JP2890867B2 - ガラスアンプル洗浄装置 - Google Patents
ガラスアンプル洗浄装置Info
- Publication number
- JP2890867B2 JP2890867B2 JP3044022A JP4402291A JP2890867B2 JP 2890867 B2 JP2890867 B2 JP 2890867B2 JP 3044022 A JP3044022 A JP 3044022A JP 4402291 A JP4402291 A JP 4402291A JP 2890867 B2 JP2890867 B2 JP 2890867B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- cleaning liquid
- cleaning
- glass ampule
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラスアンプル洗浄装置
に関するものである。
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年電子工業特に半導体製造用に使用さ
れている各種化学薬品の高純度化が著しく進み、いわゆ
る無塵室内で合成し、容器に収納して出荷する工程が一
般化してきている。この場合ガラスアンプルを無塵室内
で清浄にしてこれに液体の薬品を封入する必要がある。
ガラスアンプルの清浄化には複数の洗浄液を使用するこ
とがあり、無塵室内で作業を行うために高度の小型化が
要求される。
れている各種化学薬品の高純度化が著しく進み、いわゆ
る無塵室内で合成し、容器に収納して出荷する工程が一
般化してきている。この場合ガラスアンプルを無塵室内
で清浄にしてこれに液体の薬品を封入する必要がある。
ガラスアンプルの清浄化には複数の洗浄液を使用するこ
とがあり、無塵室内で作業を行うために高度の小型化が
要求される。
【０００３】しかしながらこの様な半導体製造用高純度
薬品用のガラスアンプルを無塵室内で洗浄するための、
小型化された１槽で複数の洗浄液又は純水を使用可能で
あり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可能な洗浄装置がなか
った。また小型化されて自動的に洗浄を行うためには、
ガラスアンプルを直倒立させる方式が適当であるが、こ
の場合ガラスアンプルの底部に空気が残らないようにす
るのが容易でないという問題があった。
薬品用のガラスアンプルを無塵室内で洗浄するための、
小型化された１槽で複数の洗浄液又は純水を使用可能で
あり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可能な洗浄装置がなか
った。また小型化されて自動的に洗浄を行うためには、
ガラスアンプルを直倒立させる方式が適当であるが、こ
の場合ガラスアンプルの底部に空気が残らないようにす
るのが容易でないという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題を解
決するために、ガラスアンプルの底部に空気が残らず、
小型化されて自動的に動作し、１槽で複数の洗浄液又は
純水を使用可能であり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可能
なガラスアンプル洗浄装置を提供することを目的とす
る。
決するために、ガラスアンプルの底部に空気が残らず、
小型化されて自動的に動作し、１槽で複数の洗浄液又は
純水を使用可能であり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可能
なガラスアンプル洗浄装置を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明において、ガラス
アンプルを槽の中の洗浄液中において超音波を用いて洗
浄するガラスアンプル洗浄装置において、該槽を上部槽
と下部槽とに分割する水平に固設された仕切り板と、該
仕切り板にほぼ垂直に固設された上端及び下端が開口す
る支持筒と、該下部槽に開口し熱風を流入させる熱風流
入口と、該下部槽に開口し空気を排出する空気抜き口
と、該上部槽または下部槽のいずれかに開口し洗浄液を
流入させる洗浄液流入口と、該上部槽に開口し洗浄液を
流出させる上部槽洗浄液流出口と、該下部槽に開口し洗
浄液を流出させる下部槽洗浄液流出口とが設けられ、該
ガラスアンプルは底部を上にして該底部が該支持筒の該
上端に突接するように支持されて洗浄されることを特徴
とするガラスアンプル洗浄装置を構成した。
アンプルを槽の中の洗浄液中において超音波を用いて洗
浄するガラスアンプル洗浄装置において、該槽を上部槽
と下部槽とに分割する水平に固設された仕切り板と、該
仕切り板にほぼ垂直に固設された上端及び下端が開口す
る支持筒と、該下部槽に開口し熱風を流入させる熱風流
入口と、該下部槽に開口し空気を排出する空気抜き口
と、該上部槽または下部槽のいずれかに開口し洗浄液を
流入させる洗浄液流入口と、該上部槽に開口し洗浄液を
流出させる上部槽洗浄液流出口と、該下部槽に開口し洗
浄液を流出させる下部槽洗浄液流出口とが設けられ、該
ガラスアンプルは底部を上にして該底部が該支持筒の該
上端に突接するように支持されて洗浄されることを特徴
とするガラスアンプル洗浄装置を構成した。
【０００６】
【作用】本発明によるガラスアンプル洗浄装置は、槽が
上下２槽に仕切られ、液又は空気は仕切板に固設された
支持筒を介してのみ相互に流通可能である。ガラスアン
プルは支持筒に支持され支持筒の先端がガラスアンプル
の底部に突接しているので、ガラスアンプルの底部にお
ける液の流れは極めて円滑に行われる。
上下２槽に仕切られ、液又は空気は仕切板に固設された
支持筒を介してのみ相互に流通可能である。ガラスアン
プルは支持筒に支持され支持筒の先端がガラスアンプル
の底部に突接しているので、ガラスアンプルの底部にお
ける液の流れは極めて円滑に行われる。
【０００７】
【実施例】本発明の一実施例を図１〜図９により説明す
る。図１は本実施例の断面図、図２は同平面図、図３は
配管図、図４はブロック図、図５はガラスアンプルの支
持された状態を示す断面図、図６は支持筒のキャップの
斜視図、図７及び図８は液の流れを説明する図、図９は
フローチャートである。
る。図１は本実施例の断面図、図２は同平面図、図３は
配管図、図４はブロック図、図５はガラスアンプルの支
持された状態を示す断面図、図６は支持筒のキャップの
斜視図、図７及び図８は液の流れを説明する図、図９は
フローチャートである。
【０００８】本実施例の構造を第１図及び第２図により
説明する。槽（１）は直方体の上部が開放された水槽で
ある。大きさは幅８０×奥行５０×深さ４０ｃｍ、ステ
ンレス製である。ガラスアンプルの搬送の時開放可能な
蓋（不図示）を有している。槽（１）には下面より３ｃ
ｍ上方に、槽（１）を上部槽（１ａ）と下部槽（１ｂ）
とに分離する仕切り板（２）が設けられている。仕切り
板（２）の上面にはガラスアンプルを支持する中空の支
持筒（３）が上端を開口して上向きに直立して固設され
ている。支持筒（３）の仕切り板（２）に固設されてい
る下端は開口している。従って上部槽（１ａ）と下部槽
（１ｂ）とは仕切り板（２）により分離されているが、
支持筒（３）を介して流通可能になっている。支持筒
（３）は内径３ｍｍ、外径５ｍｍ、長さ２５ｃｍのステ
ンレス製管であり、幅方向に６本、奥行方向に４本、計
２４本等間隔に設置されている。槽（１）の幅方向両側
には周波数２６ｋＨｚ、出力６００ワットの超音波発振
器（６）が設置されている。又ガラスアンプル用の搬送
器（不図示）が設置され、ガラスアンプルを搬送して支
持筒（３）に支持させ、又除去するようになっている。
説明する。槽（１）は直方体の上部が開放された水槽で
ある。大きさは幅８０×奥行５０×深さ４０ｃｍ、ステ
ンレス製である。ガラスアンプルの搬送の時開放可能な
蓋（不図示）を有している。槽（１）には下面より３ｃ
ｍ上方に、槽（１）を上部槽（１ａ）と下部槽（１ｂ）
とに分離する仕切り板（２）が設けられている。仕切り
板（２）の上面にはガラスアンプルを支持する中空の支
持筒（３）が上端を開口して上向きに直立して固設され
ている。支持筒（３）の仕切り板（２）に固設されてい
る下端は開口している。従って上部槽（１ａ）と下部槽
（１ｂ）とは仕切り板（２）により分離されているが、
支持筒（３）を介して流通可能になっている。支持筒
（３）は内径３ｍｍ、外径５ｍｍ、長さ２５ｃｍのステ
ンレス製管であり、幅方向に６本、奥行方向に４本、計
２４本等間隔に設置されている。槽（１）の幅方向両側
には周波数２６ｋＨｚ、出力６００ワットの超音波発振
器（６）が設置されている。又ガラスアンプル用の搬送
器（不図示）が設置され、ガラスアンプルを搬送して支
持筒（３）に支持させ、又除去するようになっている。
【０００９】次に使用する副資材について述べる。洗浄
液は高純度の界面活性材を使用し、微細な塵を除去した
ｐＨ１２のアルカリ性液である。純水は半導体製造仕様
のイオン交換水である。空気は加温空気用のクリーンル
ーム空調用高性能フィルターを使用し微細な塵を除去し
た空気を８０度に加熱し、１００リットル／ｍｉｎの風
量で送風器（１６）により送風される。
液は高純度の界面活性材を使用し、微細な塵を除去した
ｐＨ１２のアルカリ性液である。純水は半導体製造仕様
のイオン交換水である。空気は加温空気用のクリーンル
ーム空調用高性能フィルターを使用し微細な塵を除去し
た空気を８０度に加熱し、１００リットル／ｍｉｎの風
量で送風器（１６）により送風される。
【００１０】次に本実施例の配管構造を第３図により説
明する。洗浄液については、槽（１）に洗浄液流入口
（８）、洗浄液流出口（９）、洗浄液流出口（１０）が
設けられている。洗浄液を流入させる洗浄液流入口
（８）は洗浄液タンク（７）に管（８ａ）により接続し
ている。管（８ａ）にはバルブ（Ｂ１）が設けられてい
る。洗浄液を流出させる洗浄液流出口（９）は上部槽
（１ａ）に開口し洗浄液タンク（７）に管（９ａ）によ
り接続している。管（９ａ）にはバルブ（Ｂ２）が設け
られている。又洗浄液を流出させる洗浄液流出口（１
０）は下部槽（１ｂ）に開口し洗浄液タンク（７）に管
（１０ａ）により接続している。管（１０ａ）にはバル
ブ（Ｂ３）が設けられている。
明する。洗浄液については、槽（１）に洗浄液流入口
（８）、洗浄液流出口（９）、洗浄液流出口（１０）が
設けられている。洗浄液を流入させる洗浄液流入口
（８）は洗浄液タンク（７）に管（８ａ）により接続し
ている。管（８ａ）にはバルブ（Ｂ１）が設けられてい
る。洗浄液を流出させる洗浄液流出口（９）は上部槽
（１ａ）に開口し洗浄液タンク（７）に管（９ａ）によ
り接続している。管（９ａ）にはバルブ（Ｂ２）が設け
られている。又洗浄液を流出させる洗浄液流出口（１
０）は下部槽（１ｂ）に開口し洗浄液タンク（７）に管
（１０ａ）により接続している。管（１０ａ）にはバル
ブ（Ｂ３）が設けられている。
【００１１】洗浄の仕上げの濯ぎに使用する純水につい
ては、槽（１）に純水流入口（１１）、純水流出口（１
２）、純水流出口（１３）が設けられている。純水を流
入させる純水流入口（１１）は純水タンク（１１ｂ）に
管（１１ａ）により接続している。管（１１ａ）にはバ
ルブ（Ｂ４）が設けられている。 使用した純水を流出
させる純水流出口（１２）は上部槽（１ａ）に開口し排
水口（１２ｂ）に管（１２ａ）により接続している。管
（１２ａ）にはバルブ（Ｂ５）が設けられている。又使
用した純水を流出させる純水流出口（１３）は下部槽
（１ｂ）に開口し排水口（１３ｂ）に管（１３ａ）によ
り接続している。管（１３ａ）にはバルブ（Ｂ６）が設
けられている。
ては、槽（１）に純水流入口（１１）、純水流出口（１
２）、純水流出口（１３）が設けられている。純水を流
入させる純水流入口（１１）は純水タンク（１１ｂ）に
管（１１ａ）により接続している。管（１１ａ）にはバ
ルブ（Ｂ４）が設けられている。 使用した純水を流出
させる純水流出口（１２）は上部槽（１ａ）に開口し排
水口（１２ｂ）に管（１２ａ）により接続している。管
（１２ａ）にはバルブ（Ｂ５）が設けられている。又使
用した純水を流出させる純水流出口（１３）は下部槽
（１ｂ）に開口し排水口（１３ｂ）に管（１３ａ）によ
り接続している。管（１３ａ）にはバルブ（Ｂ６）が設
けられている。
【００１２】空気については、槽（１）に空気抜き口
（１４）、熱風流入口（１５）が設けられている。下部
槽（１ｂ）の空気抜きをする空気抜き管（４）が下部槽
（１ｂ）の空気抜き口（１４）にその一端が接続してい
る。空気抜き管（４）の他端は液面の最上面よりも上方
に開口している。空気抜き管（４）にはバルブ（Ｂ８）
が設けられている。又下部槽（１ｂ）に熱風を流入させ
る熱風流入口（１５）が開口し、管（１５ａ）により送
風機（１６）に接続している。管（１５ａ）にはバルブ
（Ｂ７）が設けられている。
（１４）、熱風流入口（１５）が設けられている。下部
槽（１ｂ）の空気抜きをする空気抜き管（４）が下部槽
（１ｂ）の空気抜き口（１４）にその一端が接続してい
る。空気抜き管（４）の他端は液面の最上面よりも上方
に開口している。空気抜き管（４）にはバルブ（Ｂ８）
が設けられている。又下部槽（１ｂ）に熱風を流入させ
る熱風流入口（１５）が開口し、管（１５ａ）により送
風機（１６）に接続している。管（１５ａ）にはバルブ
（Ｂ７）が設けられている。
【００１３】液面計（１７）は支持筒（３）の上端より
高く、洗浄に充分な液面の位置に設置されている。
高く、洗浄に充分な液面の位置に設置されている。
【００１４】次にブロック図について説明する。図４に
示すよに、洗浄動作を制御する中央制御装置（ＣＰＵ）
（１８）が設置され、搬送器（５）及び超音波発振器
（６）の制御をするほか、液面計（１７）その他の情報
によりバルブ（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ
４）、（Ｂ５）、（Ｂ６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）の開閉
を制御する。
示すよに、洗浄動作を制御する中央制御装置（ＣＰＵ）
（１８）が設置され、搬送器（５）及び超音波発振器
（６）の制御をするほか、液面計（１７）その他の情報
によりバルブ（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ
４）、（Ｂ５）、（Ｂ６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）の開閉
を制御する。
【００１５】次にガラスアンプルの洗浄及び乾燥につい
て説明する。搬送器（５）によりガラスアンプル（１
９）が搬送されて支持筒（３）に直倒立に支持される
と、ガラスアンプル（１９）は図５に示すように口部
（１９ｃ）を下に、底部（１９ｂ）を上にして、頸部
（１９ａ）の中に支持筒（３）が挿入し支持筒（３）の
先端部（３ａ）において支持される。支持筒（３）の先
端は図６に示すような弗素樹脂製のキャップ（２０）に
より、ガラスアンプル（１９）を支持筒（３）との接触
による超音波振動の破損から保護する。キャップ（２
０）は筒状でありかつ切れ目（２１）が設けられて液体
及び空気の流通を良くしている。
て説明する。搬送器（５）によりガラスアンプル（１
９）が搬送されて支持筒（３）に直倒立に支持される
と、ガラスアンプル（１９）は図５に示すように口部
（１９ｃ）を下に、底部（１９ｂ）を上にして、頸部
（１９ａ）の中に支持筒（３）が挿入し支持筒（３）の
先端部（３ａ）において支持される。支持筒（３）の先
端は図６に示すような弗素樹脂製のキャップ（２０）に
より、ガラスアンプル（１９）を支持筒（３）との接触
による超音波振動の破損から保護する。キャップ（２
０）は筒状でありかつ切れ目（２１）が設けられて液体
及び空気の流通を良くしている。
【００１６】支持筒（３）に支持されたガラスアンプル
（１９）の周辺の液体及び空気の流通は図７及び図８に
示す通りである。洗浄液が洗浄液流入口（８）から上部
槽（１ａ）に流入すると、当初空気に満たされたガラス
アンプル（１９）の外側が洗浄液により満たされる。洗
浄液は次いでガラスアンプル（１９）の口部（１９ｃ）
と支持筒（３）との間よりガラスアンプル（１９）内に
流入し空気を押し出す。押し出された空気は支持筒
（３）の中に先端部（３ａ）より入り、通過して下部槽
（１ｂ）に入る。そして空気抜き口（１４）よりバルブ
（Ｂ８）が開かれた空気抜き管（４）を通り、他端の開
口より放散される。洗浄液はガラスアンプル（１９）の
内部より下部槽（１ｂ）及び空気抜き管（４）に満ち
る。この充満した状態で超音波発振器（６）が発振しガ
ラスアンプル（１９）が洗浄される。洗浄が終了すると
バルブ（Ｂ２）及びバルブ（Ｂ３）が開かれ、洗浄液は
流出し、空気が槽（１）の開放された上面及びバルブ
（Ｂ８）から槽（１）に流入する。
（１９）の周辺の液体及び空気の流通は図７及び図８に
示す通りである。洗浄液が洗浄液流入口（８）から上部
槽（１ａ）に流入すると、当初空気に満たされたガラス
アンプル（１９）の外側が洗浄液により満たされる。洗
浄液は次いでガラスアンプル（１９）の口部（１９ｃ）
と支持筒（３）との間よりガラスアンプル（１９）内に
流入し空気を押し出す。押し出された空気は支持筒
（３）の中に先端部（３ａ）より入り、通過して下部槽
（１ｂ）に入る。そして空気抜き口（１４）よりバルブ
（Ｂ８）が開かれた空気抜き管（４）を通り、他端の開
口より放散される。洗浄液はガラスアンプル（１９）の
内部より下部槽（１ｂ）及び空気抜き管（４）に満ち
る。この充満した状態で超音波発振器（６）が発振しガ
ラスアンプル（１９）が洗浄される。洗浄が終了すると
バルブ（Ｂ２）及びバルブ（Ｂ３）が開かれ、洗浄液は
流出し、空気が槽（１）の開放された上面及びバルブ
（Ｂ８）から槽（１）に流入する。
【００１７】純水による濯ぎは次のように行われる。バ
ルブ（Ｂ４）が開かれ、純水が純水タンク（１１ｂ）か
ら管（１１ａ）を通過して純水流入口（１１）より下部
槽（１ｂ）に流入する。純水は支持筒（３）内を上昇
し、ガラスアンプル（１９）の内面を濯いだ後ガラスア
ンプル（１９）の外側に出る。そして、上部槽（１ａ）
に流入する。所定液面高さに達すると溢出口（不図示）
より、またはバルブ（Ｂ５）が開かれて排出される。濯
ぎが終了するとバルブ（Ｂ５）及びバルブ（Ｂ６）が開
かれ、純粋は流出する。
ルブ（Ｂ４）が開かれ、純水が純水タンク（１１ｂ）か
ら管（１１ａ）を通過して純水流入口（１１）より下部
槽（１ｂ）に流入する。純水は支持筒（３）内を上昇
し、ガラスアンプル（１９）の内面を濯いだ後ガラスア
ンプル（１９）の外側に出る。そして、上部槽（１ａ）
に流入する。所定液面高さに達すると溢出口（不図示）
より、またはバルブ（Ｂ５）が開かれて排出される。濯
ぎが終了するとバルブ（Ｂ５）及びバルブ（Ｂ６）が開
かれ、純粋は流出する。
【００１８】空気抜き管（４）のバルブ（Ｂ８）が閉じ
られ、バルブ（Ｂ７）が開かれ、熱風が送風機（１６）
から管（１５ａ）を通過して熱風吹込口（１５）より吹
き込まれると、熱風は支持筒（３）内を上昇し、ガラス
アンプル（１９）に入り、その内面を乾燥した後ガラス
アンプル（１９）の外側に出る。そして上部槽（１ａ）
の開放された上面より排出される。
られ、バルブ（Ｂ７）が開かれ、熱風が送風機（１６）
から管（１５ａ）を通過して熱風吹込口（１５）より吹
き込まれると、熱風は支持筒（３）内を上昇し、ガラス
アンプル（１９）に入り、その内面を乾燥した後ガラス
アンプル（１９）の外側に出る。そして上部槽（１ａ）
の開放された上面より排出される。
【００１９】次に本実施例の動作を図９のフローチャー
トにより説明する。スタートにおいては先ずバルブ（Ｂ
１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）、（Ｂ５）、（Ｂ
６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）は全部閉じた状態にある。次
にステップ１において空気抜き管（４）のバルブ（Ｂ
８）を開く。この時（１ｂ）は空気で満たされている。
次にステップ２において搬送器（５）によりガラスアン
プル（１９）が支持筒（３）に支持される。次にステッ
プ３においてバルブ（Ｂ１）が開き洗浄液が流入開始す
る。ステップ４において洗浄液が流入し所定の高さまで
満たされた時、液面計（１７）から信号が発せられ、バ
ルブ（Ｂ１）が閉じ洗浄液の流入が停止する。次にステ
ップ５において超音波発振器（６）が作動を開始し、所
定時間作動した後ステップ６において停止する。これに
よりガラスアンプル（１９）は充分に洗浄される。
トにより説明する。スタートにおいては先ずバルブ（Ｂ
１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）、（Ｂ５）、（Ｂ
６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）は全部閉じた状態にある。次
にステップ１において空気抜き管（４）のバルブ（Ｂ
８）を開く。この時（１ｂ）は空気で満たされている。
次にステップ２において搬送器（５）によりガラスアン
プル（１９）が支持筒（３）に支持される。次にステッ
プ３においてバルブ（Ｂ１）が開き洗浄液が流入開始す
る。ステップ４において洗浄液が流入し所定の高さまで
満たされた時、液面計（１７）から信号が発せられ、バ
ルブ（Ｂ１）が閉じ洗浄液の流入が停止する。次にステ
ップ５において超音波発振器（６）が作動を開始し、所
定時間作動した後ステップ６において停止する。これに
よりガラスアンプル（１９）は充分に洗浄される。
【００２０】次にステップ７においてバルブ（Ｂ２）、
（Ｂ３）が開き洗浄液の流出が開始する。洗浄液の流出
が完了するとステップ８においてバルブ（Ｂ２）、（Ｂ
３）が閉じる。次にステップ９においてバルブ（Ｂ４）
が開き純水の流入が開始する。所定時間後純水による濯
ぎが完全に行われた時、ステップ１０においてバルブ
（Ｂ４）が閉じられ純水の流入が停止する。次にステッ
プ１１においてバルブ（Ｂ５）、（Ｂ６）が開き純水の
流出が開始する。純水の流出が完了するとステップ１２
においてバルブ（Ｂ５）、（Ｂ６）が閉じられる。
（Ｂ３）が開き洗浄液の流出が開始する。洗浄液の流出
が完了するとステップ８においてバルブ（Ｂ２）、（Ｂ
３）が閉じる。次にステップ９においてバルブ（Ｂ４）
が開き純水の流入が開始する。所定時間後純水による濯
ぎが完全に行われた時、ステップ１０においてバルブ
（Ｂ４）が閉じられ純水の流入が停止する。次にステッ
プ１１においてバルブ（Ｂ５）、（Ｂ６）が開き純水の
流出が開始する。純水の流出が完了するとステップ１２
においてバルブ（Ｂ５）、（Ｂ６）が閉じられる。
【００２１】次にステップ１３において空気抜き管
（４）のバルブ（Ｂ８）を閉じる。そしてステップ１４
においてバルブ（Ｂ７）を開き、熱風が流入する。所定
時間作動した後ステップ１５においてバルブ（Ｂ７）が
閉じられ熱風の流入が停止する。これによりガラスアン
プル（１５）は充分に乾燥される。次にステップ１６に
おいて搬送器（５）によりガラスアンプル（１９）が支
持筒（３）より除去され終了する。除去されたガラスア
ンプル（１９）は完全に清浄になっている。
（４）のバルブ（Ｂ８）を閉じる。そしてステップ１４
においてバルブ（Ｂ７）を開き、熱風が流入する。所定
時間作動した後ステップ１５においてバルブ（Ｂ７）が
閉じられ熱風の流入が停止する。これによりガラスアン
プル（１５）は充分に乾燥される。次にステップ１６に
おいて搬送器（５）によりガラスアンプル（１９）が支
持筒（３）より除去され終了する。除去されたガラスア
ンプル（１９）は完全に清浄になっている。
【００２２】尚、洗浄液流入口（８）が上部槽（１ａ）
に開口しているが、下部槽（１ｂ）に開口させること、
及び純水流入口（１１）が下部槽（１ｂ）に開口してい
るが、上部槽（１ａ）に開口させることが可能なことは
言うまでもない。又洗浄液流入口（８）と純水流入口
（１１）、洗浄液流出口（９）と純水流出口（１２）、
洗浄液流出口（１０）と純水流出口（１３）とがそれぞ
れ共用可能なことは言うまでもない。又洗浄液タンク
（７）、洗浄液流入口（８）、洗浄液流出口（９）、洗
浄液流出口（１０）、管（８ａ）、管（９ａ）、管（１
０ａ）、 バルブ（Ｂ１）、バルブ（Ｂ２）、及びバル
ブ（Ｂ３）からなる組を複数設置することにより、複数
種類の洗浄液が使用可能であることは言うまでもない。
に開口しているが、下部槽（１ｂ）に開口させること、
及び純水流入口（１１）が下部槽（１ｂ）に開口してい
るが、上部槽（１ａ）に開口させることが可能なことは
言うまでもない。又洗浄液流入口（８）と純水流入口
（１１）、洗浄液流出口（９）と純水流出口（１２）、
洗浄液流出口（１０）と純水流出口（１３）とがそれぞ
れ共用可能なことは言うまでもない。又洗浄液タンク
（７）、洗浄液流入口（８）、洗浄液流出口（９）、洗
浄液流出口（１０）、管（８ａ）、管（９ａ）、管（１
０ａ）、 バルブ（Ｂ１）、バルブ（Ｂ２）、及びバル
ブ（Ｂ３）からなる組を複数設置することにより、複数
種類の洗浄液が使用可能であることは言うまでもない。
【００２３】
【発明の効果】本発明により、槽が上下２槽に仕切ら
れ、液又は空気は仕切板に固設された支持筒を介しての
み相互に流通可能であり、又、ガラスアンプルは支持筒
に支持され支持筒の先端がガラスアンプルの底部に突接
しているので、ガラスアンプルの底部における液の流れ
は極めて円滑である。これによりガラスアンプルの底部
の残存空気に起因する洗浄不良は発生しなくなった。そ
してガラスアンプルを直倒立する方式の採用により小型
化されて自動的に動作し、１槽で複数の洗浄液又は純水
を使用可能であり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可能なガ
ラスアンプル洗浄装置が提供できた。
れ、液又は空気は仕切板に固設された支持筒を介しての
み相互に流通可能であり、又、ガラスアンプルは支持筒
に支持され支持筒の先端がガラスアンプルの底部に突接
しているので、ガラスアンプルの底部における液の流れ
は極めて円滑である。これによりガラスアンプルの底部
の残存空気に起因する洗浄不良は発生しなくなった。そ
してガラスアンプルを直倒立する方式の採用により小型
化されて自動的に動作し、１槽で複数の洗浄液又は純水
を使用可能であり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可能なガ
ラスアンプル洗浄装置が提供できた。
【図１】本実施例の断面図である。
【図２】同平面図である。
【図３】配管図である。
【図４】ブロック図である。
【図５】ガラスアンプルの支持された状態を示す断面図
である。
である。
【図６】支持筒のキャップの斜視図である。
【図７】液の流れを説明する図である。
【図８】液の流れを説明する図である。
【図９】フローチャートである。
１ 槽 １ａ 上部槽 １ｂ 下部槽 ２ 仕切り板 ３ 支持筒 ４ 空気抜き管 ５ 搬送器 ６ 超音波発振器 ７ 洗浄液タンク ８ 洗浄液流入口 ９ 洗浄液流出口 １０ 洗浄液流出口 １１ 純水流入口 １２ 純水流出口 １３ 純水流出口 ８ａ、９ａ、１０ａ、１１ａ、１２ａ、１３ａ 管 １１ｂ 純水タンク １２ｂ、１３ｂ 排水口 １４ 空気抜き口 １５ 熱風流入口 １５ａ 管 １６ 送風機 １７ 液面計 １８ 中央制御装置（ＣＰＵ） １９ ガラスアンプル ２０ キャップ Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７、Ｂ８ バ
ルブ
ルブ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−281189（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−122686（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−117086（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭54−74168（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭56−84085（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭31−1241（ＪＰ，Ｂ１) 実公 昭47−12956（ＪＰ，Ｙ１) 実公 昭13−11900（ＪＰ，Ｙ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B08B 9/08 - 9/46 H01L 21/304 341
Claims (1)
- 【請求項１】ガラスアンプルを槽の中の洗浄液中におい
て超音波を用いて洗浄するガラスアンプル洗浄装置にお
いて、該槽を上部槽と下部槽とに分割する水平に固設さ
れた仕切り板と、該仕切り板にほぼ垂直に固設された上
端及び下端が開口する支持筒と、該下部槽に開口し熱風
を流入させる熱風流入口と、該下部槽に開口し空気を排
出する空気抜き口と、該上部槽または下部槽のいずれか
に開口し洗浄液を流入させる洗浄液流入口と、該上部槽
に開口し洗浄液を流出させる上部槽洗浄液流出口と、該
下部槽に開口し洗浄液を流出させる下部槽洗浄液流出口
とが設けられ、該ガラスアンプルは底部を上にして該底
部が該支持筒の該上端に突接するように支持されて洗浄
されることを特徴とするガラスアンプル洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3044022A JP2890867B2 (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | ガラスアンプル洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3044022A JP2890867B2 (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | ガラスアンプル洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04265186A JPH04265186A (ja) | 1992-09-21 |
| JP2890867B2 true JP2890867B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=12680039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3044022A Expired - Lifetime JP2890867B2 (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | ガラスアンプル洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2890867B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102698997A (zh) * | 2012-05-28 | 2012-10-03 | 上海东富龙制药设备制造有限公司 | 一种用于无菌生产的物料桶在线清洗灭菌的方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106984615B (zh) * | 2017-04-26 | 2023-06-16 | 华南理工大学 | 一种玻璃仪器批量清洗烘干机及使用方法 |
| CN109047216A (zh) * | 2018-07-16 | 2018-12-21 | 芜湖康奇制药有限公司 | 一种维生素b6注射液用的敞口安瓿瓶清洗装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4712956U (ja) * | 1971-03-11 | 1972-10-16 | ||
| JPH01281189A (ja) * | 1988-04-30 | 1989-11-13 | Kozo Shibazaki | 医用器具類の自動洗浄装置 |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP3044022A patent/JP2890867B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102698997A (zh) * | 2012-05-28 | 2012-10-03 | 上海东富龙制药设备制造有限公司 | 一种用于无菌生产的物料桶在线清洗灭菌的方法 |
| CN102698997B (zh) * | 2012-05-28 | 2014-05-14 | 上海东富龙制药设备制造有限公司 | 一种用于无菌生产的物料桶在线清洗灭菌的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04265186A (ja) | 1992-09-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6374837B2 (en) | Single semiconductor wafer processor | |
| US6432212B1 (en) | Substrate washing method | |
| US6543156B2 (en) | Method and apparatus for high-pressure wafer processing and drying | |
| US5873947A (en) | Ultra-low particle disk cleaner | |
| US4816081A (en) | Apparatus and process for static drying of substrates | |
| TW310452B (ja) | ||
| JPS6323326A (ja) | ウエハ−をプロセス流体で処理する方法及び装置 | |
| WO2003105201A1 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び現像装置 | |
| JP2890867B2 (ja) | ガラスアンプル洗浄装置 | |
| JP3494293B2 (ja) | 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 | |
| KR19980064626A (ko) | 처리액 공급기구 | |
| US6045621A (en) | Method for cleaning objects using a fluid charge | |
| JP2001244233A (ja) | ウェット処理装置 | |
| JP2762076B2 (ja) | 半導体ウエーハの洗浄装置 | |
| JP2762075B2 (ja) | 半導体ウエーハの洗浄装置 | |
| JP2000315673A (ja) | 洗浄処理装置及び雰囲気流体の再利用方法 | |
| JP3414595B2 (ja) | 高純度液体の充填方法 | |
| JPH11333215A (ja) | ろ過フィルターのエアーロック防止装置 | |
| JPH0244522Y2 (ja) | ||
| JP2883838B2 (ja) | 脱ガス液体の移送装置 | |
| JP2002270592A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| GB2272273A (en) | Apparatus for washing and drying containers | |
| US20020074025A1 (en) | Installation for processing wafers | |
| JP2935089B2 (ja) | 機械部品等の精密洗浄方法 | |
| JP4776429B2 (ja) | 処理液供給システム、処理液供給方法、処理液供給プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990126 |