JP2948994B2 - ウェット洗浄装置及びその薬液交換方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＲＣＡ洗浄で代表され
るウェット洗浄装置及びその薬液交換方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のウェット洗浄装置及びその薬液交
換方法を図４を参照しながら説明する。同図において、
１は薬液Ｓ中に製品（例えば、シリコンウエハ）を浸漬
した状態で洗浄する洗浄槽、２はこの洗浄槽１にシリコ
ンウエハ等の製品を浸漬した時にこの洗浄槽１からオー
バーフローする薬液を受けるオーバーフロー槽、３はこ
のオーバーフロー槽２内の薬液Ｓの液面Ｌを検出する液
面センサー、４はこの液面センサー３から得られる情報
に基づいて開閉して供給配管５を介して薬液Ｓを上記オ
ーバーフロー槽２へ供給して液面Ｌを常に一定状態にす
る供給用バルブ、６はこの供給用バルブ４の開放時に供
給された薬液Ｓを循環配管７を介して循環させる循環ポ
ンプ、８はこの循環ポンプ６からの薬液Ｓを瀘過する瀘
過器であるフィルター、９はこのフィルター８によって
瀘過された薬液Ｓを上記洗浄槽１へ循環させる循環配管
である。また、１０、１１は上記循環配管７、９にそれ
ぞれ配設され、上記フィルター８の両側の圧力差を検出
する圧力計、１２は上記洗浄槽１の底面から延設された
第１排出配管、１３は上記オーバーフロー槽２の底面か
ら延設された第２排出配管、１４はこれらの両排出配管
１２、１３が合流する第３排出配管、１５はこの第３排
出配管１４から薬液Ｓを排出する際に用いられる排出バ
ルブである。

【０００３】次に、動作について説明する。洗浄槽１で
製品を洗浄する場合には、循環ポンプ６が常に駆動し、
薬液Ｓが常に洗浄槽１からオーバーフロー槽２へオーバ
ーフローしている。そして、このオーバーフロー槽２へ
オーバーフローした薬液Ｓは循環ポンプ６によって循環
配管７を介してフィルター８へ循環する。フィルター８
では循環して来る薬液Ｓを瀘過し、異物が除去された薬
液Ｓは循環配管９を経て洗浄槽１へ戻され、その洗浄能
力が劣化するまでその循環を続ける。

【０００４】そして、薬液Ｓの洗浄能力が劣化すると新
しい薬液Ｓと交換する。薬液Ｓを交換する際には、まず
供給用バルブ４を一旦閉じて薬液Ｓの供給を停止すると
共に循環ポンプ６を停止させる。その後、排出バルブ１
５を開放して洗浄槽１及びオーバーフロー槽２の薬液Ｓ
を抜き取り、これら両槽１、２内の薬液Ｓが全て抜き取
られた時点で排出用バルブ１５を閉じると共に供給用バ
ルブ４を開放して新たな薬液Ｓを所定量になるまで供給
する。そして、薬液Ｓが所定量に達したら再び循環ポン
プ６を駆動させて薬液Ｓの循環を開始して薬液Ｓの交換
を終了する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ウェット洗浄装置では、薬液Ｓを交換する際に、上述の
ように循環ポンプ６を停止した状態で行なわれ、フィル
ター８での薬液Ｓの流れがなくなるため、フィルター８
内部に付着していた異物が遊離して薬液交換直後の薬液
Ｓ中の異物量が著しく増加し、この異物が薬液Ｓと共に
洗浄槽１内に流れ込み、この薬液Ｓで製品を洗浄する
と、薬液交換直後の洗浄製品に大量の異物が付着して製
品上に残るという課題があった。

【０００６】そこで、薬液交換時にフィルター８内部の
薬液Ｓを全て取り除く方法も考えられるが、フィルター
８内部の薬液Ｓを全て取り除くと薬液交換後の再起動時
にフィルター８の内部が乾燥することがあるため、この
フィルター８内部に薬液Ｓが染み込まず再起動できない
ことがあり、通常は薬液交換時でもフィルター８及び循
環ポンプ６内部の薬液Ｓを全て取り除くようなことは行
なうことはない。そのため、フィルター８及び循環ポン
プ６内部の薬液Ｓを交換し難いという課題があった。

【０００７】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、薬液交換直後に洗浄槽の薬液に異物を混入
させずに薬液交換後も円滑に再起動でき、延いては再起
動時の製品に異物を付着させることがないウェット洗浄
装置及びその薬液交換方法を提供することを目的として
いる。また、フィルターおよび循環ポンプ内部の乾燥が
発生することなく、それら内部に残存する薬液を完全に
新しい薬液と交換できるようにする薬液交換方法および
ウェット洗浄装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
のウェット洗浄槽の薬液交換方法は、洗浄槽内の薬液を
外部に排出する間、並びに薬液の排出に伴い前記洗浄槽
内が空のとき、切れ間なく連続して瀘過器に薬液を流し
続けながら、薬液交換を行うものである。

【０００９】また、本発明の請求項２に記載のウェット
洗浄装置は、薬液の循環先を洗浄槽とオーバーフロー槽
との間で切り替える切替バルブを設けたものである。

【００１０】また、本発明の請求項３に記載のウェット
洗浄の方法は、薬液循環系内部の古い薬液を残すことな
く交換できるようにするためにオーバーフロー槽内にそ
の内部を分離分割するように仕切るものである。

【００１１】また、本発明の請求項４に記載のウェット
洗浄装置は、フィルター内部の古い薬液を残すことなく
交換できるようにするため、オーバーフロー槽内に仕切
手段を設けたものである。

【００１２】また、本発明の請求項５に記載のウェット
洗浄装置では、仕切手段は、オーバーフロー槽の底面と
の間で隙間を有する仕切板である。

【００１３】

【作用】本発明の請求項１に記載の発明によれば、瀘過
手段で薬液を瀘過しながら薬液を交換するため、常にフ
ィルターに薬液が流れてフィルターに圧力が加わってフ
ィルター内部の異物を遊離させることなく薬液を交換す
ることができる。

【００１４】また、本発明の請求項２に記載の発明によ
れば、薬液を交換する際には、切替バルブによって薬液
の循環先をオーバーフロー槽へ切り替えて循環ポンプを
駆動させた状態で薬液を交換することができるため、常
にフィルター内を薬液が流れてかつフィルターに圧力が
加わってフィルター内部の異物を遊離させることなく薬
液を交換することができる。

【００１５】また、本発明の請求項３および請求項４に
記載の発明によれば、薬液を交換する際には、切替バル
ブによって薬液の循環先をオーバーフロー槽の洗浄槽側
へ切り替えて循環ポンプを駆動させた状態で薬液を交換
することができるため、循環薬液は洗浄槽内へオーバー
フローし、また薬液供給手段からの薬液はオーバーフロ
ー槽の外側に供給され常にフィルターを薬液が流れてフ
ィルターに圧力が加わってフィルター内部の異物を遊離
させることなく薬液を交換することができる。

【００１６】また、本発明の請求項５に記載の発明によ
れば、オーバーフロー槽の外側に供給された薬液によ
り、オーバーフロー槽に残っている古い薬液は、隙間を
通って押し出され、オーバーフロー槽から洗浄槽へオー
バーフローして洗浄槽から外部に排出される。

【００１７】

【実施例】以下、図１〜図３に示す実施例に基づいて従
来と同一または相当部分には同一符号を付して本発明を
説明する。尚、各図中、図１は本発明のウェット洗浄装
置の一実施例を示す構成図、図２は本発明のウェット洗
浄装置の他の実施例を示す構成図、図３は薬液交換終了
から薬液循環に要した時間とその時の洗浄でシリコンウ
エハ上に残った０.１μｍレベルの異物の数との相関関
係を示すグラフである。

【００１８】実施例１． 本実施例のウェット洗浄装置は、薬液Ｓ中に浸漬した状
態でシリコンウエハ等の製品（図示せず）を洗浄する洗
浄槽１と、この洗浄槽１に製品を浸漬した時にこの洗浄
槽１からオーバーフローする薬液Ｓを受けるオーバーフ
ロー槽２と、このオーバーフロー槽２内の薬液量として
液面Ｌを検出する制御手段である液面センサー３と、こ
の液面センサー３により薬液Ｓの液面Ｌが制御された状
態下で薬液Ｓをフィルター８で瀘過しながら上記洗浄槽
１へ循環させる薬液循環系とを備えて構成されている。
そして、以下に説明する点以外は従来と同様に構成され
ている。

【００１９】また、上記洗浄槽１の底面には薬液Ｓを排
出する排出配管１２が連結され、この排出配管１２に排
出バルブ１５が取り付けられている。しかし、上記オー
バーフロー槽２の底面には従来のような排出配管はな
い。従って、本実施例のウェット洗浄槽は、その薬液Ｓ
を交換する際には、上記洗浄槽１だけから薬液Ｓを排出
するに構成されている。

【００２０】上記薬液循環系は、上記薬液Ｓを循環させ
るベローズポンプ等の循環ポンプ６と、この循環ポンプ
６が配設され且つ上記オーバーフロー槽２と上記フィル
ター８とを連通する循環配管７と、上記フィルター８と
上記洗浄槽２または上記オーバーフロー槽２へ薬液Ｓを
循環供給する循環配管９とを備えて構成されている。ま
た、上記循環配管９には切替バルブ１６が配設され、更
にこの切替バルブ１６には上記洗浄槽１へ薬液Ｓを供給
する第１分岐配管１７及び上記オーバーフロー槽２へ薬
液Ｓを供給する第２分岐配管１８とが連結され、この切
替バルブ１６によって薬液Ｓの循環先を上記洗浄槽１と
上記オーバーフロー槽２との間で切り替えるように構成
されている。

【００２１】次に、上記ウェット洗浄装置を用いた本発
明の薬液交換方法に一実施例について説明する。洗浄槽
１で製品を洗浄する場合には、切替バルブ１６によって
薬液Ｓの循環先を洗浄槽１に設定しておく。これによっ
て従来の場合と同様にして製品を洗浄することができ
る。そして、薬液Ｓの洗浄能力が劣化して薬液Ｓを新し
い薬液Ｓと交換する際には、まず切替バルブ１６を操作
して薬液Ｓの循環先をオーバーフロー槽２へ切り替え、
このオーバーフロー槽２へ第２分岐配管１８を介して薬
液Ｓが戻される。この時、オーバーフロー槽２の液面Ｌ
が上昇して液面センサー３がその液面Ｌを検出して供給
用バルブ４を閉止して供給配管５からの薬液Ｓの供給は
停止する。

【００２２】上述のようにして薬液循環系を介してオー
バーフロー槽２に古い薬液Ｓを溜めた状態でその薬液Ｓ
を循環させた状態下で、排出バルブ１５を開放して洗浄
槽１の古い薬液Ｓを排出配管１２を介して徐々に排出す
る。このようにして洗浄槽１内の古い薬液Ｓを全て排出
した後、排出バルブ１５を閉じると共に、切替バルブ１
６を操作して薬液Ｓの循環先を洗浄槽１へ切り替え、こ
の洗浄槽１へ第１分岐配管１７を介して薬液Ｓが供給す
る。

【００２３】これによってオーバーフロー槽２への薬液
Ｓの循環がなくなってその液面Ｌが低下し、これによっ
て液面センサー３が作動して供給用バルブ４を開放して
供給配管５から薬液Ｓを供給し始める。洗浄槽１へ供給
されて減少したオーバーフロー槽２の薬液Ｓは供給配管
５から供給されて、洗浄槽１での新たな薬液Ｓが所定量
に達すると、洗浄槽１からオーバーフロー槽２への薬液
Ｓのオーバーフローが加わってオーバーフロー槽２の液
面Ｌが上昇する。これを液面センサー３で検出して供給
用バルブ４を閉じて薬液Ｓの交換を終了する。

【００２４】以上説明したように本実施例によれば、洗
浄槽２の薬液Ｓを交換する間、循環ポンプ６を停止させ
ることなく駆動させて薬液Ｓが常にフィルター８に流
れ、フィルター８に常に圧力を加えた状態にしているた
め、フィルター８内部の異物が遊離したり、ほぐれたり
することがない。従って、薬液交換後においても従来の
ように異物が洗浄槽１内に混入して再起動時に洗浄され
た製品への異物の付着を確実に防止することができる。

【００２５】実施例２． 本実施例のウェット洗浄装置は、図２に示すように、オ
ーバーフロー槽２内にその内部を洗浄槽側２Ａとその外
側２Ｂとに分割する仕切手段として仕切板１９を設け且
つ薬液Ｓの循環先を上記洗浄槽１と上記オーバーフロー
槽２の洗浄槽側２Ａとの間で切り替える切替バルブ１６
を設け、薬液Ｓを供給する供給配管５からの薬液Ｓを薬
液供給手段（図示せず）を用いて上記オーバーフロー槽
２の外側２Ｂへ供給するように構成されている以外は実
施例１のウェット洗浄装置と同様に構成されている。
尚、液面センサー３は上記オーバーフロー槽２の外側２
Ｂの液面Ｌを管理するように設置されている。

【００２６】次に、上記ウェット洗浄装置を用いた本発
明の薬液交換方法の一実施例について説明する。洗浄槽
１での製品の洗浄は、実施例１の場合と同様にして行な
われる。そして、薬液Ｓの洗浄能力が劣化して薬液Ｓを
新しい薬液Ｓと交換する際には、まず切替バルブ１６を
操作して薬液Ｓの循環先をオーバーフロー槽２の洗浄槽
側２Ａへ切り替え、この洗浄槽側２Ａへ第２分岐配管１
８を介して薬液Ｓが戻される。この時、オーバーフロー
槽２の外側２Ｂの液面Ｌが上昇して液面センサー３がそ
の液面Ｌを検出して供給用バルブ４を閉止して供給配管
５からの薬液Ｓの供給は停止する。

【００２７】上述のようにして薬液循環系を介してオー
バーフロー槽２に古い薬液Ｓを溜めた状態でその薬液Ｓ
を循環させた状態下で、排出バルブ１５を開放して洗浄
槽１の古い薬液Ｓを排出配管１２を介して徐々に排出す
る。このようにして洗浄槽１内の古い薬液Ｓを全て排出
した後、液面センサー３を切ると共に供給用バルブ４を
開放してオーバーフロー槽２の外側２Ｂへ新しい薬液Ｓ
を供給する。これによってオーバーフロー槽２内に残っ
ている古い薬液Ｓが新しい薬液Ｓによって洗浄槽側２Ａ
へ押し出されてオーバーフロー槽２から洗浄槽１へオー
バーフローし、排出配管１２を介して排出バルブ１５か
ら排出される。なお、仕切板１９とオーバーフロー槽２
の底面との間には隙間Ｃが形成されているので、この隙
間Ｃを通じて古い薬液Ｓは新しい薬液Ｓによって洗浄槽
側２Ａへ押し出されている。一方、オーバーフロー槽２
の外側２Ｂへ供給された新しい薬液Ｓの一部は循環ポン
プ６によってフィルター８を経由して第２分岐配管１８
からオーバーフロー槽２の洗浄槽側２Ａへ戻され、更に
その多くは上述のようにして排出バルブ１５から排出さ
れる。

【００２８】このような一連の薬液Ｓの循環によって古
い薬液Ｓを全て排出したら切替バルブ１６を操作して薬
液Ｓの循環先を洗浄槽１へ切り替え、この洗浄槽１へ第
１分岐配管１７を介して薬液Ｓを供給すると共に、液面
センサー３の作動を復帰させる。これによってオーバー
フロー槽２への薬液Ｓの循環がなくなってその液面Ｌが
低下し、これによって液面センサー３が作動して供給用
バルブ４を開放して供給配管５から薬液Ｓを供給し始め
る。洗浄槽１へ供給されて減少したオーバーフロー槽２
の薬液Ｓは供給配管５から供給されて、洗浄槽１での新
たな薬液Ｓが所定量に達すると、洗浄槽１からオーバー
フロー槽２への薬液Ｓのオーバーフローが加わってオー
バーフロー槽２の液面Ｌが上昇する。これを液面センサ
ー３で検出して供給用バルブ４を閉じて薬液Ｓの交換を
終了する。

【００２９】以上説明したように本実施例によれば、洗
浄槽２の薬液Ｓを交換する際に、仕切手段である仕切板
１９によってオーバーフロー槽２内の古い薬液Ｓを新し
い薬液Ｓで押し出して洗浄槽側２Ａ及び洗浄槽１を介し
て排出するようにしたため、古い薬液Ｓを残すことなく
新しい薬液Ｓに交換することができる他、実施例１と同
様の作用効果を期することができる。

【００３０】［洗浄特性評価］本評価では、上記各実施
例のウェット洗浄装置及び従来のウェット洗浄装置を用
いて未洗浄の６インチシリコンウエハ（ＦＺタイプ：信
越シリコン（株）製）を洗浄した場合の薬液交換終了か
ら薬液循環に要した時間と、その時の洗浄によって得ら
れるシリコンウエハ上の０.１μｍレベルの異物の数と
の相関性によって各ウェット洗浄装置の洗浄特性を下記
条件下で評価したところ、図３に示す結果が得られた。

【００３１】図３に示す結果によれば、実施例１のウェ
ット洗浄装置及び実施例２のウェット洗浄装置はいずれ
も薬液交換直後においても従来のウェット洗浄装置に比
べて格段に優れた洗浄効果を得ることができることが判
った。また、実施例２の方が実施例１よりも洗浄特性に
優れていることが判った。 (1) 洗浄装置の薬液循環系の機器条件 循環ポンプ； 形式：テフロンベローズポンプ（イワキ製） 形番：ＦＡ８０R 最大能力：１７リットル／分 フィルター； 形式： 形番：ＰＦ８０（日本ミリポア・リミテッド製） 能力：０.１μｍフィルター 流量：１１.３リットル／分（エアー入圧２.０Ｋｇ／ｃｍ２） (2) シリコンウエハ上の異物の測定条件 日立電子エンジニアリング（株）製の表面検査装置ＬＳ
−６０００を用い、シリコンウエハ端から８ｍｍの部分
を除いた範囲で測定を行なった。 (3) ６インチシリコンウエハの状態 予めクラス１００００のクリーンルームに１０分間放置
したものを用い、このシリコンウエハについて上記表面
検査装置を用いて０.１μｍ以上の微粒子の数を測定し
たところ、全てのシリコンウエハで、その微粒子の数
は、１００〜３００の範囲にあり、それぞれの平均値が
１７０であった。

【００３２】尚、本発明のウェット洗浄装置及びその薬
液交換方法は、上記各実施例に制限されるものでないこ
とはいうまでもない。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１に
記載の発明によれば、フィルターで薬液を瀘過しながら
薬液を交換するようにしたため、異物をフィルターから
遊離させることなく薬液を交換できるウェット洗浄装置
の薬液交換方法を提供することができる。

【００３４】また、本発明の請求項２に記載の発明によ
れば、切替バルブ弁によって薬液の循環先を洗浄槽とオ
ーバーフロー槽との間で切り替えるようにしたため、薬
液交換後に洗浄槽の薬液に異物を混入させずに薬液交換
後も円滑に再起動でき、延いては再起動時の製品に異物
を付着させることがないウェット洗浄装置を提供するこ
とができる。

【００３５】また、本発明の請求項３および請求項４に
記載の発明によれば、請求項２に記載の発明において、
オーバーフロー槽内にその内部をを洗浄槽側とその外側
とに分割する仕切手段を設けたため、古い薬液を洗浄槽
に残すことなく薬液を交換でき、更に薬液交換後に洗浄
槽の薬液に異物を混入させずに薬液交換後も円滑に再起
動でき、延いては再起動時の製品に異物を付着させるこ
とがないウェット洗浄装置の薬液交換方法を提供するこ
とができるとともに、ウェット洗浄装置を提供すること
ができる。

【００３６】また、本発明の請求項５に記載の発明によ
れば、仕切板とオーバーフロー槽の底面との間に隙間が
形成されているので、この隙間を通じて古い薬液は新し
い薬液によってオーバーフロー槽の洗浄槽側へ円滑に押
し出される。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のウェット洗浄装置の一実施例を示す
構成図である。

【図２】 本発明のウェット洗浄装置の他の実施例を示
す構成図である。

【図３】 薬液交換終了から薬液循環に要した時間とそ
の時の洗浄でシリコンウエハ上に残った０.１μｍレベ
ルの異物の数との相関関係を示すグラフである。

【図４】 従来のウェット洗浄装置の一例を示す構成図
である。

【符号の説明】

１ 洗浄槽、２ オーバーフロー槽、３ 液面センサー
（制御手段）、６ 循環ポンプ（薬液循環系）、７ 循
環配管（薬液循環系）、８ フィルター（瀘過器）、９
循環ポンプ（薬液循環系）、１６ 切替バルブ、１９
仕切板（仕切手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/304 642 H01L 21/304 648 B08B 3/04

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薬液を瀘過しながら循環させる薬液循環
   系を備えたウェット洗浄装置における薬液交換方法にお
   いて、洗浄槽内の薬液を外部に排出する間、並びに薬液
   の排出に伴い前記洗浄槽内が空のとき、切れ間なく連続
   して瀘過器に薬液を流し続けながら、薬液交換を行うこ
   とを特徴とするウェット洗浄装置の薬液交換方法。
2. 【請求項２】 薬液中に浸漬した状態で製品を洗浄する
   洗浄槽と、この洗浄槽からオーバーフローする薬液を受
   けるオーバーフロー槽と、このオーバーフロー槽内の薬
   液量を制御する制御手段と、薬液を瀘過する瀘過器と、
   これに薬液を送り込むポンプとを備えたウェット洗浄装
   置において、上記薬液の循環先を上記洗浄槽と上記オー
   バーフロー槽との間でそれぞれ切り替える切替バルブを
   上記薬液循環系に設け、上記薬液の交換の際には上記切
   替バルブによって薬液の循環さきを上記オーバーフロー
   槽へ切り替えて薬液を上記濾過器に流し続けながら薬液
   交換を行うようになっていることを特徴とするウェット
   洗浄装置。
3. 【請求項３】 薬液中に浸漬した状態で製品を洗浄する
   洗浄槽と、この洗浄槽からオーバーフローする薬液を受
   けるオーバーフロー槽と、このオーバーフロー槽内へ薬
   液を供給する薬液供給手段と、薬液を瀘過器で瀘過しな
   がら上記洗浄槽へ循環させる薬液循環系と、この薬液循
   環系に設けられ上記オーバーフロー槽内にその内部を上
   記洗浄槽側とその外側とに分割する仕切手段を設け且つ
   上記薬液の循環先を上記洗浄槽と上記オーバーフロー槽
   の洗浄槽側との間で切り替える切替バルブとを備えたウ
   ェット洗浄装置の薬液交換方法であって、薬液を交換す
   る際に、上記薬液供給手段からの薬液を上記オーバーフ
   ロー槽の外側に供給し、かつ上記切替バルブによって薬
   液の循環先を上記オーバフロー槽の洗浄槽側へ切り替え
   て薬液を上記濾過器に流し続けながら薬液循環系内部の
   古い薬液を新しい薬液と交換するウェット洗浄装置の薬
   液交換方法。
4. 【請求項４】 薬液中に浸漬した状態で製品を洗浄する
   洗浄槽と、この洗浄槽からオーバーフローする薬液を受
   けるオーバーフロー槽と、このオーバーフロー槽内へ薬
   液を供給する薬液供給手段と、薬液を瀘過器で瀘過しな
   がら上記洗浄槽へ循環させる薬液循環系とを備えたウェ
   ット洗浄装置において、上記オーバーフロー槽内にその
   内部を上記洗浄槽側とその外側とに分割する仕切手段を
   設け且つ上記薬液の循環先を上記洗浄槽と上記オーバー
   フロー槽の洗浄槽側との間で切り替える切替バルブを上
   記薬液循環系に設け、薬液交換の際に、上記薬液供給手
   段からの薬液を上記オーバーフロー槽の外側へ供給し、
   薬液の循環先を上記オーバーフロー槽の洗浄槽側に切り
   替えられるようになっていることを特徴とするウェット
   洗浄装置。
5. 【請求項５】 仕切手段は、オーバーフロー槽の底面と
   の間で隙間を有する仕切板である請求項４に記載のウェ
   ット洗浄装置。