JP2915305B2 - Matting plating method and matting plating method for meter reader - Google Patents

Matting plating method and matting plating method for meter reader

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JP2915305B2 JP29592994A JP29592994A JP2915305B2 JP 2915305 B2 JP2915305 B2 JP 2915305B2 JP 29592994 A JP29592994 A JP 29592994A JP 29592994 A JP29592994 A JP 29592994A JP 2915305 B2 JP2915305 B2 JP 2915305B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えば衣服用のボタ
ン、家具用の装飾小物類、スポーツ用品に取付けられる
装飾品その他の各種被メッキ体(いわゆるワーク)に指
紋がつきにくいつや消しメッキを施すようなつや消しメ
ッキ方法および検針器対応つや消しメッキ方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention applies matte plating, for example, to buttons for clothes, decorative accessories for furniture, decorative articles to be attached to sporting goods, and various other objects to be plated (so-called workpieces). The present invention relates to such a matte plating method and a matte plating method compatible with a meter reader.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、上述例の被メッキ体の表面につや
消しメッキを施す方法としては、電気メッキ手段により
数種の界面活性剤(interfacical acive agent)を用い
て被メッキ体の表面に微細な凹凸をつけて、つや消しメ
ッキ層を形成する方法がある。
2. Description of the Related Art Hitherto, as a method of applying matte plating to the surface of a plated object in the above-described example, a fine surface is applied to the surface of the plated object by using several kinds of surfactants by an electroplating means. There is a method of forming a matte plating layer by providing irregularities.

【0003】しかし、上述の被メッキ体(例えばボタン
や各種装飾部品)それ自体の表面には一般的に凹凸形状
部があり、このような凹凸形状部を有する被メッキ体に
対して従来の電気メッキ方法によりつや消しメッキを施
す場合には次のような問題点があった。
However, the surface of the above-mentioned plated object (for example, buttons and various decorative parts) itself generally has an uneven portion. When matte plating is performed by a plating method, there are the following problems.

【0004】すなわち、電気メッキを施す際には被メッ
キ体(いわゆるワーク)は負電極板(カソード)を介し
て負極に印加され、この負極に印加された被メッキ体と
アノード(プラス電極板)との間の距離は、凹凸形状部
を有する被メッキ体の凸部とアノードとの間の距離が、
凹部とアノードとの間の距離に対して小となり、被メッ
キ体の凸部の電流密度(単位はA/cm2 )が大、被メッキ
体の凹部の電流密度が小となって、電流密度の差異が生
ずる関係上、被メッキ体の凸部に対しては良好なつや消
しメッキ層が形成される反面、被メッキ体の凹部に対し
てはつや消しメッキ層の形成が不充分となり、被メッキ
体に形成されたつや消しメッキ層全体としてのつや消し
状態に大きなばらつきが生ずる問題点があった。
That is, when performing electroplating, an object to be plated (a so-called work) is applied to a negative electrode via a negative electrode plate (cathode), and the object to be plated applied to the negative electrode and an anode (positive electrode plate) are applied. Is the distance between the anode and the convex portion of the body to be plated having the uneven portion,
The current density (unit: A / cm2) of the convex portion of the object to be plated is large, and the current density of the concave portion of the object to be plated is small. Due to the difference that occurs, a good matte plating layer is formed on the convex portion of the object to be plated, but the matte plating layer is insufficiently formed on the concave portion of the object to be plated. There has been a problem that the matte state of the formed matte plating layer as a whole varies greatly.

【0005】一方、上述の被メッキ体として例えば衣服
用のボタンを選定した場合には、近年の海外縫製に対す
る高い依存度により縫針の充分な管理が不可能で、保磁
力のあるつや消しメッキ層と保磁力をもつ折れ針との識
別が困難になり、、折れ針を検出する検針器にて不良品
であると判定されるので、磁性を帯びない検針器対応の
つや消しメッキを施すことが要求される。
[0005] On the other hand, when a button for clothing is selected as the above-mentioned body to be plated, sufficient control of sewing needles is impossible due to recent high dependency on overseas sewing, and a matte plating layer having a coercive force is required. It becomes difficult to identify a broken needle that has a coercive force, and it is determined to be defective by a needle detector that detects broken needles.Therefore, it is required to apply matte plating that is compatible with a needle detector that does not have magnetism. You.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この発明の請求項1記
載の発明は、100〜200メッシュのエメリ粉による
均一な表面粗化手段と、電流密度が略均一となるバレル
メッキ手段等を用いることで、つや消し状態にばらつき
のない最終装飾メッキ層を施すことができるつや消しメ
ッキ方法の提供を目的とする。
The invention according to claim 1 of the present invention uses a uniform surface roughening means using 100 to 200 mesh emery powder and a barrel plating means which makes the current density substantially uniform. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a matte plating method capable of applying a final decorative plating layer having a uniform matte state.

【0007】この発明の請求項2記載の発明は、100
〜200メッシュのエメリ粉による均一な表面粗化手段
と、電流密度が略均一となるバレルメッキ手段等を用い
ることで、つや消し状態にばらつきのない酸性化学ニッ
ケルメッキ層を施すことができると共に、非磁性の化学
ニッケルメッキ層を形成することができる検針器対応つ
や消しメッキ方法の提供を目的とする。
[0007] The invention of claim 2, wherein the present invention is 100
By using a uniform surface roughening means using emery powder of ~ 200 mesh and a barrel plating means having a substantially uniform current density, it is possible to apply an acidic chemical nickel plating layer having a uniform matte state, An object of the present invention is to provide a matte plating method that can form a magnetic chemical nickel plating layer and that is compatible with a needle detector.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明の請求項1記載
の発明は、樹脂、金属もしくはセラミック製の被メッキ
体に下地メッキを施して下地メッキ層を形成し、上記下
地メッキ層の表面に電気バレルメッキ手段にて銅メッキ
層を形成した後に、上記銅メッキ層表面に100〜20
0メッシュのエメリ粉を噴射してホーニング処理を施
し、ホーニング処理済みの銅メッキ層表面に電気バレル
メッキ手段にて無光沢銅メッキ層もしくは光沢性のみの
ニッケルメッキ層を形成し、上記無光沢銅メッキ層もし
くは光沢性のみのニッケルメッキ層の表面に最終装飾メ
ッキ層を形成するつや消しメッキ方法であることを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, an underplating is formed by applying an underplating to an object to be plated made of resin, metal, or ceramic. After a copper plating layer is formed by an electric barrel plating means, 100 to 20
A 0 mesh emery powder is sprayed to perform honing treatment, and a matte copper plating layer or a glossy nickel plating layer is formed on the surface of the honed copper plating layer by an electric barrel plating means. It is a matte plating method in which a final decorative plating layer is formed on the surface of a plating layer or a nickel plating layer having only luster.

【0009】この発明の請求項2記載の発明は、樹脂も
しくはセラミック製の被メッキ体に化学銅メッキを施し
て化学銅メッキ層を形成し、上記化学銅メッキ層表面に
電気バレルメッキ手段にて銅メッキ層を形成した後に、
上記銅メッキ層表面に100〜200メッシュのエメリ
粉を噴射してホーニング処理を施し、ホーニング処理済
みの銅メッキ層の表面に電気バレルメッキ手段にて無光
沢銅メッキ層を形成し、上記無光沢銅メッキ層の表面に
酸性化学ニッケルメッキ層を形成する検針器対応つや消
しメッキ方法であることを特徴とする。
The invention according to a second aspect of the present invention provides a method for forming a chemical copper plating layer by applying a chemical copper plating to a resin or ceramic plate to be plated, and applying an electric barrel plating means on the surface of the chemical copper plating layer. After forming the copper plating layer,
A 100-200 mesh emery powder is sprayed on the surface of the copper plating layer to perform honing treatment, and a matte copper plating layer is formed on the surface of the honed copper plating layer by an electric barrel plating means. It is characterized in that it is a matte plating method corresponding to a needle detector for forming an acidic chemical nickel plating layer on the surface of a copper plating layer.

【0010】[0010]

【発明の作用及び効果】この発明の請求項1記載の発明
によれば、樹脂、金属もしくはセラミック製の被メッキ
体(いわゆるワーク)に対して下地メッキ層(例えば素
材が樹脂の場合には化学銅メッキ層もしくは化学ニッケ
ルメッキ層)が形成され、この下地メッキ層の表面に電
気バレルメッキ手段にて銅メッキ層(硫酸銅メッキ層も
しくはピロリン酸銅メッキ層)が形成された後に、上述
の銅メッキ層表面に対して100〜200メッシュの
メリ粉を噴射して、該銅メッキ層の表面が均一に粗面化
され、このようなホーニング処理後の銅メッキ表面に電
気バレルメッキ手段にて無光沢銅メッキ層(光沢なしの
銅メッキ層)もしくは光沢性のみでレべリング性がない
(つまりエメリ粉により形成された微細な凹凸を埋める
ことのない)ニッケルメッキ層が形成され、次に最終装
飾メッキ層が形成される。
According to the first aspect of the present invention, an undercoating layer (for example, when the material is a resin, a chemical After a copper plating layer (a copper sulfate plating layer or a chemical nickel plating layer) is formed, and a copper plating layer (a copper sulfate plating layer or a copper pyrophosphate plating layer) is formed on the surface of the base plating layer by an electric barrel plating means, the above-described copper plating layer is formed. The surface of the copper plating layer is uniformly roughened by spraying 100 to 200 mesh of emulsified powder on the surface of the plating layer, and an electric barrel is formed on the copper plating surface after such honing treatment. Non-glossy copper plating layer (non-glossy copper plating layer) or luster only with no leveling property (that is, it does not fill in fine irregularities formed by emery powder) Kkerumekki layer is formed, then the final decorative plating layer is formed.

【0011】このように上述の100〜200メッシュ
エメリ粉により被メッキ体に凹凸形状部(いわゆる山
と谷)があってもこれら凹凸形状部の表面に形成された
銅メッキ層の全表面を均一に粗面化すると共に、電流密
度が略均一となる電気バレルメッキ手段にて無光沢銅メ
ッキ層もしくは光沢性のみのニッケルメッキ層を形成す
るので、つや消し状態にばらつきのない最終装飾メッキ
層を形成することができる効果がある。因に、つや消し
の状態は被メッキ体の凸部はバレルが回転することによ
り各被メッキ体の凸部相互が摩擦され、かつ光沢性、半
光沢性メッキ液でメッキされることにより凹部に対して
凸部の方がばらつきのない程度に若干光沢を帯びるた
め、従来の電気メッキ方法によるつや消しの状態に対し
て正反対のつや消し状態となる。
[0011] Thus, the above-mentioned 100-200 mesh
The surface of the copper plating layer formed on the surface of these uneven portions is uniformly roughened even if the body to be plated has uneven portions (so-called peaks and valleys) by the emery powder, and the current density is substantially reduced. Since the matte copper plating layer or the nickel plating layer having only luster is formed by the uniform electric barrel plating means, there is an effect that a final decorative plating layer having a uniform matte state can be formed. By the way, the matt state is that the convex part of the plating object is rubbed against the convex part of each plating object by rotating the barrel, and the concave part is plated by glossy, semi-glossy plating solution. The protrusions are slightly glossy to the extent that they do not vary, so that the matte state is exactly opposite to the matte state by the conventional electroplating method.

【0012】この発明の請求項2記載の発明によれば、
金属以外の樹脂もしくはセラミック製の被メッキ体(い
わゆるワーク)に対して磁性を帯びない化学銅メッキ層
(無電解銅メッキ層のこと)が形成され、この化学銅メ
ッキ層の表面に電気バレルメッキ手段にて銅メッキ層
(硫酸銅メッキ層もしくピロリン酸メッキ層)が形成さ
れた後に、上述の銅メッキ層表面に対して100〜20
0メッシュのエメリ粉を噴射して、該銅メッキ層の表面
が均一に粗面化(ホーニング)され、このようなホーニ
ング処理後の銅メッキ層表面に電気バレルメッキ手段に
て無光沢銅メッキ層が形成され、この無光沢銅メッキ層
の表面に酸性化学ニッケルメッキ層が形成される。
According to the second aspect of the present invention,
A non-magnetic chemical copper plating layer (electroless copper plating layer) is formed on an object to be plated (a so-called work) made of resin or ceramic other than metal, and an electric barrel plating is applied to the surface of this chemical copper plating layer. After the copper plating layer (copper sulfate plating layer or pyrophosphoric acid plating layer) is formed by means, 100 to 20
By spraying 0 mesh emery powder, the surface of the copper plating layer is uniformly roughened (honed), and the surface of the copper plating layer after such honing treatment is matted with an electric barrel plating means. Is formed, and an acidic chemical nickel plating layer is formed on the surface of the matte copper plating layer.

【0013】上述の酸性化学ニッケルメッキ層形成時に
還元剤として用いる次亜リン酸ソーダからリンが析出
し、リン含有パーセントが10wt%以上のNi・P合金
の酸性化学ニッケルメッキ層となるので、メッキ層を構
成する銅の非磁性と高燐タイプの非磁性との両作用によ
り非磁性かつ検針器対応のつや消しメッキ層(具体的に
は化学ニッケルメッキ層)を形成することができ、特に
被メッキ体を衣服用のボタンに選定した時に有効であ
る。
Phosphorus precipitates from sodium hypophosphite used as a reducing agent when the above-mentioned acidic chemical nickel plating layer is formed, and becomes an acidic chemical nickel plating layer of a Ni—P alloy having a phosphorus content percentage of 10 wt% or more. Both the non-magnetic effect of the copper constituting the layer and the non-magnetic effect of the high-phosphorus type make it possible to form a matte plating layer (specifically, a chemical nickel plating layer) that is non-magnetic and compatible with a needle detector. It is effective when the body is selected as a button for clothes.

【0014】加えて、上述の100〜200メッシュの
エメリ粉により銅メッキ層表面を均一に粗面化すると共
に、電流密度が略均一となる電気バレルメッキ手段にて
無光沢銅メッキ層を形成するので、つや消し状態にばら
つきのない酸性化学ニッケルメッキ層を形成することが
できる効果がある。なお、酸性化学ニッケルメッキを施
すことで、従来の電解メッキのみの被メッキ体よりも耐
蝕性が著しく改善され、トラブルを防止することができ
る。
In addition, the above-mentioned 100 to 200 mesh emery powder uniformly roughens the surface of the copper plating layer and matte copper plating by an electric barrel plating means that makes the current density substantially uniform. Since the layer is formed, there is an effect that an acidic chemical nickel plating layer having a uniform matte state can be formed. In addition, by performing acidic chemical nickel plating, corrosion resistance is remarkably improved as compared with a conventional plated body of only electrolytic plating, and trouble can be prevented.

【0015】さらに、上述の高燐タイプの酸性化学ニッ
ケルメッキの被膜を活性化させ、そのうえにAgメッキ
加工を施して、Agに黒色化成被膜を生成させると、検
針器対応のアンティーク(古代色調)シルバー色の最終
装飾メッキ層を形成することが可能となった。
Further, when the above-mentioned high phosphorus type acidic chemical nickel plating film is activated and then subjected to Ag plating to form a black chemical conversion film on Ag, antique (ancient color) silver corresponding to a needle detector is obtained. It became possible to form a final decorative plating layer of color.

【0016】[0016]

【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。 (第1実施例) まず図1乃至図6を参照してつや消しメッキ方法(請求
項1に対応する実施例)について述べる。なお、この場
合は非磁性と成す必要がないので被メッキ体の素材とし
ては樹脂、金属、セラミックの何れでもよいが、以下の
説明においてはメッキ可能な樹脂としてのABS(Acry
lonitrile Butadiene Styrene Copolymer )樹脂(熱可
塑性プラスチックのうちの1つ)を用いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. First Embodiment First, a matte plating method (an embodiment corresponding to claim 1) will be described with reference to FIGS. In this case, the material to be plated may be any of resin, metal, and ceramic because it is not necessary to make the material non-magnetic, but in the following description, ABS (Acrylic)
The description will be given using a lonitrile butadiene Styrene copolymer (a thermoplastic resin).

【0017】図1において通常の脱脂洗浄その他の前処
理が施されたABS樹脂製の被メッキ体1を設け、この
被メッキ体1の表面に下地メッキとしての化学メッキ
(アルカリ性化学銅メッキもしくは化学ニッケルメッ
キ)を施して、図2に示す如く化学メッキ層2(アルカ
リ性化学銅メッキ層もしくは化学ニッケルメッキ層)を
形成する。
In FIG. 1, a plating object 1 made of ABS resin which has been subjected to ordinary degreasing and other pretreatment is provided, and the surface of the plating object 1 is subjected to chemical plating as an underlying plating (alkaline chemical copper plating or chemical plating). Nickel plating is performed to form a chemical plating layer 2 (alkaline chemical copper plating layer or chemical nickel plating layer) as shown in FIG.

【0018】上述の化学メッキ層2が形成された被メッ
キ体1…をバレルメッキ装置のバレル内に投入し、上述
の化学メッキ層2の表面に電気バレルメッキ手段にて図
3に示すように層厚30〜50μmの銅メッキ層3(硫
酸銅CuSO4 メッキ層もしくはピロリン酸銅メッキ
層)を形成する。
The objects 1 to be plated on which the above-mentioned chemical plating layer 2 is formed are put into a barrel of a barrel plating apparatus, and the surface of the above-mentioned chemical plating layer 2 is electrically barrel-plated as shown in FIG. A copper plating layer 3 (copper sulfate CuSO4 plating layer or copper pyrophosphate plating layer) having a layer thickness of 30 to 50 [mu] m is formed.

【0019】上述の銅メッキ層3が形成された被メッキ
体1をバレルから取出し、乾燥させた後に、図4に示す
ように該銅メッキ層3の表面にエメリ粉4(コランダム
と磁鉄鉱がきわめて微細な組織で緊密に混合している天
然産の鉱物もしくは人造品のemery の粉末)を一定圧力
で所定距離から噴射してホーニング処理を施す。
After the object 1 on which the above-mentioned copper plating layer 3 is formed is taken out from the barrel and dried, as shown in FIG. 4, emery powder 4 (corundum and magnetite are extremely deposited on the surface of the copper plating layer 3). Honing treatment is performed by injecting a natural mineral or man-made emery powder that is intimately mixed with a fine structure from a predetermined distance at a constant pressure.

【0020】上述のホーニング処理条件は次の通りであ
る。 エメリ粉……100〜200メッシュ 射出圧 ……1.0〜4.0kg/cm2 射出時間……10〜60分 上述のエメリ粉4の粒子噴射によるホーニング処理で、
被メッキ体1に凹凸形状部があってもこの凹部および凸
部に対応する銅メッキ層3の全表面は均一に粗面化され
て、この銅メッキ層3の表面には微細な凹凸(被メッキ
体1それ自体の凹凸ではなく、図示せず)が多数形成さ
れる。
The above honing processing conditions are as follows. Emery powder: 100 to 200 mesh Injection pressure: 1.0 to 4.0 kg / cm2 Injection time: 10 to 60 minutes
Even if the object to be plated 1 has an uneven portion, the entire surface of the copper plating layer 3 corresponding to the concave portion and the convex portion is uniformly roughened, and the surface of the copper plating layer 3 has fine irregularities (coated). Not the unevenness of the plated body 1 itself, but a number of not shown) are formed.

【0021】次に、ホーニング処理済みの被メッキ体1
…をバレルメッキ装置のバレル内に投入し、粗面化され
た上述の銅メッキ槽3の表面に電気バレルメッキ手段に
て図5に示す如く無光沢銅メッキ層5(光沢剤なしの銅
メッキ層のことで、具体的にはピロリン酸銅メッキ層ま
たは硫酸銅メッキ層)もしくは光沢性のみでレベリング
性がないニッケル層を形成する。ここで、無光沢銅メッ
キ層5を形成する場合にはアンモニアNH3 でpH調整す
ると、アンモニアが純光沢剤の代りとなる。
Next, the object to be plated 1 having been subjected to the honing treatment
Are put into the barrel of the barrel plating apparatus, and the surface of the roughened copper plating tank 3 is coated with a matte copper plating layer 5 (copper plating without brightener) as shown in FIG. Specifically, a nickel pyrophosphate plating layer or a copper sulfate plating layer) or a nickel layer having only gloss and no leveling property is formed. Here, when the matte copper plating layer 5 is formed, the pH is adjusted with ammonia NH3, so that ammonia substitutes for the pure brightener.

【0022】次に、上述の無光沢銅メッキ層5もしくは
光沢性のみのニッケルメッキ層の表面に図6に示すよう
に最終装飾メッキ層6を形成する。この最終装飾メッキ
層6としては例えば、酸性化学ニッケルメッキ層などを
形成することができる。このように、上述の100〜2
00メッシュのエメリ粉4により銅メッキ3の全表面を
均一に粗面化すると共に、電流密度が略均一となる電気
バレルメッキ手段にて無光沢銅メッキ層5もしくは光沢
性のみでレベリング性を有さない、つまりエメリ粉4に
より形成された微細な凹凸を埋めることのないニッケル
メッキ層を形成するので、つや消し状態にばらつきのな
い最終装飾メッキ6を形成することができる効果があ
る。
Next, as shown in FIG. 6, a final decorative plating layer 6 is formed on the surface of the above-mentioned matte copper plating layer 5 or nickel plating layer having only luster. As the final decorative plating layer 6, for example, an acidic chemical nickel plating layer or the like can be formed. Thus, the above-described 100 to 2
The surface of the copper plating 3 is uniformly roughened with the emery powder 4 of 00 mesh, and the leveling property is provided only by the matte copper plating layer 5 or the glossiness by the electric barrel plating means which makes the current density substantially uniform. In other words, since a nickel plating layer that does not fill the fine irregularities formed by the emery powder 4 is formed, there is an effect that the final decorative plating 6 having a uniform matte state can be formed.

【0023】 (第2実施例) 次に図7乃至図12を参照して検針器対応つや消しメッ
キ方法(請求項2に対応する実施例)について述べる。
なお、この場合は被メッキ体の素材としては金属以外の
素材すなわち樹脂、セラミックの何れでもよいが、以下
の説明においてはメッキ可能な樹脂としてのABS樹脂
を用いて説明する。
(Second Embodiment) Next, a matte plating method (an embodiment corresponding to claim 2) corresponding to a needle detector will be described with reference to FIGS.
In this case, the material of the object to be plated may be any material other than metal, that is, any of resin and ceramic. However, in the following description, an ABS resin is used as a resin that can be plated.

【0024】図7において通常の前処理が施されたAB
S樹脂製の被メッキ体11を設け、この被メッキ体11
の表面にアルカリ性化学銅メッキを施して、図8に示す
如く化学銅メッキ層12を形成する。
In FIG. 7, AB having undergone normal pre-processing
An object to be plated 11 made of S resin is provided.
Is subjected to alkaline chemical copper plating to form a chemical copper plating layer 12 as shown in FIG.

【0025】上述の化学銅メッキ層12が形成された被
メッキ体11…をバレルメッキ装置のバレル内に投入
し、上述の化学銅メッキ層12の表面に電気バレルメッ
キ手段にて図9に示すように層厚30〜50μmの銅メ
ッキ層13(硫酸銅メッキ層もしくはピロリン酸銅メッ
キ層)を形成する。
The objects 11 to be plated on which the above-mentioned chemical copper plating layer 12 has been formed are put into the barrel of a barrel plating apparatus, and the surface of the above-mentioned chemical copper plating layer 12 is shown in FIG. Thus, a copper plating layer 13 (copper sulfate plating layer or copper pyrophosphate plating layer) having a layer thickness of 30 to 50 μm is formed.

【0026】上述の銅メッキ層13が形成された被メッ
キ体11をバレルから取出し、乾燥させた後に、図10
に示すように該銅メッキ層13の表面にエメリ粉14を
一定圧力で所定距離から噴射してホーニング処理を施
す。
After the object to be plated 11 on which the above-mentioned copper plating layer 13 is formed is taken out from the barrel and dried, FIG.
As shown in (1), honing treatment is performed by spraying emery powder 14 from the predetermined distance to the surface of the copper plating layer 13 at a constant pressure.

【0027】上述のホーニング処理条件は次の通りであ
る。 エメリ粉……100〜200メッシュ 射出圧 ……1.0〜4.0kg/cm2 射出時間……10〜60分 上述のエメリ粉14の噴射によるホーニング処理で、銅
メッキ層13の全表面は均一に粗面化されて、該表面に
は微細な凹凸(被メッキ体11それ自体の凹凸ではな
く、図示せず)が多数形成される。
The above honing conditions are as follows. Emery powder: 100 to 200 mesh Injection pressure: 1.0 to 4.0 kg / cm2 Injection time: 10 to 60 minutes The entire surface of the copper plating layer 13 is uniform by the above honing treatment by spraying the emery powder 14. A large number of fine irregularities (not the irregularities of the object to be plated 11 itself, not shown) are formed on the surface.

【0028】次に、ホーニング処理済みの被メッキ体1
1…をバレルメッキ装置のバレル内に投入し、粗面化さ
れた上述の銅メッキ層13の表面に電気バレルメッキ手
段にて図11に示す如く無光沢銅メッキ層15(光沢剤
なしの銅メッキ層のことで、具体的にはピロリン酸銅メ
ッキ層または硫酸銅メッキ層)を形成する。ここで、無
光沢銅メッキ層15を形成する場合にはアンモニアでpH
調整すると、アンモニアが純光沢剤の代りとなる。
Next, the object 1 to be plated after the honing treatment
Are charged into the barrel of a barrel plating apparatus, and the surface of the roughened copper plating layer 13 is coated with a matte copper plating layer 15 (copper without brightener) as shown in FIG. A plating layer, specifically, a copper pyrophosphate plating layer or a copper sulfate plating layer) is formed. Here, when the matte copper plating layer 15 is formed, the pH is adjusted with ammonia.
When adjusted, ammonia replaces the pure brightener.

【0029】次に、上述の無光沢銅メッキ層15の表面
に図6に示すように酸性化学ニッケルメッキ層16を形
成する。この酸性化学ニッケルメッキ層16の形成時に
還元剤として用いる次亜リン酸ソーダからリンが析出
し、リン含有パーセントが10wt%以上のNi・P合金
の酸性化学ニッケルメッキ層16となる。
Next, an acidic chemical nickel plating layer 16 is formed on the surface of the above-mentioned matte copper plating layer 15 as shown in FIG. Phosphorus precipitates from sodium hypophosphite used as a reducing agent when the acidic chemical nickel plating layer 16 is formed, and becomes an acidic chemical nickel plating layer 16 of a Ni.P alloy having a phosphorus content of 10% by weight or more.

【0030】このように各メッキ層12,13,15を
構成する銅(Fe、Ni、Cr、Co、Mn、Moなど
の鉄族性の金属ではなくして、磁性を帯びない金属)の
非磁性と高燐タイプの非磁性(酸性化学ニッケルメッキ
層16参照)との両作用により非磁性かつ検針器対応の
つや消しメッキ層16を形成することができ、特に被メ
ッキ体11を衣服用のボタンに選定した時に有効であ
る。
As described above, the non-magnetic copper (metal that does not have magnetism instead of iron group metal such as Fe, Ni, Cr, Co, Mn, and Mo) constituting each of the plating layers 12, 13, and 15 is used. The action of the high-phosphorus type non-magnetic (refer to the acidic chemical nickel plating layer 16) makes it possible to form the non-magnetic and matte plating layer 16 corresponding to the needle detector. In particular, the object to be plated 11 is used as a button for clothes. It is effective when selected.

【0031】また、上述の100〜200メッシュの
メリ粉14により銅メッキ層13の表面を均一に粗面化
すると共に、電流密度が略均一となる電気バレルメッキ
手段にて無光沢銅メッキ層15を形成するので、つや消
し状態にばらつきのない酸性化学ニッケルメッキ層16
を形成することができる効果がある。
Further, the surface of the copper plating layer 13 is uniformly roughened by the above-mentioned 100-200 mesh dust powder 14, and the electric current density is substantially uniform. Since the bright copper plating layer 15 is formed, the acid chemical nickel plating layer 16 having a uniform matte state is not formed.
There is an effect that can be formed.

【0032】さらに、上述の高燐タイプの酸性化学ニッ
ケルメッキの被膜を活性化させ、その上に銀メッキ加工
を施して、銀に黒色化成被膜を生成させると、検針器対
応のアンティーク(古代色調)シルバー色の最終装飾メ
ッキ層(図外)を形成することができる。
Further, the above-mentioned high-phosphorus type acidic chemical nickel plating film is activated, and silver plating is performed thereon to form a black chemical conversion film on silver. ) A final decorative plating layer (not shown) of a silver color can be formed.

【0033】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明の下地メッキ層は、実施例の化学メ
ッキ層2(アルカリ性化学銅メッキ層,化学ニッケルメ
ッキ層)に対応し、以下同様に、銅メッキ層3,13
硫酸銅メッキ層もしくはピロリン酸銅メッキ層に対
応し、無光沢銅メッキ層5,15は、硫酸銅メッキ層も
しくはピロリン酸銅メッキ層に対応し、最終装飾メッキ
層6は、酸性化学ニッケルメッキ層に対応するも、この
発明は上述の実施例の構成のみに限定されるものではな
い。
In the correspondence between the structure of the present invention and the above-described embodiment, the undercoat plating layer of the present invention corresponds to the chemical plating layer 2 (alkaline chemical copper plating layer, chemical nickel plating layer) of the embodiment. Similarly, the copper plating layers 3 and 13
Corresponds to the copper sulfate plating layer or copper pyrophosphate plating layer, matte copper plating layer 5 and 15 corresponds to the copper sulfate plating layer or copper pyrophosphate plating layer, the final decorative plating layer 6, an acidic chemical nickel Although corresponding to the plating layer, the present invention is not limited to only the configuration of the above-described embodiment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のつや消しメッキ方法を示す被メッキ
体の説明図。
FIG. 1 is an explanatory view of an object to be plated showing a matte plating method of the present invention.

【図2】 下地メッキ層形成行程の説明図。FIG. 2 is an explanatory view of a base plating layer forming step.

【図3】 銅メッキ層形成行程の説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram of a copper plating layer forming step.

【図4】 ホーニング工程の説明図。FIG. 4 is an explanatory view of a honing step.

【図5】 無光沢銅メッキ層形成行程の説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram of a matte copper plating layer forming process.

【図6】 最終装飾メッキ層形成行程の説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of a final decorative plating layer forming step.

【図7】 本発明の検針器対応つや消しメッキ方法を示
す被メッキ体の説明図。
FIG. 7 is an explanatory view of an object to be plated showing a matte plating method corresponding to a needle detector of the present invention.

【図8】 化学銅メッキ層形成行程の説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram of a chemical copper plating layer forming step.

【図9】 銅メッキ層形成行程の説明図。FIG. 9 is an explanatory diagram of a copper plating layer forming step.

【図10】 ホーニング工程の説明図。FIG. 10 is an explanatory view of a honing step.

【図11】 無光沢銅メッキ層形成行程の説明図。FIG. 11 is an explanatory diagram of a matte copper plating layer forming step.

【図12】 酸性化学ニッケルメッキ形成行程の説明
図。
FIG. 12 is an explanatory view of a step of forming an acidic chemical nickel plating.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11…被メッキ体 2…化学メッキ層 3,13…銅メッキ層 4,14…エメリ粉 5,15…無光沢銅メッキ層 6…最終装飾メッキ層 12…化学銅メッキ層 16…酸性化学ニッケルメッキ層 1, 11: Plated object 2: Chemical plating layer 3, 13: Copper plating layer 4, 14: Emery powder 5, 15: Matte copper plating layer 6: Final decorative plating layer 12: Chemical copper plating layer 16: Acid chemistry Nickel plating layer

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−115390(JP,A) 特開 平4−74890(JP,A) 実開 平2−36310(JP,U) 特公 昭40−26134(JP,B1) 実願 昭63−108160号(実開 平2− 36310号)の願書に添付した明細書及び 図面の内容を撮影したマイクロフィルム (JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C25D 5/00 - 7/12 Continuation of the front page (56) References JP-A-2-115390 (JP, A) JP-A-4-74890 (JP, A) JP-A-2-36310 (JP, U) JP-B-40-26134 (JP) , B1) Practical application A microfilm (JP, U) photographing the contents of the specification and drawings attached to the application form of Japanese Patent Application No. 63-108160 (Japanese Utility Model Application No. 2-36310) (58) Fields investigated (Int. . 6, DB name) C25D 5/00 - 7/12

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】樹脂、金属もしくはセラミック製の被メッ
キ体に下地メッキを施して下地メッキ層を形成し、 上記下地メッキ層の表面に電気バレルメッキ手段にて銅
メッキ層を形成した後に、上記銅メッキ層表面に100
〜200メッシュのエメリ粉を噴射してホーニング処理
を施し、 ホーニング処理済みの銅メッキ層表面に電気バレルメッ
キ手段にて無光沢銅メッキ層もしくは光沢性のみのニッ
ケルメッキ層を形成し、 上記無光沢銅メッキ層もしくは光沢性のみのニッケルメ
ッキ層の表面に最終装飾メッキ層を形成するつや消しメ
ッキ方法。
1. An underplating layer is formed by applying a baseplate to a body made of resin, metal or ceramic, and a copper plating layer is formed on the surface of the baseplate layer by an electric barrel plating means. 100 on the copper plating layer surface
A 200-mesh emery powder is sprayed to perform honing treatment. A matte copper plating layer or a gloss-only nickel plating layer is formed on the honed copper plating layer surface by an electric barrel plating means. A matte plating method in which a final decorative plating layer is formed on the surface of a copper plating layer or a nickel plating layer having only luster.
【請求項2】樹脂もしくはセラミック製の被メッキ体に
化学銅メッキを施して化学銅メッキ層を形成し、 上記化学銅メッキ層表面に電気バレルメッキ手段にて銅
メッキ層を形成した後に、上記銅メッキ層表面に100
〜200メッシュのエメリ粉を噴射してホーニング処理
を施し、 ホーニング処理済みの銅メッキ層の表面に電気バレルメ
ッキ手段にて無光沢銅メッキ層を形成し、 上記無光沢銅メッキ層の表面に酸性化学ニッケルメッキ
層を形成する検針器対応つや消しメッキ方法。
2. A method for forming a copper plating layer by applying a chemical copper plating to a plating object made of resin or ceramic, forming a copper plating layer on the surface of the chemical copper plating layer by an electric barrel plating means, 100 on the copper plating layer surface
Honing treatment by spraying emery powder of ~ 200 mesh, forming a matte copper plating layer on the surface of the honed copper plating layer by an electric barrel plating means, acid on the surface of the matte copper plating layer A matte plating method compatible with a needle detector that forms a chemical nickel plating layer.
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