JP2945166B2 - 電気抵抗体およびその製造方法 - Google Patents

電気抵抗体およびその製造方法

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JP2945166B2 JP3131682A JP13168291A JP2945166B2 JP 2945166 B2 JP2945166 B2 JP 2945166B2 JP 3131682 A JP3131682 A JP 3131682A JP 13168291 A JP13168291 A JP 13168291A JP 2945166 B2 JP2945166 B2 JP 2945166B2
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    • H01C17/22Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • H01C17/24Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material

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Description

【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】本発明は、選択された抵抗値を現
す電気抵抗体と抵抗体ネットワークおよびその製造方法
に関する。本願発明は特に、その抵抗値を調節ないし選
択するためにレーザートリミングできる薄膜または箔の
形の抵抗体を提供するに適する。
【0002】
【従来技術とその問題点】レーザートリミングできる平
面状抵抗体および抵抗体ネットワークはよく知られてお
り、Vishay Intertechnology, Inc.(その子会社Ohmtech
はニューヨーク州ナイアガラ・フォールに所在する)を
含む多数の製造業者から種々の形状で市販されている。
一般的形状の抵抗体および抵抗ネットワークに関して
は、次の米国特許がある。4,859,981;4,7
82,320;4,785,277;4,772,77
4;4,582,976;4,565,000;4,5
63,564;4,386,460;4,375,05
6;4,362,737;4,298,856;4,1
46,867;3,983,528;3,657,69
2;2,261,667。精密抵抗体の製造において
は、そのオーム抵抗値を特定の目標値に一致させ、しか
もそれを正確に一貫して行なうことが最も重要である。
そして可能な限り広い抵抗値範囲にわたってこれを行な
うことができることが望ましい。そのような能力はその
他の面で同一の抵抗体を経済的に大量に半製品に製造す
ることを可能にする。少量づつのこれらの半製品は所望
の特定抵抗値を有する抵抗体に仕上げられる。抵抗値調
節の範囲が大きいほど、すべてのありうる状況のもとに
必要とされるかも知れない抵抗値の全範囲をカバーする
ために貯蔵されなければならぬ半製品のタイプの数は少
なくてすむ。
【0003】この広範囲にわたる調節の必要性は抵抗体
ネットワークの場合に緊急である。これらは、通常分圧
器として使用される、一般に異なった抵抗値の多数の抵
抗要素からなる。この場合、抵抗体ネットワークの有効
性は、ほとんど同一の性能特性を有する個々の要素のす
べてにかかっている。性能特性とは一般に、外部的及び
内部的に生起する種々の物理的化学的悪条件のもとで抵
抗体が示す安定性を意味する。もし、抵抗体ネットワー
ク中の抵抗体(複数)がすべて一つの共通の生産ロット
で製造されるならば、この点に関する均一性は確保され
よう。それら抵抗体(複数)は調節操作において単に抵
抗値が変化させられればよい。一定のタイプの調節範囲
が大であるほど、ありうる異なった性能特性の異なった
生産ロットへの依存性は少なくなる。
【0004】
【発明の構成】本願発明の主たる目的は、高度に精密で
広い抵抗範囲を有する、抵抗値の調整および選択におい
て改善された抵抗体および抵抗体ネットワークとその製
造法を提供することである。簡単に言うと、本願発明は
第1と第2の電気端子を有する絶縁体の基板を有する平
面抵抗体を提供する。薄膜または箔の付着によって、基
板上に抵抗体物質の線条のパターンが付着させられ、多
数の直列に接続しあった抵抗路が、該線条と同じでもよ
い抵抗体物質の第1の結合線(リンク)(複数)によっ
て形成される。多数の選択的に除去されうる第2の結合
線(第2リンク(複数))が、第1および第2電気端子
間で、線条を並列に接続する。これらの第2の結合線
は、線条の両端の一つで直列に線条を接続する第1結合
線(複数)から第1端子へ、また、線条の他端に接続す
る第1結合線(複数)から第2端子へ延びる。RnとR
/n(Rは線条の抵抗値、nは線条の数)の間で精密な
抵抗値を得るために、第2結合線(複数)は選択的に除
去され、選択された並列の接続が除去されて、第1およ
び第2電気端子間に所望の抵抗値を造りだす。多数の抵
抗体の線条は一般に均一な幅で互いに離れた関係で並列
に配列される。
【0005】さらに本願発明の一つの実施態様によれ
ば、多数の抵抗体の線条は一般に同一の長さである。別
の、そして目下のところの好適実施態様によれば、多数
の抵抗体線条は一般に異なった長さである。さらに別の
好適実施態様によれば、選択的に除去される接続部はレ
ーザーによって除去される。また、電気的、化学的また
は機械的に融合する接続部を使用することができる。
【0006】
【発明の具体的開示】図1は、平面状抵抗体10を示
す。絶縁体基板が使用されている。それは典型的にはシ
リコン、ガラス、セラミック、その他の誘電物質であ
る。基板の表面に第1および第2の端子12、14が設
けられる。それはこのましくは、高度に導電性の物質、
アルミニウム、金、ニッケルまたは白金でできている。
【0007】端子12と14の間に、温度と時間の広範
囲にわたって良好な安定性を示すニクロム、窒化タンタ
ルのような精密に抵抗値の知られた適当な物質の薄膜ま
たは箔からなる抵抗要素の配列16が設けられる。抵抗
要素の配列16は、もし薄膜の形で形成されるなら、ジ
ュール効果蒸発のような真空蒸着技術、陽極スパッタリ
ング、写真製版彫刻のような既知の技術によって形成さ
れる。もし箔が使用されるなら、慣用のフォイル・パタ
ーニングの技術によって形成される。
【0008】抵抗要素配列16は、おのおのが同一の
幅、厚さ、長さを有する抵抗材料の短冊状細片18の形
状を有する多数の平行の抵抗要素(線条またはパスと呼
ばれる)とそれを隣の抵抗要素からわける分離帯からな
る。
【0009】細片18は、端子12と14の間で、結合
線20で互いに直列に接続されている。結合線20は典
型的には細片18の延長で一つおきの細片の各端から延
びる。細片18はまた端子12と14の間で、選択的に
融断され得る並列の接続子(第2結合線)22で接続さ
れている。結合線22は、典型的には、細片18の延長
であり、接続線(結合線)20から延びる。接続線22
は好ましくは、上記の従来技術の記載中に記述された慣
用のレーザー融断技術によって融断される。そのための
装置は、例えば、アメリカ合衆国オレゴン州Portland市
にあるChicagoLaser and ESI Corporation から市販さ
れている。
【0010】本発明によれば、一つ以上のそれぞれの並
列の接続線(結合線)22を選択的に融断することによ
り、配列された抵抗を段階的に増加することができ、し
かも抵抗体の他の特性は変らない。さらに、本願発明の
一つの実施態様によれば、抵抗要素24が抵抗体パター
ンの一部として設けられ、それは、慣用のレーザートリ
ミング技術によって、連続した、従ってより精密な抵抗
の調節ができる。切断は、図面の左側でトップハット要
素24の端に始まる接続線(結合線)22によって要素
24の長さに沿ってなされる。
【0011】個々の抵抗値がRであるn個のそれぞれの
線条を含む図1の形状では、多数の異なった融断パター
ンが可能であり、多数の異なった抵抗値を提供できる。
多数の並列接続線(結合線)のどれも切断されないなら
ば、全体の抵抗は最小Rmin=R/nとなる。もし全部の
接続線22が切断されるならば、全体の抵抗値は最大
Rmax=nRとなる。直列および並列の組み合せは、有
限であるが極めて多数であって、RmaxとRminの間の様
々な全抵抗値を提供することができる。しかしながら、
冗長性(同一の抵抗値が複数個あること)の故に、これ
らのすべてが異なる抵抗値を有する訳ではない。実際に
可能な抵抗値(段階)はn2個ある。nの価は、典型的に
は、5ないし30である。結合線を融断することにより
得られる区別できる抵抗値の間の抵抗値を得るために、
さらに、トップハット24をトリミングすることにより
段階間の抵抗値を得ることができる。これは抵抗値の連
続的増加を達成するために、それを通しての長さ方向に
切断し延長することによってなされる。
【0012】図2には、本願発明の目下の好適実施態様
によって構成され操作される抵抗体30が示されてい
る。これは図1に示す態様と同様に製作することができ
る。端子32と34の間に抵抗要素配列36が設けられ
ている。これは、端子32と34への直列の接続線(第
1結合線)40と並列の接続線(第2結合線)42を有
する。配列36は多数の並列の抵抗要素(線条またはパ
ス)で構成され、各要素は細片38の形をしており、一
定で同じ幅、厚さを有し、隣の線条と隔てられている
が、段階的に異なる長さを有する。直列接続線40は、
抵抗値が増加するように選択的に融断される、端子3
2、34への結合線42を有する。トップハット44は
図1のトッップハット24と同じ機能を有する。トップ
ハット44は右端の接続線から長さ方向に切断されて、
接続線(結合線)42の切断によって選択される抵抗知
増加においてアナログ的調整を達成する。
【0013】図1の態様に比べて、図2の態様では、抵
抗要素38の長さが互いに異なるので、直・並列の組み
合せの冗長性は大きく減少し、RmaxとRminとの間で多
数の異なる全抵抗値を得ることができる。直列接続線4
0は結合線42を介して端子32と34に結合してお
り、この結合を選択的に融断することにより抵抗値を増
加させることができる。結合線42を切断することによ
り選択された抵抗値は、トップハット44を長さ方向に
(lengthwise)右端から切断してアナログ的に調整するこ
とができる。
【0014】図3は、大体において図2に示すタイプと
同じ抵抗体5個を含む抵抗ネットワークを示す。nは2
1で、各線条の抵抗値は公称2000オームである。各
抵抗体が形成され、各々は異なった融断結合パターンを
有し、5個の異なった抵抗値がある。この実施態様で
は、得られる抵抗値は、全ての結合線42が無傷で残さ
れる場合の95オームから、全ての接続子42が連鎖の
各端の結合線を除いて融断される場合の42,000オ
ームまでである。図3において、5個の抵抗体は互いに
接続されて出力端子46を有する。
【0015】
【発明の効果】5個の抵抗体が示されているが、より多
いまたはより少ない数の、適当な形状と接続パターンを
有する抵抗体を、一つのウェファーのような基板の上に
一体化して形成し、または物理的に独立の要素をワイア
ーで結合することにより、抵抗体ネットワークに形成す
ることができる。広い抵抗値範囲にわたって調節可能の
単一抵抗パターンの入手可能性がなかったら、在来の非
常に限定された抵抗値範囲の個別的パターンを有する異
なった生産ロットから個々の抵抗体を選択しなければな
らない。これは抵抗体ネットワークの製造の経済とその
性能に不利な効果をもつ。種々の利用において、回路の
機能は精密な組み立てと維持、異なった抵抗値の比、等
のそれぞれに依存する。これを達成するためには、最初
の組み立ての後に起こる抵抗値の変化がすべての要素に
ついて可及的に均一であることが重要である。これは、
一つのネットワークのすべての抵抗要素が同一の生産ロ
ットからのものであるようにすることによって達成され
る。
【0016】上の記述において、個々の抵抗体またはネ
ットワークの抵抗値が選択的に調整できる改良された抵
抗部材が記載されたことはあきらかであろう。本願発明
の範囲内で、種々の改変をなしうることは、疑いもなく
当業者には自明である。従って、上の記述は端に例示的
であって限定的なものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明の一実施態様に従って構成され、作動
する抵抗体を図解する平面図である。
【図2】本願発明の目下知られている好適態様に従って
構成され作動する抵抗体を図解する平面図である。
【図3】異なった図2に示す抵抗部材単位5個を一つの
基板の上に配置した抵抗体ネットワークを図解する平面
図である。これらの図面において、以下の参照番号は下
記のものを表わす。 12、32:端子; 16、36:抵抗体配列; 1
8、38:細片; 20、40:直列の結合線; 2
2、42:並列の結合線; 24、44:トップハット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−108703(JP,A) 実開 昭52−62445(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01C 7/00 H01C 13/02 H01C 17/24 H01C 17/242

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁性基板と、基板の上に設けられた第1
    および第2の端子と、交互に反対側で接続する第1の結
    合線で直列に接続された多数(n個)の抵抗要素、該抵
    抗要素より短い該第1結合線を該第1および第2端子に
    接続する選択的に除去されうる第2結合線よりなり、す
    べての第2結合線が除去されていない場合に抵抗要素の
    全抵抗が並列に接続された全抵抗要素の和に等しく(R
    /n)、第1結合線のみを残してすべての第2結合線が
    除去された場合には直列に接続された全抵抗要素の和に
    等しく、全対抗を段階的に調節することができる抵抗
    体。
  2. 【請求項2】 選択された正確な抵抗値の抵抗体を提供す
    る方法であって、 絶縁体の基板を設け、 該基板上に第1、第2の端子を形成し、 該基板上に直列に接続された複数個の抵抗要素の形成
    し、 第1、第2端子間で、該複数個の抵抗要素の隣接するも
    のを並列に接続する選択的に除去できる結合線を形成
    し、 第1、第2端子間に所望の抵抗を得るように選択された
    結合線を除去することからなる方法。 【0001】
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05247501A (ja) * 1992-03-06 1993-09-24 Toshiba Corp 導電材及びその製造方法と、その導電材を用いたかご形誘導機
US5521576A (en) * 1993-10-06 1996-05-28 Collins; Franklyn M. Fine-line thick film resistors and resistor networks and method of making same
US5507171A (en) * 1994-04-15 1996-04-16 Ssi Technologies, Inc. Electronic circuit for a transducer
CA2145697A1 (en) * 1994-04-15 1995-10-16 Michael F. Mattes Method and apparatus for compensating for temperature fluctuations in the input to a gain circuit
US5635892A (en) * 1994-12-06 1997-06-03 Lucent Technologies Inc. High Q integrated inductor
US5545916A (en) * 1994-12-06 1996-08-13 At&T Corp. High Q integrated inductor
US5559360A (en) * 1994-12-19 1996-09-24 Lucent Technologies Inc. Inductor for high frequency circuits
JP3678814B2 (ja) * 1995-09-29 2005-08-03 日本バーブラウン株式会社 集積回路抵抗体アレイ
TW340944B (en) * 1996-03-11 1998-09-21 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Resistor and method of making the same
DE19850936A1 (de) * 1998-11-05 2000-05-11 Mannesmann Vdo Ag Trägersubstrat mit einer Widerstandsbahn
DE19836082A1 (de) * 1998-07-30 2000-02-03 Siemens Ag Wandlereinrichtung für Schutzgeräte und Leistungsschaltereinrichtungen
TW429382B (en) 1998-11-06 2001-04-11 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Regulating resistor, semiconductor equipment and its production method
US6329272B1 (en) 1999-06-14 2001-12-11 Technologies Ltrim Inc. Method and apparatus for iteratively, selectively tuning the impedance of integrated semiconductor devices using a focussed heating source
TW466508B (en) * 1999-07-22 2001-12-01 Rohm Co Ltd Resistor and method of adjusting resistance of the same
JP2001077310A (ja) 1999-09-01 2001-03-23 Mitsubishi Electric Corp 電圧設定回路
DE10049718A1 (de) * 2000-10-07 2002-04-18 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Vorrichtung zur Erfassung einer thermisch bedingten Längenausdehnung eines Maschinenteils
DE10143932B4 (de) * 2001-09-07 2006-04-27 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH & Co. KG Shunt-Widerstandanordnung
US7300807B2 (en) * 2004-04-14 2007-11-27 International Business Machines Corporation Structure and method for providing precision passive elements
US7176781B2 (en) * 2004-09-29 2007-02-13 Agere Systems Inc Structure and method for adjusting integrated circuit resistor value
US7285472B2 (en) * 2005-01-27 2007-10-23 International Business Machines Corporation Low tolerance polysilicon resistor for low temperature silicide processing
JP4919642B2 (ja) * 2005-09-30 2012-04-18 株式会社リコー 半導体装置
CA2533225C (en) * 2006-01-19 2016-03-22 Technologies Ltrim Inc. A tunable semiconductor component provided with a current barrier
US7733212B2 (en) * 2007-04-26 2010-06-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Resistor
JP5890989B2 (ja) * 2011-09-20 2016-03-22 Koa株式会社 薄膜抵抗体
JP2013232620A (ja) 2012-01-27 2013-11-14 Rohm Co Ltd チップ部品
JP6265094B2 (ja) * 2014-09-23 2018-01-24 株式会社デンソー 制御装置、および、その製造方法
CN109859917A (zh) * 2019-01-26 2019-06-07 上海乐野网络科技有限公司 一种不同型号器件可选择使用的共垒结构

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2261667A (en) * 1939-02-22 1941-11-04 Westinghouse Electric & Mfg Co Electrical resistance
GB732437A (en) * 1951-10-03 1955-06-22 Technograph Printed Circuits L Electric circuit components
DE1794780U (de) * 1957-03-12 1959-09-03 Siemens Ag Leitungszuege in gedruckten schaltungen.
FR2058583A5 (ja) * 1969-09-17 1971-05-28 Bochkarev Boris
US3657692A (en) * 1971-03-12 1972-04-18 Markite Corp Trimmer resistor
FI52780C (fi) * 1974-06-18 1977-11-10 Paramic Ab Oy Vastusarvoltaan aseteltava vastusverkko.
DE2629334A1 (de) * 1976-06-30 1978-01-05 Draloric Electronic Widerstandsnetzwerk
FR2398374A1 (fr) * 1977-07-19 1979-02-16 Lignes Telegraph Telephon Ajustement de resistances pour circuits hybrides
GB1566151A (en) * 1978-03-13 1980-04-30 Rosemount Eng Co Ltd Printed resistance path devices
GB2018036B (en) * 1978-03-31 1982-08-25 Vishay Intertechnology Inc Precision resistors subassemblies therefor and their manufacture
DE2903025C2 (de) * 1979-01-26 1983-05-05 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München RC-Netzwerk
GB2054276B (en) * 1979-07-18 1983-03-09 Welwyn Electric Ltd Electrical resistor network
US4298856A (en) * 1979-09-04 1981-11-03 Western Electric Company, Incorporated Metallized resistor and methods of manufacturing and adjusting the resistance of same
US4375056A (en) * 1980-02-29 1983-02-22 Leeds & Northrup Company Thin film resistance thermometer device with a predetermined temperature coefficent of resistance and its method of manufacture
US4386460A (en) * 1981-05-14 1983-06-07 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Method of making multi-megohm thin film resistors
US4565000A (en) * 1982-09-24 1986-01-21 Analog Devices, Incorporated Matching of resistor sensitivities to process-induced variations in resistor widths
US4563564A (en) * 1984-01-30 1986-01-07 Tektronix, Inc. Film resistors
US4582976A (en) * 1984-08-13 1986-04-15 Hewlett-Packard Company Method of adjusting a temperature compensating resistor while it is in a circuit
CH661612A5 (en) * 1985-09-11 1987-07-31 Metallux Ag Method for producing low-induction resistors, and a resistor according to the method
JPH0536245Y2 (ja) * 1986-04-21 1993-09-14
US4782320A (en) * 1986-11-03 1988-11-01 Vtc Incorporated Mesh network for laser-trimmed integrated circuit resistors
US4772774A (en) * 1987-06-02 1988-09-20 Teradyne, Inc. Laser trimming of electrical components
US4859981A (en) * 1988-05-18 1989-08-22 Ebg Elektronische Bauelement Gesellschaft M.B.H. Electrical resistor device

Also Published As

Publication number Publication date
GB2243956A (en) 1991-11-13
DE4115328A1 (de) 1991-11-14
DE4115328C2 (de) 2002-10-31
GB9109614D0 (en) 1991-06-26
FR2662013A1 (fr) 1991-11-15
FR2662013B1 (fr) 1994-12-23
JPH07147202A (ja) 1995-06-06
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