JP2929515B2 - Solid wire for gas shielded arc welding - Google Patents

Solid wire for gas shielded arc welding

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JP2929515B2
JP2929515B2 JP18574192A JP18574192A JP2929515B2 JP 2929515 B2 JP2929515 B2 JP 2929515B2 JP 18574192 A JP18574192 A JP 18574192A JP 18574192 A JP18574192 A JP 18574192A JP 2929515 B2 JP2929515 B2 JP 2929515B2
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solid wire
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時彦 片岡
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、表層部に酸素を富化さ
せたガスシールドアーク溶接用低スパッタソリッドワイ
ヤに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low spatter solid wire for gas-shielded arc welding in which the surface layer is enriched with oxygen.

【0002】[0002]

【従来の技術】Ar、CO2 、He等の単独ガス、あるいはA
r、He、CO2 、O2等の混合ガスよりなるAr-CO2、Ar-O
2 、Ar-He-CO2-O2等のシールドガスがガスシールドアー
ク溶接に用いられる。これらのシールドガスを用いたガ
スシールドアーク溶接のさいのスパッタを低減するため
に、ソリッドワイヤの表層部に酸化物よりなる酸素富化
層を生成させる技術が従来いくつか提案されてきてい
る。ワイヤ表層部に存在する酸化物は溶接時における溶
滴の表面張力を低下させ、溶滴を微細化させる。また、
酸化物は酸素それ自身によるアーク安定化作用により母
材への溶滴の移行をスムーズにし、スパッタ発生量を低
下させる働きがある。
2. Description of the Related Art A single gas such as Ar, CO 2 , He, or A
Ar-CO 2 , Ar-O consisting of mixed gas of r, He, CO 2 , O 2 etc.
2, Ar-He-CO 2 shielding gas -O 2 or the like is used in gas shielded arc welding. In order to reduce spatter during gas shielded arc welding using these shielding gases, several techniques for generating an oxygen-enriched layer made of an oxide on the surface of a solid wire have been proposed. The oxide present in the surface layer of the wire lowers the surface tension of the droplet during welding, and makes the droplet finer. Also,
Oxide has the function of smoothing the transfer of droplets to the base material by the arc stabilizing action of oxygen itself, thereby reducing the amount of spatter generated.

【0003】そして酸素の富化方法としては、次の方法
がこれまでに提案されている。 たとえば特開昭60-40685号公報に開示されているよ
うに、伸線段階の潤滑油にあらかじめ酸化物を混合させ
ておく方法。 特開昭59-110496 号、特開昭60-40685号公報などに
開示されているように、焼鈍等において表層に生成した
スケールを1部残した状態でメッキを施す方法。 特開昭58-187298 号、特開昭60-40685号公報などに
開示されているように、メッキを施した後に熱処理を行
い表面に酸化物を富化させる方法。 特開昭58-128294 号、59-61592号、59-66996号、60
-40685号公報などに開示されているように、焼鈍を 200
℃から 950℃で行ない粒界酸化をおこさせる方法。
The following methods have been proposed as a method for enriching oxygen. For example, as disclosed in JP-A-60-40685, a method in which an oxide is mixed in advance with a lubricating oil at a wire drawing stage. As disclosed in JP-A-59-110496, JP-A-60-40685, etc., a method of plating while leaving one part of the scale formed on the surface layer by annealing or the like. As disclosed in JP-A-58-187298 and JP-A-60-40685, a method of enriching oxides on the surface by performing a heat treatment after plating. JP-A-58-128294, 59-61592, 59-66996, 60
As disclosed in US Pat.
A method of performing grain boundary oxidation at a temperature between ℃ and 950 ℃.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のから
の方法では、ワイヤ表層部に均一かつ十分な量を付着
させることは難しい。すなわち、の方法では、潤滑油
中に均一に酸化物を混入させることが難しいこと、また
最終製品での潤滑油の量はワイヤ重量に対し、 0.1%ほ
どしかなく、低スパッタ化に十分な酸化物を均一に付着
させることは困難であるという問題がある。
However, according to the above-mentioned method, it is difficult to make a uniform and sufficient amount adhere to the surface layer of the wire. In other words, it is difficult to uniformly mix oxides in the lubricating oil with the method described above, and the amount of the lubricating oil in the final product is only about 0.1% of the wire weight, and it is sufficient for low spatter There is a problem that it is difficult to uniformly attach an object.

【0005】また、の方法では、スケールがワイヤ表
面に均一かつまんべんなく付着している状態では健全な
メッキを施すことは困難であるので、スケールを部分的
に残す必要があるが、焼鈍、酸洗のさいのスケール残留
量のコントロールが困難であるという問題がある。の
方法に関しては、メッキを施した後に熱処理を加えたの
では、メッキ層が酸化することは避けがたい。ワイヤ表
面部の酸化物量と給電ノズルチップを介する通電性とは
相反するものであり、低スパッタ化に十分な酸化物量を
確保した場合、通電性が悪くなり、アークが不安定とな
って十分な低スパッタ化が計れない。また、富化した酸
化物量によっては、逆にスパッタを増す結果にもなる。
In the method (1), it is difficult to apply sound plating in a state where the scale is uniformly and evenly attached to the wire surface. Therefore, it is necessary to partially leave the scale. However, there is a problem that it is difficult to control the residual amount of the scale at that time. With regard to the method (1), if a heat treatment is applied after plating, it is inevitable that the plating layer is oxidized. The amount of oxide on the surface of the wire and the conductivity through the power supply nozzle tip are contradictory.If a sufficient amount of oxide is secured to reduce the spatter, the conductivity deteriorates and the arc becomes unstable and becomes insufficient. Low spatter cannot be measured. In addition, depending on the amount of the enriched oxide, spatter may be increased.

【0006】については、熱処理、酸洗後にメッキを
施すことになるので、メッキ層は健全であり、かつメッ
キ層の内側の粒界の酸化物により、スパッタ低減の効果
はある程度期待できる。しかし、粒界酸化の発生は表面
層の粒界ピッチに左右されるため、その発生は通常C方
向で 5μm以上、L方向で 100μm以上と粗くなり、溶
滴移行を細かくして、低スパッタ化を図るには十分では
ないという問題がある。
As for plating, since plating is performed after heat treatment and pickling, the plating layer is sound and the effect of reducing spatter can be expected to some extent due to the oxide at the grain boundaries inside the plating layer. However, since the occurrence of grain boundary oxidation depends on the grain boundary pitch of the surface layer, the occurrence is generally coarser at 5 μm or more in the C direction and 100 μm or more in the L direction, making droplet transfer finer and reducing spatter. There is a problem that is not enough to achieve.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】発明者らは鋭意研究を進
めた結果、粒界酸化法よりも細かく均一に、より表層部
に濃化した形で酸化物を富化させることにより、目標と
する低スパッタ化が可能ではないか検討した結果、ワイ
ヤ表層に粒内酸化による粒内酸化物層を有することによ
って目標とする低スパッタ化が可能であることを見いだ
した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the inventors have found that the oxides can be enriched in a finer and more uniform form than in the grain boundary oxidation method and in a form more concentrated in the surface layer, thereby achieving the target. As a result of examining whether or not the sputtering can be reduced, it was found that the target sputtering can be reduced by providing the intragranular oxide layer by the intragranular oxidation on the surface layer of the wire.

【0008】すなわち本発明は、重量比でCを0.15%
以下、Siを 0.1%以上、1.5 %以下とし、Mnを0.80%以
上、 2.5%以下、Crを0.15%以上、 2.0%以下、Niを
0.3%以下、Moを 0.3%以下、Tiを 0.3%以下、Alを 0.
3%以下、Nbを0.05%以下、Bを0.01%以下とし残部が
鉄と不可避的不純物からなり、かつワイヤ表層部におい
て粒内酸化物層を深さ 2.5μm以上有し、該粒内酸化物
層は断面積 100μm2 当たり10個以上の粒内酸化物を有
することを特徴とするガスシールドアーク溶接用ソリッ
ドワイヤであり、 において重量比でCを0.05%以
下、Siを 0.1%以上、 0.4%以下とすることを特徴とす
るガスシールドアーク溶接用ソリッドワイヤである。
That is, in the present invention, C is 0.15% by weight.
In the following, Si should be 0.1% or more and 1.5% or less, Mn should be 0.80% or more and 2.5% or less, Cr should be 0.15% or more and 2.0% or less, Ni should be
0.3% or less, Mo 0.3% or less, Ti 0.3% or less, Al 0.
3% or less, Nb is 0.05% or less, B is 0.01% or less, and the balance is composed of iron and unavoidable impurities, and the intragranular oxide layer has a depth of 2.5 μm or more in the surface layer of the wire. The layer is a solid wire for gas shielded arc welding characterized in that it has at least 10 intragranular oxides per 100 μm 2 in cross-sectional area, and in terms of weight ratio C is 0.05% or less, Si is 0.1% or more, 0.4% A solid wire for gas shielded arc welding characterized by the following.

【0009】[0009]

【作用】本発明のワイヤ組成を上記のように限定した理
由は次のとうりである。通常用いられている組成のワイ
ヤで粒内酸化を起こさせるためには、ソリッドワイヤ製
造において一般的に焼鈍に用いられている 750℃前後の
加熱温度では10時間以上の長時間の均熱処理が必要であ
る。生産性を上げるために焼鈍を連続炉で行うことを考
えた場合、焼鈍時間を数十秒以下に押さえることが望ま
しいが、そのためには焼鈍温度を1000℃以上の高温に上
げねばならない。その場合は高温での熱処理を可能にす
るために設備を大幅に変更しなければならず、設備費上
の問題を生ずる。
The reasons for limiting the wire composition of the present invention as described above are as follows. In order to cause intragranular oxidation in a wire with a commonly used composition, a heating temperature of around 750 ° C, which is generally used for annealing in the production of solid wires, requires a prolonged soaking heat treatment of 10 hours or more. It is. In consideration of performing annealing in a continuous furnace in order to increase productivity, it is desirable to suppress the annealing time to several tens of seconds or less, but for that purpose, the annealing temperature must be increased to a high temperature of 1000 ° C. or more. In that case, equipment must be drastically changed to enable heat treatment at a high temperature, which causes a problem in equipment cost.

【0010】本発明では、表層に粒内酸化による酸素富
化層、すなわち粒内酸化物層は、Crを添加することによ
って、 750℃前後で3時間前後の熱処理により得ること
ができた。粒内酸化物層を生成するためには、上述のよ
うにCrの添加が有効であるが、さらにSiとCを規定する
必要がある。また溶接金属の靱性の確保のために必要に
応じてNi、Mo、Al、Ti、Nb、Bを規制する。また、これ
らの元素以外にも耐食性、靱性、強度などの確保のため
に必要に応じてCu、Nを添加する。
In the present invention, an oxygen-enriched layer, ie, an intragranular oxide layer, formed by intragranular oxidation on the surface layer can be obtained by adding Cr to a heat treatment at about 750 ° C. for about 3 hours. In order to form an intragranular oxide layer, the addition of Cr is effective as described above, but it is necessary to further define Si and C. Also, Ni, Mo, Al, Ti, Nb, and B are regulated as necessary to secure the toughness of the weld metal. In addition to these elements, Cu and N are added as necessary to ensure corrosion resistance, toughness, strength, and the like.

【0011】表層部の粒内酸化物層の深さが 2.5μm未
満では酸化物量の不足により十分な低スパッタ化が図れ
ない。また本発明では、粒内酸化物層は、断面積 100μ
2当たり10個以上の粒内酸化物を有する層である。本
発明では、粒内酸化物とは、結晶粒内に析出した粒状の
酸化物を意味する。粒内酸化物層内の粒内酸化物数が断
面積 100μm2 当たり10個未満では、粒界酸化の場合と
同様に、酸化物のピッチが粗く十分な低スパッタ化が図
れない。粒内酸化物の個数はワイヤ長手方向に対し直角
な断面の粒内酸化物層内について顕微鏡で測定し、 100
μm2 当たりの個数に換算した値を用いる。Cr量につい
ては、粒内酸化を起こさせるために0.15%以上の添加が
必要であるが 2.0%を越えて添加すると靱性の劣化が認
められる。したがって、Cr量は、 0.15 %以上、 2.0
以下とした。
If the depth of the intragranular oxide layer in the surface layer portion is less than 2.5 μm, it is not possible to achieve a sufficiently low sputtering due to an insufficient amount of the oxide. In the present invention, the intragranular oxide layer has a cross-sectional area of 100 μm.
A layer having 10 or more intragranular oxides per m 2 . In the present invention, an intragranular oxide means a granular oxide precipitated in a crystal grain. If the number of intragranular oxides in the intragranular oxide layer is less than 10 per 100 μm 2 in cross-sectional area, the pitch of the oxide is coarse and sufficient sputtering cannot be achieved as in the case of grain boundary oxidation. The number of intragranular oxides was measured with a microscope for the intragranular oxide layer in a cross section perpendicular to the wire longitudinal direction.
The value converted to the number per μm 2 is used. Regarding the Cr content, it is necessary to add 0.15% or more in order to cause intragranular oxidation. However, if it exceeds 2.0 %, the toughness is deteriorated. Therefore, the Cr content is 0.15% or more, 2.0 %
It was as follows.

【0012】Cについては、強度確保のために不可欠な
元素である。しかし、0.15%を超えて Cを添加すると靱
性が極端に低下するため Cの添加量を0.15%以下とし
た。Siについては、主に脱酸剤および高靱性を得るため
に必要不可欠な元素である。しかし 1.5%を超えてSiを
添加すると靱性が極端に低下するためSiの添加量を0.1
%以上 1.5%以下とした。
C is an indispensable element for securing the strength. However, if C is added in excess of 0.15%, the toughness extremely decreases, so the amount of C added is set to 0.15% or less. Si is an indispensable element mainly for obtaining a deoxidizing agent and high toughness. However, if Si is added in excess of 1.5%, the toughness is extremely reduced.
% And 1.5% or less.

【0013】また、C含有量を0.05%以下、更にSi含有
量を 0.1%以上、 0.4%以下とすることによってより容
易に粒内酸化物層を得ることができる。Mnについては、
主に脱酸剤および高靱性を得るためにある程度含有させ
る必要がある。 0.8%未満では、OやSによる高温割れ
を生じる危険性があり、一方、2.5%を超えると冷間加
工性が低下するとともに靱性が確保できない。したがっ
て、Mn量は0.80%以上 2.5%以下とした。
The intragranular oxide layer can be more easily obtained by setting the C content to 0.05% or less and the Si content to 0.1% or more and 0.4% or less. About Mn
It must be mainly contained in order to obtain a deoxidizing agent and high toughness. If it is less than 0.8%, there is a risk that hot cracks may occur due to O and S. On the other hand, if it exceeds 2.5%, cold workability decreases and toughness cannot be secured. Therefore, the Mn content is set to 0.80% or more and 2.5% or less.

【0014】Ni 、Moについては粒内酸化を抑制する元
素であり、 0.3%以上含有させるとその傾向が顕著にな
るほか、強度を著しく向上させるため、一般用溶接材料
としては多量の添加は好ましくない。したがって、Ni
量、Mo量共に含有量を0.3 %以下とした。Alは 0.3%以
上を超えて含有すると低温での靱性の劣化がみとめられ
る。したがって、Al量は 0.3%以下とした。
Ni and Mo are elements that suppress intragranular oxidation, and when contained in 0.3% or more, the tendency becomes remarkable and the strength is remarkably improved. Therefore, it is preferable to add a large amount as a general welding material. Absent. Therefore, Ni
The content was set to 0.3% or less for both the amounts of Mo and Mo. When Al exceeds 0.3% or more, toughness at low temperatures is observed to be deteriorated. Therefore, the amount of Al is set to 0.3% or less.

【0015】Tiについては、溶接金属の結晶粒の粗大化
を防止し、かつ強度上昇を図るのに有効な成分である。
しかし、Tiを 0.3%を超えて含有させると靱性の劣化が
顕著にみとめられる。したがって、Ti含有量を0.3 % 以
下とした。Nbについては、Ti同様に溶接金属の結晶の粗
大化を防止し、かつ強度上昇を図るのに有効な成分であ
る。しかし、0.05%を超えて含有させると靱性の劣化が
顕著にみとめられる。したがって、Nb含有量を0.05%以
下とした。
[0015] Ti is an effective component for preventing the coarsening of the crystal grains of the weld metal and increasing the strength.
However, when Ti is contained in excess of 0.3%, deterioration of toughness is remarkably observed. Therefore, the Ti content was set to 0.3% or less. Like Nb, Nb is an effective component for preventing coarsening of the crystal of the weld metal and increasing the strength. However, when the content exceeds 0.05%, deterioration of toughness is remarkably observed. Therefore, the Nb content is set to 0.05% or less.

【0016】Bについては、Nb、Ti同様に溶接金属の結
晶粒の粗大化を防止し、かつ強度上昇を図るのに有効な
成分である。しかし、0.01%を超えて含有させると靱性
の劣化が顕著にみとめられる。したがって、B含有量は
0.01%以下とした。製造プロセスとしては、一般に熱間
圧延→中間伸線→中間焼鈍→酸洗→メッキ→仕上げ伸線
という工程である。粒内酸化物層の付与は、この中間焼
鈍段階で行う。粒界酸化物が形成されると必ず表面とつ
ながっているため酸洗によって一部剥離する他、メッキ
むらを生じる。また、粒界酸化物が形成された場合に
は、仕上げ伸線によって松肌状の横メッキ亀裂を生じ
る。一方、本発明の粒内酸化物では表面とつながりを持
たないため酸洗によって粒内酸化物層の酸化物が除去さ
れることはないうえ、メッキ処理への悪影響はなく、松
肌状のメッキ亀裂も生じない。本発明のワイヤ組成で
は、上記の如くCrを添加することにより一般材の焼鈍と
同程度の熱処理条件で粒内酸化物を生成することが可能
である。
B, like Nb and Ti, is an effective component for preventing the crystal grains of the weld metal from becoming coarse and increasing the strength. However, when the content exceeds 0.01%, deterioration of toughness is remarkably observed. Therefore, the B content is
0.01% or less. The production process is generally a process of hot rolling → intermediate drawing → intermediate annealing → pickling → plating → finish drawing. The application of the intragranular oxide layer is performed in this intermediate annealing stage. When grain boundary oxides are formed, they are always connected to the surface, so that they are partially peeled off by pickling and cause plating unevenness. When the grain boundary oxide is formed, a pine-skinned horizontal plating crack is generated by the finish drawing. On the other hand, since the intragranular oxide of the present invention has no connection with the surface, the oxide of the intragranular oxide layer is not removed by pickling, and there is no adverse effect on the plating treatment, and the pine-skinned plating No cracks occur. In the wire composition of the present invention, by adding Cr as described above, it is possible to generate intragranular oxides under the same heat treatment conditions as the annealing of general materials.

【0017】また、溶接中のシールドガス、溶接条件に
関係無く従来のワイヤと比較して、低スパッタ化が可能
である。
Further, spatter can be reduced as compared with a conventional wire regardless of the shielding gas during welding and welding conditions.

【0018】[0018]

【実施例】熱間圧延仕上げ線径5.5mm φを 2.6mmφまで
中間伸線後、後述の熱処理を行ない、酸洗、メッキを施
し、 1.2mmφまで仕上げ伸線しスパッタ発生量の測定を
行なった。熱処理は、中間伸線後の2.6mm φのワイヤを
窒素零囲気炉で 720℃×3 時間の加熱熱処理を行った。
また、粒内酸化をおこさせるために、焼鈍雰囲気として
は水蒸気を0.01%〜 1.5%含む窒素ガスを毎分50lから
100l送給している。
[Example] Hot-rolled finished wire diameter was intermediately drawn from 5.5mmφ to 2.6mmφ, heat treatment described below was performed, pickling, plating, finish drawing to 1.2mmφ, and the amount of spatter generated was measured. . For the heat treatment, the 2.6 mm φ wire after intermediate drawing was heated in a nitrogen-free atmosphere furnace at 720 ° C for 3 hours.
In addition, in order to cause intragranular oxidation, the annealing atmosphere should be 50 l / min of nitrogen gas containing 0.01% to 1.5% of water vapor.
100 liters have been delivered.

【0019】用いた鋼ワイヤの化学組成を表1に示す。
スパッタ発生量測定時の溶接条件は、表2に示すように
シールドガスがCO2 およびAr-CO2で各2条件、計4条件
を用い、粒内酸化物層における粒内酸化物の個数は、ワ
イヤ長手方向に対し直角な断面(C断面)を顕微鏡(光
学顕微鏡又は電子顕微鏡)にて観察し、粒内酸化物の存
在する粒内酸化物層深さおよび粒内酸化物層における粒
内酸化物の個数を測定し、断面積 100μm2 当たりの個
数に換算した。発生したスパッタは全数補集した。表3
に実施例および比較例の結果を示したが、本発明の実施
例であるNo.1〜44では十分な低スパッタ化が達成されて
いる。
Table 1 shows the chemical composition of the steel wire used.
As shown in Table 2, the welding conditions at the time of measuring the amount of spatter generation were 2 conditions for each of the shielding gas of CO 2 and Ar-CO 2 , and a total of 4 conditions were used. The cross section (C cross section) perpendicular to the longitudinal direction of the wire is observed with a microscope (optical microscope or electron microscope), and the depth of the intragranular oxide layer where the intragranular oxide exists and the intragranular in the intragranular oxide layer The number of oxides was measured and converted to the number per 100 μm 2 of cross-sectional area. All generated spatters were collected. Table 3
The results of Examples and Comparative Examples are shown in FIG. 5, but in Examples Nos. 1 to 44 of the present invention, a sufficiently low spatter was achieved.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】[0021]

【表2】 [Table 2]

【0022】シールドガスとしてAr−20%CO2 を用いた
溶接条件No.1でのスパッタ発生量と、粒内酸化物層深さ
(μm)、粒内酸化物層内の断面積 100μm2 当たりの
直径0.1〜1μmの粒状粒内酸化物数との関係を図1お
よび図2にそれぞれ示す。粒内酸化物層深さ 2.5μm未
満、およびその粒内酸化物層 100μm2 中の粒内酸化物
数10個未満では目標とするスパッタ量 0.25g/min以下を
達成することができない。
The amount of spatter generated under welding condition No. 1 using Ar-20% CO 2 as a shielding gas, the intragranular oxide layer depth (μm), and the cross-sectional area in the intragranular oxide layer per 100 μm 2 1 and 2 show the relationship with the number of oxides in the granular particles having a diameter of 0.1 to 1 μm. If the intragranular oxide layer depth is less than 2.5 μm and the number of intragranular oxides in the intragranular oxide layer 100 μm 2 is less than 10, the target sputtering amount of 0.25 g / min or less cannot be achieved.

【0023】また、試験結果を表3に示すように、C添
加量 0.05 %以下、Si添加量を 0.4%以下としたワイヤ
No.4 、7 、9 、12、13、14、15、16、18、を用いた実
施例No.3、 6、 7、 9、10、11、12、14、18、27、28、
29、32、35、36、41、42、43、44では実施例中でも特に
優れた特性を示した。評価法は表4に従った。比較例N
o.45 、46、47、48、49、50ではCrが0.15%未満である
ために粒内酸化物層深さは2μm以下、および断面積 1
00μm2 中の粒内酸化物数も8個以下と少なく、スパッ
タ量は目的値を大きく超えている。
Further, as shown in Table 3, the test results show that a wire with a C content of 0.05% or less and a Si content of 0.4% or less was used.
Examples using Nos. 4, 7, 9, 12, 13, 14, 15, 16, 18, No. 3, 6, 7, 9, 10, 11, 12, 14, 18, 27, 28,
29, 32, 35, 36, 41, 42, 43, and 44 showed particularly excellent characteristics among the examples. The evaluation method followed Table 4. Comparative Example N
In o.45, 46, 47, 48, 49, and 50, the Cr content is less than 0.15%, so that the intragranular oxide layer depth is 2 μm or less, and the cross-sectional area is 1
The number of intragranular oxides in 00 μm 2 is as small as 8 or less, and the amount of sputtering greatly exceeds the target value.

【0024】[0024]

【表3】 [Table 3]

【0025】[0025]

【表4】 [Table 4]

【0026】比較例の熱処理後のC方向断面の顕微鏡写
真を図3に示す。粒界酸化が約15μm深さまで発生して
いるが、ピッチが粗い。それに対し、図4に示す実施
熱処理後の断面には 0.1〜1 μmの粒状の粒内酸化物
が表面層に均一に発生している。
FIG. 3 shows a micrograph of a cross section in the C direction after the heat treatment of the comparative example . Grain boundary oxidation occurs to a depth of about 15 μm, but the pitch is coarse. In contrast, the embodiment shown in FIG. 4
In the cross-section after the heat treatment, granular intragranular oxides of 0.1 to 1 μm are uniformly generated in the surface layer.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の方法により、通常の熱処理条件
に近い熱処理条件で、鋼ソリッドワイヤのごく表層部に
微細で均一高密度の粒内酸化物層を生成させることがで
きるようになり、生産性が大幅に上昇した。このワイヤ
をガスシールドアーク溶接に使用すれば、スパッタの発
生を著しく低減することができる。その結果、ワークあ
るいは溶接トーチのノズルに付着するスパッタの除去作
業が著しく軽減され、手入れ工数の削減、職場環境の改
善などの大きな効果が得られた。
According to the method of the present invention, it is possible to form a fine, uniform and high-density intragranular oxide layer on the very surface portion of a steel solid wire under heat treatment conditions close to ordinary heat treatment conditions. Productivity has increased significantly. If this wire is used for gas shielded arc welding, generation of spatter can be significantly reduced. As a result, the work of removing spatter adhered to the work or the nozzle of the welding torch was remarkably reduced, and significant effects such as reduction in the number of maintenance steps and improvement in the work environment were obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】表1に示す化学組成の鋼ソリッドワイヤを、シ
ールドガスに CO2を用いて溶接条件No.1で溶接した場合
の、スパッタ発生量と粒内酸化物層深さとの関係を示す
特性図である。
FIG. 1 shows the relationship between spatter generation and intragranular oxide layer depth when a steel solid wire having the chemical composition shown in Table 1 is welded under welding conditions No. 1 using CO 2 as a shielding gas. It is a characteristic diagram.

【図2】表1に示す化学組成の鋼ソリッドワイヤを、シ
ールドガスに CO2を用いて溶接条件No.1で溶接した場合
の、スパッタ発生量と断面積100 μm2当たりの粒内酸化
物数との関係を示す特性図である。
Fig. 2 The amount of spatter generated and the intragranular oxide per 100 μm 2 cross section when a steel solid wire having the chemical composition shown in Table 1 was welded under welding conditions No. 1 using CO 2 as a shielding gas. FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship with numbers.

【図3】比較例の熱処理後のC方向断面の金属組織を示
す顕微鏡写真である。
FIG. 3 is a micrograph showing a metal structure in a C-direction cross section after heat treatment of a comparative example .

【図4】実施例の熱処理後のC方向断面の金属組織を示
す顕微鏡写真である。
FIG. 4 is a micrograph showing a metal structure in a C-direction cross section after heat treatment of an example .

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ガスシールドアーク溶接に用いるソリッ
ドワイヤであって、重量比でCを0.15%以下、Siを 0.1
%以上、 1.5%以下、Mnを0.80%以上、 2.5%以下、Cr
を0.15%以上、 2.0%以下、Niを 0.3%以下、Moを 0.3
%以下、Tiを0.3%以下、Alを 0.3%以下、Nbを0.05%
以下、Bを0.01%以下とし残部が鉄と不可避的不純物か
らなり、かつワイヤ表層部において粒内酸化物層を深さ
2.5μm以上有し、該粒内酸化物層は断面積 100μm2
当たり10個以上の粒内酸化物を有することを特徴とする
ガスシールドアーク溶接用ソリッドワイヤ。
1. A solid wire used for gas shielded arc welding, wherein the weight ratio of C is 0.15% or less, and the content of Si is 0.15% or less.
% Or more, 1.5% or less, Mn 0.80% or more, 2.5% or less, Cr
0.15% or more, 2.0% or less, Ni 0.3% or less, Mo 0.3
%, Ti 0.3% or less, Al 0.3% or less, Nb 0.05%
In the following, B is set to 0.01% or less, and the balance consists of iron and unavoidable impurities, and the depth of the intragranular oxide layer in the surface layer of the wire is reduced.
2.5 μm or more, and the intragranular oxide layer has a cross-sectional area of 100 μm 2
A solid wire for gas shielded arc welding, wherein the solid wire has at least 10 intragranular oxides.
【請求項2】 請求項1において、重量比で Cを0.05%
以下、Siを 0.1%以上、 0.4%以下とすることを特徴と
するガスシールドアーク溶接用ソリッドワイヤ。
2. The method according to claim 1, wherein C is 0.05% by weight.
A solid wire for gas shielded arc welding, wherein the content of Si is 0.1% or more and 0.4% or less.
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