JP2936655B2 - 真空炉 - Google Patents
真空炉Info
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- JP2936655B2 JP2936655B2 JP16249490A JP16249490A JP2936655B2 JP 2936655 B2 JP2936655 B2 JP 2936655B2 JP 16249490 A JP16249490 A JP 16249490A JP 16249490 A JP16249490 A JP 16249490A JP 2936655 B2 JP2936655 B2 JP 2936655B2
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- Japan
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- processed
- heater
- insulating wall
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は種々の被処理材に焼入や焼戻或いは焼結、
焼成などの熱処理を施す為に用いられる真空炉に関す
る。
焼成などの熱処理を施す為に用いられる真空炉に関す
る。
［従来の技術］ この種の炉においては、例えば真空容器内において被
処理材の存置空間の近くにヒータが配置され、そのヒー
タからの熱によって被処理材が加熱される。
処理材の存置空間の近くにヒータが配置され、そのヒー
タからの熱によって被処理材が加熱される。
［発明が解決しようとする課題］ このような従来の真空炉では、被処理材において例え
ばヒータに近くてそれから直接に多くの熱を受ける箇所
は温度が高くなり、一方ヒータから遠くて上記直接的な
受熱の量が少ない箇所は比較的温度が低くなり、被処理
材の各所に温度差ができてしまう問題点があった。
ばヒータに近くてそれから直接に多くの熱を受ける箇所
は温度が高くなり、一方ヒータから遠くて上記直接的な
受熱の量が少ない箇所は比較的温度が低くなり、被処理
材の各所に温度差ができてしまう問題点があった。
本発明は上記従来技術の問題点（技術的課題）を解決
する為になされたもので、被処理材の一部において、ヒ
ータから直接的に受ける熱量が少ない場所に対しては、
反射体により反射した熱を補うようにして、被処理材全
体の温度分布を均一化させうるようにした真空炉を提供
することを目的とする。
する為になされたもので、被処理材の一部において、ヒ
ータから直接的に受ける熱量が少ない場所に対しては、
反射体により反射した熱を補うようにして、被処理材全
体の温度分布を均一化させうるようにした真空炉を提供
することを目的とする。
［課題を解決する為の手段］ 本願発明の真空炉は、内部に被処理材を存置空間を有
する真空容器内においては、上記存置空間の周囲を囲う
断熱壁が設けられ、上記断熱壁の内部においては、上記
存置空間に存置空間に存置される被処理材を加熱する為
のヒータが備えられている真空炉において、上記存置さ
れる被処理材のうち上記ヒータからの直接的な受熱量が
少ない箇所に対向する断熱壁の内面には、上記被処理材
の受熱量が少ない箇所に熱を反射することによって上記
被処理材を加熱する為に低輻射率の材料で形成された反
射体を添設したものである。
する真空容器内においては、上記存置空間の周囲を囲う
断熱壁が設けられ、上記断熱壁の内部においては、上記
存置空間に存置空間に存置される被処理材を加熱する為
のヒータが備えられている真空炉において、上記存置さ
れる被処理材のうち上記ヒータからの直接的な受熱量が
少ない箇所に対向する断熱壁の内面には、上記被処理材
の受熱量が少ない箇所に熱を反射することによって上記
被処理材を加熱する為に低輻射率の材料で形成された反
射体を添設したものである。
［作用］ ヒータの発熱によって被処理材に熱が与えられるこの
場合、被処理材においてヒータからの直接的な受熱量が
大きい部分はその熱によって充分に加熱される。一方上
記直接的な受熱量が少ない部分はヒータからの熱に加え
て反射体で反射された熱をも受け、その部分も充分に加
熱される。その結果、被処理材はその全体が均一な温度
分布の状態に加熱される。
場合、被処理材においてヒータからの直接的な受熱量が
大きい部分はその熱によって充分に加熱される。一方上
記直接的な受熱量が少ない部分はヒータからの熱に加え
て反射体で反射された熱をも受け、その部分も充分に加
熱される。その結果、被処理材はその全体が均一な温度
分布の状態に加熱される。
［実施例］ 以下本願の実施例を示す図面について説明する。第１
図において、１は真空炉を示す。２は真空容器で、本体
３とその本体３の出入口に設けた扉４とから構成してあ
る。５は断熱壁で、本体６とその本体６の出入口に設け
た扉７とから構成され、その内側の空間が熱処理室８と
なっている。10は熱処理室８内に設けられた載置台で、
その上側の空間が被処理材の存置空間11となっている。
12は上記存置空間11の周囲に配設されたヒータで、断熱
壁に取付けてある。次に第２図に示される13は反射体
で、低輻射率の材料で形成された板体、例えば磨きステ
ンレス板（厚みは例えば1.6mm）が用いてあり（その他
の低輻射率の材料としては例えばモリブデンがある）、
上記断熱壁５における扉７の外面に添設してある。その
添設の状態は、例えば図示の如く、断熱壁５とそれ支え
る周知の枠体14との間に挟み込んである（扉７に貼り付
けても良い）。この反射体13は、上記存置空間11のうち
上記ヒータ12からの直接的な受熱量が少ない箇所と対向
する部分における断熱壁、例えば図示の如くヒータ12が
設けられていない側の断面壁に添設される。添設する面
は、第２図の如く外面のみならずそれの内面にも設け
る。又は内面だけであっても良い。次に15は被処理材の
周知の冷却構造を示し、以下これについて説明する。16
はクーラ、17は冷却ファンで、ファンモータ18によって
運転されるようになっている。19はモータカバーで、真
空保持用のものである。20,21は夫々整流板、22,23は上
下流切替用のダンパーである。このような冷却構造15に
あっては、ダンパー22,23が図示の如き状態においてク
ーラ16及びファン17を運転することにより、冷却用のガ
スが実線矢印の如き経路で循環し、存置空間11に置かれ
た被処理材が冷却される。尚ダンパー22,23を切り替え
ることにより、冷却用のガスを存置空間11に下から上へ
向けて流して被処理材の冷却を行うこともできる。
図において、１は真空炉を示す。２は真空容器で、本体
３とその本体３の出入口に設けた扉４とから構成してあ
る。５は断熱壁で、本体６とその本体６の出入口に設け
た扉７とから構成され、その内側の空間が熱処理室８と
なっている。10は熱処理室８内に設けられた載置台で、
その上側の空間が被処理材の存置空間11となっている。
12は上記存置空間11の周囲に配設されたヒータで、断熱
壁に取付けてある。次に第２図に示される13は反射体
で、低輻射率の材料で形成された板体、例えば磨きステ
ンレス板（厚みは例えば1.6mm）が用いてあり（その他
の低輻射率の材料としては例えばモリブデンがある）、
上記断熱壁５における扉７の外面に添設してある。その
添設の状態は、例えば図示の如く、断熱壁５とそれ支え
る周知の枠体14との間に挟み込んである（扉７に貼り付
けても良い）。この反射体13は、上記存置空間11のうち
上記ヒータ12からの直接的な受熱量が少ない箇所と対向
する部分における断熱壁、例えば図示の如くヒータ12が
設けられていない側の断面壁に添設される。添設する面
は、第２図の如く外面のみならずそれの内面にも設け
る。又は内面だけであっても良い。次に15は被処理材の
周知の冷却構造を示し、以下これについて説明する。16
はクーラ、17は冷却ファンで、ファンモータ18によって
運転されるようになっている。19はモータカバーで、真
空保持用のものである。20,21は夫々整流板、22,23は上
下流切替用のダンパーである。このような冷却構造15に
あっては、ダンパー22,23が図示の如き状態においてク
ーラ16及びファン17を運転することにより、冷却用のガ
スが実線矢印の如き経路で循環し、存置空間11に置かれ
た被処理材が冷却される。尚ダンパー22,23を切り替え
ることにより、冷却用のガスを存置空間11に下から上へ
向けて流して被処理材の冷却を行うこともできる。
次に上記真空炉の用いた被処理材の熱処理を説明す
る。扉4,7が開けられ、被処理材31が載置台10の上に乗
せられる。載置状態は、大きな被処理材31はそのまま、
小さなものは例えば棚に積んだ状態である。次に扉4,7
が閉じられ、真空容器２内が真空排気され、ヒータ12へ
の通電によってそれが発熱され、そのヒータ12からの主
として輻射伝熱によって被処理材31が加熱される。
る。扉4,7が開けられ、被処理材31が載置台10の上に乗
せられる。載置状態は、大きな被処理材31はそのまま、
小さなものは例えば棚に積んだ状態である。次に扉4,7
が閉じられ、真空容器２内が真空排気され、ヒータ12へ
の通電によってそれが発熱され、そのヒータ12からの主
として輻射伝熱によって被処理材31が加熱される。
上記加熱の場合、被処理材31においてヒータ12と直に
対向している箇所はそのヒータ12から直接的に受ける熱
量が多く充分に加熱される。一方ヒータ12と直に対向し
ていない箇所例えば扉７の側は、ヒータ12から直接的に
受ける熱量が少ない。しかしその側においては、反射体
13が断熱壁５の外に逃げようとする熱を断熱壁５の側に
反射する。その結果その部分の断熱壁５の温度は充分に
高く保たれ、断熱壁５による抜熱が防止される。このよ
うな反射体13の存在により熱処理室８における処理室有
効寸法内の温度分布が改善されている為、被処理材31は
その全体が均一な温度分布の状態で加熱される。
対向している箇所はそのヒータ12から直接的に受ける熱
量が多く充分に加熱される。一方ヒータ12と直に対向し
ていない箇所例えば扉７の側は、ヒータ12から直接的に
受ける熱量が少ない。しかしその側においては、反射体
13が断熱壁５の外に逃げようとする熱を断熱壁５の側に
反射する。その結果その部分の断熱壁５の温度は充分に
高く保たれ、断熱壁５による抜熱が防止される。このよ
うな反射体13の存在により熱処理室８における処理室有
効寸法内の温度分布が改善されている為、被処理材31は
その全体が均一な温度分布の状態で加熱される。
上記のようにして被処理材31に所定の加熱が施された
ならば、ヒータへの通電が停止され、冷却用のガスが真
空容器２内に導入され、クーラ16やファン17が前述のよ
うに運転されて、被処理材31の冷却が行われる。
ならば、ヒータへの通電が停止され、冷却用のガスが真
空容器２内に導入され、クーラ16やファン17が前述のよ
うに運転されて、被処理材31の冷却が行われる。
そして冷却が終了すると、扉4,7が開かれて熱処理を
終えた被処理材31が取り出される。
終えた被処理材31が取り出される。
尚上記の如き反射体13が用いてない場合と用いた場合
とにおいて夫々加熱時の温度分布幅を実測したところ、
用いていない場合には10℃であったものが、用いた場合
には5.5℃改善された。
とにおいて夫々加熱時の温度分布幅を実測したところ、
用いていない場合には10℃であったものが、用いた場合
には5.5℃改善された。
次、第３図は本願の異なる実施例を示すもので、断熱
壁5eで囲まれた内部の空間に搬送用のロールが備えられ
ている例を示すものである。図において、21は搬送用の
ロールで、被処理材31eを紙面と垂直な方向に搬送する
為のものであり、真空容器2eの外に設けられる回動装置
によって回動されるようになっている。該ロール21は断
熱壁5e内部の空間の高熱に耐えられるように周知の如く
水冷の構造となっている。該ロール21は被処理材を受け
る為の例えば黒鉛製の環状の受部材22を有しており、そ
れ以外の部分23は断熱材によって覆われていると共にそ
の外側を前述の如き低輻射率の材料で形成された板状の
反射体で覆われている。
壁5eで囲まれた内部の空間に搬送用のロールが備えられ
ている例を示すものである。図において、21は搬送用の
ロールで、被処理材31eを紙面と垂直な方向に搬送する
為のものであり、真空容器2eの外に設けられる回動装置
によって回動されるようになっている。該ロール21は断
熱壁5e内部の空間の高熱に耐えられるように周知の如く
水冷の構造となっている。該ロール21は被処理材を受け
る為の例えば黒鉛製の環状の受部材22を有しており、そ
れ以外の部分23は断熱材によって覆われていると共にそ
の外側を前述の如き低輻射率の材料で形成された板状の
反射体で覆われている。
このような構成のものにあっては、被処理材31eの加
熱時に、上記反射体は上記ロール21が被処理材31eから
抜熱することを阻止する。その上、反射効果により被処
理材31eのロール21の側を加熱し、その結果被処理材の
均一加熱が可能となる。
熱時に、上記反射体は上記ロール21が被処理材31eから
抜熱することを阻止する。その上、反射効果により被処
理材31eのロール21の側を加熱し、その結果被処理材の
均一加熱が可能となる。
なお、機能上前図のものと同一又は均等構成と考えら
れる部分には、前図と同一の符号にアルファベットのｅ
を付して重複する説明を省略した。
れる部分には、前図と同一の符号にアルファベットのｅ
を付して重複する説明を省略した。
［発明の効果］ 以上のように本発明にあっては、ヒータ12の発熱によ
って被処理材31を加熱できるは勿論のこと、 その加熱の場合、被処理材31においてヒータ12からの
直接的な受熱量が大きい部分はその熱によって充分に加
熱でき、一方上記直接的な受熱量が少ない部分はヒータ
12からの熱に加えて反射体13で反射された熱をも受ける
ことができてその部分も充分に加熱することができ、被
処理材31をその全体が均一な温度分布の状態で加熱でき
る効果がある。
って被処理材31を加熱できるは勿論のこと、 その加熱の場合、被処理材31においてヒータ12からの
直接的な受熱量が大きい部分はその熱によって充分に加
熱でき、一方上記直接的な受熱量が少ない部分はヒータ
12からの熱に加えて反射体13で反射された熱をも受ける
ことができてその部分も充分に加熱することができ、被
処理材31をその全体が均一な温度分布の状態で加熱でき
る効果がある。
しかも上記反射体13は単に熱を反射するだけのもので
あるから、ヒータ12の取付に困難を伴うようなところ、
例えば扉７のような可動部にも付設でき、被処理材31に
おけるヒータ12からの受熱量の少ない部分でも加熱でき
るという使用場所の任意性がある。
あるから、ヒータ12の取付に困難を伴うようなところ、
例えば扉７のような可動部にも付設でき、被処理材31に
おけるヒータ12からの受熱量の少ない部分でも加熱でき
るという使用場所の任意性がある。
その上、搬送用のロールを低輻射率の材料で形成され
た抜熱防止用の反射体で囲んだことにより、ロール21側
からの反射効果により被処理材31eのロール21の側を加
熱し、その結果被処理材の均一加熱が可能となる効果も
ある。
た抜熱防止用の反射体で囲んだことにより、ロール21側
からの反射効果により被処理材31eのロール21の側を加
熱し、その結果被処理材の均一加熱が可能となる効果も
ある。
図面は本願の実施例を示すもので、第１図は真空炉の縦
断面図、第２図は第１図の要部拡大図、第３図は異なる
実施例を示す縦断面図。 ２……真空容器、５……断熱壁、11……存置空間、12…
…ヒータ、13……反射体。
断面図、第２図は第１図の要部拡大図、第３図は異なる
実施例を示す縦断面図。 ２……真空容器、５……断熱壁、11……存置空間、12…
…ヒータ、13……反射体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C21D 1/773 B22F 3/10 F27B 5/04,9/04,14/04 F27D 7/06,11/02
Claims (2)
- 【請求項１】内部に被処理材の存置空間を有する真空容
器内においては、上記存置空間の周囲を囲う断熱壁が設
けられ、上記断熱壁の内部においては、上記存置空間に
存置される被処理材を加熱する為のヒータが備えられて
いる真空炉において、上記存置空間に存置される被処理
材のうち上記ヒータからの直接的な受熱量が少ない箇所
に対向する断熱壁の内面には、上記被処理材の受熱量が
少ない箇所に熱を反射することによって上記被処理材を
加熱する為に低輻射率の材料で形成された反射体を添設
したことを特徴とする真空炉。 - 【請求項２】内部に被処理材の存置空間を有する真空容
器内においては、上記存置空間の周囲を囲う断熱壁が設
けられ、上記断熱壁の内部においては、上記存置空間に
存置される被処理材を加熱する為のヒータと、被処理材
搬送用のロールとが備えられている真空炉において、上
記搬送用のロールを低輻射率の材料で形成された抜熱防
止用の反射体で囲んだことを特徴とする真空炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16249490A JP2936655B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 真空炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16249490A JP2936655B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 真空炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0452217A JPH0452217A (ja) | 1992-02-20 |
| JP2936655B2 true JP2936655B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=15755690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16249490A Expired - Lifetime JP2936655B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 真空炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2936655B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009052900A1 (de) * | 2009-11-13 | 2011-05-19 | Ipsen International Gmbh | Verfahren und Einrichtung zur Leitung der Strömumg in Industrieöfen für die Wärmebehandlung von metallischen Werkstoffen/Werkstücken |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5021310B2 (ja) | 2003-10-20 | 2012-09-05 | キャボット コーポレイション | インクジェット・インクおよびそれらを調製する方法 |
-
1990
- 1990-06-20 JP JP16249490A patent/JP2936655B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5021310B2 (ja) | 2003-10-20 | 2012-09-05 | キャボット コーポレイション | インクジェット・インクおよびそれらを調製する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0452217A (ja) | 1992-02-20 |
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