JP2917553B2 - Aging method for semiconductor device - Google Patents

Aging method for semiconductor device

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JP2917553B2
JP2917553B2 JP3054315A JP5431591A JP2917553B2 JP 2917553 B2 JP2917553 B2 JP 2917553B2 JP 3054315 A JP3054315 A JP 3054315A JP 5431591 A JP5431591 A JP 5431591A JP 2917553 B2 JP2917553 B2 JP 2917553B2
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electrode
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はチップ状態の半導体をエ
−ジングする方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for aging a semiconductor in a chip state.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSI等の半導体装置は、通常、その製
造工程において、パッケ−ジング後、即ち、組立て後に
エ−ジングと呼ばれる加速寿命試験が行われる。
2. Description of the Related Art A semiconductor device such as an LSI is usually subjected to an accelerated life test called aging after packaging, that is, after assembling in a manufacturing process.

【0003】ここで予め代表的な従来の製造工程につい
て触れておくと、先ず、前工程と呼ばれる工程におい
て、所定の回路機能が作り込まれたLSIチップを多数
含むウェハが完成し、プロ−ブ検査でウェハ内のLSI
チップは一個一個所定の回路機能が正常に動作するか否
かを検査される。その後、後工程と呼ばれる工程に入
り、先ずダイシング工程でウェハ内のLSIチップは一
個一個分離され、プロ−ブ検査で良品とされたLSIチ
ップはパッケ−ジングされる。パッケ−ジング工程で
は、LSIチップはリ−ドピンとともに樹脂で封止され
たり、セラミックスの容器に気密封止され、完成品とし
ての形状を整える。また、テ−プ上に形成されたリ−ド
端子にLSIチップの電極を接続したTAB(Tape Auto
mated Bonding)として完成品となる。
Here, a typical conventional manufacturing process will be described in advance. First, in a process called a pre-process, a wafer including a large number of LSI chips having a predetermined circuit function is completed, and a probe is formed. LSI in wafer by inspection
Each chip is inspected to determine whether a predetermined circuit function operates normally. Thereafter, a process called a post-process is performed. First, in a dicing process, the LSI chips in the wafer are separated one by one, and the LSI chips which are determined to be non-defective by the probe inspection are packaged. In the packaging step, the LSI chip is sealed with a resin together with a lead pin or hermetically sealed in a ceramic container to adjust the shape as a finished product. Also, a TAB (Tape Auto Connect) in which an electrode of an LSI chip is connected to a lead terminal formed on the tape.
matted bonding).

【0004】次に前述のような完成品としての形状を整
えたLSIは、エ−ジング工程に入る。エ−ジングと
は、個々の半導体装置に所定の電圧を印加して所定の雰
囲気温度、例えば、125℃で所定時間、例えば、4〜
96時間動作させる加速寿命試験である。その目的は、
周知のように、半導体装置の回路動作を安定化させると
ともに、寿命の短い半導体装置を不良品として顕在化さ
せることにある。具体的な方法は、通常、エ−ジングに
必要な配線、部品を施したエ−ジングボ−ド上のソケッ
トにLSIを収納し、高温恒温槽の中で電気的動作を行
う。この工程で、プロ−ブ検査で良品とされたLSIで
あっても、温度ストレス、電気的ストレスを所定時間加
えられることによってある割合で不良となる。このよう
なLSIは前工程でなんらかの不良要因が作り込まれた
にもかかわらず、プロ−ブ検査では不良とはならず、エ
−ジング工程で不良現象が顕在化する。エ−ジング工程
で発生した不良品は次の選別工程で除去され、良品のみ
が出荷される。従って適切な条件でエ−ジングを行うこ
とにより、実使用に十分な耐用年数をもった製品のみを
出荷できるようになり、エ−ジングは半導体装置の製造
工程で必要不可欠な工程となっている。
[0004] Next, the LSI having the shape as a finished product described above enters an aging process. Aging is a process in which a predetermined voltage is applied to an individual semiconductor device at a predetermined ambient temperature, for example, 125 ° C. for a predetermined time,
This is an accelerated life test operated for 96 hours. The purpose is
As is well known, it is an object to stabilize the circuit operation of a semiconductor device and make a short-lived semiconductor device appear as a defective product. As a specific method, usually, an LSI is housed in a socket on an aging board provided with wiring and components required for aging, and an electrical operation is performed in a high-temperature constant temperature bath. In this step, even if the LSI is determined to be non-defective in the probe inspection, it will fail at a certain rate due to the temperature stress and the electrical stress being applied for a predetermined time. Such an LSI does not become defective in the probe inspection, even though some cause of failure is created in the previous process, and the failure phenomenon appears in the aging process. Defective products generated in the aging process are removed in the next sorting process, and only non-defective products are shipped. Therefore, by performing aging under appropriate conditions, only products having a useful life sufficient for actual use can be shipped, and aging is an indispensable step in the manufacturing process of semiconductor devices. .

【0005】このエ−ジングはスクリ−ニングもしくは
バ−ンインと呼ばれることもあり、1980年、1月1
5日、株式会社工業調査会発行、日本マイクロエレクト
ロニクス協会編「IC化実装技術」259ペ−ジに説明
されている。
[0005] This aging is sometimes called screening or burn-in.
This is described on page 259 of the "Microelectronics Packaging Technology" issued by the Japan Microelectronics Association, published by the Industrial Research Institute Co., Ltd. on the 5th.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のエ−ジ
ング工程には以下に述べるような問題がある。
However, the conventional aging process has the following problems.

【0007】先ず、従来技術におけるエ−ジング工程
は、先に述べたようにパッケ−ジングの後に実施される
ため、寿命の短い不良チップをも組み立ててしまい、結
果的に無駄な作業を行ったことになる。
First, since the aging process in the prior art is performed after the packaging as described above, a defective chip having a short life is assembled, resulting in unnecessary work. Will be.

【0008】さらに、エ−ジング後の選別工程で大量の
不良品が検出された場合、その殆どの原因はウェハ完成
までの前工程にあることが多く、その不良情報を早く前
工程にフィ−ドバックすべきであるにもかかわらず、パ
ッケ−ジング後にエ−ジングを行うために、不良情報の
フィ−ドバックが遅れてしまうという問題がある。
Further, when a large number of defective products are detected in the sorting process after aging, most of the causes are often in the previous process up to the completion of the wafer, and the defect information is quickly input to the previous process. Despite the fact that feedback should be performed, there is a problem that the feedback of the defect information is delayed because aging is performed after packaging.

【0009】更に、近年、高密度実装技術が急速に発達
しつつある中で、半導体装置をチップ状態で実装したい
という要求が高まっているが、チップ状態ではエ−ジン
グが実施されておらず、信頼性的に不安が残るという問
題がある。
Further, in recent years, while high-density mounting technology is rapidly developing, there is an increasing demand for mounting a semiconductor device in a chip state. However, aging is not performed in the chip state. There is a problem that reliability remains uneasy.

【0010】本発明の目的は、半導体装置をパッケ−ジ
ングする前のチップ状態でエ−ジングする方法を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to provide a method of aging a semiconductor device in a chip state before packaging.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は前記チップを収納するソケット底部及び前
記ソケットが搭載されるエ−ジングボ−ドに、前記チッ
プを真空吸引するパイプを通すための貫通孔を設け、前
記チップを前記ソケットの所定の位置に載置するととも
に、前記貫通孔を通した前記パイプにより仮固定した
後、前記ソケットの押圧蓋により完全固定し、前記エ−
ジングボ−ドに電源及び信号電圧を供給して前記チップ
を動作させ、チップの状態で複数個を一括してエ−ジン
グするようにした。
In order to achieve the above object, the present invention is to pass a pipe for vacuum suction of the chip through a socket bottom for housing the chip and an aging board on which the socket is mounted. The chip is placed at a predetermined position of the socket, and is temporarily fixed by the pipe passing through the through hole, and is completely fixed by a pressing lid of the socket.
A power source and a signal voltage are supplied to the jing board to operate the chip, and a plurality of chips are aged in a state of the chip.

【0012】また、前記ソケット内の底部に、前記貫通
孔を設けた弾性体シ−トを搭載し、その上に前記チップ
の電極に対応させて配置した給電用電極と前記給電用電
極よりも粗いピッチで配列されて前記給電用電極のそれ
ぞれに接続された拡大ピッチ電極と前記貫通孔を設けた
フレキシブル基板を載置し、前記チップの電極を前記給
電用電極に対向させて位置決めし、前記貫通孔を通した
前記パイプにより前記チップを仮固定した後、前記ソケ
ットの押圧蓋により完全固定し、前記エ−ジングボ−ド
に電源及び信号電圧を供給して前記チップを動作させ、
チップの状態で複数個を一括してエ−ジングするように
した。
An elastic sheet provided with the through-hole is mounted on a bottom portion in the socket, and a power supply electrode disposed on the elastic sheet corresponding to the electrode of the chip is disposed on the elastic sheet. An enlarged pitch electrode arranged at a coarse pitch and connected to each of the power supply electrodes and a flexible substrate provided with the through-hole are placed, and the electrodes of the chip are positioned so as to face the power supply electrodes, After temporarily fixing the chip with the pipe passing through the through hole, completely fixing the chip with the pressing lid of the socket, supplying power and signal voltage to the aging board to operate the chip,
Aging is performed on a plurality of chips in a chip state.

【0013】[0013]

【作用】前記チップを収納するソケット底部及び前記ソ
ケットが搭載されるエ−ジングボ−ドに設けた貫通孔
は、前記チップを真空吸引するパイプを通すための役割
を果たす。前記パイプは、前記チップを前記ソケットの
所定の位置に載置した後、前記チップを真空吸引して所
定の位置に仮固定する。前記ソケットの押圧蓋は、前記
チップを前記ソケットの所定の位置に完全固定する。
The through holes formed in the bottom of the socket for accommodating the chip and the aging board on which the socket is mounted serve to pass a pipe for vacuum suction of the chip. After placing the chip at a predetermined position of the socket, the pipe temporarily suction-fixes the chip at a predetermined position by vacuum suction. The pressing lid of the socket completely fixes the chip in a predetermined position of the socket.

【0014】また、上記チップの電極は、フレキシブル
基板の給電用電極に接触して導通する。この給電用電極
は拡大ピッチ電極に導通されている。前記拡大ピッチ電
極は、ソケットの内部接続端子に対向、当接して導通す
る。この当接導通部分は、そのピッチが拡大されている
ので容易に確実に対向、当接して導通される。前記各当
接部はソケットと押圧蓋との間に、弾性体シ−トを介し
て挾圧されて当接圧力が与えられて確実に導通する。前
記フレキシブル基板及び弾性体シ−トに設けた貫通孔
は、前記チップを真空吸引するパイプを通すための役割
を果たす。
The electrodes of the chip come into contact with the power supply electrodes of the flexible substrate to conduct electricity. This power supply electrode is electrically connected to the enlarged pitch electrode. The enlarged-pitch electrode faces and contacts the internal connection terminal of the socket, and conducts. Since the pitch of the contact conducting portions is enlarged, the contact conducting portions can be easily opposed and contacted with each other to be conducted. Each of the contact portions is clamped between the socket and the pressing lid via an elastic sheet, and the contact pressure is applied to ensure reliable conduction. The through holes formed in the flexible substrate and the elastic sheet play a role of passing the chip through a pipe for vacuum suction.

【0015】[0015]

【実施例】図1は本発明に係るエ−ジング方法の一実施
例を示す分解斜視図、図2は同じく断面図である。
1 is an exploded perspective view showing an embodiment of an aging method according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view thereof.

【0016】本図はエ−ジングボ−ド6上に一個のソケ
ット1のみ示してあるが、本発明を実施する場合は複数
のソケット1が搭載されることが望ましい。
Although FIG. 1 shows only one socket 1 on the aging board 6, it is desirable that a plurality of sockets 1 be mounted when the present invention is implemented.

【0017】この実施例に用いる主な装置は、底部に貫
通孔19をもつソケット1、貫通孔21をもつシリコン
ゴムシ−ト2、貫通孔35をもつフレキシブル基板3、
位置合わせ用ハ−フミラ−4、チップ5、エ−ジングボ
−ド6及びパイプ7から構成されている。
The main devices used in this embodiment are a socket 1 having a through hole 19 at the bottom, a silicon rubber sheet 2 having a through hole 21, a flexible substrate 3 having a through hole 35,
It comprises a half mirror-4 for positioning, a chip 5, an aging board 6 and a pipe 7.

【0018】ソケット1は耐熱性プラスチック又はセラ
ミック製であり、通常のLSIソケットと同様の構造
(即ち、チップ状態ではなく、パッケ−ジ済のLSIの
エ−ジングを行うためのソケットに類似した構成)であ
って、外部リ−ド11と、外部リ−ド11に導通され、
かつ弾性の内部接続端子12とを備えている。そして、
このソケット1の底部には、チップ5が位置する中央部
にパイプ7を通すための貫通孔19を設けてある。
The socket 1 is made of heat-resistant plastic or ceramic, and has a structure similar to that of a normal LSI socket (that is, a structure similar to a socket for aging a packaged LSI instead of a chip state). ), Which is electrically connected to the external lead 11 and the external lead 11,
And an elastic internal connection terminal 12. And
At the bottom of the socket 1, a through hole 19 for passing the pipe 7 is provided at the center where the chip 5 is located.

【0019】また、ソケット1の内部底面には、シリコ
ンゴム製の弾性体シ−ト(シリコンゴムシ−トと略す
る)2を収納するための凹部13を設け、この凹部13
の底面にシリコンゴムシ−ト2を接着してある。そして
シリコンゴムシ−ト2の中央部にパイプ7を通すための
貫通孔21を設けてある。
On the inner bottom surface of the socket 1, there is provided a recess 13 for accommodating an elastic sheet 2 (abbreviated as silicon rubber sheet) made of silicone rubber.
A silicone rubber sheet 2 is adhered to the bottom surface of the device. A through hole 21 for passing the pipe 7 is provided at the center of the silicone rubber sheet 2.

【0020】フレキシブル基板3は、チップ状態の半導
体装置であるチップ5と、パッケ−ジされた半導体装置
に適合するソケット1の内部接続端子12とを電気的に
接続するための部材であり、中央部にパイプ7を通すた
めの貫通孔35を設けてある。本例のフレキシブル基板
3は、ポリイミド材で構成してあり、その上面にはチッ
プ5のチップ電極に当接する多数の給電用電極32が配
置され、その下面には、多数の給電用電極32のそれぞ
れに導通された拡大ピッチ電極31が配列されている。
33は、給電用電極32と拡大ピッチ電極31とを接続
している銅箔パタ−ンである。
The flexible substrate 3 is a member for electrically connecting the chip 5, which is a semiconductor device in a chip state, to the internal connection terminal 12 of the socket 1 which is compatible with the packaged semiconductor device. The portion is provided with a through hole 35 for passing the pipe 7. The flexible substrate 3 of the present example is made of a polyimide material, and on the upper surface thereof, a number of power supply electrodes 32 that are in contact with the chip electrodes of the chip 5 are arranged. The enlarged pitch electrodes 31 that are electrically connected to each other are arranged.
A copper foil pattern 33 connects the power supply electrode 32 and the enlarged pitch electrode 31.

【0021】フレキシブル基板3とソケット1とを相互
に位置決めするため、ソケット1には二個の位置決めピ
ン14を設けてあり、一方、フレキシブル基板3には二
個のガイド孔34を設けてある。17は、押圧蓋15が
位置決めピン14と干渉しないように設けた逃がし穴で
ある。
In order to position the flexible board 3 and the socket 1 relative to each other, the socket 1 is provided with two positioning pins 14, while the flexible board 3 is provided with two guide holes 34. Reference numeral 17 denotes a relief hole provided so that the pressing lid 15 does not interfere with the positioning pin 14.

【0022】フレキシブル基板3は、本例では厚さ25
ミクロンのポリイミドフィルムで構成し、適度の可撓性
と耐熱性とを得た。またフレキシブル基板3の下面に設
けた拡大ピッチ電極31は、本例では厚さ18ミクロン
の銅箔によって構成し、内部接続端子12に対応させて
配列し、金メッキを施して導通の確実性を図った。ま
た、フレキシブル基板3の上面に設けた給電用電極32
は、チップ5のチップ電極に対応して配列し、金メッキ
を施してフレキシブル基板面から20ミクロン突出さ
せ、突起状電極とした。これによりチップ電極と給電用
電極32との接触、導通が確実となる。しかし、チップ
電極が突起状であれば、給電用電極32は必ずしも突起
状に形成する必要はない。給電用電極32と拡大ピッチ
電極31とは、フレキシブル基板3に設けたスル−ホ−
ルを介して、銅箔パタ−ン33によって接続する。
The flexible substrate 3 has a thickness of 25 in this embodiment.
It was composed of a micron polyimide film, and had moderate flexibility and heat resistance. The enlarged pitch electrode 31 provided on the lower surface of the flexible substrate 3 is made of a copper foil having a thickness of 18 μm in this example, is arranged corresponding to the internal connection terminal 12, and is plated with gold to ensure reliability of conduction. Was. The power supply electrode 32 provided on the upper surface of the flexible substrate 3
Were arranged corresponding to the chip electrodes of the chip 5, and were subjected to gold plating to project from the surface of the flexible substrate by 20 μm to form protruding electrodes. Thereby, contact and conduction between the chip electrode and the power supply electrode 32 are ensured. However, if the chip electrode has a projection shape, the power supply electrode 32 does not necessarily need to be formed in a projection shape. The power supply electrode 32 and the enlarged pitch electrode 31 are connected to a through-hole provided on the flexible substrate 3.
Through a copper foil pattern 33 via

【0023】押圧蓋15の下面には、チップ5の上面に
当接する凹部16が設けられている。また、図2に示し
たように押圧蓋15を閉じた状態に保持しうるように、
図1に示すロック機構18が設けられている。
The lower surface of the pressing lid 15 is provided with a concave portion 16 which is in contact with the upper surface of the chip 5. Also, as shown in FIG. 2, the pressing lid 15 can be held in a closed state.
A lock mechanism 18 shown in FIG. 1 is provided.

【0024】本発明方法を適用してエ−ジングを行うに
は、シリコンゴムシ−ト2が載置されたソケット1にフ
レキシブル基板3を設置し、チップ5を真空吸着するた
めのパイプ7をエ−ジングボ−ド6の下方より、貫通孔
61、19、21及び35を通してフレキシブル基板3
のわずか上方にまで挿入する。次に、チップ5のチップ
電極とフレキシブル基板3の給電用電極32とを対向さ
せるようにしてチップ5をフレキシブル基板3の上方に
配置し、両者の間にハ−フミラ−4を挿入して光学装置
(図示せず)によりチップ5とフレキシブル基板3との
位置合わせを行う。次に、ハ−フミラ−4を退避させて
チップ5をフレキシブル基板3に接触させるとともに、
パイプ7によりチップ5を真空吸着して、パイプ7を下
方に引っ張るような所定の力を加えてチップ5を仮固定
する。その後、押圧蓋15を閉じ(図2の状態)、ロッ
ク機構18によりチップ5をソケット1に完全固定し
て、パイプ7を貫通孔61、19、21及び35から引
き抜く。この状態でシリコンゴムシ−ト2の弾性とフレ
キシブル基板3の可撓性とによって、チップ電極51が
給電用電極32に接触し、銅箔パタ−ン33、内部接続
端子12を介して外部リ−ド11に導通される。
To perform aging by applying the method of the present invention, a flexible substrate 3 is placed on a socket 1 on which a silicon rubber sheet 2 is placed, and a pipe 7 for vacuum-sucking a chip 5 is provided. The flexible substrate 3 is passed through the through holes 61, 19, 21 and 35 from below the aging board 6.
Insert just above. Next, the chip 5 is arranged above the flexible substrate 3 so that the chip electrode of the chip 5 and the power supply electrode 32 of the flexible substrate 3 are opposed to each other. The chip 5 and the flexible substrate 3 are aligned by an apparatus (not shown). Next, the half mirror 4 is retracted to bring the chip 5 into contact with the flexible substrate 3, and
The chip 5 is vacuum-sucked by the pipe 7 and a predetermined force is applied to pull the pipe 7 downward, thereby temporarily fixing the chip 5. Thereafter, the pressing lid 15 is closed (the state shown in FIG. 2), the chip 5 is completely fixed to the socket 1 by the lock mechanism 18, and the pipe 7 is pulled out from the through holes 61, 19, 21 and 35. In this state, the chip electrode 51 comes into contact with the power supply electrode 32 due to the elasticity of the silicon rubber sheet 2 and the flexibility of the flexible substrate 3, and the copper foil pattern 33 and the external connection via the internal connection terminal 12. To the gate 11.

【0025】これによりエ−ジングボ−ド6に搭載した
複数のソケット1に同様の操作を行ってチップ5を収納
し、外部リ−ド11に電源及び信号電圧を印加してチッ
プ5を作動させ、所定温度で所定時間のエ−ジングを行
う。
Thus, the same operation is performed on the plurality of sockets 1 mounted on the aging board 6 to house the chip 5, and the power supply and the signal voltage are applied to the external lead 11 to operate the chip 5. Aging is performed at a predetermined temperature for a predetermined time.

【0026】なお、チップ5とフレキシブル基板3との
位置合わせは、ハ−フミラ−4を用いるものに限定する
ものではなく、他の光学的手段を用いても良い。
The alignment between the chip 5 and the flexible substrate 3 is not limited to the one using the half mirror-4, but other optical means may be used.

【0027】このように本実施例の場合の効果につい
て、その要点を略述すると次のようである。
The advantages of the present embodiment are summarized as follows.

【0028】先ず、チップを真空吸着するパイプを用い
てソケット内の所定の位置にチップを仮固定した後、押
圧蓋により完全固定するようにしたため、確実にソケッ
ト内の給電用電極とチップの電極とを接触させることが
できる。
First, the chip is temporarily fixed at a predetermined position in the socket using a pipe for vacuum suction of the chip, and then completely fixed by the pressing lid. And can be contacted.

【0029】また、拡大ピッチ電極をもつフレキシブル
基板を用いるので、パッケ−ジングされたLSIに用い
る内部接続端子ピッチの粗いソケットにチップを収納で
きるようになった。更に、半導体装置の品種を変更し
て、チップの形状やチップ電極の個数、形状が変わった
場合も、各仕様に適応するフレキシブル基板を用いるこ
とで同一のソケットを使用することができる。
Since a flexible substrate having an enlarged pitch electrode is used, a chip can be housed in a socket having a coarse pitch of internal connection terminals used for a packaged LSI. Further, even when the type of the semiconductor device is changed and the shape of the chip and the number and shape of the chip electrodes are changed, the same socket can be used by using a flexible substrate adapted to each specification.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、半導体装置をパッケ−
ジングする前のチップ状態でエ−ジングすることが出来
るので、エ−ジングによってチェックアウトされる不良
品にパッケ−ジングを施す無駄が省かれる。
According to the present invention, a semiconductor device is packaged.
Since aging can be performed in a chip state before aging, packaging of defective products checked out by aging can be avoided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体装置のエ−ジング方法の一実施
例を示す分解斜視図。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing one embodiment of an aging method for a semiconductor device according to the present invention.

【図2】本発明の半導体装置のエ−ジング方法の一実施
例を示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of an aging method for a semiconductor device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ソケット、 2…シリコンゴムシ−ト、 3…フレキシブル基板、 4…位置合わせ用ハ−フミラ−、 5…チップ、 6…エ−ジングボ−ド、 7…パイプ、 11…外部リ−ド、 12…内部接続端子、 14…位置決めピン、 15…押圧蓋、 16…凹部、 18…ロック機構、 31…拡大ピッチ電極、 32…給電用電極、 33…銅箔パタ−ン、 34…ガイド孔、 19、21、35、61…貫通孔。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Socket, 2 ... Silicon rubber sheet, 3 ... Flexible board, 4 ... Half mirror for positioning, 5 ... Chip, 6 ... Aging board, 7 ... Pipe, 11 ... External lead, Reference numeral 12: internal connection terminal, 14: positioning pin, 15: pressing lid, 16: concave portion, 18: locking mechanism, 31: enlarged pitch electrode, 32: power supply electrode, 33: copper foil pattern, 34: guide hole, 19, 21, 35, 61 ... through-holes.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体装置をチップ状態でエ−ジングする
方法において、前記チップを収納するソケット底部及び
前記ソケットが搭載されるエ−ジングボ−ドに、前記チ
ップを真空吸引するパイプを通すための貫通孔を設け、
前記チップを前記ソケットの所定の位置に載置するとと
もに、前記貫通孔を通した前記パイプにより仮固定した
後、前記ソケットの押圧蓋により完全固定し、前記エ−
ジングボ−ドに電源及び信号電圧を供給して前記チップ
を動作させ、前記チップの状態に応じて複数個を一括し
てエ−ジングするようにしたことを特徴とする半導体装
置のエ−ジング方法。
1. A method of aging a semiconductor device in a chip state, wherein a pipe for vacuum suction of the chip is passed through a bottom of a socket for housing the chip and an aging board on which the socket is mounted. Provide a through hole,
The chip is placed at a predetermined position of the socket, and is temporarily fixed by the pipe passing through the through-hole, and then completely fixed by a pressing lid of the socket.
A method of aging a semiconductor device, comprising supplying a power supply and a signal voltage to an aging board to operate the chip, and aging a plurality of chips at once according to the state of the chip. .
【請求項2】請求項1において、前記ソケット内の底部
に、前記貫通孔を設けた弾性体シ−トを搭載し、その上
に前記チップの電極に対応して配置した給電用電極と前
記給電用電極よりも粗いピッチで配列されて前記給電用
電極のそれぞれに接続された拡大ピッチ電極と前記貫通
孔を設けたフレキシブル基板を載置し、前記チップの電
極を前記給電用電極に対向させて位置決めした、半導体
装置のエ−ジング方法。
2. A power supply electrode according to claim 1, further comprising an elastic sheet provided with said through hole at a bottom portion in said socket, and a power supply electrode disposed thereon corresponding to an electrode of said chip. An enlarged pitch electrode arranged at a coarser pitch than the power supply electrode and connected to each of the power supply electrodes and a flexible substrate provided with the through-hole are placed, and the electrode of the chip is opposed to the power supply electrode. Aging method for a semiconductor device, which is positioned by positioning.
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