JP2937484B2 - Methods and products for plasma enhanced electrochemical surface ceramicization - Google Patents

Methods and products for plasma enhanced electrochemical surface ceramicization

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/026Anodisation with spark discharge

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、表面化学処理、特に金属材料の表面化学処
理に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a surface chemical treatment, particularly to a surface chemical treatment of a metal material.

背景技術 現代工業および科学技術の発展に伴い、セラミックス
材料は、その特有の性能、豊富な資源により、鋼鉄、ア
ルミニウム材料に続く第3代の工業材料になっている。
セラミックス材料は、脆性が大きく、加工性に劣るた
め、その広範な応用が束縛されてきた。金属および合金
の表面にセラミックス皮膜を実施することは、使用性能
を保証しながら、高価な貴金属および合金の代わりに安
値の金属材料を使用することを可能にすると同時に、金
属材料自身に他の表面強化技術により得られない特殊の
性能を与え、その適用の範囲を広くする。他方、加工可
能な材料の素材の表面セラミックス化は、セラミックス
材料の成型性および加工性を高め、複雑な形状のセラミ
ックス部品の製造を可能にし、セラミックスの広範な応
用に新しい道が開かれた。
BACKGROUND ART With the development of modern industry and science and technology, ceramic materials have become the third generation industrial materials after steel and aluminum materials due to their unique performance and abundant resources.
Ceramic materials have high brittleness and poor workability, so their widespread application has been restricted. Implementing a ceramic coating on the surface of metals and alloys allows the use of cheaper metallic materials in place of expensive noble metals and alloys, while guaranteeing the performance of use, while at the same time allowing the metallic material itself to have other surfaces. Gives special performance not obtainable by enhanced technology, and widens its application range. On the other hand, the use of surface ceramics for workable materials has improved the formability and workability of ceramic materials, has enabled the manufacture of ceramic parts with complex shapes, and has opened a new avenue for widespread application of ceramics.

現在、金属および合金の表面セラミックス化の方法
は、プラズマ溶射と、固体粉末塗布後にレーザー焼成を
行うという2つの方法がある。すなわち、金属の表面に
他の粉体材料または金属部材の粉体の一部を高密度エネ
ルギーにより焼成して、セラミックス皮膜を得る。
At present, there are two methods for converting a metal or alloy to a surface ceramic, which is plasma spraying and laser firing after applying solid powder. That is, another powder material or a part of the powder of the metal member is fired on the surface of the metal by high-density energy to obtain a ceramic film.

プラズマ溶射技術、およびレーザー溶融塗布技術に一
般に使用される固体粉体は、金属と、炭素、酸素、ホウ
素との化合物の粉体である。これらは、高エネルギーに
よる焼成を経た後、本体の表面にセラミックス層を生じ
る。その硬質粒子は、主として金属(遷移族)と炭素、
窒素、ホウ素との化合物(約40〜90%)からなり、その
他の固相成分は、約10〜60%を占める。プラズマ溶射お
よびレーザー溶融塗布技術によって生じた表面セラミッ
クス皮膜は、その外観が不規則な象眼様堆積体であり、
気孔率が比較的に高く、巨視的な欠陥が少ない。皮膜中
の各成分が不均一に分布し、皮膜と本体との間の結合は
機械的であり、明らかな界面が存在する。この2つの方
法はともに以下の欠点が存在する: 1.加工後のセラミックス皮膜の均一性が劣り、寸法の精
度および表面の粗さに問題があり、そして整え直しおよ
び修復の難度が大きい。
The solid powder generally used for the plasma spraying technique and the laser fusion coating technique is a powder of a compound of a metal, carbon, oxygen and boron. These form a ceramic layer on the surface of the main body after firing by high energy. The hard particles mainly consist of metal (transition group) and carbon,
It consists of compounds with nitrogen and boron (about 40-90%), and the other solid phase components make up about 10-60%. The surface ceramic film produced by plasma spraying and laser fusion coating technology is an inlaid deposit with an irregular appearance,
Has relatively high porosity and few macroscopic defects. Each component in the coating is unevenly distributed, the bond between the coating and the body is mechanical, and there is a clear interface. Both of these methods have the following disadvantages: 1. Poor uniformity of the ceramic film after processing, problems in dimensional accuracy and surface roughness, and great difficulty in reshaping and repairing.

2.金属および合金の素材と、セラミックス皮膜との間
は、機械的結合であり、セラミックス層に大量の気孔お
よび内部応力が存在し、結合強度、耐衝撃性および耐腐
食性は理想的ではない。
2. The mechanical bond between the metal and alloy material and the ceramic film is a large amount of pores and internal stress in the ceramic layer, and the bond strength, impact resistance and corrosion resistance are not ideal .

3.加工される部品の寸法に対する要求が高く、貫通孔お
よび閉塞孔を有する部品および特異的な形状の部品の加
工の難度が大きい。
3. There is a high demand for the dimensions of the parts to be machined, and the difficulty of machining parts with through holes and closed holes and parts with unique shapes is great.

4.プラズマ溶射およびレーザー溶融塗布は、部材に過度
の焼けの現象が存在し、性能に影響を及ぼす。
4. Plasma spraying and laser melt coating have an excessive burn phenomenon on the member, which affects the performance.

さらに、金属または合金(例えば、アルミニウム合
金)の常用の化学処理方法は陽極酸化法である。例え
ば、アルミニウムの場合、この方法は、酸性電解質溶液
(例えば、硫酸水溶液)中でアルミニウム部材を陽極と
して陽極酸化を行う。硫酸法の場合、アルミニウム陽極
は界面電解液と以下のように反応する: Al=Al3++3e (1) 3SO4 2-+3H2O=3H2SO4+3[O]+6e (2) 3[O]+2Al=Al2O3 (3) Al2O3+H2O=Al2O3・H2O (4) Al2O3・H2O+3H2SO4=Al2(SO4+4H2O (5) Al2O3+3H2SO4=Al2(SO4+3H2O (6) 反応式(1)、(2)、(3)および(4)からわか
るように、陽極上に析出した発生期(初生態)酸素は、
陽極(部材)表面のアルミニウム原子と結合して酸化ア
ルミニウムを生成する。酸化アルミニウムから形成した
内層酸化膜の構造は、緻密で、硬度が比較的に高く、約
0.01〜0.05μmの厚さを有する。酸化アルミニウムの層
は、電解液が透過し難く、バリア層と呼ばれる。電解液
と接触する外層の酸化膜は、酸化アルミニウムとアルミ
ナ1水和物とから構成される。この酸化膜の層には多く
の孔が存在し、これらの孔に電解液が透過し易い。電圧
を印加すると、層中の微孔が絶えずに増加し、層の深度
および厚さが増大し、これは、膜形成作用である。反応
式(5)および(6)からわかるように、電解液と接触
し、かつ電解液が透過する上記酸化アルミニウムおよび
アルミナ1水和物の膜は、硫酸電解液によって徐々に溶
解されて、厚さが減り、これは、膜溶解作用である。従
って、アルミニウムおよびその合金部材が陽極酸化され
る間に、膜形成作用および膜溶解作用が同時に存在す
る。陽極酸化溶液の処分成分およびプロセス条件を適切
に制御し、膜形成の速度が膜溶解速度より大きくする必
要がある。そのようにして、陽極(部材)の表面に一定
の厚さを有する微孔性酸化膜が形成される。通常の陽極
酸化技術によって形成されたこのような膜の表面の外形
は、毛細管状の多孔構造であり、そして膜中の成分の分
布は比較的に均一であり、膜と部材との間の結合は緻密
である。膜の化学組成は、一般に、Al2O3およびAl2O3
H2Oが膜全体の95.0〜99.0%であり、その他の不純物は
1.0〜5.0%である。このような常用の陽極酸化技術には
以下の欠陥が存在する: 1.膜の気孔率が大きく、耐摩耗性能が劣り、硬度が低
い。
In addition, a common chemical treatment of metals or alloys (eg, aluminum alloys) is anodization. For example, in the case of aluminum, this method performs anodization in an acidic electrolyte solution (for example, an aqueous sulfuric acid solution) using the aluminum member as an anode. In the case of the sulfuric acid method, the aluminum anode reacts with the interfacial electrolyte as follows: Al = Al 3+ + 3e (1) 3SO 4 2- + 3H 2 O = 3H 2 SO 4 +3 [O] + 6e (2) 3 [ O] + 2Al = Al 2 O 3 (3) Al 2 O 3 + H 2 O = Al 2 O 3 · H 2 O (4) Al 2 O 3 · H 2 O + 3H 2 SO 4 = Al 2 (SO 4) 3 + 4H 2 O (5) Al 2 O 3 + 3H 2 SO 4 = Al 2 (SO 4 ) 3 + 3H 2 O (6) As can be seen from the reaction formulas (1), (2), (3) and (4), the anode The nascent (first ecological) oxygen deposited on
Bonds with aluminum atoms on the anode (member) surface to produce aluminum oxide. The structure of the inner oxide film formed from aluminum oxide is dense and relatively high in hardness.
It has a thickness of 0.01-0.05 μm. The layer of aluminum oxide is hardly permeated by the electrolyte and is called a barrier layer. The outer oxide film in contact with the electrolyte is composed of aluminum oxide and alumina monohydrate. There are many holes in this oxide film layer, and the electrolyte easily permeates through these holes. When a voltage is applied, the pores in the layer constantly increase, increasing the depth and thickness of the layer, which is a film-forming effect. As can be seen from the reaction formulas (5) and (6), the film of aluminum oxide and alumina monohydrate, which is in contact with the electrolytic solution and through which the electrolytic solution permeates, is gradually dissolved by the sulfuric acid electrolytic solution to form a film. And this is a membrane dissolving effect. Therefore, a film-forming action and a film-dissolving action simultaneously exist during the anodization of aluminum and its alloy members. It is necessary to appropriately control the disposal components of the anodizing solution and the process conditions so that the film formation rate is higher than the film dissolution rate. In this way, a microporous oxide film having a certain thickness is formed on the surface of the anode (member). The surface profile of such membranes formed by conventional anodization techniques is a capillary porous structure, and the distribution of components in the membrane is relatively uniform, and the bonding between the membrane and the member Is dense. The chemical composition of the film is generally Al 2 O 3 and Al 2 O 3
H 2 O accounts for 95.0 to 99.0% of the entire film, and other impurities
1.0 to 5.0%. These conventional anodic oxidation techniques have the following deficiencies: 1. The porosity of the film is large, the abrasion resistance is poor, and the hardness is low.

2.膜の色が単調で、色つやが乏しく、セラミックスの性
能および素地がなく、装飾性が良くない。
2. The color of the film is monotonous, the color gloss is poor, the performance and the base of ceramics are lacking, and the decorativeness is poor.

EP0462073、EP0280886、CN87103694およびUS3,834,99
9は、それぞれ、電解液中での化学反応およびプラズマ
化学反応により、金属素材の表面にアーク放電を行い、
陽極酸化して金属酸化物のセラミックス膜を形成する方
法を開示している。これらの方法は、以下の欠点が存在
する: 1.加工後のセラミックス膜の均一性が劣り、表面寸法の
精度および粗さに問題があり、整え直しおよび修復の難
度が大きい。
EP0462073, EP0280886, CN87103694 and US3,834,99
9 performs an arc discharge on the surface of the metal material by a chemical reaction in the electrolytic solution and a plasma chemical reaction, respectively.
A method for forming a ceramic film of a metal oxide by anodizing is disclosed. These methods have the following disadvantages: 1. Poor uniformity of the processed ceramic film, problems in surface dimensional accuracy and roughness, and difficulty in reshaping and repairing.

2.製品の色、色柄が単調であり、装飾効果が劣る。2. The color and pattern of the product are monotonous and the decoration effect is inferior.

3.電解液の安定性が低く、使用寿命が短く、コストが高
い。
3. Low electrolyte stability, short service life and high cost.

本発明の目的は、従来技術に存在する上記欠陥を克服
することであり、六メタリン酸ナトリウムを含有する新
規な電解液系における、金属表面を電気化学的にセラミ
ックス化する方法を提供する。
An object of the present invention is to overcome the above deficiencies existing in the prior art, and to provide a method for electrochemically ceramicizing a metal surface in a novel electrolyte system containing sodium hexametaphosphate.

本発明の別の目的は、セラミックス皮膜を有する金属
製品を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a metal product having a ceramic film.

発明の開示 本発明の方法は、主として、10〜50g/lの六メタリン
酸ナトリウム、5〜20g/lのホウ酸および/または硼砂
を含有し、さらに正リン酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウム、
メタバナジン酸ナトリウム、クロム酸ナトリウム、タン
グステン酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸ニッケル、
硫酸鉄、硫酸マンガン、および硫酸クロムの酸素含有塩
からなる群から選択される少なくとも1つ、そして必要
に応じて、カルシウム、亜鉛、コバルト、ニッケルの酢
酸塩、フルオロケイ酸、フッ化カリウム、エチレンジア
ミン四酢酸からなる群から選択された添加剤を含有する
電解質溶液中、10〜50℃で、100〜400Vの電圧および0.5
〜20A/dm2の電流密度により生じるエネルギーによっ
て、陽極の金属部材表面上にプラズマアーク放電させ電
気化学的陽極酸化を行い、反応に参与する電解質を部材
の表面に焼成させ、セラミックス構造の皮膜を形成する
工程を包含する。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The process of the present invention mainly comprises 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5 to 20 g / l boric acid and / or borax, and further comprises sodium orthophosphate, sodium sulfate, sodium silicate , Ammonium metavanadate,
Sodium metavanadate, sodium chromate, sodium tungstate, cobalt sulfate, nickel sulfate,
At least one selected from the group consisting of iron sulfate, manganese sulfate, and chromium sulfate oxygen-containing salt, and optionally calcium, zinc, cobalt, nickel acetate, fluorosilicic acid, potassium fluoride, ethylenediamine In an electrolyte solution containing an additive selected from the group consisting of tetraacetic acid, at 10-50 ° C., a voltage of 100-400 V and 0.5
The energy generated by the current density of the through 20a / dm 2, on the surface of the metal member of the anode is a plasma arc discharge performed electrochemical anodic oxidation, the electrolyte to take part in the reaction was baked on the surface of the member, the coating of ceramic structure Forming step.

本発明の方法において、セラミックス皮膜の形成プロ
セスは以下の通りである:電気化学的酸化電解セル中
で、金属部材を陽極として、陽極と陰極との間に直流電
場を印加して、部材の表面に陽極酸化反応を発生させ
る: Al=Al3++3e OH=1/2H2O+1/2[O]+e 2Al+3[O]=Al2O3 それによって、厚さ0.01〜0.2μmの緻密な酸化薄膜を
形成する。この膜は、比較的に薄く、電気絶縁性を有
し、バリア層と呼ばれる。陽極と陰極との間の電圧の増
加に伴い、電場の強度は非常に高くなり(約107V/c
m)、これによって、陽極の表面に誘電破壊の現象が生
じ得、陽極部材の表面にプラズマアーク放電が生じる。
このアーク放電は、皮膜の欠損、隙間のある箇所および
薄い箇所に発生する。これらの箇所のエネルギーの密度
が極めて高く(約104〜107W/cm2)、陽極の表面と電解
質との界面に一連の化学反応を引き起こし、電解質中の
一部の物質を電離化させ、活性化させる。プラズマアー
ク放電の増強作用により、電気化学的陽極酸化反応を引
き起こすこと以外、いくつかの電解質も電気化学的反応
に参加し、部材の表面で焼成し、セラミックス構造の皮
膜を形成する。
In the method of the present invention, the process of forming the ceramic film is as follows: In an electrochemical oxidation electrolysis cell, a metal member is used as an anode, and a DC electric field is applied between the anode and the cathode to form a surface of the member. Anodization reaction occurs: Al = Al 3+ + 3e OH = 1 / 2H 2 O + 1/2 [O] + e 2Al + 3 [O] = Al 2 O 3 Accordingly, a dense oxide thin film having a thickness of 0.01 to 0.2 μm To form This film is relatively thin, has electrical insulation, and is called a barrier layer. With increasing voltage between the anode and cathode, the electric field strength becomes very high (about 10 7 V / c
m) Due to this, a phenomenon of dielectric breakdown may occur on the surface of the anode, and plasma arc discharge occurs on the surface of the anode member.
The arc discharge is generated in a film defect, a place with a gap, and a thin place. The energy density at these points is extremely high (approximately 10 4 to 10 7 W / cm 2 ), causing a series of chemical reactions at the interface between the anode surface and the electrolyte, causing some substances in the electrolyte to ionize. Activate. In addition to causing an electrochemical anodic oxidation reaction by the action of enhancing the plasma arc discharge, some electrolytes also participate in the electrochemical reaction and fire on the surface of the member to form a ceramic structure film.

本発明の方法はさらに、陽極酸化前の金属部材を洗浄
する工程、および陽極酸化後の金属部材を濯ぎ、仕上げ
処理する工程を包含する。従って、本発明の方法は、以
下の工程を包含する: 1.洗浄 軽金属のアルミニウム、チタン、ニオブ、ジルコニウ
ムなどの部材の表面に存在する、製造、加工の工程によ
る種々の油脂は、酸化加工の前に徹底的に洗浄されなけ
ればならない。好ましくは、以下の組成を有するアルカ
リ性洗浄液を使用する:50〜60g/lのリン酸ナトリウム、
10〜15g/lのケイ酸ナトリウム、10〜20g/lの炭酸ナトリ
ウム、0.1〜10ML/lの界面活性剤。洗浄時に、洗浄液を
激しく撹拌するか、または容器中で洗浄液を部材の表面
に噴射し、部材をきれいに洗浄する。洗浄の温度は、40
〜60℃であり、含浸時間は20〜30分である。洗浄後の部
材を濯ぎ容器に入れ、15〜50℃の温度で、部材の表面に
洗浄液がなくなるまで水で濯ぐ。
The method of the present invention further includes a step of cleaning the metal member before the anodization, and a step of rinsing and finishing the metal member after the anodization. Therefore, the method of the present invention includes the following steps: 1. Washing Various oils and fats which are present on the surface of a member such as aluminum, titanium, niobium and zirconium by the manufacturing and processing steps are subjected to oxidation processing. Must be thoroughly cleaned before. Preferably, an alkaline cleaning solution having the following composition is used: 50-60 g / l sodium phosphate,
10-15 g / l sodium silicate, 10-20 g / l sodium carbonate, 0.1-10 ML / l surfactant. At the time of cleaning, the cleaning liquid is vigorously stirred or the cleaning liquid is sprayed onto the surface of the member in a container to clean the member cleanly. The cleaning temperature is 40
6060 ° C. and the impregnation time is 20-30 minutes. The cleaned components are placed in a rinsing vessel and rinsed with water at a temperature of 15-50 ° C. until no cleaning liquid is present on the surfaces of the components.

2.酸化 異なる電解液を用い、異なる加工電流、電圧、溶液温
度および撹拌の強度と方法を制御することにより、異な
る色、異なる図案、異なる色柄、異なる性能の製品が得
られる。これらは、異なる分野に適用される。アーク放
電を発生させる電圧は、一般に100〜400Vである。
2. Oxidation By using different electrolytes and controlling different processing current, voltage, solution temperature and stirring intensity and method, products with different colors, different designs, different colors and patterns, different performance can be obtained. These apply to different fields. The voltage at which arc discharge is generated is generally 100 to 400V.

以下は、異なる製品を製造するプロセスをそれぞれ記
載する。ここで、Vは、プラズマアーク放電を発生させ
る電圧を示し、そしてiは、加工電流を示す。
The following describes each process for manufacturing different products. Here, V indicates a voltage for generating a plasma arc discharge, and i indicates a machining current.

(1)白磁色のセラミックス皮膜の製造方法 電解質溶液の組成: 六メタリン酸ナトリウム 10〜50g/l リン酸ナトリウム 10〜30g/l 硼砂 5〜20g/l 酢酸カルシウム 0.1〜5g/l ケイ酸ナトリウム 0.1〜10g/l 酢酸亜鉛 0.1〜12g/l 硫酸ナトリウム 5〜10g/l ホウ酸 5〜20g/l 以上の物質は、化学用等級の試薬(または特殊な用途
の精製物)を使用する。溶液を蒸留水で調製する。調製
順番は以下の通りである:まず、六メタリン酸ナトリウ
ムを徹底的に溶解し、そしてその他の物質を添加する。
リン酸でpHを4.0〜10.5に調節する。調製した溶液を24
時間以上放置する。溶液の温度を15〜45℃に制御し、溶
液を強制的噴射撹拌により、均一に撹拌する。加工電流
i=0.5〜5A/dm2、電圧V=100〜400V、酸化時間7〜30
分の条件でのプロセスにより、白磁色のセラミックス皮
膜が製造され得る。厚さは、5〜28μmである。
(1) Method for producing white ceramic color ceramic film Composition of electrolyte solution: sodium hexametaphosphate 10-50 g / l sodium phosphate 10-30 g / l borax 5-20 g / l calcium acetate 0.1-5 g / l sodium silicate 0.1 ~ 10g / l Zinc acetate 0.1 ~ 12g / l Sodium sulfate 5 ~ 10g / l Boric acid 5 ~ 20g / l For substances above, use chemical grade reagents (or purified products for special applications). A solution is prepared in distilled water. The order of preparation is as follows: First, the sodium hexametaphosphate is thoroughly dissolved and the other substances are added.
Adjust the pH to 4.0-0.5 with phosphoric acid. 24 prepared solutions
Leave for more than an hour. The temperature of the solution is controlled at 15-45 ° C, and the solution is uniformly stirred by forced jet stirring. Machining current i = 0.5-5A / dm 2 , voltage V = 100-400V, oxidation time 7-30
By the process under the conditions of minutes, a ceramic film of white magnetic color can be produced. The thickness is 5-28 μm.

(2)青色のセラミックス皮膜の製造方法 組成: (NaPO3 10〜50g/l H3BO3 5〜20g/l EDTA 1〜6 g/l Na2SO4 5〜10g/l Na3PO4・12H2O 5〜15g/l CoSO4 5〜20g/l NiSO4 1〜10g/l Co(Ac) 10〜20g/l pH=4.0〜6。調製方法は、上記(1)と同じであ
る。溶液を24時間以上放置し、溶液の温度は、t=10〜
30℃である。加工される製品が2種類ある。第1の製品
は、均一の青色膜である。第2の製品は、青色が点在
し、装飾効果がある膜である。プロセス条件:電流i=
0.5〜10A/dm2、電圧V=150〜300V。均一の青色膜を調
製する場合、溶液を5〜20分激しく撹拌し、溶液を完全
に均一させる。青色が点在し、装飾効果がある膜を調製
する場合、溶液を撹拌する方法を変え、溶液の濃度を異
ならせ、濃度の差を生じさせ、部材の表面の放電中心の
数を減少させ、そして放電中心の電流密度を増加させ、
いくつかの物質を放電させ、表面に大きさが異なる色点
を生じさせる。これによって、美しい装飾効果を有する
膜が得られる。具体的なプロセスは、電流i=0.5〜7A/
dm2に制御し、溶液を5〜10分強制的に撹拌し(上記プ
ロセスと同じように)、次いで3〜5分放置する。その
後、1〜5分の間に、溶液をいきなり撹拌するか、また
は部材を容器中で移動させ、濃度を大きく変化させる。
これによって、異なる色点のある装飾膜が得られる。膜
の厚さは5〜15μmであり、膜の色は、薄青色から深い
青色である。このプロセスの条件は、他の色の製品を調
製する際にも使用され得る。
(2) Manufacturing method of blue ceramic film Composition: (NaPO 3 ) 6 10 to 50 g / l H 3 BO 3 5 to 20 g / l EDTA 1 to 6 g / l Na 2 SO 4 5 to 10 g / l Na 3 PO 4 · 12H 2 O 5~15g / l CoSO 4 5~20g / l NiSO 4 1~10g / l Co (Ac) 2 10~20g / l pH = 4.0~6. The preparation method is the same as the above (1). The solution was left for at least 24 hours, and the temperature of the solution was t = 10-
30 ° C. There are two types of products to be processed. The first product is a uniform blue film. The second product is a film that is dotted with blue and has a decorative effect. Process conditions: current i =
0.5~10A / dm 2, voltage V = 150~300V. When preparing a uniform blue film, the solution is stirred vigorously for 5-20 minutes to make the solution completely homogeneous. When preparing a film that is dotted with blue and has a decorative effect, the method of stirring the solution is changed, the concentration of the solution is changed, a difference in the concentration is caused, the number of discharge centers on the surface of the member is reduced, And increase the current density at the discharge center,
It discharges some substances and produces color spots of different sizes on the surface. Thereby, a film having a beautiful decorative effect can be obtained. The specific process is that the current i = 0.5 to 7 A /
Control to dm 2 and agitate the solution forcibly for 5-10 minutes (as in the above process) and then leave for 3-5 minutes. Thereafter, during 1 to 5 minutes, the solution is agitated abruptly, or the member is moved in the container to greatly change the concentration.
Thereby, decorative films having different color points can be obtained. The thickness of the film is 5 to 15 μm, and the color of the film is light blue to deep blue. The conditions of this process can also be used in preparing products of other colors.

(3)乳白色の膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l Na3PO4・12H2O 5〜10g/l H3BO3 5〜10g/l Ni(Ac) 2〜15g/l Na2SO4 5〜10g/l Na2B4O7・7H2O 5〜10g/l Fe2(SO4 2〜10g/l EDTA 1〜6 g/l MnSO4・H2O 2〜10g/l 調製方法は上記(1)と同じである。プロセス条件
は、pH=4〜6、溶液の温度t=14〜45℃、電流i=0.
5〜10A/dm2、V=125〜350、酸化時間t=5〜20分、皮
膜の厚さ5〜25μmである。上記(1)の撹拌方法を使
用する。薄乳白色から深い乳白色の膜が得られる。
(3) milky film composition: (NaPO 3) 6 10~50g / l Na 3 PO 4 · 12H 2 O 5~10g / l H 3 BO 3 5~10g / l Ni (Ac) 2 2~15g / l Na 2 SO 4 5~10g / l Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O 5~10g / l Fe 2 (SO 4) 3 2~10g / l EDTA 1~6 g / l MnSO 4 · H 2 O 2 ~ 10 g / l The preparation method is the same as in the above (1). The process conditions were: pH = 4-6, solution temperature t = 14-45 ° C., current i = 0.
5 to 10 A / dm 2 , V = 125 to 350, oxidation time t = 5 to 20 minutes, and film thickness 5 to 25 μm. The stirring method of the above (1) is used. A pale milky to deep milky film is obtained.

(4)深いピンク色膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l Na2B4O7・7H2O 5〜20g/l Na3PO4・12H2O 10〜30g/l Na2SiO3 0.5〜10g/l Zn(Ac) 0.1〜12g/l MnSO4・H2O 5〜20g/l 調製方法は上記(1)と同じである。プロセスの条
件:電流密度i=0.5〜10A/dm2、V=150〜350V、温度
=10〜40℃。このプロセスによる製品が2種類ある。上
記(2)の青色膜のように、1つは深いピンク色の膜で
あり、もう1つは、異なる色点を有し、装飾効果を有す
る膜である。上記(2)のプロセスのように、正常の撹
拌により、色均一の膜が得られ、特殊な撹拌方法によ
り、比較的大きな色点を有する装飾膜が得られる。酸化
時間は、t=5〜25分であり、厚さは5〜25μmであ
る。これにより、深いピンク色の膜が得られる。
(4) deep pink film composition: (NaPO 3) 6 10~50g / l Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O 5~20g / l Na 3 PO 4 · 12H 2 O 10~30g / l Na 2 SiO 3 0.5 to 10 g / l Zn (Ac) 2 0.1 to 12 g / l MnSO 4 .H 2 O 5 to 20 g / l The preparation method is the same as the above (1). Process conditions: current density i = 0.5-10 A / dm 2 , V = 150-350 V, temperature = 10-40 ° C. There are two types of products from this process. Like the blue film of the above (2), one is a deep pink film, and the other is a film having a different color point and having a decorative effect. As in the process (2), a film having a uniform color can be obtained by normal stirring, and a decorative film having a relatively large color point can be obtained by a special stirring method. The oxidation time is t = 5-25 minutes and the thickness is 5-25 μm. This results in a deep pink film.

(5)褐色〜黒色の膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l Na2B4O7・7H2O 5〜10g/l NH4VO3 2〜10g/l NaVO3 2〜10g/l Na2SO4 5〜10g/l 調製方法は上記(1)と同じである。プロセスの条
件:pH=3〜6、電流i=0.5〜5A/dm2、V=150〜350
V、溶液温度10〜35℃、酸化時間t=5〜20分。このプ
ロセスによる製品は、色点を有する膜と、色均一の膜と
2種類ある。プロセスの特徴は上記(2)と同じであ
る。2種類の撹拌方法を使用して、薄褐色〜褐色〜黒色
という異なる効果を有する膜が得られる。膜の厚さは5
〜15μmである。
(5) the film composition of the brown-black: (NaPO 3) 6 10~50g / l Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O 5~10g / l NH 4 VO 3 2~10g / l NaVO 3 2~10g / l Na 2 SO 4 5 to 10 g / l The preparation method is the same as the above (1). Process conditions: pH = 3-6, current i = 0.5-5A / dm 2 , V = 150-350
V, solution temperature 10-35 ° C, oxidation time t = 5-20 minutes. There are two types of products produced by this process: a film having a color point and a film having a uniform color. The features of the process are the same as in (2) above. Using two different stirring methods, films having different effects of light brown to brown to black are obtained. The film thickness is 5
1515 μm.

(6)薄黄色〜黄色の膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l Na2B4O7・7H2O 5〜10g/l NH4VO3 2〜7 g/l NaVO3 2〜7 g/l Ni(Ac) 5〜15g/l MnSO4 1〜5 g/l H3BO3 5〜10g/l 調製方法は上記(1)と同じである。プロセスの条
件:pH=3〜7、電流i=0.5〜5A/dm2、V=150〜300
V、時間t=5〜15分、温度10〜30℃。このプロセスに
よる製品は、表面色が均一の膜と、異なる大きさの色点
を有する装飾膜との2種類がある。上記(2)と同じよ
うに、主に異なる撹拌方法によって、このような効果が
生じる。膜の色は、薄黄色〜黄色〜深い黄色である。膜
の厚さは5〜20μmである。
(6) a pale yellow ~ yellow film composition: (NaPO 3) 6 10~50g / l Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O 5~10g / l NH 4 VO 3 2~7 g / l NaVO 3 2~ 7 g / l Ni (Ac) 2 5~15g / l MnSO 4 1~5 g / l H 3 BO 3 5~10g / l preparation method is the same as above (1). Process conditions: pH = 3-7, current i = 0.5-5A / dm 2 , V = 150-300
V, time t = 5-15 minutes, temperature 10-30 ° C. There are two types of products produced by this process, a film having a uniform surface color and a decorative film having color points of different sizes. As in the case of the above (2), such an effect is produced mainly by a different stirring method. The color of the film is light yellow to yellow to deep yellow. The thickness of the film is between 5 and 20 μm.

(7)古銅色の膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l Na2B4O7・7H2O 10〜15g/l Na3PO4・12H2O 10〜15g/l NH4VO3 1〜10g/l Na2CrO4 2〜10g/l pH=6〜10.5。調製方法は上記(1)と同である。プ
ロセスの条件:電流i=0.5〜10A/dm2、V=150〜350
V、時間t=5〜20分、温度10〜50℃。膜の厚さは5〜1
5μmである。膜の色は、薄古銅色〜深い古銅色であ
る。
(7) bronzite color film composition: (NaPO 3) 6 10~50g / l Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O 10~15g / l Na 3 PO 4 · 12H 2 O 10~15g / l NH 4 VO 3 1-10 g / l Na 2 CrO 4 2-10 g / l pH = 6-10.5. The preparation method is the same as the above (1). Process conditions: current i = 0.5 to 10 A / dm 2 , V = 150 to 350
V, time t = 5-20 minutes, temperature 10-50 ° C. The thickness of the film is 5-1
5 μm. The color of the film is light copper to deep copper.

(8)灰色の膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l Na2B4O7・7H2O 10〜15g/l Na2SO4 5〜10g/l Na3PO4・12H2O 10〜15g/l CoSO4・H2O 2〜15g/l Cr2(SO4 2〜15g/l Co(Ac) 2〜10g/l Ni(Ac)・H2O 2〜10g/l NH4VO3 2〜10g/l 調製方法は上記(1)と同じである。プロセスの条
件:電流i=0.5〜10A/dm2、V=125〜350V、温度20〜5
0℃、酸化時間t=5〜20分。製品は、薄灰色〜深い灰
色の、色均一の膜と、表面に色点を有する灰色膜と2種
類ある。撹拌方法は、上記(2)と同じである。膜の厚
さは5〜20μmである。
(8) Gray film composition: (NaPO 3) 6 10~50g / l Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O 10~15g / l Na 2 SO 4 5~10g / l Na 3 PO 4 · 12H 2 O 10~15g / l CoSO 4 · H 2 O 2~15g / l Cr 2 (SO 4) 3 2~15g / l Co (Ac) 2 2~10g / l Ni (Ac) 2 · H 2 O 2~10g / l NH 4 VO 3 2 to 10 g / l The preparation method is the same as the above (1). Process conditions: current i = 0.5-10 A / dm 2 , V = 125-350 V, temperature 20-5
0 ° C., oxidation time t = 5-20 minutes. There are two types of products: light gray to deep gray, uniform color films, and gray films having a color point on the surface. The stirring method is the same as in the above (2). The thickness of the film is between 5 and 20 μm.

(9)硬質のセラミックス膜 組成: (NaPO3 10〜50g/l H2SiF6 2〜20g/l KF 1〜10g/l Na2B4O7・H2O 7〜20g/l Na2WO4 1〜20g/l 調製方法は上記(1)と同じである。プロセスの条
件:電流i=1〜15A/dm2、V=100〜200V、溶液温度10
〜30℃、酸化時間5〜25分。撹拌プロセスは、強制的均
一撹拌を使用する。アルミニウム合金膜は深い灰色であ
り、膜の厚さは10〜100μmである。
(9) ceramic film composition of the hard: (NaPO 3) 6 10~50g / l H 2 SiF 6 2~20g / l KF 1~10g / l Na 2 B 4 O 7 · H 2 O 7~20g / l Na 2 WO 4 1~20g / l preparation method is the same as above (1). Process conditions: current i = 1-15A / dm 2 , V = 100-200V, solution temperature 10
~ 30 ° C, oxidation time 5-25 minutes. The stirring process uses forced homogeneous stirring. The aluminum alloy film is deep gray and the thickness of the film is 10-100 μm.

上記の種々の製品以外、上記溶液の任意2種類を組み
合わせて使用することにより、種々の色の膜が得られ
る。例えば、上記(1)の溶液を使用して得られた白磁
色の膜から、上記(2)に記載の色点を得るための撹拌
方法を用いて上記(2)の溶液中で、白色下地に青色点
を有する製品が得られる。具体的な方法は実施例を参照
のこと。
By using any two of the above solutions in combination other than the above various products, films of various colors can be obtained. For example, from the white magnetic film obtained by using the solution of (1), a stirring method for obtaining the color point described in (2) above is used to prepare a white substrate in the solution of (2). A product having a blue dot is obtained. See the examples for specific methods.

3.濯ぎ 水温は、15〜60℃である。溶液の成分を残さずに洗浄
する。
3. Rinse Water temperature is 15-60 ℃. Wash without leaving any components of the solution.

4.仕上げ処理 主に光沢度を高めるために、濯がれた部材に、含浸、
注ぎかけおよび噴射塗装などの塗装方法により、表面の
仕上げ処理を行う。水溶性アクリル酸または水溶性アミ
ノ樹脂などの塗料を用いて、塗料の要求に従って、乾燥
処理を行う。水溶性アクリル酸の場合、乾燥温度がt=
150〜250℃であり、時間が5〜30分である。乾燥後、検
査に合格した製品を包装し、完成品となる。
4. Finishing treatment Mainly to improve glossiness, impregnated
Finishing of the surface is performed by a coating method such as pouring and spray coating. Using a paint such as a water-soluble acrylic acid or a water-soluble amino resin, a drying treatment is performed according to the requirements of the paint. In the case of water-soluble acrylic acid, the drying temperature is t =
150-250 ° C. and time is 5-30 minutes. After drying, products that have passed the inspection are packaged and finished.

本発明の方法は、プラズマアーク放電を使用するた
め、電気化学的反応を増強させる。得られた膜には、電
解質由来の物質の含有量が、通常の陽極酸化膜よりも高
く、しかも部材の酸化物の水和物を含有しない。
The method of the present invention uses a plasma arc discharge to enhance the electrochemical reaction. The obtained film has a higher content of the substance derived from the electrolyte than the ordinary anodic oxide film, and does not contain the hydrate of the oxide of the member.

従って、本発明の方法によって得られる製品は、金属
部材と部材表面のセラミックス膜から構成される。膜中
には、部材金属酸化物の含有量が70.0〜95.0重量%であ
り、その他の金属酸化物、非金属酸化物、無機塩または
それらの混合物の含有量が、5.0〜30.0重量%であり。
セラミックス膜は、プラズマアーク放電によって増強さ
れた陽極酸化法により形成されたものである。その他の
金属酸化物、非金属酸化物、無機塩またはそれらの混合
物は、電解質に由来する。
Therefore, the product obtained by the method of the present invention comprises a metal member and a ceramic film on the surface of the member. In the film, the content of the component metal oxide is 70.0 to 95.0% by weight, and the content of other metal oxides, nonmetal oxides, inorganic salts or a mixture thereof is 5.0 to 30.0% by weight. .
The ceramic film is formed by an anodic oxidation method enhanced by plasma arc discharge. Other metal oxides, non-metal oxides, inorganic salts or mixtures thereof are derived from the electrolyte.

本発明の製品の膜の外観は、規則的な象眼様堆積体で
あり、気孔率が極めて低く(0.5%未満)、巨視的な欠
陥が少ない。膜中の各成分の分布が均一である。部材表
面の金属原子は反応に直接参加するため、膜と部材との
間の結合は緻密であり、明らかな境界がない。
The appearance of the film of the product of the invention is a regular inlaid deposit with very low porosity (less than 0.5%) and few macroscopic defects. The distribution of each component in the film is uniform. Since metal atoms on the surface of the member directly participate in the reaction, the bond between the film and the member is dense and has no apparent boundary.

本発明の製品のセラミックス膜の均一性が良好であ
り、部材との結合強度が高く、隙間が少なく、耐衝撃性
および耐腐食性が優れている。さらに、本発明のセラミ
ックス膜は、色が艶やかであり、色柄が多く、図案を形
成し得、装飾性が極めて優れている。本発明の方法は、
任意の寸法、形状、構造の部材の表面処理に適する。
The uniformity of the ceramic film of the product of the present invention is good, the bonding strength with the member is high, the gap is small, and the impact resistance and corrosion resistance are excellent. Further, the ceramic film of the present invention is glossy in color, has many colors and patterns, can form a design, and is extremely excellent in decorativeness. The method of the present invention comprises:
Suitable for surface treatment of members of any size, shape and structure.

以下は、実施例を通じて本発明をさらに説明する。 Hereinafter, the present invention will be further described through examples.

発明を実施するための最良の形態 実施例1 1000mlの蒸留水を容積1.5Lの酸化用容器中に加え、35
gの(NaPO3を添加し、充分に溶解し、10.5gの硼砂
を加え、10gのリン酸ナトリウムを加え、H3PO4でpHを4.
5〜5.0に調節し、5gのCa(Ac)を加え、溶液を調製す
る。この溶液を24時間放置し、次の工程に供する。50×
100×5mmのLD31型アルミニウム板をアルカリ性洗浄液で
洗浄し、この部材を取り付け具で固定し、電源と連結
し、容器内で撹拌を行う。ステンレス鋼を陰極とし、部
材を陽極とし、酸化処理を開始する。電流を1Aに保持
し、電圧を160〜180Vまでに徐々に上昇させると、部材
の表面にプラズマアーク放電現象が生じる。電圧が210
〜240Vに上昇するとき、電流を下げる。酸化時間は10分
である。酸化を停止させ、電流を0にし、電圧を0に
し、電源を切断する。部材を取り出し、白磁色の膜が得
られる。洗浄後、仕上げ処理を行う。部材を水溶性アク
リル酸樹脂中に含浸し、乾燥器中、220℃で5分乾燥す
る。乾燥器から取り出し、製品は完成となる。測定によ
り、膜の厚さが10μmであり、ビッカース硬度(HV)が
310kg/mm2(5g)である。耐摩耗性試験:噴砂時間300
秒。キャス試験は9級である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Example 1 1000 ml of distilled water was added to a 1.5-liter oxidation vessel, and 35
was added g of (NaPO 3) 6, sufficiently dissolved, adding borax in 10.5 g, was added to sodium phosphate 10 g, a pH in H 3 PO 4 4.
Adjust to 5-5.0, add 5 g Ca (Ac) 2 and prepare solution. The solution is allowed to stand for 24 hours before being subjected to the next step. 50x
A 100 × 5 mm LD31 type aluminum plate is washed with an alkaline cleaning solution, and this member is fixed with a fixture, connected to a power source, and stirred in a container. Oxidation treatment is started using stainless steel as a cathode and members as an anode. When the current is maintained at 1 A and the voltage is gradually increased to 160 to 180 V, a plasma arc discharge phenomenon occurs on the surface of the member. Voltage 210
When rising to ~ 240V, reduce the current. The oxidation time is 10 minutes. The oxidation is stopped, the current is reduced to 0, the voltage is reduced to 0, and the power is turned off. The member is taken out and a white magnetic film is obtained. After the cleaning, a finishing process is performed. The member is impregnated in a water-soluble acrylic resin and dried in a drier at 220 ° C. for 5 minutes. Removed from the dryer, the product is completed. According to the measurement, the film thickness is 10μm and Vickers hardness (HV) is
It is 310 kg / mm 2 (5 g). Abrasion resistance test: sand blasting time 300
Seconds. Cass test is 9th grade.

実施例2 1000mlの蒸留水を容積1.5Lの酸化用容器中に加え、35
gの(NaPO3を添加し、溶解した後、10gのH3BO3、2g
のCoSO4、2gのEDTAを加える。溶解した後、24時間放置
し、次の工程に供する。実施例1の方法を用いて酸化を
行い、白磁色膜を有する部材が得られる。洗浄後、この
部材を酸化用容器中に入れ、溶液を放置し、通電して酸
化を行う。電流は、0.7A/dm2であり、1.5分を保持し、
次いで部材を移動して(または溶液を撹拌して)、表面
に比較的に少ないアーク放電現象を生じさせる。この工
程を1分間保持した後、酸化を停止させ、電源を切断す
る。部材を取り出し、白色の下地に青色の色点を有する
部材が得られる。部材を仕上げ処理し、つや出した後、
完成品が得られる。
Example 2 1000 ml of distilled water was added into a 1.5-liter oxidation vessel, and 35
g of (NaPO 3 ) 6 were added and dissolved, then 10 g of H 3 BO 3 , 2 g
Add CoSO 4 , 2 g EDTA. After dissolving, allow to stand for 24 hours, and use for the next step. Oxidation is performed using the method of Embodiment 1 to obtain a member having a white magnetic color film. After the cleaning, the member is placed in an oxidation container, the solution is left standing, and electricity is applied to perform oxidation. Current is 0.7 A / dm 2, holding the 1.5 min,
The member is then moved (or the solution is agitated) to cause less arcing on the surface. After holding this step for one minute, the oxidation is stopped and the power is turned off. The member is taken out, and a member having a blue color point on a white base is obtained. After finishing and polishing the parts,
The finished product is obtained.

実施例3 長さ7.2m、幅1.6m、高さ2.3mの工業用酸化用容器中に
20000kgの水を加え、700kgの(NaPO3を添加し、激
しく撹拌して十分に溶解させた後、140kgのNa2B4O7・7H
2O、100kgのNH4VO3および200kgのNa2SO4を加える。終了
後、24〜48時間放置する。この酸化用容器は、冷水冷却
設備を備え、容器温度を15〜35℃に保持する。ステンレ
ス鋼を陰極とする。アルミニウム合金の建築部材(6063
型)15本(測定により、1本あたりの面積は、180dm2
あり、15本の総面積は、180×15=2700dm2である)を洗
浄容器中に入れ、25分間浸す。走行起重機で取り上げ、
水をさかさにした後、濯ぎ容器に入れ、取り出して、第
2の濯ぎ容器に入れ、次いで、酸化用容器に入れる。電
源との連結状況を検査し、取り付け具に問題がなけれ
ば、通電して酸化を開始する。1A/dm2の電流を使用し、
電圧を徐々に上昇させ、溶液を撹拌し、冷却設備を作動
させる。電圧が150Vに上昇するとき、部材の表面にアー
ク放電の光が生じる。上記プロセス条件を保持し、酸化
時間は10分間であり、最終電圧は230Vである。電流を下
げ、電源を切断し、部材を取り上げ、水をさかさにし、
濯ぎ容器に入れ、次いで濯ぐ。樹脂容器に浸入し、最後
に乾燥炉中で乾燥する。取り出した後、包装し、完成品
となる。検査の結果、色は褐色であり、膜の厚さは8〜
11μmであり、外観は均一である。ビッカース硬度(H
V)は、260〜480kg/mm2(0.049N)である。耐摩耗性試
験:噴砂時間300〜500秒。
Example 3 In an industrial oxidation container having a length of 7.2 m, a width of 1.6 m and a height of 2.3 m
Of water was added 20000 kg, was added (NaPO 3) 6 of 700 kg, after sufficiently dissolving vigorous stirring, 140 kg of Na 2 B 4 O 7 · 7H
Add 2 O, 100 kg of NH 4 VO 3 and 200 kg of Na 2 SO 4 . After completion, leave for 24-48 hours. This oxidation vessel is provided with a cold water cooling facility, and keeps the vessel temperature at 15 to 35 ° C. Stainless steel is used as the cathode. Aluminum alloy building components (6063
(Type) According to the measurement, 15 pieces (the area per piece is 180 dm 2 , and the total area of 15 pieces is 180 × 15 = 2700 dm 2 ) is placed in the washing container and immersed for 25 minutes. Take up in the traveling hoist,
After the water has been inverted, it is placed in a rinsing container, removed and placed in a second rinsing container and then in an oxidizing container. Check the connection with the power supply, and if there is no problem with the fixture, energize to start oxidation. Using a current of 1A / dm 2,
The voltage is gradually increased, the solution is agitated and the cooling system is activated. When the voltage rises to 150V, arcing light is generated on the surface of the member. Keeping the above process conditions, the oxidation time is 10 minutes and the final voltage is 230V. Reduce current, disconnect power, pick up components, invert water,
Place in rinse container, then rinse. It penetrates into a resin container and is finally dried in a drying oven. After taking it out, it is packed and finished. As a result of the inspection, the color was brown, and the thickness of the film was 8 to
11 μm, and the appearance is uniform. Vickers hardness (H
V) is 260 to 480 kg / mm 2 (0.049N). Abrasion resistance test: 300-500 sec.

実施例4 1000mlの蒸留水を1.5Lの酸化用容器中に入れ、25gのN
a3PO4・12H2O、7gのNa2B4O7・7H2Oおよび10gのNa2SiO3
を加え、完全に溶解した後、24時間放置する。ステンレ
ス鋼を陰極とする。50×100×1mmのチタン合金(TAI
型)を洗浄した後、酸化用容器中に入れ、酸化を行う。
i=3A、電圧の上昇が開始し、100Vになるとき、表面に
微小なアーク放電の光が発生する。酸化時間を15分に、
そして電圧を150Vに制御する。その後、電流を下げ、電
源を切断する。部材を取り出し、濯ぐ。乾燥後、サンプ
ル膜の色は灰色である。測定により、膜の厚さは15μm
である。キャス試験は9級である。
Example 4 1000 ml of distilled water was placed in a 1.5 L oxidation vessel, and 25 g of N
a 3 PO 4 · 12H 2 O , 7g of Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O and 10g of Na 2 SiO 3
And completely dissolved, and then left for 24 hours. Stainless steel is used as the cathode. 50 × 100 × 1mm titanium alloy (TAI
After washing the mold, put it in an oxidation container and perform oxidation.
When i = 3 A, the voltage starts to rise and reaches 100 V, light of a small arc discharge is generated on the surface. Oxidation time to 15 minutes,
Then, the voltage is controlled to 150V. Thereafter, the current is reduced and the power is turned off. Remove components and rinse. After drying, the color of the sample membrane is gray. By measurement, the film thickness is 15μm
It is. Cass test is 9th grade.

実施例5 100kgの蒸留水を酸化用容器中に入れ、3.5kgの(NaPO
3を添加し、完全に溶解した後、1000mlのH2SiF6
1.5kgのNa2B4O7・7H2O、0.5kgのNa2WO4・2H2Oおよび0.2
kg/lのKFを加え、完全に溶解した後、24時間放置し、次
の工程に供する。150×100×10mmの純粋なアルミニウム
板を洗浄し、取り付け具で固定し、酸化用容器中に入
れ、処理を行う。電流は15Aであり、電圧が徐々に上昇
し、100Vに達する時に、プラズマアーク放電が発生す
る。電圧の上昇が極めて遅く、時間を20分間に、最終の
電圧を180Vに制御する。その後、電流を下げ、電源を切
断し、部材を取り出す。濯ぎ、乾燥を経た後、完成品と
なる。測定により、膜の厚さは50〜70μmであり、噴砂
耐摩耗時間が720〜800秒、ビッカース硬度が900〜1300H
V(0.098N)である。部材との結合強度は、25.6〜35.0k
g/mm2である。
Example 5 100 kg of distilled water was placed in an oxidation vessel, and 3.5 kg of (NaPO
3 ) After adding 6 and completely dissolving, 1000 ml of H 2 SiF 6 ,
1.5kg of Na 2 B 4 O 7 · 7H 2 O, 0.5kg of Na 2 WO 4 · 2H 2 O and 0.2
After adding kg / l of KF and completely dissolving, the mixture is left for 24 hours and subjected to the next step. A pure aluminum plate of 150 x 100 x 10 mm is washed, fixed with fixtures, placed in an oxidation vessel and processed. The current is 15A, and when the voltage gradually increases and reaches 100V, plasma arc discharge occurs. The voltage rises very slowly, controlling the time to 20 minutes and the final voltage to 180V. Thereafter, the current is reduced, the power is turned off, and the members are taken out. After rinsing and drying, it becomes a finished product. According to the measurement, the thickness of the film is 50-70 μm, the blast sand wear time is 720-800 seconds, and the Vickers hardness is 900-1300H
V (0.098N). The coupling strength with the member is 25.6-35.0k
a g / mm 2.

以上の手順は、単に実施例として記載するが、いかな
る意味においても本発明を限定する意図はない。当業者
は、本発明に対して種々の改変または変更が行われ得る
が、本発明の実質的な内容および請求項の保護範囲を逸
脱しない。
The above procedure is described by way of example only, but is not intended to limit the invention in any way. Those skilled in the art can make various modifications or changes to the present invention without departing from the substantial content of the present invention and the protection scope of the claims.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−195295(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C25D 11/02 C25D 11/06 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-63-195295 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C25D 11/02 C25D 11/06

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】金属部材表面のセラミックス化方法であっ
て、該方法は、電解質溶液中において、電気エネルギー
を通じて、陽極としての金属部材の表面にプラズマアー
ク放電させ、電気化学的陽極酸化を行い、セラミックス
構造の膜を形成する工程、および該部材を、該酸化処理
の前に洗浄し、そして該酸化処理後に濯ぎ、仕上げ処理
する工程を包含し、 ここで、該電解質溶液は、主として、10〜50g/lの六メ
タリン酸ナトリウム、5〜20g/lのホウ酸および/また
は硼砂を含有し、さらに正リン酸ナトリウム、硫酸ナト
リウム、ケイ酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウ
ム、メタバナジン酸ナトリウム、クロム酸ナトリウム、
タングステン酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸ニッケ
ル、硫酸鉄、硫酸マンガン、および硫酸クロムの酸素含
有塩からなる群から選択される少なくとも1つ、ならび
に必要に応じて、カルシウム、亜鉛、コバルトおよびニ
ッケルの酢酸塩、フルオロケイ酸、フッ化カリウム、お
よびエチレンジアミン四酢酸からなる群から選択された
添加剤を含有し;そして 該アーク放電の電圧は、100〜400Vであり、電流密度
は、0.5〜20A/dm2であり、そして電解質溶液の温度は、
10〜50℃である。
1. A method for forming a ceramic on a surface of a metal member, the method comprising, in an electrolyte solution, performing a plasma arc discharge on a surface of the metal member as an anode through electric energy to perform electrochemical anodization; A step of forming a film having a ceramic structure, and a step of washing the member before the oxidation treatment, rinsing after the oxidation treatment, and finishing, wherein the electrolyte solution mainly includes 10 to 10 parts. It contains 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5-20 g / l boric acid and / or borax, and further contains sodium orthophosphate, sodium sulfate, sodium silicate, ammonium metavanadate, sodium metavanadate, sodium chromate,
At least one selected from the group consisting of oxygen-containing salts of sodium tungstate, cobalt sulfate, nickel sulfate, iron sulfate, manganese sulfate, and chromium sulfate, and optionally, calcium, zinc, cobalt and nickel acetate , fluorosilicic acid, potassium fluoride, and contains an additive selected from the group consisting of ethylenediaminetetraacetic acid; and the voltage of the arc discharge is 100 to 400, current density, 0.5~20A / dm 2 And the temperature of the electrolyte solution is
10-50 ° C.
【請求項2】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、10〜30g/lのリン酸ナトリウ
ム、5〜20g/lの硼砂、0.1〜5g/lの酢酸カルシウム、0.
1〜10g/lのケイ酸ナトリウム、0.1〜12g/lの酢酸亜鉛、
5〜10g/lの硫酸ナトリウムおよび5〜20g/lのホウ酸で
あり;pHが4.0〜10.5であり;そしてアーク放電の電圧が
100〜400Vである、請求項1に記載の方法。
2. The composition of the electrolyte solution comprises 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 10 to 30 g / l sodium phosphate, 5 to 20 g / l borax, 0.1 to 5 g / l calcium acetate, 0.
1-10 g / l sodium silicate, 0.1-12 g / l zinc acetate,
5-10 g / l sodium sulphate and 5-20 g / l boric acid; pH between 4.0 and 10.5;
2. The method according to claim 1, wherein the voltage is between 100 and 400V.
【請求項3】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、5〜20g/lのホウ酸、1〜6g/l
のエチレンジアミン四酢酸、5〜10g/lの硫酸ナトリウ
ム、5〜15g/lのリン酸ナトリウム、5〜20g/lの硫酸コ
バルト、1〜10g/lの硫酸ニッケル、および10〜20g/lの
酢酸コバルトであり;pHが4.0〜6であり;そしてアーク
放電の電圧が150〜300Vである、請求項1に記載の方
法。
3. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5 to 20 g / l boric acid, 1 to 6 g / l.
Ethylenediaminetetraacetic acid, 5-10 g / l sodium sulfate, 5-15 g / l sodium phosphate, 5-20 g / l cobalt sulfate, 1-10 g / l nickel sulfate, and 10-20 g / l acetic acid 2. The method of claim 1, wherein the pH is 4.0-6; and the voltage of the arc discharge is 150-300V.
【請求項4】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、5〜10g/lのリン酸ナトリウ
ム、5〜10g/lのホウ酸、2〜15g/lの酢酸ニッケル、5
〜10g/lの硫酸ナトリウム、5〜10g/lの硼砂、2〜10g/
lの硫酸鉄、1〜6g/lのエチレンジアミン四酢酸、およ
び2〜10g/lの硫酸マンガンであり;そしてアーク放電
の電圧が125〜350Vである、請求項1に記載の方法。
4. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5 to 10 g / l sodium phosphate, 5 to 10 g / l boric acid, 2 to 15 g / l nickel acetate. , 5
~ 10 g / l sodium sulfate, 5-10 g / l borax, 2-10 g / l
2. The method according to claim 1, wherein 1 l of iron sulphate, 1 to 6 g / l of ethylenediaminetetraacetic acid and 2 to 10 g / l of manganese sulphate; and the voltage of the arc discharge is 125 to 350 V.
【請求項5】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、5〜20g/lの硼砂、10〜30g/lの
リン酸ナトリウム、0.5〜10g/lのケイ酸ナトリウム、0.
1〜12g/lの酢酸亜鉛、および5〜20g/lの硫酸マンガン
であり;そしてアーク放電の電圧が150〜350Vである、
請求項1に記載の方法。
5. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5 to 20 g / l borax, 10 to 30 g / l sodium phosphate, 0.5 to 10 g / l sodium silicate. , 0.
1 to 12 g / l zinc acetate, and 5 to 20 g / l manganese sulfate; and the arc discharge voltage is 150 to 350 V,
The method of claim 1.
【請求項6】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、5〜10g/lの硼砂、2〜10g/lの
メタバナジン酸アンモニウム、2〜10g/lのメタバナジ
ン酸ナトリウム、および5〜10g/lの硫酸ナトリウムで
あり;pHが3〜6であり;そしてアーク放電の電圧が150
〜350Vである、請求項1に記載の方法。
6. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5 to 10 g / l borax, 2 to 10 g / l ammonium metavanadate, 2 to 10 g / l sodium metavanadate. And 5-10 g / l sodium sulfate; the pH is 3-6; and the arc discharge voltage is 150
The method of claim 1, wherein the voltage is ~ 350V.
【請求項7】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、5〜10g/lの硼砂、2〜7g/lの
メタバナジン酸アンモニウム、2〜7g/lのメタバナジン
酸ナトリウム、5〜15g/lの酢酸ニッケル、1〜5g/lの
硫酸マンガン、および5〜10g/lのホウ酸であり;pHが3
〜7であり;そしてアーク放電の電圧が150〜300Vであ
る、請求項1に記載の方法。
7. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 5 to 10 g / l borax, 2 to 7 g / l ammonium metavanadate, 2 to 7 g / l sodium metavanadate. 5-15 g / l nickel acetate, 1-5 g / l manganese sulphate, and 5-10 g / l boric acid;
The method of claim 1, wherein the voltage of the arc discharge is 150-300V.
【請求項8】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、10〜15g/lの硼砂、10〜15g/lの
リン酸ナトリウム、1〜10g/lのメタバナジン酸アンモ
ニウム、および2〜10g/lのクロム酸ナトリウムであ
り;そしてアーク放電の電圧が150〜350Vである、請求
項1に記載の方法。
8. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 10 to 15 g / l borax, 10 to 15 g / l sodium phosphate, 1 to 10 g / l ammonium metavanadate. And the voltage of the arc discharge is 150-350V. And the method of claim 1, wherein the voltage of the arc discharge is 150-350V.
【請求項9】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの六
メタリン酸ナトリウム、10〜50g/lの硼砂、5〜10g/lの
硫酸ナトリウム、10〜15g/lのリン酸ナトリウム、2〜1
5g/lの硫酸コバルト、2〜15g/lの硫酸クロム、2〜10g
/lの酢酸コバルト、2〜10g/lの酢酸ニッケル、および
2〜10g/lのメタバナジン酸アンモニウムであり;そし
てアーク放電の電圧が125〜350Vである、請求項1に記
載の方法。
9. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 10 to 50 g / l borax, 5 to 10 g / l sodium sulfate, 10 to 15 g / l sodium phosphate, 2 to 1
5 g / l cobalt sulfate, 2-15 g / l chromium sulfate, 2-10 g
2. The method of claim 1, wherein the arc discharge voltage is 125 to 350 V, wherein the volume of the arc discharge is 125 to 350 V./l cobalt acetate, 2 to 10 g / l nickel acetate, and 2 to 10 g / l ammonium metavanadate.
【請求項10】前記電解質溶液の組成が、10〜50g/lの
六メタリン酸ナトリウム、2〜20ml/lのフルオロケイ
酸、1〜10g/lのフッ化カリウム、7〜20g/lの硼砂、お
よび1〜20g/lのタングステン酸ナトリウムであり;そ
してアーク放電の電圧が100〜200Vである、請求項1に
記載の方法。
10. The composition of the electrolyte solution is 10 to 50 g / l sodium hexametaphosphate, 2 to 20 ml / l fluorosilicic acid, 1 to 10 g / l potassium fluoride, 7 to 20 g / l borax. And the voltage of the arc discharge is 100-200V.
【請求項11】前記酸化工程において、前記電解質溶液
を激しく均一に撹拌する、請求項1〜10に記載の方法。
11. The method according to claim 1, wherein in the oxidizing step, the electrolyte solution is vigorously and uniformly stirred.
【請求項12】前記酸化工程において、前記電解質溶液
を激しく均一に撹拌し、次いで撹拌を停止させ、そして
急に再撹拌を行うか、または前記部材を該溶液中で移動
させる、請求項1〜10に記載の方法。
12. The method of claim 1, wherein in the oxidizing step, the electrolyte solution is vigorously and uniformly stirred, and then the stirring is stopped and re-stirring is performed suddenly or the member is moved in the solution. The method according to 10.
【請求項13】請求項1〜12に記載の方法により得られ
た製品。
13. A product obtained by the method according to claim 1.
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