JP2954276B2 - フッ素を有する▲ろ▼過膜の製造方法 - Google Patents
フッ素を有する▲ろ▼過膜の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、疎水性の高分子膜を、反応の場として、あ
るいは分離精製用の膜として用いるために有効な新規の
フッ素を有する過膜に関する。
るいは分離精製用の膜として用いるために有効な新規の
フッ素を有する過膜に関する。
（従来の技術） 疎水性の高分子膜として、これまでポリテトラフルオ
ロエチレン（テフロン）膜が代表的であった。テフロン
は、疎水性というだけでなく、耐熱性も有している。し
かしながら、テフロンは原料として高価であり、またそ
の機械的強度はポリオレフィン系の高分子膜に比べて劣
り、テフロン系の高分子膜の応用は限定されている。
ロエチレン（テフロン）膜が代表的であった。テフロン
は、疎水性というだけでなく、耐熱性も有している。し
かしながら、テフロンは原料として高価であり、またそ
の機械的強度はポリオレフィン系の高分子膜に比べて劣
り、テフロン系の高分子膜の応用は限定されている。
したがって、安価な汎用の高分子膜の表面にフッ素を
含有する基を導入できれば、テフロンの代用が可能であ
る。そこで、フッ素を含有する高分子膜の新規な製造技
術の提案が望まれている。
含有する基を導入できれば、テフロンの代用が可能であ
る。そこで、フッ素を含有する高分子膜の新規な製造技
術の提案が望まれている。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は汎用の高分子膜を改質して、フッ素系高分子
膜と同等の性質を付与する製造方法を提供することにあ
る。
膜と同等の性質を付与する製造方法を提供することにあ
る。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは前記目的を達成する手段を鋭意研究した
結果以下の手段によって達成できることを見いだした。
結果以下の手段によって達成できることを見いだした。
基材がオレフィンまたはハロゲン化オレフィンの重合
体または共重合体からなる多孔性マイクロ過膜に電離
性放射線を作用させ、エポキシ基を含有する重合性単量
体をグラフト重合した後、そのグラフト重合体の側鎖に
フッ素あるいはフッ素化合物を導入して、化学的、物理
的に安定な過膜が得られることを見いだした。
体または共重合体からなる多孔性マイクロ過膜に電離
性放射線を作用させ、エポキシ基を含有する重合性単量
体をグラフト重合した後、そのグラフト重合体の側鎖に
フッ素あるいはフッ素化合物を導入して、化学的、物理
的に安定な過膜が得られることを見いだした。
以下、本発明においてグラフト重合させる基材は、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、またはエチレン、プロピ
レン、クロロトリフルオロエチレンの単独または共重合
体から選択される。
リエチレン、ポリプロピレン、またはエチレン、プロピ
レン、クロロトリフルオロエチレンの単独または共重合
体から選択される。
基材膜にグラフトされる重合性単量体は、グリシジル
メタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジル
メタイタコナート、エチルグリシジルマレアート、グリ
シジルビニルスルホナートなどが用いられ、エポキシ基
を含有すれば限定されるものではないが、グリシジルメ
タクリレートが適している。
メタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジル
メタイタコナート、エチルグリシジルマレアート、グリ
シジルビニルスルホナートなどが用いられ、エポキシ基
を含有すれば限定されるものではないが、グリシジルメ
タクリレートが適している。
本発明のグラフト重合に際して用いる電離性放射線
は、α線、β線、γ線、加速電子線、Ｘ線、紫外線など
であるが、実用的には加速電子線またはγ線が望まし
い。
は、α線、β線、γ線、加速電子線、Ｘ線、紫外線など
であるが、実用的には加速電子線またはγ線が望まし
い。
本発明に従って、基材と重合性単量体をグラフト重合
させる方法としては、基材と単量体を共存下で放射線を
照射する同時照射法と、基材のみに予め放射線を照射し
た後、単量体と基材とを接触させる前照射法のいずれで
も可能であるが、前照射法が、グラフト重合以外の副反
応を生成しにくい特徴を有する。
させる方法としては、基材と単量体を共存下で放射線を
照射する同時照射法と、基材のみに予め放射線を照射し
た後、単量体と基材とを接触させる前照射法のいずれで
も可能であるが、前照射法が、グラフト重合以外の副反
応を生成しにくい特徴を有する。
グラフト重合の際に、基材を単量体と接触させる方法
は液状の単量体あるいは単量体溶液と直接接触させる液
相重合法と、単量体の蒸気あるいは気化状態で接触させ
る気相グラフト重合法とがあるが、いずれの方法も目的
に合った選択が可能である。
は液状の単量体あるいは単量体溶液と直接接触させる液
相重合法と、単量体の蒸気あるいは気化状態で接触させ
る気相グラフト重合法とがあるが、いずれの方法も目的
に合った選択が可能である。
フッ素化合物として、トリフルオロ酢酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸、２−フルオロアニリン、４−フル
オロアニリン、3,4−ジフルオロアニリン、2,4−ジフル
オロアニリン、2,6−ジフルオロアニリン、３−トリフ
ルオロメチルアニリン、２−フルオロ安息香酸、３−フ
ルオロ安息香酸、４−フルオロ安息香酸などがあげられ
る。グラフト重合反応で得られるエポキシ基を有するグ
ラフト重合膜とフッ素化合物を接触させることによりフ
ッ素を有する高分子膜を得ることができる。
ロメタンスルホン酸、２−フルオロアニリン、４−フル
オロアニリン、3,4−ジフルオロアニリン、2,4−ジフル
オロアニリン、2,6−ジフルオロアニリン、３−トリフ
ルオロメチルアニリン、２−フルオロ安息香酸、３−フ
ルオロ安息香酸、４−フルオロ安息香酸などがあげられ
る。グラフト重合反応で得られるエポキシ基を有するグ
ラフト重合膜とフッ素化合物を接触させることによりフ
ッ素を有する高分子膜を得ることができる。
以下、実施例により、本発明の構成および効果を具体
的に述べるが、いずれも本発明を限定するものではな
い。
的に述べるが、いずれも本発明を限定するものではな
い。
（実施例） 実施例−１ ポリエチレン製の多孔性中空糸（内径0.62mmφ、外径
1.24mmφ、平均孔径0.1μｍ）に電子線加速器（加速電
圧2MeV、電子線電流1mA）を用いて、窒素雰囲気下で200
KGyを照射したのち、減圧下でグリシジルメタクリレー
トの蒸気と40℃で３時間接触させ、気相グラフト重合反
応を行った。このときの重量増加率は70％であった。ト
リフルオロ酢酸液中にグラフト樹脂を浸して30℃で10時
間反応させた。その結果、トリフルオロ酢酸基量が基材
1g当り4mmolのフッ素を有する高分子膜を得た。
1.24mmφ、平均孔径0.1μｍ）に電子線加速器（加速電
圧2MeV、電子線電流1mA）を用いて、窒素雰囲気下で200
KGyを照射したのち、減圧下でグリシジルメタクリレー
トの蒸気と40℃で３時間接触させ、気相グラフト重合反
応を行った。このときの重量増加率は70％であった。ト
リフルオロ酢酸液中にグラフト樹脂を浸して30℃で10時
間反応させた。その結果、トリフルオロ酢酸基量が基材
1g当り4mmolのフッ素を有する高分子膜を得た。
実施例−２ ポリエチレン製の多孔性平膜（膜厚100μｍ、平均孔
径0.1μｍ）を基材にして、実施例１と同様な方法でグ
リシジルメタクリレートをグラフトした結果、グラフト
率70％のグラフト膜を得た。これに３−トリフルオロメ
チルアニリン溶液を80℃で24時間反応させ、フッ素量が
基材1g当り7.4mmolの高分子膜を得た。
径0.1μｍ）を基材にして、実施例１と同様な方法でグ
リシジルメタクリレートをグラフトした結果、グラフト
率70％のグラフト膜を得た。これに３−トリフルオロメ
チルアニリン溶液を80℃で24時間反応させ、フッ素量が
基材1g当り7.4mmolの高分子膜を得た。
実施例−３ ポリプロピレン製多孔膜（膜厚100μｍ、平均孔径0.1
μｍ）を基材として、実施例１を同様な方法でグラフト
重合反応、および2,6−ジフルオロアニリン溶液との反
応を行った結果、グラフト率50％、フッ素量が基材1g当
り2.8mmolの高分子膜を得た。
μｍ）を基材として、実施例１を同様な方法でグラフト
重合反応、および2,6−ジフルオロアニリン溶液との反
応を行った結果、グラフト率50％、フッ素量が基材1g当
り2.8mmolの高分子膜を得た。
（発明の効果） 本発明により、ポリエチレン、ポリプロピレンといっ
た汎用の高分子膜にフッ素を付与できる製造方法によ
り、疎水性、耐熱性、機械的強度に優れた過膜を提供
することができた。
た汎用の高分子膜にフッ素を付与できる製造方法によ
り、疎水性、耐熱性、機械的強度に優れた過膜を提供
することができた。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 71/26 B01D 71/30 B01D 71/82 B01D 67/00 500
Claims (5)
- 【請求項１】基材膜がポリオレフィン、又はオレフィン
とハロゲン化オレフィンの共重合体からなる多孔膜に電
離性放射線を作用させ、エポキシ基を含有する重合性単
量体をグラフト重合した後に、そのグラフト重合体の側
鎖に官能基としてフッ素又はフッ素化合物を導入固定し
たことを特徴とする濾過膜の製造方法。 - 【請求項２】基材膜の構造が平膜状又は／及び中空糸状
で、平均孔径が0.01−10μｍである特許請求の範囲第１
項記載の濾過膜の製造方法。 - 【請求項３】官能基がフッ素又はフッ素化合物であり、
膜重量１グラム当たり0.05−20ミリモルを含む特許請求
の範囲第１項記載の濾過膜の製造方法。 - 【請求項４】官能基の導入方法が紫外線又は／及び電離
性放射線を用いてグラフト重合することを特徴とする特
許請求の範囲１項記載の濾過膜の製造方法。 - 【請求項５】重合性単量体が、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート、グリシジルメタイタコナ
ート、エチルグリシジルマレアート又はグリシジルビニ
ルスルホナートである特許請求の範囲第１項記載の濾過
膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12035290A JP2954276B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | フッ素を有する▲ろ▼過膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12035290A JP2954276B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | フッ素を有する▲ろ▼過膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0416220A JPH0416220A (ja) | 1992-01-21 |
| JP2954276B2 true JP2954276B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=14784098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12035290A Expired - Fee Related JP2954276B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | フッ素を有する▲ろ▼過膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2954276B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-10 JP JP12035290A patent/JP2954276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0416220A (ja) | 1992-01-21 |
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