JP2908826B2 - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

Info

Publication number
JP2908826B2
JP2908826B2 JP2037466A JP3746690A JP2908826B2 JP 2908826 B2 JP2908826 B2 JP 2908826B2 JP 2037466 A JP2037466 A JP 2037466A JP 3746690 A JP3746690 A JP 3746690A JP 2908826 B2 JP2908826 B2 JP 2908826B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording
xyz
erasing
phase
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2037466A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH03240590A (en
Inventor
博子 岩崎
真人 針谷
喜之 影山
由紀雄 井手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2037466A priority Critical patent/JP2908826B2/en
Priority to US07/657,517 priority patent/US5156693A/en
Publication of JPH03240590A publication Critical patent/JPH03240590A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2908826B2 publication Critical patent/JP2908826B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は情報記録媒体、特に相変化型情報記録媒体で
あって、光ビームを照射することにより記録層材料に相
変化を生じさせ、情報の記録、再生を行い、且つ書き換
えが可能である情報記録媒体に関するものであり、光メ
モリー関連機器に応用される。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an information recording medium, in particular, a phase change type information recording medium, which irradiates a light beam to cause a phase change in a recording layer material, and The present invention relates to an information recording medium capable of recording, reproducing, and rewriting information, and is applied to an optical memory related device.

[従来の技術] 電磁波特にレーザービームの照射による情報の記録・
再生及び消去可能な光メモリー媒体の一つとして、結晶
−非晶質相間或いは結晶−結晶相間の転移を利用する、
いわゆる相変化型記録媒体が良く知られている。特に光
磁気メモリーでは困難な単一ビームによるオーバーライ
トが可能であり、ドライブ側の光学系もより単純である
ことなどから最近その研究開発が活発になっている。そ
の代表的な材料例として、USP3,530,441に開示されてい
るようにGe-Te、Ge-Te-Sb-S、Ge-Te-S、Ge-Se-S、Ge
-Se-Sb、Ge-As-Se、In-Te、Se-Te、Se-As等所謂カルコ
ゲン系合金材料が挙げられる。又、安定性、高速結晶化
等の向上を目的にGe-Te系にAu(特開昭61-219692)、Sn
及びAu(特開昭61-270190)、Pd(特開昭62-19490)等
を添加した材料の提案や、記録/消去の繰返し性能向上
を目的に、Ge-Te-Se-Sbの組成比を特定した材料(特開
昭62-73438)の提案等もなされている。しかしながら、
そのいずれもが相変化型書換え可能光メモリー媒体とし
て要求される諸特性のすべてを満足し得るものとはいえ
ない。
[Prior art] Recording and recording of information by irradiation of electromagnetic waves, especially laser beams
As one of the rewritable and erasable optical memory media, utilizing a transition between a crystal and an amorphous phase or between a crystal and a crystal phase,
So-called phase change recording media are well known. In particular, overwriting with a single beam, which is difficult with a magneto-optical memory, is possible, and the drive-side optical system is simpler. Typical examples of the material include Ge-Te, Ge-Te-Sb-S, Ge-Te-S, Ge-Se-S, and Ge as disclosed in US Pat. No. 3,530,441.
So-called chalcogen-based alloy materials such as -Se-Sb, Ge-As-Se, In-Te, Se-Te, and Se-As. For the purpose of improving stability, high-speed crystallization, etc., Au (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-219692)
And the composition ratio of Ge-Te-Se-Sb with the aim of proposing materials to which Au (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-270190), Pd (Japanese Patent Application Laid-open No. 62-19490), etc. were added, and improving the recording / erasing repeatability There is also a proposal of a material (JP-A-62-73438) specifying the above. However,
None of them can satisfy all of the properties required for a phase-change rewritable optical memory medium.

又、特開昭63-251290では結晶状態が実質的に3元以
上の多元化合物単相からなる記録層を具備した光記録媒
体が提案されている。ここで実質的に三元以上の多元化
合物単相とは三元以上の化学量論組成をもった化合物
(例えばIn3SbTe2)を記録層中に90原子%以上含むもの
とされている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-251290 proposes an optical recording medium having a recording layer composed of a single phase of a multicomponent compound having a crystalline state of substantially three or more. Here, a ternary or higher ternary compound single phase is defined as a compound having a ternary or higher stoichiometric composition (eg, In 3 SbTe 2 ) in a recording layer of 90 atomic% or more.

このような記録層を用いることにより、高速記録、高
速消去が可能となるとしている。
By using such a recording layer, high-speed recording and high-speed erasing can be performed.

しかしながら、記録、消去に要するレーザーパワーは
未だ充分ではない、消去比も低い(消し残りが大きい)
等の欠点を有している。
However, the laser power required for recording and erasing is not yet sufficient, and the erasing ratio is low (the erasure remains large).
And the like.

更に特開平1-277338においては(SbXTe1-X1-Y
Y(ここで0.4≦a<0.7、y≦0.2、MはAg、Al、As、A
u、Bi、Cu、Ga、Ge、In、Pb、Pt、Se、Si、Sn及びZnか
らなる群から選ばれる少なくとも1種以上)で表される
組成の合金からなる記録層を有する光記録媒体が提案さ
れている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-277338 discloses that (Sb X Te 1-X ) 1- YM
Y (where 0.4 ≦ a <0.7, y ≦ 0.2, M is Ag, Al, As, A
optical recording medium having a recording layer composed of an alloy having a composition represented by at least one selected from the group consisting of u, Bi, Cu, Ga, Ge, In, Pb, Pt, Se, Si, Sn and Zn) Has been proposed.

この系の基本はSb2Te3であり、Sb過剰にすることによ
り、高速消去、繰返し特性を向上させ、Mの添加により
高速消去を促進させている。又、DC光による消去率も大
きいとしている。
The basis of this system is Sb 2 Te 3 , and when Sb is excessive, high-speed erasing and repetition characteristics are improved, and addition of M promotes high-speed erasing. It also states that the erasing rate by DC light is large.

しかしながらオーバーライト時の消去率は示されてお
らず(本発明者の検討結果では消し残りを生じた)、記
録感度も不充分である。
However, the erasing rate at the time of overwriting is not shown (results of study by the present inventors have left unerased data), and the recording sensitivity is also insufficient.

同様に特開昭60-177446では記録層に(In1-XSbX1-Y
Y(0.55≦X≦0.80、0≦Y≦0.20)なる合金を、
又、特開昭63-228433では記録層にGeTe-Sb2Te3-Sb(過
剰)なる合金を各々用いているが、感度、消去比等の特
性を満足するものではない。
Similarly, in JP-A-60-177446, (In 1-X Sb X ) 1-Y
An alloy of M Y (0.55 ≦ X ≦ 0.80, 0 ≦ Y ≦ 0.20)
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-228433 uses GeTe-Sb 2 Te 3 -Sb (excess) alloy for the recording layer, but does not satisfy characteristics such as sensitivity and erasing ratio.

特に記録感度、消去感度の向上、オーバーライト時の
消し残りによる消去比低下の防止、並びに記録部、未記
録部の長寿命化が解決すべき最重要課題となっている。
In particular, improvement of recording sensitivity and erasing sensitivity, prevention of a decrease in erasing ratio due to unerased portion at the time of overwriting, and extension of life of a recorded portion and an unrecorded portion are the most important issues to be solved.

中でもレーザー照射時間が100nsec以下という条件下
で媒体面でのレーザー書込みパワーについては、現在ま
での報告例のいずれもが、15mW程度以上のパワーを必要
としており、転送速度向上のため大きな障壁となってい
る。又、記録・消去のくり返し時に発生する熱により、
記録層、耐熱保護層等が損傷を受け、特性劣化をきたす
ため、くり返し性能向上に対しても大きな障害となって
いる。
In particular, as for the laser writing power on the medium surface under the condition that the laser irradiation time is 100 nsec or less, all of the reported examples up to now require a power of about 15 mW or more, which is a major barrier to improving the transfer speed. ing. Also, due to the heat generated when recording / erasing is repeated,
Since the recording layer, the heat-resistant protective layer, and the like are damaged and the characteristics are deteriorated, it is a great obstacle to the improvement of the repetition performance.

[発明が解決しようとする課題] 本発明は、上記従来技術に比較して下記の点を改良し
た情報記録媒体を提供しようとするものである。
[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to provide an information recording medium in which the following points are improved as compared with the above-mentioned conventional technology.

(1) レーザー書込み(記録)感度の向上、 (2) 消去感度の向上、 (3) 記録−消去のくり返し性能向上、 (4) 消去比の向上 [課題を解決するための手段] 上記課題を解決するためには、記録層材料として、下
記一般式で表わされる物質を主成分とすることにより、
極めて大きな改善が可能であることを見出した。
(1) Improvement of laser writing (recording) sensitivity, (2) Improvement of erasing sensitivity, (3) Improvement of repetition performance of recording-erasing, (4) Improvement of erasing ratio [Means for solving the problem] To solve the problem, by using a material represented by the following general formula as a main component as a recording layer material,
It has been found that very large improvements are possible.

すなわち本発明の構成は、 (1) 基板上に設けられた記録層の主成分が下記一般
式で表され、かつ記録層中の存在状態がXYZ2相とM相と
の混相であることを特徴とする情報記録媒体。
That is, the constitution of the present invention is as follows: (1) The main component of the recording layer provided on the substrate is represented by the following general formula, and the presence state in the recording layer is a mixed phase of XYZ two phase and M phase. Characteristic information recording medium.

一般式 (XYZ21-aa XYZ2は周期律表のIb-IIIb-VIb2あるいはIIb-IVb-Vb2
で表されるカルコパイライト型化合物、 MはXYZ2がIb-IIIb-VIb2のときにSb及び/又はBiであ
り、XYZ2がIIb-IVb-Vb2のときにはS、Se、Teの中から
選ばれる1種以上の元素。
Formula (XYZ 2) 1-a M a XYZ 2 is Ib-IIIb-VIb of the periodic table 2 or IIb-IVb-Vb 2
In chalcopyrite-type compound represented, M is Sb and / or Bi when the XYZ 2 is Ib-IIIb-VIb 2, when XYZ 2 is IIb-IVb-Vb 2 S, Se, from the Te One or more elements selected.

0.30≦a≦0.92 である。0.30 ≦ a ≦ 0.92.

(2) XYZ2がAgInTe2であり、MがSe又はBiであるこ
とを特徴とする上記(1)項記載の情報記録媒体。
(2) The information recording medium according to the above (1), wherein XYZ 2 is AgInTe 2 and M is Se or Bi.

aが0.3未満或いは0.92を超えると感度、消去比、コ
ントラストの向上に効果がなくなる。
If a is less than 0.3 or more than 0.92, there is no effect on improving the sensitivity, the erasing ratio, and the contrast.

又、記録層中には他の不純物等を微量(1%以下)含
んでいてもよい。
Further, the recording layer may contain trace amounts (1% or less) of other impurities and the like.

XYZ2の具体例としては、 Ib-IIIb-VIb2;AgInTe2、AgInSe2、AgGaSe2、AgInS2、Cu
InTe2、CuInSe2 IIb-IVb-Vb2;ZnSnSb2、ZnSnAs2、ZnSnP2、ZnGeAs2、CdS
nP2、CdSnAs2等が挙げられる。
Specific examples of XYZ 2 include: Ib-IIIb-VIb 2 ; AgInTe 2 , AgInSe 2 , AgGaSe 2 , AgInS 2 , Cu
InTe 2 , CuInSe 2 IIb-IVb-Vb 2 ; ZnSnSb 2 , ZnSnAs 2 , ZnSnP 2 , ZnGeAs 2 , CdS
nP 2 , CdSnAs 2 and the like.

XYZ2は化学量論組成が望ましいが、各々若干の組成ず
れがあっても構わない。
XYZ 2 preferably has a stoichiometric composition, but each may have a slight composition deviation.

具体的には、 Xopqとした場合 0.2≦o≦0.3 0.2≦p≦0.3 0.4≦q≦0.6 o+p+q=1.0 [作用] 本発明の記録層にレーザービームを照射すると、照射
条件により、以下の様な相転移を生じるものと考えられ
る。
Specifically, when irradiating a laser beam to the recording layer of the X o Y p Z when the q 0.2 ≦ o ≦ 0.3 0.2 ≦ p ≦ 0.3 0.4 ≦ q ≦ 0.6 o + p + q = 1.0 [ Operation] The present invention, by irradiation conditions It is considered that the following phase transition occurs.

わかり易くするためにXYZ2としてAgInTe2をとり、M
としてSbを例にとり説明する。
For simplicity, take AgInTe 2 as XYZ 2 and
Sb will be described as an example.

(1) AgInTe2Chalcopyrite型構造とZincblende型構
造間の結晶相転移(Mは転移を容易かつ安定化させ
る。) (2) AgInTe2のChalcopyrite型構造及び/又はZincb
lende型構造の微結晶粗大結晶間転移(Mは転移を容
易かつ安定化させる) (3) AgInTe2の非晶質及び/又はChalcopyrite型構
造及び/又はZincblende型構造中でのMの結晶−結晶間
及び/又は結晶−非晶間、及び/又は微結晶−粗大結晶
間転移。
(1) Crystal phase transition between AgInTe 2 Chalcopyrite-type structure and Zincblende-type structure (M facilitates and stabilizes the transition) (2) Chalcopyrite-type structure and / or Zincb of AgInTe 2
Lende-type crystal-to-coarse crystal transition (M facilitates and stabilizes the transition) (3) Crystal-crystal of M in amorphous and / or Chalcopyrite-type and / or Zincblende-type structure of AgInTe 2 Intercrystalline and / or crystalline-amorphous and / or microcrystalline-coarse crystalline transitions.

(4) (1)、(2)、(3)の複合化された転移。(4) Complex transition of (1), (2) and (3).

現在得られている情報だけでは相転移の機構を明確に
特定することはできないが、いずれにせよAgInTe2及びS
bが単独で存在する場合に比べ以下の点が特に優れてい
ることが判明した。
The information currently available alone cannot clearly identify the mechanism of the phase transition, but in any case AgInTe 2 and S
The following points were found to be particularly excellent as compared with the case where b exists alone.

(1) 光吸収率が大きくなり、記録・消去感度が向上
する。
(1) The light absorptivity is increased, and the recording / erasing sensitivity is improved.

(2) 転移前後の光学的コントラストが大きくなりC/
Nが向上する。
(2) The optical contrast before and after the transition increases and C /
N improves.

(3) オーバーライト時の消去比が飛躍的に向上す
る。
(3) The erasing ratio during overwriting is dramatically improved.

特に消去特性については、驚くべきことに、DC光によ
る単純消去時のみならず、1ビームのオーバーライトモ
ードにおいてもほぼ完全な消去が可能であった。
In particular, as for the erasing characteristics, surprisingly, almost complete erasing was possible not only in simple erasing with DC light but also in one-beam overwrite mode.

これは現在までに公知となっているいかなる材料にも
全く見られない性能である。
This is a performance not found at all in any material known to date.

本発明の前記情報記録媒体は、必要に応じて耐熱保護
層、表面保護層、反射層、放熱層、接着層等の補助層を
設けてもよい。本発明で用いられる基板は通常、ガラ
ス、セラミックスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型
性、コスト等の点で好適である。樹脂の代表例としては
ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリ
コン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂等
が挙げられるが、加工性、光学特性等の点でポリカーボ
ネート樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。又、基板の形
状としてはディスク状、カード状あるいはシート状であ
っても良い。
The information recording medium of the present invention may be provided with auxiliary layers such as a heat-resistant protective layer, a surface protective layer, a reflective layer, a heat dissipation layer, and an adhesive layer, if necessary. The substrate used in the present invention is usually glass, ceramic or resin, and a resin substrate is suitable in terms of moldability, cost, and the like. Typical examples of resins include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin,
Polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, urethane resin, etc. Resins are preferred. The shape of the substrate may be a disk shape, a card shape or a sheet shape.

耐熱性保護層の材料としては、SiO、SiO2、ZnO、Sn
O2、Al23、TiO2、In23、MgO、ZrO2等の金属酸化
物、Si34、AlN、TiN、BN、ZrN等の窒化物、ZnS、In2
3、TaS4等の硫化物、SiC、TaC、B4C、WC、TiC、ZrC
等の炭化物やダイヤモンド状カーボン或いはそれらの混
合物が挙げられる。又、必要に応じて不純物を含んでい
てもよい。このような耐熱性保護層は各種気相成膜法、
例えば、真空蒸着法、スパッタ法、プラズマCVD法、光C
VD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法等に
よって形成できる。
Materials for the heat-resistant protective layer include SiO, SiO 2 , ZnO, and Sn.
Metal oxides such as O 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , nitrides such as Si 3 N 4 , AlN, TiN, BN, ZrN, ZnS, In 2
S 3, TaS sulfides such as 4, SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC, ZrC
And diamond-like carbon or a mixture thereof. Further, it may contain impurities as needed. Such a heat-resistant protective layer can be formed by various vapor deposition methods,
For example, vacuum evaporation, sputtering, plasma CVD, optical C
It can be formed by a VD method, an ion plating method, an electron beam evaporation method, or the like.

耐熱性保護層の膜厚としては200〜5000Å、好適には5
00〜3000Åとするのが良い。200Åより薄くなると耐熱
性保護層としての機能を果たさなくなり、逆に5000Åよ
り厚くなると、感度低下を来たしたり、界面剥離を生じ
易くなる。又、必要に応じて保護層を多層化することも
できる。
The thickness of the heat-resistant protective layer is 200 to 5000 mm, preferably 5
It is good to be 00-3000Å. When the thickness is less than 200 mm, the layer does not function as a heat-resistant protective layer. On the other hand, when the thickness is more than 5000 mm, the sensitivity is lowered and the interface is apt to be peeled off. Further, if necessary, the protective layer can be multi-layered.

相変化材料は単層のみならず、多層膜あるいは超微粒
子状の請求項(1)記載の相変化物質を耐熱性マトリッ
クス中に分散せしめたようなものであっても良い。
The phase-change material is not limited to a single layer, but may be a multilayer film or an ultra-fine particle in which the phase-change material according to claim 1 is dispersed in a heat-resistant matrix.

後者のような記録膜の作製法としては、前記気相成膜
以外にゾル−ゲル法のような湿式プロセスも適用可能で
ある。
As a method of producing the recording film as the latter, a wet process such as a sol-gel method can be applied in addition to the vapor phase film formation.

気相成膜法の中では、膜の特性、成膜の容易さ等の点
で高周波(rf)スパッタ法が好適な方法である。
Among the vapor deposition methods, a high frequency (rf) sputtering method is a preferable method in terms of film characteristics, ease of film formation, and the like.

rfスパッタ法の代表的な記録層作製条件としては、 ・ ターゲット…XYZ2+M(例えばAgInTe2+Sb) ・ スパッタ(反応)時圧力…0.5〜20Pa ・ rfパワー…20W〜1kW ・ スパッタガス…Ar+(O2:膜中酸素量制御時) ・ スパッタ時間…10秒〜20分 等が挙げられるが、製法及び条件については何ら限定さ
れるものではない。
Typical recording layer preparation conditions for rf sputtering include: target: XYZ 2 + M (for example, AgInTe 2 + Sb); sputtering (reaction) pressure: 0.5 to 20 Pa; rf power: 20 W to 1 kW; sputtering gas: Ar + ( (O 2 : at the time of controlling the amount of oxygen in the film) Sputtering time: 10 seconds to 20 minutes, but the production method and conditions are not limited at all.

記録層の膜厚としては200〜10,000Å、好適には500〜
3000Å、最適には700〜2000Åである。
The thickness of the recording layer is 200 to 10,000Å, preferably 500 to
3000Å, optimally 700-2000Å.

記録、再生及び消去に用いる電磁波としてはレーザー
光、電子線、X線、紫外線、可視光線、赤外線、マイク
ロ波等、種々のものが採用可能であるが、ドライブに取
付ける際、小型でコンパクトな半導体レーザーのビーム
が最適である。
Various types of electromagnetic waves such as laser light, electron beam, X-ray, ultraviolet ray, visible light, infrared ray, and microwave can be used for recording, reproduction, and erasing, but when mounted on a drive, a small and compact semiconductor is used. The laser beam is optimal.

[実施例] 以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。た
だし、これらの実施例は本発明を何ら制限するものでは
ない。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, these examples do not limit the present invention at all.

実施例1 ピッチ1.6μm深さ700Åの溝付、厚さ1.2mm、直径86m
mφポリカーボネート基板上にrfスパッタリング法によ
り耐熱保護層、記録層、耐熱保護層、反射層を順次積層
し、評価用光ディスクを作製した。
Example 1 A groove having a pitch of 1.6 μm and a depth of 700 mm, a thickness of 1.2 mm, and a diameter of 86 m
A heat-resistant protective layer, a recording layer, a heat-resistant protective layer, and a reflective layer were sequentially laminated on an mφ polycarbonate substrate by an rf sputtering method to produce an optical disc for evaluation.

各層に用いた材料と膜厚を下記表−1に示す。 The material and film thickness used for each layer are shown in Table 1 below.

光ディスクの評価は830nmの半導体レーザー光をNA0.5
のレンズを通して媒体面で1μmφのスポット径に絞り
こみ基板側から照射することにより行った。
The evaluation of the optical disk was conducted using a 830 nm semiconductor laser
This was performed by narrowing down to a spot diameter of 1 μmφ on the medium surface through the above lens and irradiating from the substrate side.

成膜後の記録膜は非晶質であったが、測定に際し、最
初に媒体面で4〜10mWのDC光でディスク全面を充分に結
晶化させ、それを初期(未記録)状態とした。
Although the recording film after the film formation was amorphous, at the time of measurement, the entire surface of the disk was first sufficiently crystallized with 4 to 10 mW DC light on the medium surface, and was brought into an initial (unrecorded) state.

ディスクの線速度は7m/sとした。 The linear velocity of the disk was 7 m / s.

記録の書込み条件は、線速度7m/s、周波数3.7MHz一定
とし、レーザーパワー(PW)を7〜14mWまで変化させ
た。
The writing conditions for recording were such that the linear velocity was 7 m / s and the frequency was constant at 3.7 MHz, and the laser power (P W ) was varied from 7-14 mW.

読みとりパワー(PR)は1.0mWとした。C/N(キャリ
ア対ノイズ比)値が飽和もしくは最大となった時のレー
ザーパワー(PW)と最適消去パワー(PE)、並びに得
られたC/N値及び消去比を表−1に示す。
The reading power (P R ) was 1.0 mW. Table 1 shows the laser power (P W ) and the optimum erase power (P E ) when the C / N (carrier-to-noise ratio) value is saturated or maximum, and the obtained C / N value and erase ratio. Show.

更にC/N値45dB以上で、かつ消去比35dB以上となった
ディスクについては2つの書込み周波数(f1=3.7MH
z、f2=4.5MHz)で、交互にオーバーライトテストを実
施した。
Further, for a disk having a C / N value of 45 dB or more and an erasing ratio of 35 dB or more, two writing frequencies (f 1 = 3.7 MHz)
(z, f 2 = 4.5 MHz), and an overwrite test was performed alternately.

オーバーライト時の書込みパワー(PW)及び消去パ
ワー(PE)はディスクによって最適な値を選択した。
The optimum values of the write power (P W ) and the erase power (P E ) during overwriting were selected depending on the disk.

線速度、PR等、他の条件は書込みテスト時と同様と
した。
Linear velocity, P R or the like, the other conditions were the same as when writing test.

オーバーライト性能の結果を下記表−2に示す。 The results of overwrite performance are shown in Table 2 below.

表−1、2より本発明による相変化型光記録媒体が優
れた性能を有すること、特に記録感度の点で高感度化が
達成されていることが確認される。
From Tables 1 and 2, it is confirmed that the phase-change type optical recording medium according to the present invention has excellent performance, and particularly high recording sensitivity has been achieved.

実施例2 層構成を替えた外は実施例1と同じ条件で書き込み性
能を試験した。その結果を下記表−3に示す。
Example 2 The write performance was tested under the same conditions as in Example 1 except that the layer configuration was changed. The results are shown in Table 3 below.

又、実施例1と同じ条件でオーバーライト性能を試験
した。その結果を下記表−4に示す。
The overwrite performance was tested under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 4 below.

実施例3 実施例2と同様に、実施例1の層構成を替えた外は実
施例1と同じ条件で書き込み性能を試験した。その結果
を下記表−5に示す。
Example 3 As in Example 2, the write performance was tested under the same conditions as Example 1 except that the layer configuration of Example 1 was changed. The results are shown in Table 5 below.

又、実施例1と同じ条件でオーバーライト性能を試験
した。その結果を下記表−6に示す。
The overwrite performance was tested under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 6 below.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明の効果を要約すると下記
のとおりである。
[Effects of the Invention] As described above, the effects of the present invention are summarized as follows.

(1) 記録・消去時に要求される加熱温度が低い。
又、本発明の材料は光吸収率が高いためレーザー光の吸
収時の記録層加熱昇温効率も高い。以上の理由により、
必要レーザーパワーを低くすることができる。
(1) The heating temperature required for recording / erasing is low.
Further, since the material of the present invention has a high light absorptivity, the recording layer heating efficiency during laser beam absorption is also high. For the above reasons,
The required laser power can be reduced.

即ち記録・消去感度が大巾に向上する。 That is, the recording / erasing sensitivity is greatly improved.

(2) 必要レーザーパワーを低くできるため、市販の
安い、安定した半導体レーザーを使用できる。
(2) Since the required laser power can be reduced, a commercially available inexpensive and stable semiconductor laser can be used.

(3) レーザー照射部の温度を低く抑えることが可能
なため、熱損傷による特性劣化を低減できる。
(3) Since the temperature of the laser irradiation part can be kept low, characteristic deterioration due to thermal damage can be reduced.

(4) オーバーライト時の消去比を飛躍的に高くでき
る。
(4) The erasing ratio during overwriting can be dramatically increased.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井手 由紀雄 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 昭64−10439(JP,A) 特開 平1−94545(JP,A) 特開 平2−178086(JP,A) 特開 平2−150384(JP,A) 特開 平2−175285(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41M 5/26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yukio Ide 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Co., Ltd. (56) References JP-A-64-10439 (JP, A) 1-94545 (JP, A) JP-A-2-178086 (JP, A) JP-A-2-150384 (JP, A) JP-A-2-175285 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B41M 5/26

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板上に設けられた記録層の主成分が下記
一般式で表され、かつ記録層中の存在状態がXYZ2相とM
相との混相であることを特徴とする情報記録媒体。 一般式 (XYZ21-aa XYZ2は周期律表のIb-IIIb-VIb2あるいはIIb-IVb-Vb2
表されるカルコパイライト型化合物、 MはXYZ2がIb-IIIb-VIb2のときにSb及び/又はBiであ
り、XYZ2がIIb-IVb-Vb2のときにはS、Se、Teの中から
選ばれる1種以上の元素。 0.30≦a≦0.92
1. A main component of the recording layer provided on the substrate is represented by the following general formula, and present state of the recording layer is XYZ 2 phase and M
An information recording medium characterized by being a mixed phase with a phase. Formula (XYZ 2 ) 1-a M a XYZ 2 is a chalcopyrite-type compound represented by Ib-IIIb-VIb 2 or IIb-IVb-Vb 2 in the periodic table, and M is Xb 2 of Ib-IIIb-VIb a Sb and / or Bi at 2, one or more elements selected from among S, Se, Te when the XYZ 2 is IIb-IVb-Vb 2. 0.30 ≦ a ≦ 0.92
【請求項2】XYZ2がAgInTe2であり、MがSb又はBiであ
ることを特徴とする請求項(1)記載の情報記録媒体。
2. The information recording medium according to claim 1, wherein XYZ 2 is AgInTe 2 and M is Sb or Bi.
JP2037466A 1990-02-19 1990-02-20 Information recording medium Expired - Fee Related JP2908826B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2037466A JP2908826B2 (en) 1990-02-20 1990-02-20 Information recording medium
US07/657,517 US5156693A (en) 1990-02-19 1991-02-19 Information recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2037466A JP2908826B2 (en) 1990-02-20 1990-02-20 Information recording medium

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03240590A JPH03240590A (en) 1991-10-25
JP2908826B2 true JP2908826B2 (en) 1999-06-21

Family

ID=12498302

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2037466A Expired - Fee Related JP2908826B2 (en) 1990-02-19 1990-02-20 Information recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2908826B2 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3566743B2 (en) * 1993-12-13 2004-09-15 Tdk株式会社 Optical recording medium
US5882493A (en) * 1993-12-13 1999-03-16 Ricoh Company, Ltd. Heat treated and sintered sputtering target
US5785828A (en) 1994-12-13 1998-07-28 Ricoh Company, Ltd. Sputtering target for producing optical recording medium
JP3268157B2 (en) * 1995-02-21 2002-03-25 ティーディーケイ株式会社 Optical recording medium
JP3150267B2 (en) * 1995-03-31 2001-03-26 ティーディーケイ株式会社 Optical recording medium
US6022605A (en) * 1997-02-28 2000-02-08 Kao Corporation Optical recording medium and recording/erasing method therefor
JP2004071079A (en) * 2002-08-08 2004-03-04 Hitachi Ltd Information recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03240590A (en) 1991-10-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5736657A (en) Sputtering target
US6652806B2 (en) Method of producing a sputtering target
US6592958B2 (en) Optical recording medium and sputtering target for fabricating the recording medium
JPH07169094A (en) Optical recording medium
JP3032585B2 (en) Information recording medium
JP2908826B2 (en) Information recording medium
JPH0737251A (en) Optical information recording method
JP3032600B2 (en) Optical information recording medium
JPH05151619A (en) Optical information recording medium and recording method
JP2868849B2 (en) Information recording medium
JP3058443B2 (en) Optical information recording medium
JP3255204B2 (en) Optical information recording method
JP3029690B2 (en) Information recording medium and information recording method using the same
JP3176582B2 (en) Recording and erasing information
JP2986897B2 (en) Information recording medium
JP2954731B2 (en) Information recording medium and information recording method using the same
JPH0428587A (en) Optical information record medium
JP2963106B2 (en) Information recording medium
JPH0558047A (en) Optical data recording medium
JP2804313B2 (en) Phase change optical information recording medium
JP3222909B2 (en) Information recording medium
JP3224591B2 (en) Information recording medium
JP3181094B2 (en) Information recording medium
JP3165200B2 (en) Information recording medium
JPH04219623A (en) Initialization method for information recording medium

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees