JP2950937B2 - 電子ビームの偏向格子 - Google Patents
電子ビームの偏向格子Info
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- JP2950937B2 JP2950937B2 JP20138290A JP20138290A JP2950937B2 JP 2950937 B2 JP2950937 B2 JP 2950937B2 JP 20138290 A JP20138290 A JP 20138290A JP 20138290 A JP20138290 A JP 20138290A JP 2950937 B2 JP2950937 B2 JP 2950937B2
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- Japan
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- electron beam
- deflection
- electron
- deflection grating
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は電子ビームの偏向格子に関する。尚、この
明細書において「電子ビーム」とは、電子束の流れのみ
でなく、単体の電子の流れも含む用語として用いてい
る。
明細書において「電子ビーム」とは、電子束の流れのみ
でなく、単体の電子の流れも含む用語として用いてい
る。
電子ビームを偏向させて使用する技術は種々の分野で
利用されている。その代表的なものの一つが陰極線管
（CRT）である。
利用されている。その代表的なものの一つが陰極線管
（CRT）である。
CRTは、テレビジョンやコンピュータのディスプレイ
としてもっとも多用されており、表示性能においては秀
れているものの、薄形化という点て劣っている。
としてもっとも多用されており、表示性能においては秀
れているものの、薄形化という点て劣っている。
この薄形化を阻んでいる要因の一つとして電子銃の長
さがある。つまり、電子銃は陰極から発射された電子を
集束レンズで集束させて電子ビームとするものである
が、集束レンズとして用いられている従来の磁石の偏向
力が限られているため、集束用としてある一定長さが不
可欠になり、この結果、電子銃の長さが長くなってしま
い、CRTの薄形化を阻害するということである。
さがある。つまり、電子銃は陰極から発射された電子を
集束レンズで集束させて電子ビームとするものである
が、集束レンズとして用いられている従来の磁石の偏向
力が限られているため、集束用としてある一定長さが不
可欠になり、この結果、電子銃の長さが長くなってしま
い、CRTの薄形化を阻害するということである。
したがって、より大きな偏向力を以てより短かい距離
で集束を行えるようにすれば、CRTの薄形化が可能にな
るわけである。
で集束を行えるようにすれば、CRTの薄形化が可能にな
るわけである。
このような事情を背景になされたのがこの発明で、電
子ビームにより短い距離で必要な偏向を与えることので
きる電子の偏向格子の提供を目的とする。
子ビームにより短い距離で必要な偏向を与えることので
きる電子の偏向格子の提供を目的とする。
もっとも、この発明による電子の偏向格子は、必ずし
もその用途がCRTのようなものに限られるものでなく、
電子ビームの偏向を利用する技術分野のものであれば必
要に応じて適宜に利用できるものである。
もその用途がCRTのようなものに限られるものでなく、
電子ビームの偏向を利用する技術分野のものであれば必
要に応じて適宜に利用できるものである。
当発明者は、電子ビームにより短い距離で必要な偏向
を与え得る電子の偏向格子について長年研究を重ねてき
たが、その過程において、このような電子の偏向格子に
は次ぎのような条件が必要であることを突き止め得た。
を与え得る電子の偏向格子について長年研究を重ねてき
たが、その過程において、このような電子の偏向格子に
は次ぎのような条件が必要であることを突き止め得た。
すなわち、より大きな偏向力を得るために、電子ビー
ムが磁力を受けつつ通過する空間をできるだけ狭くして
電子ビームにより近接させて磁力をおよぼす必要があ
る。また、大きな偏向力を得られても偏向力を与えるも
の自体が長くては意味がない。さらに、電子ビームの通
過する空間を狭くするということは、この通過空間の周
囲にある磁力源が常に電子ビームに曝されるということ
であり、耐電子ビーム特性つまり電子ビームの照射に対
する耐久性という条件が要求される。
ムが磁力を受けつつ通過する空間をできるだけ狭くして
電子ビームにより近接させて磁力をおよぼす必要があ
る。また、大きな偏向力を得られても偏向力を与えるも
の自体が長くては意味がない。さらに、電子ビームの通
過する空間を狭くするということは、この通過空間の周
囲にある磁力源が常に電子ビームに曝されるということ
であり、耐電子ビーム特性つまり電子ビームの照射に対
する耐久性という条件が要求される。
そして、このような条件を満足させるものについてさ
らに研究を重ねた結果、磁気特性が高く、また例えばス
パッタリング法のような方法で薄膜化が容易にでき加工
特性がよく、しかも耐電子ビーム特性が秀れている当の
特性を持つPt−Co磁性物が最良であることを見出し、こ
の発明に達したものである。
らに研究を重ねた結果、磁気特性が高く、また例えばス
パッタリング法のような方法で薄膜化が容易にでき加工
特性がよく、しかも耐電子ビーム特性が秀れている当の
特性を持つPt−Co磁性物が最良であることを見出し、こ
の発明に達したものである。
すなわち、この発明による電子ビームの偏向格子は、
基板に複数の通孔を形成し、この各通孔の周囲にPt−Co
磁性物層を薄層で形成してなり、通過する電子ビームを
微小な通孔で通過させ、この通孔に生じている磁界ちよ
り大きな偏向力をおよぼすようにしているものである
る。
基板に複数の通孔を形成し、この各通孔の周囲にPt−Co
磁性物層を薄層で形成してなり、通過する電子ビームを
微小な通孔で通過させ、この通孔に生じている磁界ちよ
り大きな偏向力をおよぼすようにしているものである
る。
以下、この発明一実施例を説明する。
この発明による電子の偏向格子１は、図に示すよう
に、例えばセラミックス製の基板２の両面に磁性物層３
を形成すると共に、電子ビームＥを偏向させて通過させ
るための通孔４を適宜の間隔で複数穿設してなるもので
ある。もっとも、磁性物層３は、基板２の片面のみに形
成するようにしてもよい。
に、例えばセラミックス製の基板２の両面に磁性物層３
を形成すると共に、電子ビームＥを偏向させて通過させ
るための通孔４を適宜の間隔で複数穿設してなるもので
ある。もっとも、磁性物層３は、基板２の片面のみに形
成するようにしてもよい。
磁性物層３は、Pt（白金）とCo（コバルト）の混合物
を、原子量比で50:50になる割合で、例えばスパッタリ
ング法により0.1〜数μ程度の厚さに形成した後、これ
を所定の温度で加熱処理して磁化させて形成される。ま
た、この磁性物層３は、各通孔４ごとに磁力を異ならせ
るようにして形成されるもので、これにより各通孔４を
通過する電子ビームＥの一点集束が得られる。
を、原子量比で50:50になる割合で、例えばスパッタリ
ング法により0.1〜数μ程度の厚さに形成した後、これ
を所定の温度で加熱処理して磁化させて形成される。ま
た、この磁性物層３は、各通孔４ごとに磁力を異ならせ
るようにして形成されるもので、これにより各通孔４を
通過する電子ビームＥの一点集束が得られる。
通孔４は、例えば10μ前後の径で形成されるが、必要
に応じてそれぞれに異なる径を与えるようにしてもよ
い。この通孔４の形成にはレーザ光を用いるのが好まし
い。
に応じてそれぞれに異なる径を与えるようにしてもよ
い。この通孔４の形成にはレーザ光を用いるのが好まし
い。
このような電子の偏向格子１によれば、磁性物層３の
表面において従来のものとほとんど変わらない磁力を従
来のものに比べれば非常に短い距離、具体的には数μ程
度の距離において電子ビームＥにおよぼすことができ、
従来のものに比べ格段に短い距離で必要な偏向を与える
ことができる。例えば、従来のものは少なくとも数mm程
度の距離を以て磁力をおよぼしているから、これと比較
すると、約10000倍の偏向力が得られ、たとえ磁性物層
３の磁力が1/10であったとしても、従来に比べ1/1000の
程度の距離で必要な偏向を得られる。
表面において従来のものとほとんど変わらない磁力を従
来のものに比べれば非常に短い距離、具体的には数μ程
度の距離において電子ビームＥにおよぼすことができ、
従来のものに比べ格段に短い距離で必要な偏向を与える
ことができる。例えば、従来のものは少なくとも数mm程
度の距離を以て磁力をおよぼしているから、これと比較
すると、約10000倍の偏向力が得られ、たとえ磁性物層
３の磁力が1/10であったとしても、従来に比べ1/1000の
程度の距離で必要な偏向を得られる。
この発明による電子ビームの偏向格子は、以上説明し
てきた如く、基板に複数の通孔を形成し、この各通孔の
周囲にPt−Co磁性物の薄層を形成してなるものなので、
従来のものに比べ格段に短い距離で必要な偏向を与える
ことができ、例えば電子銃の短縮化を図れCRTの薄型化
等への応用を広く期待できる。
てきた如く、基板に複数の通孔を形成し、この各通孔の
周囲にPt−Co磁性物の薄層を形成してなるものなので、
従来のものに比べ格段に短い距離で必要な偏向を与える
ことができ、例えば電子銃の短縮化を図れCRTの薄型化
等への応用を広く期待できる。
図はこの発明による電子ビームの偏向格子の概略断面図
である。 １……電子ビームの偏向格子 ２……基板 ３……磁性物層 ４……通孔
である。 １……電子ビームの偏向格子 ２……基板 ３……磁性物層 ４……通孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 29/46 - 29/82 G21K 1/093
Claims (1)
- 【請求項１】基板に複数の通孔を形成し、この各通孔を
周囲にPt−Co磁性物層を薄層で形成してなる電子ビーム
の偏向格子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20138290A JP2950937B2 (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 電子ビームの偏向格子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20138290A JP2950937B2 (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 電子ビームの偏向格子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0487238A JPH0487238A (ja) | 1992-03-19 |
| JP2950937B2 true JP2950937B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=16440158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20138290A Expired - Fee Related JP2950937B2 (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 電子ビームの偏向格子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2950937B2 (ja) |
-
1990
- 1990-07-31 JP JP20138290A patent/JP2950937B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0487238A (ja) | 1992-03-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |