JP2928043B2 - Complete contact image sensor - Google Patents

Complete contact image sensor

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JP2928043B2
JP2928043B2 JP5077228A JP7722893A JP2928043B2 JP 2928043 B2 JP2928043 B2 JP 2928043B2 JP 5077228 A JP5077228 A JP 5077228A JP 7722893 A JP7722893 A JP 7722893A JP 2928043 B2 JP2928043 B2 JP 2928043B2
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image sensor
sensor element
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藤男 奥村
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は原稿と等倍の長さを持
ち、原稿にほぼ完全に密着して読み取り動作を行う完全
密着型イメージセンサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a perfect contact type image sensor having a length equal to that of a document and performing a reading operation almost completely in contact with the document.

【0002】[0002]

【従来の技術】密着型イメージセンサは、原稿と等倍の
長さを持ち原稿と密着して読み取り動作を行うためCC
D(電荷結合素子)に比べ光路長が短く、イメージセン
サ自体は大型であるが読み取り装置の小型化が可能であ
るという利点がある。密着型イメージセンサの構成には
数多くあるが、図6にその代表的な構成を示す。図6に
おいて、LEDアレイ1から出た照明光5で原稿4を照
明し、反射した信号光6をロッドレンズアレイ3で集光
して、原稿4と等倍のサイズを持つイメージセンサ基板
2上のセンサ素子(図示せず)面に原稿の像を結像させ
これを読み取る構造となっている。密着型といってもロ
ッドレンズを使うため、図中Aで示す距離(通常、10
〜20mm)が必要である。
2. Description of the Related Art A contact-type image sensor has a length equal to that of a document and has a length of one time.
The optical path length is shorter than that of D (charge coupled device), and the image sensor itself is large, but there is an advantage that the reading device can be downsized. Although there are many configurations of the contact type image sensor, FIG. 6 shows a typical configuration thereof. In FIG. 6, an original 4 is illuminated with illumination light 5 emitted from an LED array 1 and reflected signal light 6 is condensed by a rod lens array 3 on an image sensor substrate 2 having the same size as the original 4. The image of the document is formed on the surface of the sensor element (not shown), and the image is read. Even though it is a close contact type, since a rod lens is used, the distance indicated by A in the figure (usually 10
2020 mm) is required.

【0003】なお、イメージセンサ基板2上にはセンサ
素子のほかに、通常、これをスイッチングする薄膜トラ
ンジスタやダイオード等のスイッチング素子及びこれを
駆動する駆動回路や配線等が含まれているが、以下の説
明においては、主として、本発明の特徴部分であるセン
サ素子の部分を中心にして説明する。また、1次元およ
び2次元のイメージセンサにおいては、センサ素子の両
端はそれぞれ、これらスイッチング素子か電源あるいは
検出回路等に接続されており、スイッチング素子に接続
される側を個別電極と呼び、もう一方は全ての素子に対
して共通となっていることから共通電極と呼んでいる。
本明細書でもその呼称で統一する。
The image sensor substrate 2 usually includes, in addition to the sensor element, a switching element such as a thin film transistor or a diode for switching the element, and a driving circuit or wiring for driving the element. In the description, the description will be made mainly on the sensor element portion which is a characteristic portion of the present invention. In one-dimensional and two-dimensional image sensors, both ends of the sensor element are connected to these switching elements, a power supply, a detection circuit, or the like, respectively. Is called a common electrode because it is common to all elements.
In this specification, the names are unified.

【0004】近年、図6に示す構成でロッドレンズアレ
イ3を省略し、低コスト化と小型化を実現した完全密着
型イメージセンサが実用化されてきている。完全密着型
イメージセンサにもいくつか種類があるが、図7にその
一例の斜視図を示す。
[0004] In recent years, a completely close contact type image sensor has been put to practical use in which the rod lens array 3 is omitted from the configuration shown in FIG. 6 and the cost and size are reduced. There are several types of perfect contact type image sensors, and FIG. 7 shows a perspective view of one example.

【0005】図7は、50μm程度の非常に薄いガラス
をイメージセンサ面に貼りつけ、このガラスを原稿に密
着させ、しかもセンサ素子に穴を開けてここから照明光
を導入する構成のものである。このようなイメージセン
サは、例えば、特開昭59−48954号公報や特開昭
59−81968号公報に開示されている。図7におい
て、LEDアレイ1から出た照明光5はイメージセンサ
基板2,センサ素子7の窓および厚さ約50μmの薄膜
ガラス9を通過して原稿4に当たり、原稿4で反射した
信号光6が最も近い位置にあるセンサ素子7に入る。な
お、イメージセンサ基板2と薄膜ガラス9とは接着層8
で固着されている。原稿4はこれをイメージセンサ基板
2に搬送するためのローラ10によって基板2に密着し
ている。この例の場合、イメージセンサ全体としての高
さは、LEDアレイ1と原稿4との距離Aになり、ロッ
ドレンズの場合のA=10mmに対して、A=5mm程
度にまで短縮されている。
FIG. 7 shows a configuration in which a very thin glass of about 50 μm is adhered to an image sensor surface, the glass is brought into close contact with a document, and a hole is formed in a sensor element to introduce illumination light from the hole. . Such an image sensor is disclosed in, for example, JP-A-59-48954 and JP-A-59-81968. In FIG. 7, the illuminating light 5 emitted from the LED array 1 passes through the image sensor substrate 2, the window of the sensor element 7 and the thin film glass 9 having a thickness of about 50 μm and strikes the original 4, and the signal light 6 reflected by the original 4 The sensor element 7 at the nearest position is entered. The image sensor substrate 2 and the thin film glass 9 are bonded to the adhesive layer 8
It is fixed with. The document 4 is in close contact with the substrate 2 by rollers 10 for transporting the document 4 to the image sensor substrate 2. In this example, the height of the entire image sensor is the distance A between the LED array 1 and the document 4, and is reduced to about A = 5 mm compared to A = 10 mm in the case of a rod lens.

【0006】次に、図8は、ファイバアレイプレートと
呼ばれる特殊なガラスを用いたものである。LEDアレ
イ1から出た照明光5は斜めに入射され、ファイバアレ
イプレート11の一部を通過して原稿4を照明する。原
稿4で反射された光は信号光6としてファイバ12中を
全反射によって進行し、センサ素子7に入りここで読み
取られる。なお、2はイメージセンサ基板、8はイメー
ジセンサ基板2とファイバアレイプレート11との接着
層、10は原稿をイメージセンサに密着させ搬送するた
めのローラを示している。
Next, FIG. 8 shows a case where a special glass called a fiber array plate is used. The illumination light 5 emitted from the LED array 1 is obliquely incident, passes through a part of the fiber array plate 11, and illuminates the document 4. The light reflected by the original 4 travels through the fiber 12 as signal light 6 by total reflection, enters the sensor element 7 and is read there. Reference numeral 2 denotes an image sensor substrate, 8 denotes an adhesive layer between the image sensor substrate 2 and the fiber array plate 11, and 10 denotes a roller for bringing a document into close contact with the image sensor and transporting the original.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】まず、図7に示した、
薄膜ガラスを用いる構造の完全密着型イメージセンサの
問題点について説明する。このイメージセンサで重要な
ポイントは薄膜ガラス9である。薄膜ガラス9の厚さは
解像度に大きな影響を与え、現在一般的な8本/mm程
度の解像度の場合50μm以下であることが望ましい。
しかし、50μmという厚さはガラスの取り扱いを非常
に困難にしており、歩留りを低下させる一因となってい
る。しかも、現在でも解像度が更に高い16本/mmと
いうイメージセンサが存在しており、ファクシミリのG
4規格の普及に伴ってこの解像度が一般化していくもの
と思われる。ところがこれに対応してガラスを更に薄膜
化することは上記理由から困難である。従って、この技
術は低解像度に限られてしまうという欠点を持ってい
る。
First, as shown in FIG.
The problem of a completely contact type image sensor having a structure using thin film glass will be described. An important point in this image sensor is the thin film glass 9. The thickness of the thin film glass 9 has a great influence on the resolution, and it is desirable that the thickness is 50 μm or less in the case of a currently general resolution of about 8 lines / mm.
However, the thickness of 50 μm makes handling of the glass very difficult, which is one of the factors that lower the yield. In addition, there is still an image sensor with a higher resolution of 16 lines / mm, and the facsimile G
This resolution is expected to be generalized with the spread of the four standards. However, it is difficult to further reduce the thickness of the glass in response to this. Thus, this technique has the disadvantage of being limited to low resolution.

【0008】ガラスが薄いということは、イメージセン
サの寿命にも影響を与えている。上述したように、原稿
4とセンサ素子7との距離は50μm以下に保たれなけ
ればならないので、いわゆる原稿の浮きが許されない。
このため、ローラ10の押しつけ圧力を高くしておく必
要がある。押しつけ圧力を強くすれば当然摩擦が大きく
なりイメージセンサを傷つけやすくなる。更に、この型
のイメージセンサの場合、静電気を防止するために薄膜
ガラス9に透明導電膜の層を形成することがあるが、こ
れら摩擦によって剥がれてしまうという問題も起こる。
[0008] The thinness of the glass also affects the life of the image sensor. As described above, since the distance between the document 4 and the sensor element 7 must be kept at 50 μm or less, so-called floating of the document is not allowed.
For this reason, it is necessary to increase the pressing pressure of the roller 10. If the pressing pressure is increased, the friction naturally increases and the image sensor is easily damaged. Further, in the case of this type of image sensor, a layer of a transparent conductive film is sometimes formed on the thin film glass 9 in order to prevent static electricity, but there is a problem that the layer is peeled off due to the friction.

【0009】また、このイメージセンサのもう一つの欠
点は、イメージセンサ基板の幅Bを広くとらなければな
らないことである。図7において、原稿4をイメージセ
ンサに密着させるためには、ローラ10が原稿4を巻き
こむためにイメージセンサ基板の幅Bを5mm程度以上
にしておく必要がある。ところで、一般に、イメージセ
ンサ基板のコストは基板の大きさに比例するが、この場
合、長手方向は原稿4のサイズで決まるため、結局基板
幅Bがコストを決めてしまう。イメージセンサ部に必要
とされる幅としては、ポリシリコン薄膜トランジスタを
使って駆動回路一体型のものなどでは1mm以下である
ので、図7に示すイメージセンサでは、4倍のコストを
無駄に捨てることになってしまう。
Another disadvantage of this image sensor is that the width B of the image sensor substrate must be increased. In FIG. 7, in order to bring the original 4 into close contact with the image sensor, the width B of the image sensor substrate needs to be about 5 mm or more in order for the roller 10 to wind the original 4. In general, the cost of the image sensor substrate is proportional to the size of the substrate. In this case, since the longitudinal direction is determined by the size of the document 4, the substrate width B ultimately determines the cost. Since the width required for the image sensor unit is 1 mm or less for a drive circuit integrated type using a polysilicon thin film transistor, the image sensor shown in FIG. 7 wastes four times the cost. turn into.

【0010】次に、図8に示される、ファイバーアレイ
プレートを用いた完全密着型イメージセンサの問題点に
ついて説明する。光ガイドに関してはファイバープレー
トの他にも色々なものが提案されているが、それぞれ種
々の問題があり、今のとこれろファイバアレイプレート
が最も優れたものである。この場合には、図8からも分
かるように、イメージセンサ素子の幅Bは上述したよう
に1mm程度まで狭くでき、コストの問題は生じない。
また、ファイバアレイプレートは原理上原稿の浮きに強
いため、上述したような問題点はない。しかし、別の要
因で解像度が劣化するという問題がある。
[0010] Next, the problem of the complete contact type image sensor using the fiber array plate shown in FIG. 8 will be described. Various types of light guides have been proposed in addition to the fiber plate, but each has various problems, and the fiber array plate is the most excellent at present. In this case, as can be seen from FIG. 8, the width B of the image sensor element can be reduced to about 1 mm as described above, and there is no problem of cost.
Further, since the fiber array plate is in principle resistant to lifting of the original, there is no problem as described above. However, there is a problem that the resolution is deteriorated by another factor.

【0011】図9は、ファイバアレイプレートを使った
場合の照明光、信号光の経路を示している。図9(a)
は各ファイバ12A間が透明なガラスで形成されるファ
イバアレイプレートを使った例である。説明をしやすく
するためにイメージセンサ基板の長手方向の断面図を示
しており、照明光5の入射は実際には、紙面に垂直方向
から斜めに入ることになる。これが原稿4で反射して信
号光6となり、ファイバ12A中を全反射をくり返して
センサ素子7に到達する。しかし全反射条件とならなか
ったものはCで示すように進行し、これが漏れ光14と
なって他のセンサ素子に入り解像度の低下をひき起こ
す。
FIG. 9 shows the paths of illumination light and signal light when a fiber array plate is used. FIG. 9 (a)
Is an example using a fiber array plate in which the space between the fibers 12A is formed of transparent glass. A cross-sectional view in the longitudinal direction of the image sensor substrate is shown for ease of explanation, and the illumination light 5 actually enters obliquely from a direction perpendicular to the paper surface. This is reflected on the document 4 to become a signal light 6, which reaches the sensor element 7 by repeating total reflection in the fiber 12 </ b> A. However, those which did not satisfy the condition for total reflection proceed as shown by C, and this becomes leakage light 14 and enters another sensor element, causing a reduction in resolution.

【0012】図9(b)は、この影響を軽減するために
ファイバ間が透明なものと不透明なもの2種類のファイ
バアレイプレートを用いた例であって、伊藤 他,シャ
ープ技報,第43号,1989年,12月,第29頁〜
第34頁に詳述されている。図9(b)は、基板の副走
査方向(基板幅の狭い方)の断面を示している。同図に
おいて、7はセンサ素子、8は接着層、12Bは光吸収
層を被覆したファイバ、12Aはファイバ間が透明なフ
ァイバ、13は遮光板、4は原稿である。このようにす
ることによって同図中Cのように進む漏れ光14の影響
を軽減することができる。しかし、それは完全ではな
い。また、そもそもハイブリッド構成にすることによっ
てファイバアレイプレートのコストが増加し、ロッドレ
ンズアレイを取り除いても逆に高価なものになってしま
うという欠点がある。
FIG. 9 (b) shows an example in which two types of fiber array plates having a transparent fiber and an opaque fiber are used in order to reduce this effect. Ito et al., Sharp Technical Report, No. 43 No., 1989, December, p. 29-
It is described in detail on page 34. FIG. 9B shows a cross section of the substrate in the sub-scanning direction (narrower substrate width). In the figure, 7 is a sensor element, 8 is an adhesive layer, 12B is a fiber coated with a light absorbing layer, 12A is a fiber having a transparent space between fibers, 13 is a light shielding plate, and 4 is a document. By doing so, it is possible to reduce the influence of the leaked light 14 traveling as indicated by C in FIG. But it is not perfect. In addition, there is a disadvantage that the cost of the fiber array plate increases by adopting the hybrid configuration in the first place, and even if the rod lens array is removed, the cost becomes high.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の完全密着型イメ
ージセンサは、照明光を放射する光源と、受光面内に表
裏を貫通する少なくとも一つ以上の導光孔を有し前記受
光面に入射する光の強度に応じて光電変換を行なうセン
サ素子を含むイメージセンサ基板と、一方の面から入射
した光を他方の面に導く少なくとも一つ以上の光ガイド
からなる導光手段とを、前記光源からの前記照明光の放
射方向に関してこの順に配置し、前記センサ素子部に対
応する前記導光手段の各光ガイドの断面の少なくとも一
部が前記受光面で覆われており、前記光源が放射する前
記照明光を前記センサ素子に設けた前記導光孔を通して
前記導光手段の一方の面に入射させ、前記導光手段の他
方の面内に送られてくる原稿の面に導き、前記原稿の面
で反射した光を前記導光手段の前記他方の面から一方の
面に導いて前記センサ素子の受光面に入射させるように
構成したことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a complete contact type image sensor having a light source for emitting illumination light, and at least one or more light guide holes penetrating the front and back sides of the light receiving surface. An image sensor substrate including a sensor element that performs photoelectric conversion according to the intensity of incident light, and a light guiding unit including at least one or more light guides for guiding light incident from one surface to the other surface, arranged in this order in the radial direction of the illumination light from the light source, versus the sensor element
At least one of the cross sections of the respective light guides of the corresponding light guiding means.
Part is covered with the light receiving surface, the illumination light emitted from the light source is incident on one surface of the light guide means through the light guide hole provided in the sensor element, the other of the light guide means The light guide unit is configured to guide the light reflected from the surface of the document to the surface of the document sent to the surface, guide the light reflected from the surface of the document from the other surface of the light guide unit to one surface, and make the light incident on the light receiving surface of the sensor element. It is characterized by having done.

【0014】[0014]

【実施例】次に、本発明の好適な実施例について図面を
参照して説明する。図1は、本発明の完全密着型イメー
ジセンサの基本的な構成を示す斜視図である。以下、従
来使用されているファイバアレイプレートを使って説明
するが、光ガイドはファイバに限らず、少なくともその
断面積がセンサ素子の受光面の大きさ以下であればどの
ようなものでもよい。
Next, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a basic configuration of a complete contact type image sensor of the present invention. Hereinafter, a description will be given using a conventionally used fiber array plate. However, the light guide is not limited to the fiber, and may be any type as long as at least its cross-sectional area is smaller than the size of the light receiving surface of the sensor element.

【0015】図1を参照すると、本発明の完全密着型イ
メージセンサでは、LEDアレイ1から出た照明光5
は、従来の完全密着型イメージセンサとは異なり、ファ
イバアレイプレート11には直接入らずイメージセンサ
基板2上のセンサ素子7を照明する。個々のセンサ素子
7には後述するように、複数の孔が開いており、これら
を通して照明光5はファイバ12に入り原稿4を照明す
る。原稿4で反射された信号光6は、ファイバ12中を
逆行しセンサ素子7に入射しここで信号を読み取る。な
お、図1において、8はイメージセンサ基板2とファイ
バアレイプレート11との接着層、10はローラであ
る。
Referring to FIG. 1, in the complete contact type image sensor of the present invention, the illumination light 5
Unlike the conventional complete contact type image sensor, illuminates the sensor element 7 on the image sensor substrate 2 without directly entering the fiber array plate 11. As will be described later, the individual sensor elements 7 have a plurality of holes, through which the illumination light 5 enters the fiber 12 and illuminates the original 4. The signal light 6 reflected by the document 4 travels backward in the fiber 12 and enters the sensor element 7 where the signal is read. In FIG. 1, reference numeral 8 denotes an adhesive layer between the image sensor substrate 2 and the fiber array plate 11, and reference numeral 10 denotes a roller.

【0016】図2は、本発明の第1の実施例におけるセ
ンサ素子7とファイバアレイプレート部の詳細を示す図
であり、8本/mmの解像度を有する1次元センサアレ
イの一部分の斜視図である。同図において、15はガラ
ス基板、16Aは膜厚100nmのクロムからなる不透
明共通電極で、アレイにそって少なくとも読み取り幅以
上の長さを有し、回路構成によってセンサ用電源、検出
回路、アース等に接続されている。この共通電極16A
が不透明なのは、LEDアレイ1からの照明光5を感光
層17Aに直接当てないためである。17Aは、不透明
共通電極16A側から、0.5〜2μmの厚さの非晶質
シリコン膜、ポロンをドーピングし抵抗を下げた30n
mの厚さのp型非晶質シリコン膜を積層した感光層で、
それぞれの層をプラズマCVD装置で形成したものであ
る。18Aはインジウム酸化スズからなる透明個別電極
であり、各画素毎に分離されており読み取りスイッチに
接続されている。このイメージセンサ基板は透明な接着
層8を介して光吸収層19で覆ったファイバ12Bをア
レイ状に束ねたファイバアレイプレートに接着されてい
る。
FIG. 2 is a view showing details of the sensor element 7 and the fiber array plate in the first embodiment of the present invention, and is a perspective view of a part of a one-dimensional sensor array having a resolution of 8 lines / mm. is there. In the figure, 15 is a glass substrate, 16A is an opaque common electrode made of chromium having a thickness of 100 nm, and has a length at least equal to or greater than the read width along the array. It is connected to the. This common electrode 16A
Is opaque because the illumination light 5 from the LED array 1 is not directly applied to the photosensitive layer 17A. Reference numeral 17A denotes an amorphous silicon film having a thickness of 0.5 to 2 μm from the side of the opaque common electrode 16A, and 30 n in which polon is doped to reduce the resistance.
a photosensitive layer in which a p-type amorphous silicon film having a thickness of m
Each layer is formed by a plasma CVD apparatus. Reference numeral 18A denotes a transparent individual electrode made of indium tin oxide, which is separated for each pixel and connected to a reading switch. This image sensor substrate is adhered to a fiber array plate in which fibers 12B covered with a light absorbing layer 19 are bundled in an array via a transparent adhesive layer 8.

【0017】不透明共通電極16A,感光層17Aおよ
び透明個別電極18Aには本発明の特徴である導光用の
孔が形成されている。孔の大きさはファイバ12Bの径
が25μmであることから、不透明共通電極側からそれ
ぞれ、4μm、6μmおよび6μmとした。不透明共通
電極16Aの穴径が小さいのは、光の回折により感光層
17Aの側面に光が入るのをできるだけ避けるためであ
る。また、この孔は1本のファイバに対して平均2〜3
個の割合で重なるような密度で形成してある。この割合
が高すぎると、肝心のセンサ素子の受光面積が少なくな
ってしまい信号量が低下する。逆にこの割合が低すぎる
と、照明光の照度が低下してしまい、やはり信号量が低
下する。従って、この割合には解像度とファイバ径に対
して適当な範囲が存在する。
The opaque common electrode 16A, the photosensitive layer 17A and the transparent individual electrode 18A are provided with a light guiding hole which is a feature of the present invention. Since the diameter of the fiber 12B was 25 μm, the holes were 4 μm, 6 μm and 6 μm from the opaque common electrode side, respectively. The reason why the hole diameter of the opaque common electrode 16A is small is to prevent light from entering the side surface of the photosensitive layer 17A due to light diffraction as much as possible. Also, this hole has an average of 2 to 3 per fiber.
It is formed with a density that overlaps at the rate of individual pieces. If this ratio is too high, the light receiving area of the essential sensor element is reduced, and the signal amount is reduced. Conversely, if this ratio is too low, the illuminance of the illumination light will decrease, and the signal amount will also decrease. Therefore, this ratio has an appropriate range for the resolution and the fiber diameter.

【0018】LEDアレイ1から出た照明光5は導光孔
を通り、側面が光吸収層19で覆われたファイバ12B
を通って原稿4に到達する。ここで反射された光が信号
光6となってファイバ12B中を戻り、センサ素子に到
達するわけである。先に述べたように、ファイバ12B
の側面は光吸収層19で覆われており、1つのファイバ
12Bに入った光は照明光にしても信号光にしても他に
漏れることがない。したがって、本実施例の完全密着型
イメージセンサでは、ファイバアレイプレートを使って
いるにも関わらず従来のような解像度の劣化がない。
The illuminating light 5 emitted from the LED array 1 passes through the light guide hole, and the fiber 12B whose side surface is covered with the light absorbing layer 19
And reaches the document 4. The light reflected here becomes the signal light 6, returns in the fiber 12B, and reaches the sensor element. As mentioned earlier, fiber 12B
Is covered with the light absorbing layer 19, and the light entering one fiber 12B does not leak to the other, whether it is illumination light or signal light. Therefore, in the perfect contact type image sensor of the present embodiment, the resolution is not deteriorated unlike the related art even though the fiber array plate is used.

【0019】ここで、従来の完全密着型イメージセンサ
の一例として図7に示した、薄膜ガラスを用いたイメー
ジセンサのように、センサ素子に1個の大きな孔の開い
たものと本実施例で用いたファイバアレイプレートとを
組み合わせたのでは効果的な読み取りができない。なぜ
なら、孔の中に完全に含まれてしまうファイバの部分は
読み取りができないし、一方、孔から離れた感光層の部
分には光が入らないため読み取りができず、結局、孔の
周辺で孔と感光層の部分とを両方含むファイバに対応し
ている部分でしか信号検出ができない。従って、信号量
は非常に小さくなるからである。
Here, as an example of a conventional complete contact type image sensor, an image sensor using a thin film glass as shown in FIG. Combination with the used fiber array plate does not allow effective reading. This is because the portion of the fiber that is completely contained in the hole cannot be read, while the portion of the photosensitive layer far from the hole cannot be read because light does not enter, and eventually the hole near the hole The signal can be detected only in the portion corresponding to the fiber including both the photosensitive layer and the photosensitive layer. Therefore, the signal amount becomes very small.

【0020】尚本実施例において、導光孔の形状は円形
に特定されていいるわけではない。図3に、図2の構成
の平面図を示す。図3(a)は円形の導光孔の場合を示
し、図3(b)はスリット状の導光孔の場合を示す。両
図において、18Aは透明個別電極、20Aおよび20
Bは導光孔、12Bはファイバを示している。このよう
にファイバ12Bの断面内に導光孔とセンサの受光部と
が同時に含まれるような形状ならばどのような形の導光
孔でも本発明の目的を達成することができる。
In this embodiment, the shape of the light guide hole is not limited to a circular shape. FIG. 3 shows a plan view of the configuration of FIG. FIG. 3A shows a case of a circular light guide hole, and FIG. 3B shows a case of a slit light guide hole. In both figures, 18A is a transparent individual electrode, 20A and 20A.
B indicates a light guide hole, and 12B indicates a fiber. As described above, the object of the present invention can be achieved with any shape of the light guide hole as long as the light guide hole and the light receiving portion of the sensor are simultaneously included in the cross section of the fiber 12B.

【0021】次に図4は、本発明を2次元完全密着型イ
メージセンサに適用した例を示す第2の実施例の断面図
である。2次元イメージセンサにおいては、センサ素子
とスイッチング素子のペアが2次元的にマトリクス状に
配置されており、図4はそのセンサ素子部の断面を示し
ている。図4において、15はガラス基板、18Bは1
50nmの厚さのタングステンよりなる不透明個別電極
で、非晶質シリコン薄膜トランジスタあるいは多結晶シ
リコン薄膜トランジスタ等のスイッチング素子(図示せ
ず)に接続されている。17Bは不透明個別電極18B
側から、膜厚100nmのボロンをドーピングしたp型
非晶質シリコン層、膜厚0.5〜2μmで成膜時にシラ
ンガスに対してジボランを3ppm程度混合して形成し
た非晶質シリコン膜、リンをドーピングし抵抗を下げた
30nmの厚さのn型非晶質シリコン膜を積層した、い
わゆるpin構造の感光層で、それぞれの層をプラズマ
CVD装置で形成したものである。感光層17Bは平面
的なパターンが、不透明個別電極18Bの平面パターン
より小さくなるようにして完全に乗った形で形成されて
いる。21は感光層17Bの側壁と不透明個別電極層1
8Bとを覆う保護絶縁層で、感光層17Bの受光面上に
は形成されていない。この層は二酸化シリコンで形成さ
れるが、窒化シリコン膜であってもよい。この層の主な
役割は、インジウム酸化スズからなる透明共通電極16
Bと個別電極18Bとの間の絶縁と、感光層17Bの側
面の保護である。以上のイメージセンサ基板は、接着層
8を介して、ファイバ12Bを集積したプレートに接着
されている。4は原稿を示している。
FIG. 4 is a sectional view of a second embodiment showing an example in which the present invention is applied to a two-dimensional perfect contact image sensor. In a two-dimensional image sensor, pairs of sensor elements and switching elements are two-dimensionally arranged in a matrix, and FIG. 4 shows a cross section of the sensor element portion. In FIG. 4, 15 is a glass substrate, 18B is 1
An opaque individual electrode made of tungsten having a thickness of 50 nm, which is connected to a switching element (not shown) such as an amorphous silicon thin film transistor or a polycrystalline silicon thin film transistor. 17B is an opaque individual electrode 18B
From the side, a p-type amorphous silicon layer doped with boron having a thickness of 100 nm, an amorphous silicon film formed by mixing about 3 ppm of diborane with silane gas during deposition to a thickness of 0.5 to 2 μm, Is a photosensitive layer having a so-called pin structure in which an n-type amorphous silicon film having a thickness of 30 nm and having a reduced resistance is laminated, and each layer is formed by a plasma CVD apparatus. The photosensitive layer 17B is formed in such a manner that the planar pattern is smaller than the planar pattern of the opaque individual electrode 18B and is completely overlaid. 21 is a side wall of the photosensitive layer 17B and the opaque individual electrode layer 1
8B, and is not formed on the light receiving surface of the photosensitive layer 17B. This layer is formed of silicon dioxide, but may be a silicon nitride film. The main role of this layer is to form a transparent common electrode 16 made of indium tin oxide.
B and insulation between the individual electrode 18B and protection of the side surface of the photosensitive layer 17B. The above-described image sensor substrate is bonded to a plate on which the fibers 12B are integrated via the bonding layer 8. Reference numeral 4 denotes an original.

【0022】この例ではセンサが2次元であるため光源
(図示せず)は面光源である必要があり、液晶ディスプ
レイのバックライト等と同様な光源となっている。導光
孔の形状、大きさ、密度、光の経路等は、第1の実施例
におけると基本的に同じである。
In this example, since the sensor is two-dimensional, the light source (not shown) must be a surface light source, and is a light source similar to a liquid crystal display backlight or the like. The shape, size, density, light path, and the like of the light guide hole are basically the same as those in the first embodiment.

【0023】この実施例の特徴は、感光層17Bがセン
サ素子ごとに完全に分離されていて、しかも不透明個別
電極18Bの上にこれをはみ出さないように形成されて
いることである。不透明個別電極18Bより感光層17
Bを小さくすることにより、照明孔が感光層17Bに直
接に入ることを防ぎ信号の明暗比が劣化するのを防止す
ることができることと、完全分離をすることによりセン
サ素子として性能の良いpin構造を採用することがで
きるという利点を持っている。図2に示した第1の実施
例においては、不透明共通電極16Aが十分な大きさを
持ち感光層17Aに照明光5が直接入るのを防いでいた
が、2次元イメージセンサにおいては1ドット当りの面
積が限られているため、図2と同じ構成をとるのが困難
である。本実施例はその問題を解決した構造となってい
る。
The feature of this embodiment is that the photosensitive layer 17B is completely separated for each sensor element and is formed so as not to protrude above the opaque individual electrode 18B. The photosensitive layer 17 from the opaque individual electrode 18B
By making B smaller, it is possible to prevent the illumination hole from directly entering the photosensitive layer 17B and to prevent the light / dark ratio of the signal from deteriorating. Has the advantage that it can be adopted. In the first embodiment shown in FIG. 2, the opaque common electrode 16A has a sufficient size to prevent the illumination light 5 from directly entering the photosensitive layer 17A. Is limited, it is difficult to adopt the same configuration as in FIG. This embodiment has a structure that solves the problem.

【0024】次に図5に、本発明の第3の実施例の平面
図および断面図を示す。本実施例は1次元完全密着型イ
メージセンサで、基板側に不透明個別電極を形成し、し
かも感光層をセンサ素子毎に分離しない構造にした例で
ある。図5(a),(b)において、15はガラス基
板、18Cは厚さ100nmのクロムからなる不透明個
別電極である。17Cは不透明個別電極18C側から、
0.5〜2μmの厚さの非晶質シリコン膜、フォスフィ
ンとシランとメタンとの混合ガスを原料として形成され
るリンをドーピングした膜厚100nmの炭化シリコン
膜を積層した感光層で、図5(a)に示されるように、
櫛状にパターニングされている。このままでは不透明個
別電極18Cからはみ出る部分の感光層に照明光が入っ
て信号の明暗比が劣化するので、はみ出し部分の下に
は、100nmの厚さのクロムによる遮光膜22が形成
されていて感光層17Cへの照明光の直接入射を防いで
いる。このように、この構造の利点は、感光層17Cに
対する遮光が十分なされることから、センサ素子部付近
がコンパクトに形成できることにある。23は、遮光膜
22と不透明個別電極18Cとを絶縁するための二酸化
シリコンからなる絶縁膜、16Cは、インジウム酸化リ
ンからなる透明共通電極、20は導光孔である。遮光膜
22は一定電位に接続されており、不透明個別電極18
Cとの間に静電容量を形成してセンサ素子に対する付加
容量の役割も果たしている。受光面は感光層17Cのう
ち導光孔20が多数アレイ状に配列されている部分であ
る。
Next, FIG. 5 shows a plan view and a sectional view of a third embodiment of the present invention. This embodiment is an example of a one-dimensional perfect contact type image sensor in which opaque individual electrodes are formed on the substrate side and the photosensitive layer is not separated for each sensor element. 5A and 5B, reference numeral 15 denotes a glass substrate, and reference numeral 18C denotes an opaque individual electrode made of chromium having a thickness of 100 nm. 17C is from the opaque individual electrode 18C side,
FIG. 5 shows a photosensitive layer in which an amorphous silicon film having a thickness of 0.5 to 2 μm and a phosphorus-doped 100 nm-thick silicon carbide film formed using a mixed gas of phosphine, silane, and methane as a raw material are laminated. As shown in (a),
It is patterned in a comb shape. In this state, illumination light enters a portion of the photosensitive layer that protrudes from the opaque individual electrode 18C, and the light / dark ratio of the signal is degraded. This prevents direct illumination light from entering the layer 17C. As described above, the advantage of this structure is that the light-shielding of the photosensitive layer 17C is sufficient, so that the vicinity of the sensor element can be formed compact. Reference numeral 23 denotes an insulating film made of silicon dioxide for insulating the light shielding film 22 and the opaque individual electrode 18C, 16C denotes a transparent common electrode made of indium phosphorus oxide, and 20 denotes a light guide hole. The light-shielding film 22 is connected to a constant potential, and
A capacitance is formed between C and C to serve as an additional capacitance for the sensor element. The light receiving surface is a portion of the photosensitive layer 17C where a large number of light guide holes 20 are arranged in an array.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による完全
密着型イメージセンサは、センサ素子に開けた導光孔を
通して照明光をファイバに導き、原稿で反射した光を読
み取るので、従来のファイバアレイプレートを使った完
全密着型イメージセンサに比べてクロストークが少な
い。しかも、光吸収層で覆ったファイバを用いてファイ
バアレイプレートをハイブリッド構造にする等の特殊な
方法をとらなくても済むので、低コストである。
As described above, in the complete contact type image sensor according to the present invention, the illumination light is guided to the fiber through the light guide hole formed in the sensor element, and the light reflected by the original is read. Crosstalk is less than that of a full contact image sensor using a plate. In addition, since there is no need to take a special method such as making the fiber array plate a hybrid structure using the fibers covered with the light absorbing layer, the cost is low.

【0026】これまで完全密着に適しているといわれな
がらクロストークやコストの点で問題があるために使わ
れてこなかった、ファイバアレイプレートをはじめとす
る従来の光ガイドの欠点を克服できることで、本発明に
より、高解像度で低コストの完全密着型イメージセンサ
を実現できる。
By overcoming the drawbacks of conventional light guides such as fiber array plates, which have not been used because of problems in terms of crosstalk and cost, which have been said to be suitable for perfect adhesion, According to the present invention, a high-resolution and low-cost complete contact image sensor can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の基本的な構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a basic configuration of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the first embodiment of the present invention.

【図3】分図(a)は、本発明の第1の実施例における
導光孔の一例を示す平面図である。分図(b)は、本発
明の第1の実施例における導光孔の他の例を示す平面図
である。
FIG. 3A is a plan view illustrating an example of a light guide hole according to the first embodiment of the present invention. FIG. 5B is a plan view showing another example of the light guide hole in the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a second embodiment of the present invention.

【図5】分図(a)は、本発明の第3の実施例の平面図
である。分図(b)は、本発明の第3の実施例の断面図
である。
FIG. 5 (a) is a plan view of a third embodiment of the present invention. (B) is a sectional view of the third embodiment of the present invention.

【図6】従来の密着型イメージセンサの一例の斜視図で
ある。
FIG. 6 is a perspective view of an example of a conventional contact image sensor.

【図7】従来の完全密着型イメージセンサの一例の斜視
図である。
FIG. 7 is a perspective view of an example of a conventional complete contact type image sensor.

【図8】従来の完全密着型イメージセンサの他の例の斜
視図である。
FIG. 8 is a perspective view of another example of the conventional complete contact type image sensor.

【図9】図8に示す完全密着型イメージセンサにおける
信号光の拡散を示す図である。
9 is a diagram showing diffusion of signal light in the complete contact type image sensor shown in FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 LEDアレイ 2 イメージセンサ基板 3 ロッドレンズアレイ 4 原稿 5 照明光 6 信号光 7 センサ素子 8 接着層 9 薄膜ガラス 10 ローラ 11 ファイバアレイプレート 12,12A,12B ファイバ 13 遮光板 14 漏れ光 15 ガラス基板 16A,16B,16C 共通電極 17A,17B,17C 感光層 18A,18B,18C 個別電極 19 光吸収層 20,20A,20B 導光孔 21 保護絶縁層 22 遮光膜 23 絶縁膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 LED array 2 Image sensor board 3 Rod lens array 4 Original 5 Illumination light 6 Signal light 7 Sensor element 8 Adhesive layer 9 Thin film glass 10 Roller 11 Fiber array plate 12, 12A, 12B Fiber 13 Shielding plate 14 Leakage light 15 Glass substrate 16A , 16B, 16C Common electrode 17A, 17B, 17C Photosensitive layer 18A, 18B, 18C Individual electrode 19 Light absorbing layer 20, 20A, 20B Light guide hole 21 Protective insulating layer 22 Light shielding film 23 Insulating film

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 照明光を放射する光源と、受光面内に表
裏を貫通する少なくとも一つ以上の導光孔を有し前記受
光面に入射する光の強度に応じて光電変換を行なうセン
サ素子を含むイメージセンサ基板と、一方の面から入射
した光を他方の面に導く少なくとも一つ以上のその側面
を光吸収層により覆われた光ガイドからなる導光手段と
を、前記光源からの前記照明光の放射方向に関してこの
順に配置し、前記導光手段の各光ガイドの断面は前記センサ素子の受
光面より小さく且つ、前記断面内に前記導光孔と前記受
光部との一部を少なくとも含み、 前記光源が放射する前記照明光を前記センサ素子に設け
た前記導光孔を通して前記導光手段の一方の面に入射さ
せ、前記導光手段の他方の面内に送られてくる原稿の面
に導き、前記原稿の面で反射した光を前記導光手段の前
記他方の面から一方の面に導いて前記センサ素子の受光
面に入射させるように構成したことを特徴とする完全密
着型イメージセンサ。
A light source for emitting illumination light; and a sensor element having at least one or more light guide holes penetrating inside and outside the light receiving surface and performing photoelectric conversion according to the intensity of light incident on the light receiving surface. And at least one or more of its side surfaces that guide light incident from one surface to the other surface
And a light guiding means comprising a light guide covered by a light absorbing layer are arranged in this order with respect to the direction of emission of the illumination light from the light source, and the cross section of each light guide of the light guiding means is a light receiving section of the sensor element.
The light guide hole and the receiving hole are smaller than an optical surface and are within the cross section.
At least a part of the light portion, the illumination light emitted by the light source is made incident on one surface of the light guide means through the light guide hole provided in the sensor element, and the other surface of the light guide means is provided. And the light reflected on the surface of the document is guided from the other surface of the light guide means to one surface and is incident on the light receiving surface of the sensor element. A completely-contact type image sensor characterized by the following.
【請求項2】 請求項1記載の完全密着型イメージセン
サにおいて、 前記導光手段上の前記センサ素子に設けた円形導光孔の
径が単一の前記光ガイドの径より小さいことを特徴とす
る完全密着型イメージセンサ。
2. A perfect contact type image sensor according to claim 1.
The circular light guide hole provided in the sensor element on the light guide means.
Characterized in that the diameter is smaller than the diameter of the single light guide
Completely contact type image sensor.
【請求項3】 請求項1記載の完全密着型イメージセン
サにおいて、 前記導光手段上の前記センサ素子に設けたスリット状の
導光孔の短辺が単一の前記光ガイドの径より小さいこと
を特徴とする完全密着型イメージセンサ。
3. A completely contact type image sensor according to claim 1.
In service, slit-like provided in the sensor element on the light guiding means
The short side of the light guide hole is smaller than the diameter of the single light guide
A complete contact type image sensor characterized by the following.
【請求項4】 請求項1,請求項2又は請求項3記載の
完全密着型イメージセンサにおいて、 前記センサ素子が、前記光源からの前記照明光の前記放
射方向に関して、不透明共通電極と、光電変換を行う感
光層と、センサ素子の感光領域を決める透明個別電極と
が、この順に積層された構造であることを特徴とする完
全密着型イメージセンサ。
4. The perfect contact type image sensor according to claim 1, wherein the sensor element has an opaque common electrode and a photoelectric conversion element in the radiation direction of the illumination light from the light source. And a transparent individual electrode for determining a photosensitive region of the sensor element are stacked in this order.
【請求項5】 請求項1,請求項2又は請求項3記載の
完全密着型イメージセンサにおいて、 前記センサ素子が、前記光源からの前記照明光の前記放
射方向に関して、センサ素子の感光領域を決める不透明
個別電極と、平面形状が前記不透明個別電極の平面形状
内に含まれる形状の光電変換を行うための感光層と、前
記不透明電極と前記感光層とを覆って前記感光層上に開
口部を有する絶縁膜層と、透明共通電極とが、この順に
積層された構造であることを特徴とする完全密着型イメ
ージセンサ。
5. The complete contact type image sensor according to claim 1, wherein the sensor element determines a photosensitive area of the sensor element with respect to the radiation direction of the illumination light from the light source. An opaque individual electrode, a photosensitive layer for performing photoelectric conversion having a planar shape included in the planar shape of the opaque individual electrode, and an opening on the photosensitive layer covering the opaque electrode and the photosensitive layer. A completely-contact image sensor, wherein the insulating film layer and the transparent common electrode are laminated in this order.
【請求項6】 請求項1,請求項2又は請求項3記載の
完全密着型イメージセンサにおいて、 前記センサ素子が、前記光源からの前記照明光の前記放
射方向に関して、遮光層と、前記遮光層を覆う絶縁膜層
と、その一部が前記絶縁膜層を介して前記遮光層に重な
り前記絶縁膜層に重ならない部分によりセンサ素子の感
光領域を決める不透明個別電極と、平面形状が前記遮光
層の平面形状および前記不透明個別電極の平面形状の合
成された形状内に含まれる形状の光電変換を行う感光層
と、透明共通電極とが、この順に積層された構造である
ことを特徴とする完全密着型イメージセンサ。
6. The complete contact type image sensor according to claim 1, wherein the sensor element includes a light-shielding layer and a light-shielding layer with respect to the radiation direction of the illumination light from the light source. An insulating film layer that covers the light-shielding layer, a part of which overlaps the light-shielding layer via the insulating film layer, and an opaque individual electrode that determines a photosensitive area of the sensor element by a portion that does not overlap the insulating film layer; A photosensitive layer that performs photoelectric conversion of a shape included in the combined shape of the planar shape of the opaque individual electrode and the transparent common electrode, and a transparent common electrode, which is stacked in this order. Contact image sensor.
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