JP2934367B2 - 光ファイバ用プレフォームの製造方法 - Google Patents
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
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- C03B2201/80—Non-oxide glasses or glass-type compositions
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S65/15—Nonoxygen containing chalogenides
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＺＢＬＡＮ又は
ＢＩＺＹＴのようなフッ素ガラスをベースとした、光通
信で使用するための超透明（ｕｌｔｒａｔｒａｎｓｐａ
ｒｅｎｔ）又は増幅用光ファイバのプレフォームの製造
方法に関する。ＺＢＬＡＮ及びＢＩＺＹＴは、赤外線を
良く伝達させるフッ素ガラスの構成材料（フッ素化合
物）として知られており、ＺＢＬＡＮは、ＺｒＦ 4 ，Ｂ
ａＦ 2 ，ＬａＦ 3 ，ＡｌＦ 3 ，ＮａＦの混合物を意味し、
また、ＢＩＺＹＴはＢａＦ 2 ，ＩｎＦ 3 ，ＺｎＦ 2 ，Ｙｂ
Ｆ 3 ，ＴｈＦ 4 の混合物を意味する。
ＢＩＺＹＴのようなフッ素ガラスをベースとした、光通
信で使用するための超透明（ｕｌｔｒａｔｒａｎｓｐａ
ｒｅｎｔ）又は増幅用光ファイバのプレフォームの製造
方法に関する。ＺＢＬＡＮ及びＢＩＺＹＴは、赤外線を
良く伝達させるフッ素ガラスの構成材料（フッ素化合
物）として知られており、ＺＢＬＡＮは、ＺｒＦ 4 ，Ｂ
ａＦ 2 ，ＬａＦ 3 ，ＡｌＦ 3 ，ＮａＦの混合物を意味し、
また、ＢＩＺＹＴはＢａＦ 2 ，ＩｎＦ 3 ，ＺｎＦ 2 ，Ｙｂ
Ｆ 3 ，ＴｈＦ 4 の混合物を意味する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】前述の
光ファイバは現時点では、距離１１０メートル、信号波
長１．５５μｍで０．６５ｄＢ／ｋｍの減衰率を有す
る。目的は、減衰率の理論値を数十キロメートル、更に
は数百キロメートルの距離で０．０１〜０．０２ｄＢ／
ｋｍに近付けることである。
光ファイバは現時点では、距離１１０メートル、信号波
長１．５５μｍで０．６５ｄＢ／ｋｍの減衰率を有す
る。目的は、減衰率の理論値を数十キロメートル、更に
は数百キロメートルの距離で０．０１〜０．０２ｄＢ／
ｋｍに近付けることである。
【０００３】現在の減衰率の測定値が高い原因は主に、
出発材料の調製時か、又はファイバの光学的コアもしく
はクラッドを構成することになるガラスの製造時に導入
される外因性欠陥にある。
出発材料の調製時か、又はファイバの光学的コアもしく
はクラッドを構成することになるガラスの製造時に導入
される外因性欠陥にある。
【０００４】一般的なガラス製造方法は主として、るつ
ぼ内の溶融浴の技術に基礎をおいている。
ぼ内の溶融浴の技術に基礎をおいている。
【０００５】使用するフッ化物は反応性を有するため、
ガラスをるつぼで製造すると、好ましくない結果をもた
らす下記のような２つの現象が生じる： − るつぼに由来する吸収性且つ拡散性の不純物がガラ
ス中に取り込まれる。
ガラスをるつぼで製造すると、好ましくない結果をもた
らす下記のような２つの現象が生じる： − るつぼに由来する吸収性且つ拡散性の不純物がガラ
ス中に取り込まれる。
【０００６】− るつぼの壁とガラスとの間の化学反応
に起因して不均一な核形成が促進され、最終的には、強
力な拡散源である大きいクリスタライト（典型的大きさ
は約１μｍ）がガラス中に形成される。
に起因して不均一な核形成が促進され、最終的には、強
力な拡散源である大きいクリスタライト（典型的大きさ
は約１μｍ）がガラス中に形成される。
【０００７】このような製造「欠陥」があると、製造さ
れる光ファイバの減衰率が計算上の限界値から著しくか
け離れる。
れる光ファイバの減衰率が計算上の限界値から著しくか
け離れる。
【０００８】溶融浴の使用を回避するために、フッ素ガ
ラスからなる光ファイバのプレフォームの製造では、支
持管内に堆積物を形成するゾル−ゲル技術が提案され
た。この技術は、前述のガラスを構成する金属のβ−ジ
セトンをベースとする有機錯体である炭素含有前駆体の
使用に基づくものである。これについては、Ｐ．Ｊ．Ｍ
ｅｌｌｉｎｇ及びＭ．Ａ．Ｔｈｏｍｓｏｎの論文“ｓｏ
ｌ−ｇｅｌ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏ ｏｆ ａｍｏｒｐ
ｈｏｕｓ ＺＢＬＡ ｈｅａｖｙ ｍｅｔａｌｆｌｕｏ
ｒｉｄ ｐｏｗｄｅｒｓ”，Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．
ｖｏｌ．５，Ｎｏ．５（１９９０）１０９２並びにＤ．
Ｒ．Ｕｌｒｉｃｈ，ＮＡＴＯ ＡＳＩ，Ｓｃｉ，Ｓｅ
ｒ．Ｅ１２３（１９８７），３８５を参照されたい。
ラスからなる光ファイバのプレフォームの製造では、支
持管内に堆積物を形成するゾル−ゲル技術が提案され
た。この技術は、前述のガラスを構成する金属のβ−ジ
セトンをベースとする有機錯体である炭素含有前駆体の
使用に基づくものである。これについては、Ｐ．Ｊ．Ｍ
ｅｌｌｉｎｇ及びＭ．Ａ．Ｔｈｏｍｓｏｎの論文“ｓｏ
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ｒｉｄ ｐｏｗｄｅｒｓ”，Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．
ｖｏｌ．５，Ｎｏ．５（１９９０）１０９２並びにＤ．
Ｒ．Ｕｌｒｉｃｈ，ＮＡＴＯ ＡＳＩ，Ｓｃｉ，Ｓｅ
ｒ．Ｅ１２３（１９８７），３８５を参照されたい。
【０００９】前述の方法では所望の改善は得られない。
その主な理由は、前駆体に由来する炭素及び酸素を完全
に除去しなければならないという問題にある。
その主な理由は、前駆体に由来する炭素及び酸素を完全
に除去しなければならないという問題にある。
【００１０】蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ＣＶＤ）によって支持管内に堆
積物を形成する方法も知られているが、この方法はやは
り酸素炭素含有前駆体を使用するため、前述の方法と同
様に炭素及び酸素の除去という問題を伴う。この種の方
法は下記の文献に記載されている： − “Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ Ｚｒ
Ｆ４−ｂａｓｅｄ ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｇｌａｓｓｅ
ｓ”，Ｋ．Ｆｕｊｉｕｒａ，Ｙ．Ｏ Ｋｉｓｈｉ，Ｓ．
Ｔａｋａｈａｓｈｉ，Ｊｐｎ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．２
８−１（１９８９）。
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ＣＶＤ）によって支持管内に堆
積物を形成する方法も知られているが、この方法はやは
り酸素炭素含有前駆体を使用するため、前述の方法と同
様に炭素及び酸素の除去という問題を伴う。この種の方
法は下記の文献に記載されている： − “Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ Ｚｒ
Ｆ４−ｂａｓｅｄ ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｇｌａｓｓｅ
ｓ”，Ｋ．Ｆｕｊｉｕｒａ，Ｙ．Ｏ Ｋｉｓｈｉ，Ｓ．
Ｔａｋａｈａｓｈｉ，Ｊｐｎ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．２
８−１（１９８９）。
【００１１】− “Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄ
ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ＺｒＦ４ ｂａｓｅｄ
ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｇｌａｓｓ ｆｉｌｍｓ ｂｙ ｐ
ｌａｓｍａ ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖ
ａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ”，Ｋ．Ｆｕｊｉｕ
ｒａ，Ｙ．Ｎｉｓｈｉｄａ，Ｋ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ及
びＳ．Ｔａｋａｈａｓｈｉ，Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．ｐ
ｈｙｓ．３０−８Ｂ（１９９１）Ｌ１４９８。
ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ＺｒＦ４ ｂａｓｅｄ
ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｇｌａｓｓ ｆｉｌｍｓ ｂｙ ｐ
ｌａｓｍａ ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖ
ａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ”，Ｋ．Ｆｕｊｉｕ
ｒａ，Ｙ．Ｎｉｓｈｉｄａ，Ｋ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ及
びＳ．Ｔａｋａｈａｓｈｉ，Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．ｐ
ｈｙｓ．３０−８Ｂ（１９９１）Ｌ１４９８。
【００１２】本発明の目的は、るつぼを使用せず、炭素
含有前駆体の問題を伴わずに、フッ素ガラス製光ファイ
バ用プレフォームを製造することにある。
含有前駆体の問題を伴わずに、フッ素ガラス製光ファイ
バ用プレフォームを製造することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数のガラス
層を支持管内に堆積させることからなる光ファイバ用プ
レフォームの製造方法であって、前記層がフッ素ガラス
をベースとし、前記層を、調節雰囲気下で、前記ガラス
の組成を有し前記管の軸線と平行に往復移動する標的か
らレーザ融蝕によって堆積させ、前記融蝕が行われるス
ペース内の温度を前記ガラスのガラス転移温度Ｔｇ以下
とし、レーザからの放射を２００〜３００ナノメートル
の範囲の紫外線で行うことを特徴とする方法を提供す
る。
層を支持管内に堆積させることからなる光ファイバ用プ
レフォームの製造方法であって、前記層がフッ素ガラス
をベースとし、前記層を、調節雰囲気下で、前記ガラス
の組成を有し前記管の軸線と平行に往復移動する標的か
らレーザ融蝕によって堆積させ、前記融蝕が行われるス
ペース内の温度を前記ガラスのガラス転移温度Ｔｇ以下
とし、レーザからの放射を２００〜３００ナノメートル
の範囲の紫外線で行うことを特徴とする方法を提供す
る。
【００１４】従って本発明では、標的から物質を化学的
ではなく物理的に運ぶことによって堆積させる手法を使
用する。レーザ照射の結果標的から発生する煙又は蒸気
様の物質（ｐａｎａｃｈｅ）の組成及び堆積した層の組
成は標的の組成と同じである。この種の方法では、レー
ザの放射に続いて起こる溶融浴からの化学物質の蒸発と
いう状態が樹立されない。このような事態を回避するた
めには、下記のパラメータを選択するのが好ましい： − レーザのエネルギー密度：１ジュール／ｃｍ2以
上、 − レーザのパルス持続時間：３０ナノ秒以下。
ではなく物理的に運ぶことによって堆積させる手法を使
用する。レーザ照射の結果標的から発生する煙又は蒸気
様の物質（ｐａｎａｃｈｅ）の組成及び堆積した層の組
成は標的の組成と同じである。この種の方法では、レー
ザの放射に続いて起こる溶融浴からの化学物質の蒸発と
いう状態が樹立されない。このような事態を回避するた
めには、下記のパラメータを選択するのが好ましい： − レーザのエネルギー密度：１ジュール／ｃｍ2以
上、 − レーザのパルス持続時間：３０ナノ秒以下。
【００１５】レーザの波長が短いため、レーザパルスは
標的の表面の近傍、即ち表面からマイクロメートル範囲
の地点に侵入し閉じ込められる。
標的の表面の近傍、即ち表面からマイクロメートル範囲
の地点に侵入し閉じ込められる。
【００１６】前述の現象は、標的の密度をできるだけ高
くする、即ち９２％以上の相対密度にすることによって
促進される。例えば、標的内へのビームの侵入は、粉砕
ガラスから形成した粒度１マイクロメートル前後の均一
組成の焼結粉末を用いることによって低減する。
くする、即ち９２％以上の相対密度にすることによって
促進される。例えば、標的内へのビームの侵入は、粉砕
ガラスから形成した粒度１マイクロメートル前後の均一
組成の焼結粉末を用いることによって低減する。
【００１７】本発明の方法は、プレフォームのコア層だ
けでなくコア層の近傍のクラッド層の形成にも使用し得
る。このような方法を用いれば、クラッド−コア間の界
面の欠陥が回避される。
けでなくコア層の近傍のクラッド層の形成にも使用し得
る。このような方法を用いれば、クラッド−コア間の界
面の欠陥が回避される。
【００１８】
【実施例】本発明の他の特徴及び利点は、添付図面に基
づく以下の非限定的実施例の説明で明らかにされよう。
づく以下の非限定的実施例の説明で明らかにされよう。
【００１９】操作は、レーザビーム５を通す透明な窓２
と、真空装置３と、ガス導入口４とを備えた容器１内で
実施される。塵埃率及び湿度を調整する装置も具備する
必要がある。なぜなら、含水率は１ｐｐｍ以下でなけれ
ばならないからである。一般的な方法で形成されたフッ
素ガラス製の支持管１０を収容している管状炉６は、単
一モードファイバの光学的クラッドのガラスを形成する
のに使用されるものとする。前記ガラスの組成は次の通
りである：ＺｒＦ4：５４％；ＢａＦ2：２０％；ＬａＦ
3：４％；ＡｌＦ3：４％；ＮａＦ：１９％。
と、真空装置３と、ガス導入口４とを備えた容器１内で
実施される。塵埃率及び湿度を調整する装置も具備する
必要がある。なぜなら、含水率は１ｐｐｍ以下でなけれ
ばならないからである。一般的な方法で形成されたフッ
素ガラス製の支持管１０を収容している管状炉６は、単
一モードファイバの光学的クラッドのガラスを形成する
のに使用されるものとする。前記ガラスの組成は次の通
りである：ＺｒＦ4：５４％；ＢａＦ2：２０％；ＬａＦ
3：４％；ＡｌＦ3：４％；ＮａＦ：１９％。
【００２０】管１０の軸線に対して角度θ傾斜した標的
支持体１１には標的１２が取付けられている。
支持体１１には標的１２が取付けられている。
【００２１】標的支持体１１は、該支持体を矢印のよう
に軸線９を中心に回転させるための機械的手段２１と、
該支持体を同じ軸線９に沿って並進駆動することができ
る機械的手段２０、２２とを備えている。
に軸線９を中心に回転させるための機械的手段２１と、
該支持体を同じ軸線９に沿って並進駆動することができ
る機械的手段２０、２２とを備えている。
【００２２】ビーム５はレンズ１３又は別の類似手段に
よって標的１２上に集束する。標的１２はまた、機械的
手段２０、２３により、標的支持体１１の運動と同期し
て軸線９と平行に並進移動する。また、図示はしなかっ
たが、標的上のレーザビームの衝撃点を移動させる手段
も具備されている。このようにして、標的１２から発生
した煙又は蒸気様の物質１５が管１０の内部を均一に走
査する。
よって標的１２上に集束する。標的１２はまた、機械的
手段２０、２３により、標的支持体１１の運動と同期し
て軸線９と平行に並進移動する。また、図示はしなかっ
たが、標的上のレーザビームの衝撃点を移動させる手段
も具備されている。このようにして、標的１２から発生
した煙又は蒸気様の物質１５が管１０の内部を均一に走
査する。
【００２３】窓２及びレンズ１３は例えば、商標“ＳＵ
ＰＲＡＳＩＬ ＩＩ”で市販されているＵＶシリカで形
成されている。
ＰＲＡＳＩＬ ＩＩ”で市販されているＵＶシリカで形
成されている。
【００２４】直径収縮（ｒｅｔｒｅｉｎｔ）及び繊維延
伸（ｆｉｂｒａｇｅ）後に単一モードファイバのコアを
形成することになるＺＢＬＡＮ型フッ素ガラスの層１４
を形成する場合は、操作を下記のように行う：標的１２
は、結晶化材料の粉末を圧縮して固めたものからなり、
次の組成を有する：ＺｒＦ4：５４％；ＢａＦ2：２３
％、ＬａＦ3：４％；ＡｌＦ3：３％；ＮａＦ：１６％。
伸（ｆｉｂｒａｇｅ）後に単一モードファイバのコアを
形成することになるＺＢＬＡＮ型フッ素ガラスの層１４
を形成する場合は、操作を下記のように行う：標的１２
は、結晶化材料の粉末を圧縮して固めたものからなり、
次の組成を有する：ＺｒＦ4：５４％；ＢａＦ2：２３
％、ＬａＦ3：４％；ＡｌＦ3：３％；ＮａＦ：１６％。
【００２５】粒子の典型的大きさは約１μｍである。圧
縮は、粉末中への水の侵入を防止するために、厳密な湿
度条件下で行う。圧縮を行うスペース内の含水率は数ｐ
ｐｍ以下でなければならない。圧縮雰囲気は中和ガスで
ある。酸素は水と同様にフッ素ガラスの性能の劣化要因
であるため、酸素を最大限に除去するのに必要な任意の
措置を講じる。標的の密度は９２％以上である。
縮は、粉末中への水の侵入を防止するために、厳密な湿
度条件下で行う。圧縮を行うスペース内の含水率は数ｐ
ｐｍ以下でなければならない。圧縮雰囲気は中和ガスで
ある。酸素は水と同様にフッ素ガラスの性能の劣化要因
であるため、酸素を最大限に除去するのに必要な任意の
措置を講じる。標的の密度は９２％以上である。
【００２６】ビーム５を放出する融蝕レーザは、Ｘｅ2
Ｃｌ2又はＫｒ2Ｆ2、Ａｒ2Ｆ2型のエキシマレーザであ
る。これらのＵＶレーザはそれぞれ波長３０８、２４８
及び１９３ｎｍで作動する。
Ｃｌ2又はＫｒ2Ｆ2、Ａｒ2Ｆ2型のエキシマレーザであ
る。これらのＵＶレーザはそれぞれ波長３０８、２４８
及び１９３ｎｍで作動する。
【００２７】堆積したガラス中のフッ素濃度を保証する
ためには、例えばＮＦ3又はＳＦ6のようなフッ素含有物
質を含む減圧雰囲気下（総圧＜１トール）で１９３ｎｍ
のレーザを使用すると有利である。
ためには、例えばＮＦ3又はＳＦ6のようなフッ素含有物
質を含む減圧雰囲気下（総圧＜１トール）で１９３ｎｍ
のレーザを使用すると有利である。
【００２８】操作要件は下記の通りである： ・ レーザの波長：λ＝１９３ｎｍ、 ・ パルスエネルギー：＞１Ｊ／ｃｍ2、 ・ 放射周波数：１〜１５０Ｈｚ、 ・ パルス持続時間：≦３０ｎｓ、 ・ フッ素ガラスのガラス転移温度Ｔｇより低い管１０
の温度：２７０℃、 ・ 管１０の内径：１５ｍｍ、 ・ 軸線９に沿った標的支持体１１の直線走行速度：２
ｍｍ／分、 ・ 標的上のレーザ衝撃点の法線と管の壁とをつなぐセ
グメントの長さ：約５ｃｍ、 ・ ＮＦ3の圧力：０．１〜０．３ミリバールの範囲で
調整可能。
の温度：２７０℃、 ・ 管１０の内径：１５ｍｍ、 ・ 軸線９に沿った標的支持体１１の直線走行速度：２
ｍｍ／分、 ・ 標的上のレーザ衝撃点の法線と管の壁とをつなぐセ
グメントの長さ：約５ｃｍ、 ・ ＮＦ3の圧力：０．１〜０．３ミリバールの範囲で
調整可能。
【００２９】このような条件では、照射された標的１２
から発生する煙又は蒸気様の物質１５によって、標的１
２と同じ組成を有する層１４が粘稠状態で２μｍの厚さ
に堆積する。堆積速度は約３×１０-3ｍｍ3／秒であ
る。
から発生する煙又は蒸気様の物質１５によって、標的１
２と同じ組成を有する層１４が粘稠状態で２μｍの厚さ
に堆積する。堆積速度は約３×１０-3ｍｍ3／秒であ
る。
【００３０】次いで管１０及び層１４を直径収縮処理に
かけて、繊維延伸操作に直接使用できるプレフォームを
形成する。コアとクラッドとの間の光屈折率の差は５×
１０-3である。
かけて、繊維延伸操作に直接使用できるプレフォームを
形成する。コアとクラッドとの間の光屈折率の差は５×
１０-3である。
【００３１】勿論、本発明は前述の実施例には限定され
ず、その範囲を逸脱せずに、総ての手段を別の類似の手
段に換えることができる。コアのファイバ中に屈折率プ
ロフィルを形成したい場合には、例えばＯＭＣＶＤのよ
うな別の技術によって実施されるように、所期の屈折率
プロフィルを得るべく種々の組成と適当な厚さとを有す
る層を順次堆積させることができる。そのためには、所
望の屈折率に適合した組成を有する一連の標的を標的１
２の代わりに使用するだけでよい。
ず、その範囲を逸脱せずに、総ての手段を別の類似の手
段に換えることができる。コアのファイバ中に屈折率プ
ロフィルを形成したい場合には、例えばＯＭＣＶＤのよ
うな別の技術によって実施されるように、所期の屈折率
プロフィルを得るべく種々の組成と適当な厚さとを有す
る層を順次堆積させることができる。そのためには、所
望の屈折率に適合した組成を有する一連の標的を標的１
２の代わりに使用するだけでよい。
【００３２】本発明の方法は、Ｐｒ、Ｎｄのような活性
ドーパント、又はＺＢＬＡＮの屈折率を調整するための
受動置換体（ｓｕｂｓｔｉｔｕａｎｔ ｐａｓｓｉ
ｆ）、例えばＰｂ、Ｌｉと共に、７もしくは８以下のカ
チオンを含み得る極めて複雑な組成のガラスに適用され
る。
ドーパント、又はＺＢＬＡＮの屈折率を調整するための
受動置換体（ｓｕｂｓｔｉｔｕａｎｔ ｐａｓｓｉ
ｆ）、例えばＰｂ、Ｌｉと共に、７もしくは８以下のカ
チオンを含み得る極めて複雑な組成のガラスに適用され
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法の実施態様を簡単に示す説明図で
ある。
ある。
５ レーザビーム ６ 管状炉 １０ 支持管 １２ 標的 １４ ガラス層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C03B 37/00 - 37/16
Claims (7)
- 【請求項１】 支持管内に複数のガラス層を堆積させる
ことからなる光ファイ用プレフォームの製造方法であっ
て、前記層がフッ素ガラスをベースとし、前記層を、調
節雰囲気下でレーザ融蝕により、前記ガラスの組成を有
し前記管の軸線と平行に往復移動する標的から堆積さ
せ、前記融蝕が行われるスペース内の温度を前記ガラス
のガラス転移温度Ｔｇ以下とし、レーザからの放射を２
００〜３００ナノメートルの範囲の紫外線で行うことを
特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記標的が９２％以上の相対密度を有
し、該標的が、粒子の大きさが約１μｍであるような粒
度で前記フッ素ガラスの粉末を圧縮したものからなるこ
とを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記レーザがＸｅ2Ｃｌ2又はＫｒ2Ｆ2、
Ａｒ2Ｆ2型のエキシマレーザであることを特徴とする請
求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 前記フッ素ガラスをＺＢＬＡＮガラス及
びＢＩＺＹＴガラスから選択することを特徴とする請求
項１から３のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項５】 レーザのパルスのエネルギーが１Ｊ／ｃ
ｍ2より大きく、前記パルスの持続時間が３０ナノ秒以
下であることを特徴とする請求項３に記載の方法。 - 【請求項６】 前記パルスの周波数が１〜１５０Ｈｚで
あることを特徴とする請求項５に記載の方法。 - 【請求項７】 前記調節雰囲気がＮＦ3及びＳＦ6から選
択した気体フッ素を含み、その圧力が０．１ミリバール
〜０．３ミリバールの範囲で調整可能であることを特徴
とする請求項１に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9205811A FR2691144B1 (fr) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | Procédé d'élaboration d'une préforme pour fibre optique. |
| FR9205811 | 1992-05-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0680435A JPH0680435A (ja) | 1994-03-22 |
| JP2934367B2 true JP2934367B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=9429751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5109447A Expired - Fee Related JP2934367B2 (ja) | 1992-05-13 | 1993-05-11 | 光ファイバ用プレフォームの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5356448A (ja) |
| EP (1) | EP0579517B1 (ja) |
| JP (1) | JP2934367B2 (ja) |
| DE (1) | DE69309354T2 (ja) |
| FR (1) | FR2691144B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| AU2001247240A1 (en) * | 2000-03-01 | 2001-09-12 | Heraeus Amersil, Inc. | Method, apparatus, and article of manufacture for determining an amount of energy needed to bring a quartz workpiece to a fusion weldable condition |
| NL1024480C2 (nl) * | 2003-10-08 | 2005-04-11 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels, alsmede werkwijze ter vervaardiging van optische vezels. |
| US20060005579A1 (en) * | 2004-07-08 | 2006-01-12 | Crystal Fibre A/S | Method of making a preform for an optical fiber, the preform and an optical fiber |
| US20060185397A1 (en) * | 2005-02-22 | 2006-08-24 | Furukawa Electric North America, Inc. | Multimode optical fiber and method for manufacturing same |
| FR2925666B1 (fr) | 2007-12-20 | 2010-01-15 | Verney Carron Sa | Munition d'arme a feu de gros calibre pour le tir d'un projectile constitue par au moins un corps spherique |
| FI123122B (fi) * | 2009-02-16 | 2012-11-15 | Optogear Oy | Laitteisto lasimateriaalin valmistamiseksi |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2402270C2 (de) * | 1974-01-18 | 1983-05-26 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Innenbeschichtung eines Quarzrohres und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| JPS6096537A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-05-30 | Nec Corp | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| DE3419275A1 (de) * | 1984-05-23 | 1985-11-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur erzeugung von glasschichten aus der gasphase, insbesondere fuer die herstellung von vorformen fuer optische glasfasern |
| US4715875A (en) * | 1984-11-13 | 1987-12-29 | Ispra Fibroptics Industries Herzlia Ltd. | Manufacture of optical fibre preforms |
| GB2174384B (en) * | 1985-05-04 | 1987-07-22 | Stc Plc | Tube furnace |
| AU584739B2 (en) * | 1985-08-13 | 1989-06-01 | British Technology Group Limited | Optical fibres |
| US4885019A (en) * | 1988-01-28 | 1989-12-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Process for making bulk heavy metal fluoride glasses |
| US5015281A (en) * | 1988-04-04 | 1991-05-14 | Gte Laboratories Incorporated | Method for preparing fluoride glasses |
| DE69033286T2 (de) * | 1989-02-15 | 2000-05-25 | Hitachi, Ltd. | Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Films |
| FR2649392B1 (fr) * | 1989-07-06 | 1991-09-20 | France Etat Ponts Chaussees | Procede de fabrication en continu d'un barreau de verre, notamment pour la realisation de matrices laser ou de preformes pour tirage de fibres optiques |
-
1992
- 1992-05-13 FR FR9205811A patent/FR2691144B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-05-11 DE DE69309354T patent/DE69309354T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-11 JP JP5109447A patent/JP2934367B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-11 EP EP93401200A patent/EP0579517B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-12 US US08/059,657 patent/US5356448A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69309354T2 (de) | 1997-07-17 |
| EP0579517A1 (fr) | 1994-01-19 |
| JPH0680435A (ja) | 1994-03-22 |
| FR2691144A1 (fr) | 1993-11-19 |
| FR2691144B1 (fr) | 1994-10-14 |
| US5356448A (en) | 1994-10-18 |
| DE69309354D1 (de) | 1997-05-07 |
| EP0579517B1 (fr) | 1997-04-02 |
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