋インキScホールディングス株式会社 Photocurable composition and display
JP7314015B2 (en) * 2018-10-16 2023-07-25 大阪ガスケミカル株式会社 Fluorene derivative and its production method and use

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06211936A (en) 1994-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06220131A (en) Radiation-setting resin composition, resin composition for optical material and cured product therefrom
KR100901094B1 (en) Curable composition, cured coating film and coated substrate
JPH02211452A (en) Light initiator
JP3293924B2 (en) Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof
JPH09183929A (en) Ultraviolet-curable resin composition for ink jet recording system and cured product thereof
JP3016401B2 (en) (Meth) acrylate derivative, resin composition containing the same, and coating agent for optical disk
JP2683435B2 (en) Adhesive for inkjet nozzle manufacturing
US5055518A (en) Ethylenically unsaturated carbamates and coating compositions
JP2537644B2 (en) Overcoat composition for optical disk
JP3372076B2 (en) Radiation-curable resin composition, resin composition for optical material, and cured product thereof
JP3228432B2 (en) Optical disk material and its cured product
JPH107751A (en) Resin composition, its cured item, and its article
JP2541997B2 (en) Curing method with active energy rays
EP0736555A2 (en) Radiation-curable epoxy resin composition
JP2001040246A (en) Protective film for optical disk and optical disk
JP2995858B2 (en) Optical recording medium
JP3013423B2 (en) Overcoat composition for optical disc
JP2859761B2 (en) Radiation-curable resin composition and cured product thereof
US4374716A (en) Novel amorphous aromatic polyester modified with amine and UV curable composition containing the same
JPH04264166A (en) Overcoating composition for optical disc
JP3428145B2 (en) Active energy ray-curable resin composition
JPH07247331A (en) Resin composition, resin composition for optical resin material, and cured product thereof
JP2959050B2 (en) Photocurable resin composition
JPH05105726A (en) Resin composition, material for optical disc and its cured material
JP2001270920A (en) Active ray-curable composition

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110405

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120405

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees