JP2890155B2 - Method for producing diphenylmethane derivative - Google Patents

Method for producing diphenylmethane derivative

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JP2890155B2
JP2890155B2 JP4271451A JP27145192A JP2890155B2 JP 2890155 B2 JP2890155 B2 JP 2890155B2 JP 4271451 A JP4271451 A JP 4271451A JP 27145192 A JP27145192 A JP 27145192A JP 2890155 B2 JP2890155 B2 JP 2890155B2
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昌靖 加藤
徹 石田
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は脳、心、腎および肺循環
器系疾患、呼吸器系疾患、アレルギー、アナフィラキシ
ーショク、炎症などの治療および予防作用に有用なフェ
ノール誘導体あるいはヒドロキノン誘導体またはその合
成中間体の製造法に関する。
The present invention relates to a phenol derivative or hydroquinone derivative or a synthetic intermediate thereof useful for the treatment and prevention of brain, heart, kidney and pulmonary circulatory diseases, respiratory diseases, allergies, anaphylactic shock, inflammation and the like. It relates to the method of manufacturing the body.

【0002】[0002]

【従来の技術】上記フェノール誘導体およびヒドロキノ
ン誘導体はたとえば特開昭61−44840および特開
平2−152940に記載されている。これらの化合物
は一般式
2. Description of the Related Art The above-mentioned phenol derivatives and hydroquinone derivatives are described, for example, in JP-A-61-44840 and JP-A-2-152940. These compounds have the general formula

【化4】 [式中、R′は保護されていてもよい水酸基を、R″は
水素原子または保護されていてもよい水酸基を、X1
ハロゲン原子,低級アルキル基または低級アルコキシ基
を、Y1はメチル基,置換されていてもよいヒドロキシ
メチル基またはエステル化またはアミド化されていても
よいカルボキシル基を、mは3〜15の整数を示す。]
で表されるジフェニルメタン誘導体から合成されるが、
この一般式(a)で表される化合物は一般式
Embedded image [In the formula, R ′ represents an optionally protected hydroxyl group, R ″ represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group, X 1 represents a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and Y 1 represents a methyl group. A group, a hydroxymethyl group which may be substituted or a carboxyl group which may be esterified or amidated, and m represents an integer of 3 to 15.]
Is synthesized from a diphenylmethane derivative represented by
The compound represented by the general formula (a) is represented by the general formula

【化5】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表される化
合物と、一般式
Embedded image Wherein each symbol is as defined above. And a compound represented by the general formula:

【化6】 [式中、X1,Y1およびmは前記と同意義であり、X2
は水酸基,アセトキシ基,低級アルコキシ基またはハロ
ゲン原子を示す。]で表される化合物とを反応させて製
造されることが記載されている。
Embedded image [Wherein X 1 , Y 1 and m are as defined above, and X 2
Represents a hydroxyl group, an acetoxy group, a lower alkoxy group or a halogen atom. And a compound represented by the formula:

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記化合
物(c)を製造するためには4〜5工程をも要し、収率
も低いという問題があり、工業的に有利な方法の開発が
望まれていた。本発明者らはこれらの点につき鋭意検究
した結果、上記化合物(b)と容易に製造可能なスチル
ベン誘導体とを特定の酸触媒の存在下に反応させること
により、収率よくジフェニルメタン誘導体(a)を製造
できることを見いだした。
However, the production of the compound (c) requires four to five steps and has a problem that the yield is low, and the development of an industrially advantageous method is desired. I was The present inventors have conducted intensive studies on these points, and as a result, by reacting the compound (b) with a stilbene derivative which can be easily produced in the presence of a specific acid catalyst, the diphenylmethane derivative (a ) Can be manufactured.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式According to the present invention, there is provided a compound of the general formula

【化7】 [式中、R1は保護されていてもよい水酸基を、R2,R
3はメチル基またはメトキシ基を、R4は水素原子または
保護されていてもよい水酸基を示す。]で表されるフェ
ノール誘導体と一般式
Embedded image [Wherein, R 1 represents a hydroxyl group which may be protected, R 2 , R
3 represents a methyl group or a methoxy group, and R 4 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group which may be protected. A phenol derivative represented by the general formula

【化8】 [式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,低級アルキル基
または低級アルコキシ基を、Yはメチル基,O−置換さ
れていてもよいヒドロキシメチル基またはエステル化も
しくはアミド化されていてもよいカルボキシル基を、n
は1〜15の整数を示す。]で表されるスチルベン誘導
体をメタンスルホン酸の存在下に反応させることを特徴
とする一般式
Embedded image [In the formula, X is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, Y is a methyl group, a hydroxymethyl group which may be O-substituted, or a carboxyl group which may be esterified or amidated. To n
Represents an integer of 1 to 15. Wherein the stilbene derivative represented by the general formula is reacted in the presence of methanesulfonic acid.

【化9】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表されるジ
フェニルメタン誘導体の製造法に関する。
Embedded image Wherein each symbol is as defined above. And a method for producing a diphenylmethane derivative represented by the formula:

【0005】前記一般式(I)および(III)において、
1,R4で示される保護されていてもよい水酸基として
は、水酸基、低級アルコキシ基(例、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシなど炭素数1〜4のもの)、メトキシメ
チルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アシルオキシ基
(例、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキ
シなど炭素数1〜4のもの)、テトラヒドロピラニルオ
キシ基などが挙げられる。前記一般式(I)および(II
I)中、R2およびR3は同一または異なって、メチル基
またはメトキシ基を示すが、なかでもメチル基が好まし
い。前記化合物(II)および(III)において、Xで示
されるハロゲン原子としては、たとえば、フッ素、塩
素、臭素などが挙げられる。
In the above general formulas (I) and (III),
Examples of the optionally protected hydroxyl group represented by R 1 and R 4 include a hydroxyl group, a lower alkoxy group (eg, having 1 to 4 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, propoxy), a methoxymethyloxy group, a benzyloxy group, Lower acyloxy groups (eg, those having 1 to 4 carbon atoms such as formyloxy, acetoxy and propionyloxy), tetrahydropyranyloxy groups and the like are mentioned. The general formulas (I) and (II)
In I), R 2 and R 3 are the same or different and each represents a methyl group or a methoxy group, and among them, a methyl group is preferable. In the compounds (II) and (III), examples of the halogen atom represented by X include fluorine, chlorine, and bromine.

【0006】化合物(II)および(III)において、Y
で示されるヒドロキシメチル基はO−置換されていても
よく、無置換のヒドロキシメチル基のほか、そのヒドロ
キシル基の酸素に置換したものたとえば、メトキシメチ
ル,アセトキシメチル,2−テトラヒドロピラニルオキ
シメチル,ベンジルオキシメチル,ニトロオキシメチ
ル,アミノカルボニルオキシメチル,置換アミノカルボ
ニルオキシメチル(たとえば、メチルアミノカルボニル
オキシメチル,エチルアミノカルボニルオキシメチル,
ジメチルアミノカルボニルオキシメチルなどのモノまた
はジ−低級アルキルアミノカルボニルオキシメチル,フ
ェニルアミノカルボニルオキシメチル)、環状アミノカ
ルボニルオキシメチル(たとえば、モルホリノカルボニ
ルオキシメチル,ピロリジノカルボニルオキシメチル,
ピペラジノカルボニルオキシメチル)、t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチルなどが、また、エステル化され
たカルボキシル基としては、たとえば、メトキシカルボ
ニル,エトキシカルボニルなどの炭素数2〜4の低級ア
ルコキシカルボニルが挙げられる。Yで示されるアミド
化されたカルボキシル基は、そのアミノ基が置換された
置換アミノカルボニルでもよく、また、環状アミノカル
ボニルでもよい。置換アミノカルボニルのアミノ基の置
換基としては、たとえば、メチル,エチル,プロピル,
イソプロピル,ブチルなどの炭素数1〜4のアルキル
や、たとえば、フェニル,ナフチルなどの炭素数6〜1
0のアリール(これらにはさらに環の任意の位置に、た
とえば、ヒドロキシル,アミノ,ニトロ,ハロゲン,メ
チル,メトキシなどの置換基を有していてもよい),ヒ
ドロキシル基などが挙げられる。アミド化されたカルボ
キシル基の具体例としては、たとえば、アミノカルボニ
ル,モノ−またはジアルキルアミノカルボニル(そのモ
ノ−またはジアルキルアミノとしてはたとえばメチルア
ミノ,エチルアミノ,イソプロピルアミノ,ジメチルア
ミノなどの炭素数1〜4のもの),アラルキルアミノ
[ベンジルアミノ,α−フェネチルアミノ,β−フェネ
チルアミノ,1−(α−ナフチル)エチルアミノ]カル
ボニル,フェニルアミノカルボニル,置換フェニルアミ
ノカルボニル(p−ヒドロキシフェニルアミノ,p−メ
トキシフェニルアミノ,m−クロロフェニルアミノ,p
−ブロモフェニルアミノ)カルボニル,ジフェニルアミ
ノカルボニル,ヒドロキシアミノカルボニル,N−ヒド
ロキシ−N−メチルアミノカルボニル,N−ヒドロキシ
−N−フェニルアミノカルボニルなどが挙げられる。環
状アミノカルボニルの環状アミノはその環構成原子とし
て窒素以外に酸素,硫黄を有していてもよい5または6
員環で、環状アミノカルボニルの具体例としては、たと
えば、モルホリノカルボニル,チオモルホリノカルボニ
ル,ピペリジノカルボニル,ピロリジノカルボニルなど
が挙げられる。
In compounds (II) and (III), Y
The hydroxymethyl group represented by may be O-substituted, and may be an unsubstituted hydroxymethyl group or a group obtained by substituting the hydroxyl group with oxygen such as methoxymethyl, acetoxymethyl, 2-tetrahydropyranyloxymethyl, Benzyloxymethyl, nitrooxymethyl, aminocarbonyloxymethyl, substituted aminocarbonyloxymethyl (eg, methylaminocarbonyloxymethyl, ethylaminocarbonyloxymethyl,
Mono- or di-lower alkylaminocarbonyloxymethyl such as dimethylaminocarbonyloxymethyl, phenylaminocarbonyloxymethyl), cyclic aminocarbonyloxymethyl (for example, morpholinocarbonyloxymethyl, pyrrolidinocarbonyloxymethyl,
Piperazinocarbonyloxymethyl), t-butyldimethylsilyloxymethyl and the like, and examples of the esterified carboxyl group include lower alkoxycarbonyl having 2 to 4 carbon atoms such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. . The amidated carboxyl group represented by Y may be a substituted aminocarbonyl in which the amino group is substituted, or may be a cyclic aminocarbonyl. Examples of the substituent of the amino group of the substituted aminocarbonyl include methyl, ethyl, propyl,
Alkyl having 1 to 4 carbon atoms such as isopropyl and butyl, and 6 to 1 carbon atoms such as phenyl and naphthyl.
0 aryl (these may further have a substituent such as hydroxyl, amino, nitro, halogen, methyl, methoxy and the like at any position of the ring), a hydroxyl group and the like. Specific examples of the amidated carboxyl group include, for example, aminocarbonyl, mono- or dialkylaminocarbonyl (the mono- or dialkylamino is, for example, one having 1 to carbon atoms such as methylamino, ethylamino, isopropylamino, and dimethylamino). 4), aralkylamino [benzylamino, α-phenethylamino, β-phenethylamino, 1- (α-naphthyl) ethylamino] carbonyl, phenylaminocarbonyl, substituted phenylaminocarbonyl (p-hydroxyphenylamino, p- Methoxyphenylamino, m-chlorophenylamino, p
-Bromophenylamino) carbonyl, diphenylaminocarbonyl, hydroxyaminocarbonyl, N-hydroxy-N-methylaminocarbonyl, N-hydroxy-N-phenylaminocarbonyl and the like. The cyclic amino of the cyclic aminocarbonyl may have oxygen or sulfur other than nitrogen as a ring-constituting atom.
Specific examples of the membered ring and cyclic aminocarbonyl include, for example, morpholinocarbonyl, thiomorpholinocarbonyl, piperidinocarbonyl, pyrrolidinocarbonyl and the like.

【0007】前記一般式(II)および(III)中、nは
1〜15の整数であるが、好ましくは2〜13の整数、
さらに好ましくは3〜10の整数である。本発明の反応
において、化合物(II)は、化合物(I)1モル当たり
約0.5〜1.5モル、好ましくは0.75〜1.25
モル、特に好ましくは0.9〜1.1モルの範囲で用い
られる。メタンスルホン酸は、化合物(I)に対して、
0.5〜20倍モル、好ましくは1〜10倍モル、特に
好ましくは2〜5倍モルの範囲で用いられる。
In the general formulas (II) and (III), n is an integer of 1 to 15, preferably 2 to 13.
More preferably, it is an integer of 3 to 10. In the reaction of the present invention, compound (II) is used in an amount of about 0.5 to 1.5 mol, preferably 0.75 to 1.25 mol per 1 mol of compound (I).
Mol, particularly preferably in the range of 0.9 to 1.1 mol. Methanesulfonic acid, relative to compound (I),
It is used in an amount of 0.5 to 20 moles, preferably 1 to 10 moles, particularly preferably 2 to 5 moles.

【0008】反応に用いる溶媒としては、無極性溶媒、
たとえば、メチレンクロライド,クロロホルム,1,2
−ジクロルエタン,1,1,2−トリクロルエタン,ベン
ゼン,トルエンなどが挙げられるが、好ましくはメチレ
ンクロライド,クロロホルムあるいは1,2−ジクロル
エタンが用いられ、特にメチレンクロライドが好ま し
く用いられる。これらの溶媒は単独または混合して用い
ることができる。反応に用いる溶媒量は通常化合物(II
I)1モル当たり約0.5〜10リットル、好 ましくは
1〜5リットルであるが特にこの範囲に限定されるもの
ではない。反応温度は、化合物(II)の重合を防止する
ために、通常のFriedel-Craft反応よりも低温で行わ
れ、通常は−20〜50℃程度で、好ましくは−5〜3
5℃程度で行われる。反応時間は、通常約0.5〜24
時間、さらに好ましくは約1〜8時間である。
As the solvent used in the reaction, a non-polar solvent,
For example, methylene chloride, chloroform, 1,2
-Dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, benzene, toluene and the like are preferable, and methylene chloride, chloroform or 1,2-dichloroethane is preferably used, and methylene chloride is particularly preferably used. These solvents can be used alone or as a mixture. The amount of the solvent used in the reaction is usually the amount of the compound (II
I) The amount is about 0.5 to 10 liters, preferably 1 to 5 liters per mole, but is not particularly limited to this range. The reaction is carried out at a lower temperature than the usual Friedel-Craft reaction in order to prevent the polymerization of the compound (II), usually at about -20 to 50 ° C, preferably at -5 to 3 ° C.
It is performed at about 5 ° C. The reaction time is usually about 0.5 to 24.
Hours, more preferably about 1 to 8 hours.

【0009】上記の反応により生成した目的化合物(II
I)は、反応液から結晶として析出してくる場合には、
析出結晶を濾過して単離することができ、必要に応じて
メチレンクロライドなどで溶媒抽出してから濃縮して単
離してもよい。反応液から結晶として析出してこない場
合には、メチレンクロライドなどで溶媒抽出してから濃
縮して単離することができる。単離した結晶は、必要に
応じて再結晶、クロマトグラフィーなどの慣用の手段に
より精製することができる。また、原料化合物(I)
は、公知であるか、公知の方法に従って製造できる。原
料化合物(II)は一部公知であり、たとえば一般式
The target compound (II) formed by the above reaction
If I) is precipitated as crystals from the reaction solution,
The precipitated crystals can be isolated by filtration or, if necessary, may be extracted by solvent extraction with methylene chloride or the like, and then concentrated and isolated. When crystals do not precipitate from the reaction solution, they can be isolated by solvent extraction with methylene chloride or the like and then concentration. The isolated crystals can be purified by conventional means such as recrystallization and chromatography, if necessary. In addition, the starting compound (I)
Is known or can be produced according to known methods. The raw material compound (II) is partially known, and for example, has the general formula

【化10】 [式中、Xは前記と同意義である]で表される化合物と
一般式
Embedded image Wherein X is as defined above, and a compound represented by the general formula:

【化11】 [式中nは前記と同意義である]で表される化合物とを
反応させることにより化合物(II)中Yがカルボキシル
基である化合物を得ることができる。この反応は通常た
とえば水素化ナトリウムなどの金属水素化合物またはた
とえば第3級ブトキシナトリウム,第3級ブトキシカリ
ウムなどのアルカリ金属の第3級アルコキシドの存在
下、たとえばイソブタノール,第3級ブタノール,エー
テル,テトラヒドロフランなどの溶媒中で行われる。つ
いで必要によりカルボン酸を公知方法に従って変換する
ことにより化合物(II)を製造することができる。
Embedded image A compound represented by the formula (II) wherein Y is a carboxyl group can be obtained by reacting with a compound represented by the formula: wherein n is as defined above. This reaction is usually carried out in the presence of a metal hydride such as sodium hydride or a tertiary alkoxide of an alkali metal such as sodium tert-butoxide or potassium tert-butoxide, for example, isobutanol, tert-butanol, ether, It is performed in a solvent such as tetrahydrofuran. Then, the compound (II) can be produced by converting the carboxylic acid according to a known method, if necessary.

【0010】本発明の目的化合物(III)中、R1,R4
の双方が水酸基であるものは、そのままでの薬効を奏す
る(特開昭61−44840参照)。化合物(III)
中、R1および/またはR4が保護された水酸基である場
合は常法により脱保護することにより水酸基である化合
物に導くことができる。化合物(III)中、R1が水酸基
でR4が水素または水酸基である化合物はこれを常法に
より酸化することにより薬理作用を有する一般式
In the target compound (III) of the present invention, R 1 and R 4
In the case where both of them are hydroxyl groups, they exhibit the medicinal effects as they are (see JP-A-61-44840). Compound (III)
In the case where R 1 and / or R 4 is a protected hydroxyl group, the compound can be led to a hydroxyl group compound by deprotection by a conventional method. In the compound (III), a compound in which R 1 is a hydroxyl group and R 4 is hydrogen or a hydroxyl group is a compound represented by a general formula having a pharmacological action by oxidizing the compound by a conventional method.

【化12】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表されるキ
ノン類に導くことができる(特開昭61−44840参
照)。また化合物(III)中、R4が水素である化合物は
これをホルミル化することにより、薬理作用を有する一
般式
Embedded image Wherein each symbol is as defined above. ] (See JP-A-61-44840). In the compound (III), the compound in which R 4 is hydrogen can be converted to a formyl compound to give a compound of the general formula

【化13】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表される化
合物へ導くことができ(特開平2−152940参
照)、これをさらに還元することにより薬理作用を有す
る一般式
Embedded image Wherein each symbol is as defined above. (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-152940), and by further reducing this compound, a general formula having a pharmacological action can be obtained.

【化14】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表される化
合物に導くことができる(特開平2−152940参
照)。
Embedded image Wherein each symbol is as defined above. ] (See JP-A-2-152940).

【0011】[0011]

【実施例】以下に実施例,参考例および比較例を挙げて
本発明をさらに詳しく説明する。 参考例1(7−フェニル−6−ヘプテン酸の製造) 5−カルボキシペンチル−トリフェニルホスホニウムブ
ロミド(20g)およびベンズアルデヒド(5.6g)
をイソプロパノール(100ml)に懸濁し、25℃でカ
リウムブトキシド(10.8g)を少量ずつ加えた後7
0℃で2時間反応した。イソプロパノールを減圧下留去
し、水(100ml)を加えた残留物溶解液に塩酸を加え
酸性とした後、酢酸エチルで抽出し水洗、乾燥後、減圧
下濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し無色の油状物として7−フェニル−6−ヘプテン酸
(7.6g)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(重クロロホルム中テトラメチル
シランを基準としたδ値):1.30-2.50(8H), 5.50-6.55
(2H), 7.28(5H)
The present invention will be described in more detail with reference to Examples, Reference Examples and Comparative Examples. Reference Example 1 (Production of 7-phenyl-6-heptenoic acid) 5-carboxypentyl-triphenylphosphonium bromide (20 g) and benzaldehyde (5.6 g)
Was suspended in isopropanol (100 ml), and potassium butoxide (10.8 g) was added little by little at 25 ° C.
The reaction was performed at 0 ° C. for 2 hours. After isopropanol was distilled off under reduced pressure, hydrochloric acid was added to the residue solution to which water (100 ml) was added to make the solution acidic, followed by extraction with ethyl acetate, washing with water, drying and concentration under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography to give 7-phenyl-6-heptenoic acid (7.6 g) as a colorless oil. Nuclear magnetic resonance spectrum (δ value based on tetramethylsilane in deuterated chloroform): 1.30-2.50 (8H), 5.50-6.55
(2H), 7.28 (5H)

【0012】参考例2(7−(4−フルオロフェニル)
−6−ヘプテン酸の製造) 5−カルボキシペンチル−トリフェニルホスホニウムブ
ロミド(20g)および4−フルオロベンズアルデヒド
(6.5g)を参考例1と同様に反応したのち、生成物
をシリカゲルクロマトグラフィーで分離して、白色の結
晶として7−(4−フルオロフェニル)−6−ヘプテン
酸(8.3g)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(重クロロホルム中テトラメチル
シランを基準としたδ値):1.20-2.55(8H), 5.91-6.56
(2H), 6.80-7.50(4H)
Reference Example 2 (7- (4-fluorophenyl)
Production of -6-heptenoic acid) After reacting 5-carboxypentyl-triphenylphosphonium bromide (20 g) and 4-fluorobenzaldehyde (6.5 g) in the same manner as in Reference Example 1, the product was separated by silica gel chromatography. Thus, 7- (4-fluorophenyl) -6-heptenoic acid (8.3 g) was obtained as white crystals. Nuclear magnetic resonance spectrum (δ value based on tetramethylsilane in deuterated chloroform): 1.20-2.55 (8H), 5.91-6.56
(2H), 6.80-7.50 (4H)

【0013】実施例1(化合物1の製造) 参考例1によって得られた7−フェニル−6−ヘプテン
酸(10g)と2,3,5−トリメチル−1,4−ハイド
ロキノン(5.6g)をジクロルメタン(67ml)に懸
濁したのち、メタンスルホン酸(9.6g)を25〜3
0℃で滴下した。25℃で5時間撹拌したのち水(41
ml)を加え析出した結晶を濾取し、ジクロルメタン,水
で順次洗浄後、減圧乾燥により7−(3,5,6−トリメ
チル−1, 4−ハイドロキノン−2−イル)−7−フ
ェニルヘプタン酸(13.4g,収 率76.7%)を
得た。7−(3,5,6−トリメチル−1,4−ハイドロ
キノン−2−イル)−7−フェニルヘプタン酸(13.
4g)を86%アセトニトリル(水14%を含む)に溶
解し、次いで38%塩化第二鉄水溶液34mlを加え70
℃で1時間撹拌した。反応液を氷冷することにより析出
した結晶を濾取し、さらに60%アセトニトリル(水4
0%を含む)から再結晶して、黄色の結晶として7−
(3,5,6−トリメチル−1,4−ベンゾキノン−2−
イル)−7−フェニルヘプタン酸(12.0g,ハイド
ロキノンからの収率90.2%,ヘプテン酸からの収率
69.2%)を得た。[7−(3,5,6−トリメチル−
1,4−ハイドロキノン−2−イル)−7−フェニルヘ
プタン酸は酸化され易く、一部が7−(3,5,6−トリ
メチル−1,4−ベンゾキノン−2−イル)−7−フェ
ニルヘプタン酸となっているので、酸化反応をも含めた
実施例とした。]上記と同様にして、化合物2〜9を製
造することができる。
Example 1 (Production of Compound 1) 7-phenyl-6-heptenoic acid (10 g) obtained in Reference Example 1 and 2,3,5-trimethyl-1,4-hydroquinone (5.6 g) were obtained. After suspending in dichloromethane (67 ml), methanesulfonic acid (9.6 g) was added in 25 to 3 times.
It was added dropwise at 0 ° C. After stirring at 25 ° C. for 5 hours, water (41
The precipitated crystals were collected by filtration, washed successively with dichloromethane and water, and dried under reduced pressure to give 7- (3,5,6-trimethyl-1,4-hydroquinon-2-yl) -7-phenylheptanoic acid. (13.4 g, yield 76.7%). 7- (3,5,6-trimethyl-1,4-hydroquinon-2-yl) -7-phenylheptanoic acid (13.
4 g) was dissolved in 86% acetonitrile (containing 14% water), and 34 ml of a 38% aqueous ferric chloride solution was added thereto.
Stirred at C for 1 hour. The reaction solution was cooled on ice, and the precipitated crystals were collected by filtration and further treated with 60% acetonitrile (water 4).
0%) to give 7- as yellow crystals.
(3,5,6-trimethyl-1,4-benzoquinone-2-
Yl) -7-phenylheptanoic acid (12.0 g, 90.2% yield from hydroquinone, 69.2% yield from heptenoic acid). [7- (3,5,6-trimethyl-
1,4-Hydroquinon-2-yl) -7-phenylheptanoic acid is easily oxidized, and a part of it is 7- (3,5,6-trimethyl-1,4-benzoquinon-2-yl) -7-phenylheptane Since it was an acid, the example included an oxidation reaction. Compounds 2 to 9 can be produced in the same manner as described above.

【表1】 [Table 1]

【0014】実施例2(化合物10の製造) 参考例2によって得られた7−(4−フルオロフェニ
ル)−6−ヘプテン酸(10.0g)と2,3,5−トリ
メチルフェノール(9.0g)をジクロルメタン(20
0ml)に溶解したのち、メタンスルホン酸(43.3
g)を2〜5℃で滴下した。反応液を2〜3℃で3時間
撹拌したのち水(100ml)を加えジクロルメタン層を
分取し、水洗を3回繰り返した。減圧下ジクロルメタン
を留去し得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、白色の結晶として7−(4−フルオロフェニ
ル)−7−(2−ヒドロキシ−3,5,6−トリメチルフ
ェニル)−ヘプタン酸(12.7g,79.0%)を得
た。上記と同様にして、化合物11〜12を製造するこ
とができる。
Example 2 (Production of Compound 10) 7- (4-Fluorophenyl) -6-heptenoic acid (10.0 g) obtained in Reference Example 2 and 2,3,5-trimethylphenol (9.0 g) ) With dichloromethane (20
0 ml), and then dissolved in methanesulfonic acid (43.3).
g) was added dropwise at 2-5 ° C. After the reaction solution was stirred at 2-3 ° C. for 3 hours, water (100 ml) was added, the dichloromethane layer was separated, and water washing was repeated three times. Dichloromethane was distilled off under reduced pressure, and the residue obtained was subjected to silica gel chromatography to give 7- (4-fluorophenyl) -7- (2-hydroxy-3,5,6-trimethylphenyl)-as white crystals. Heptanoic acid (12.7 g, 79.0%) was obtained. Compounds 11 to 12 can be produced in the same manner as described above.

【表2】 [Table 2]

【0015】参考例3 実施例2によって得られた7−(4−フルオロフェニ
ル)−7−(2−ヒドロキシ−3,4,6−トリメチルフ
ェニル)ヘプタン酸(10.0g)とジクロルメチルメ
チルエーテル(6.0ml)のジクロルメタン(100m
l)溶解液に四塩化チタン(9.2ml)を−14〜−9
℃で滴下した。反応液を−10℃に保ちながら30分間
撹拌を続けたのち氷水(100ml)を注ぎ激しく撹拌し
た。ジクロルメタン層を分取し水洗、乾燥したのち減圧
下濃縮した残留物をテトラヒドロフラン−イソプロピル
エーテルから再結晶し7−(4−フルオロフェニル)−
7−(5−ホルミル−2−ヒドロキシ−3,4,6−トリ
メチルフェニル)ヘプタン酸(9.92g)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(重クロロホルム中テトラメチル
シランを基準としたδ値):1.04−2.60(10
H), 2.10(3H), 2.45(3H),
2.53(3H), 4.56(1H), 6.82−
7.36(4H), 10.58(1H)
Reference Example 3 7- (4-Fluorophenyl) -7- (2-hydroxy-3,4,6-trimethylphenyl) heptanoic acid (10.0 g) obtained in Example 2 and dichloromethylmethyl Ether (6.0 ml) in dichloromethane (100 m
l) Titanium tetrachloride (9.2 ml) was added to the solution at -14 to -9.
It was added dropwise at ° C. After stirring was continued for 30 minutes while keeping the reaction solution at -10 ° C, ice water (100 ml) was poured and the mixture was stirred vigorously. The dichloromethane layer was separated, washed with water, dried and concentrated under reduced pressure. The residue was recrystallized from tetrahydrofuran-isopropyl ether to give 7- (4-fluorophenyl)-.
7- (5-Formyl-2-hydroxy-3,4,6-trimethylphenyl) heptanoic acid (9.92 g) was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum (δ value based on tetramethylsilane in deuterated chloroform): 1.04-2.60 (10
H), 2.10 (3H), 2.45 (3H),
2.53 (3H), 4.56 (1H), 6.82-
7.36 (4H), 10.58 (1H)

【0016】参考例4 参考例3によって得られた7−(4−フルオロフェニ
ル)−7−(5−ホルミル−2−ヒドロキシ−3,4,
6−トリメチルフェニル)ヘプタン酸(5.0g)のテ
トラヒドロフラン(50ml)溶液に2℃で水素化ホウ素
ナトリウム(0.25g)を加え1時間撹拌した。反応
液に酢酸エチル,水を加え撹拌したのち分液し有機層を
分取し、さらに水洗を2回繰り返した。有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し得られた残渣をテト
ラヒドロフラン−アセトニトリルから再結晶して7−
(4−フルオロフェニル)−7−(2−ヒドロキシ−5
−ヒドロキシメチル−3,4,6−トリメチルフェニル)
ヘプタン酸(4.5g)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6中テトラメチル
シランを基準としたδ値):0.96-1.55(6H), 1.98-2.30
(4H), 2.07(3H), 2.21(6H), 4.15-4.83(4H), 7.01(2H),
7.21(2H), 7.82(1H), 11.94(1H)
Reference Example 4 7- (4-Fluorophenyl) -7- (5-formyl-2-hydroxy-3,4,4
Sodium borohydride (0.25 g) was added to a solution of 6-trimethylphenyl) heptanoic acid (5.0 g) in tetrahydrofuran (50 ml) at 2 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour. Ethyl acetate and water were added to the reaction solution, and the mixture was stirred and separated. The organic layer was separated, and the washing with water was repeated twice. The organic layer was dried over magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was recrystallized from tetrahydrofuran-acetonitrile to give 7-
(4-fluorophenyl) -7- (2-hydroxy-5
-Hydroxymethyl-3,4,6-trimethylphenyl)
Heptanoic acid (4.5 g) was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum ([delta] values were referenced to tetramethylsilane in DMSO-d 6): 0.96-1.55 ( 6H), 1.98-2.30
(4H), 2.07 (3H), 2.21 (6H), 4.15-4.83 (4H), 7.01 (2H),
7.21 (2H), 7.82 (1H), 11.94 (1H)

【0017】実施例3 〔7−(2−ヒドロキシ−3,4,6−トリメチルフェ
ニル)−7−フェニルヘプタン酸の合成〕 7−フェニル−6−ヘプテン酸(10g)と2,3,5
−トリメチルフェノール(8.3g)をジクロロメタン
(80ml)に溶解した後、メタンスルホン酸(9.4
g)を17〜25℃で滴下した。25℃で6時間撹拌し
た後、水(80ml)を加え、ジクロルメタン層を分取
し、水で3回洗った。ジクロルメタンを減圧下に留去
し、得られた残留物をトルエン(38ml)で再結晶し
て、白色の結晶として7−(2−ヒドロキシ−3,4,
6−トリメチルフェニル)−7−フェニルヘプタン酸
(14.2g,収率85.2%)を得た。
Example 3 [Synthesis of 7- (2-hydroxy-3,4,6-trimethylphenyl) -7-phenylheptanoic acid] 7-phenyl-6-heptenoic acid (10 g) and 2,3,5
After dissolving trimethylphenol (8.3 g) in dichloromethane (80 ml), methanesulfonic acid (9.4) was dissolved.
g) was added dropwise at 17-25 ° C. After stirring at 25 ° C. for 6 hours, water (80 ml) was added, and the dichloromethane layer was separated and washed three times with water. Dichloromethane was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was recrystallized from toluene (38 ml) to give 7- (2-hydroxy-3,4,4) as white crystals.
6-Trimethylphenyl) -7-phenylheptanoic acid (14.2 g, yield 85.2%) was obtained.

【0018】参考例5 7−(2−ヒドロキシ−3,4,6−トリメチルフェニ
ル)−7−フェニルヘプタン酸(5.0g)を、アセトニ
トリル(25ml),水(10ml)と25%アンモニア水
(1ml)から成る混合液に溶解したのち、3%ニトロソ
ジスルホン酸カリウム(フレミー塩)水溶液(280m
l)を加え、2〜4℃で2時間撹拌した。反応液に塩酸
を加えて酸性に調整後、酢酸エチルで生成物を抽出し、
酢酸エチル層を水で2回洗った。酢酸エチルを減圧下に
留去し、得られた残留物をアセトニトリル−水の混合液
(6:4)から再結晶して、黄色の結晶として7−
(3,5,6−トリメチル−1,4−ベンゾキノン−2
−イル)−7−フェニルペンタン酸(4.90g,収率9
4.1%)を得た。
Reference Example 5 7- (2-Hydroxy-3,4,6-trimethylphenyl) -7-phenylheptanoic acid (5.0 g) was mixed with acetonitrile (25 ml), water (10 ml) and 25% ammonia water ( 1 ml), and then dissolved in a 3% aqueous solution of potassium nitrosodisulfonate (Phremy salt) (280 m2).
l) was added and the mixture was stirred at 2-4 ° C for 2 hours. The reaction solution was adjusted to acidic by adding hydrochloric acid, and the product was extracted with ethyl acetate.
The ethyl acetate layer was washed twice with water. Ethyl acetate was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was recrystallized from an acetonitrile-water mixture (6: 4) to give 7- as yellow crystals.
(3,5,6-trimethyl-1,4-benzoquinone-2
-Yl) -7-phenylpentanoic acid (4.90 g, yield 9)
4.1%).

【0019】比較例1 7−フェニル−6−ヘプテン酸(4.7g),2,3,5
−トリメチルハイドロキノン(5.6g),p−トルエ
ンスルホン酸(18.6g)を1,2−ジクロルエタン
(94ml)に溶解し82〜83℃で1時間撹拌した。減
圧下溶媒を留去したのち残留物を酢酸エチル(100m
l)に溶解し、水(50ml)で洗浄を3回繰り返した。
酢酸エチルを減圧下留去して得られた残渣をシリカゲル
クロマトグラフィーに付し7−(3,5,6−トリメチル
−1,4−ハイドロキノン−2−イル)−7−フェニル
ヘプテン酸(1.5g,収率18%)を得た。上記と同
様にして下記の条件で反応を試みたがいずれも目的物が
得られなかった。
Comparative Example 1 7-phenyl-6-heptenoic acid (4.7 g), 2,3,5
-Trimethylhydroquinone (5.6 g) and p-toluenesulfonic acid (18.6 g) were dissolved in 1,2-dichloroethane (94 ml) and stirred at 82 to 83 ° C for 1 hour. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was purified with ethyl acetate (100 m
l) and the washing was repeated three times with water (50 ml).
The residue obtained by evaporating the ethyl acetate under reduced pressure was subjected to silica gel chromatography, and 7- (3,5,6-trimethyl-1,4-hydroquinon-2-yl) -7-phenylheptenoic acid (1 0.5 g, 18% yield). The reaction was attempted under the following conditions in the same manner as described above, but none of the desired products was obtained.

【表3】 [Table 3]

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の方法によれば容易に製造できる
原料を用い、目的とする中間体を収率よく製造すること
ができる。
According to the method of the present invention, a desired intermediate can be produced in good yield by using raw materials that can be easily produced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 51/353 C07C 51/353 59/52 59/52 59/56 59/56 59/84 59/84 59/88 59/88 67/343 67/343 69/65 69/65 69/732 69/732 Z 69/734 69/734 Z 235/34 235/34 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 昭59−231058(JP,A) 特開 昭55−102565(JP,A) 特開 平1−238549(JP,A) 特開 平2−152940(JP,A) 特開 昭61−44840(JP,A) Chemical Abstracs (1972),Vol.76,p.454の第 112836C欄 Zh.Obshch.Khim. (1983),53(9),p.2098−2104 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 39/15 C07C 37/14 C07C 41/30 C07C 43/23 C07C 51/353 C07C 59/52 C07C 59/56 C07C 59/84 C07C 59/88 C07C 67/343 C07C 59/65 C07C 69/732 C07C 69/734 C07C 235/34 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C07C 51/353 C07C 51/353 59/52 59/52 59/56 59/56 59/84 59/84 59/88 59/88 67/343 67/343 69/65 69/65 69/732 69/732 Z 69/734 69/734 Z 235/34 235/34 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56) JP-A-59-231058 (JP, A) JP-A-55-102565 (JP, A) JP-A-1-238549 (JP, A) JP-A-2-152940 (JP, A) JP-A-61-44840 (JP, A) JP, A) Chemical Abstracts (1972), Vol. 76, p. 454, column 112836C Zh. Obshch. Khim. (1983), 53 (9), p. 2098-2104 (58) Fields investigated (Int.Cl. 6 , DB name) C07C 39/15 C07C 37/14 C07C 41/30 C07C 43/23 C07C 51/353 C07C 59/52 C07C 59/56 C07C 59 / 84 C07C 59/88 C07C 67/343 C07C 59/65 C07C 69/732 C07C 69/734 C07C 235/34 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 [式中、R1は保護されていてもよい水酸基を、R2およ
びR3は同一または異なってメチル基またはメトキシ基
を、R4は水素原子または保護されていてもよい水酸基
を示す。]で表されるフェノール誘導体と一般式 【化2】 [式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,低級アルキル基
または低級アルコキシ基を、Yはメチル基,O−置換さ
れていてもよいヒドロキシメチル基またはエステル化も
しくはアミド化されていてもよいカルボキシル基を、n
は1〜15の整数を示す。]で表されるスチルベン誘導
体をメタンスルホン酸の存在下に反応させることを特徴
とする一般式 【化3】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表されるジ
フェニルメタン誘導体の製造法。
1. A compound of the general formula [In the formula, R 1 represents an optionally protected hydroxyl group, R 2 and R 3 are the same or different and represent a methyl group or a methoxy group, and R 4 represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group. And a phenol derivative represented by the general formula: [In the formula, X is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, Y is a methyl group, a hydroxymethyl group which may be O-substituted, or a carboxyl group which may be esterified or amidated. To n
Represents an integer of 1 to 15. Wherein the stilbene derivative represented by the general formula is reacted in the presence of methanesulfonic acid. Wherein each symbol is as defined above. ] The manufacturing method of the diphenylmethane derivative represented by these.
【請求項2】−20℃〜50℃で反応させる請求項1記
載の製造法。
2. The process according to claim 1, wherein the reaction is carried out at -20 ° C. to 50 ° C.
【請求項3】フェノール誘導体(I)に対し、0.5〜
1.5倍モルのスチルベン誘導体(II)を反応させる請
求項1記載の製造法。
(3) a phenol derivative (I) having a content of 0.5 to
2. The process according to claim 1, wherein the stilbene derivative (II) is reacted in a 1.5-fold molar amount.
【請求項4】フェノール誘導体(I)に対し、0.5〜
20倍モルのメタンスルホン酸を存在させる請求項1記
載の製造法。
4. The phenol derivative (I) has an amount of from 0.5 to
2. The process according to claim 1, wherein 20 times moles of methanesulfonic acid are present.
【請求項5】Yで示されるO−置換されていてもよいヒ
ドロキシメチル基がヒドロキシメチル基,メトキシメチ
ル基,アセトキシメチル基,2−テトラヒドロピラニル
オキシメチル基,ベンジルオキシメチル基,ニトロオキ
シメチル基,アミノカルボニルオキシメチル基,モノま
たはジ−低級アルキルアミノカルボニルオキシメチル
基,フェニルアミノカルボニルオキシメチル基,環状ア
ミノカルボニルオキシメチル基またはt−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル基である請求項1記載の製造法。
5. The method of claim 5, wherein the optionally substituted hydroxymethyl group represented by Y is a hydroxymethyl group, a methoxymethyl group, an acetoxymethyl group, a 2-tetrahydropyranyloxymethyl group, a benzyloxymethyl group, or a nitrooxymethyl group. 2. The method according to claim 1, which is a group, aminocarbonyloxymethyl group, mono- or di-lower alkylaminocarbonyloxymethyl group, phenylaminocarbonyloxymethyl group, cyclic aminocarbonyloxymethyl group or t-butyldimethylsilyloxymethyl group. Law.
【請求項6】Yで示されるアミド化されていてもよいカ
ルボキシル基がカルボキシル基,アミノカルボニル基,
モノまたはジ−炭素数1〜4のアルキルアミノカルボニ
ル基,ベンジルアミノカルボニル基,α−フェネチルア
ミノカルボニル基,β―フェネチルアミノカルボニル
基,1−(α−ナフチル)エチルアミノカルボニル基,
フェニルアミノカルボニル基,p−ヒドロキシフェニル
アミノカルボニル基,p−メトキシフェニルアミノカル
ボニル基,m−クロロフェニルアミノカルボニル基,p
−ブロモフェニルアミノカルボニル基,ジフェニルアミ
ノカルボニル基,ヒドロキシアミノカルボニル基,N−
ヒドロキシ−N−メチルアミノカルボニル基,N−ヒド
ロキシ−N−フェニルアミノカルボニル基または窒素以
外に酸素,硫黄を有していてもよい5または6員の環状
アミノカルボニル基である請求項1記載の製造法。
6. A carboxyl group, which may be amidated, represented by Y is a carboxyl group, an aminocarbonyl group,
Mono- or di-alkylaminocarbonyl having 1 to 4 carbon atoms, benzylaminocarbonyl, α-phenethylaminocarbonyl, β-phenethylaminocarbonyl, 1- (α-naphthyl) ethylaminocarbonyl,
Phenylaminocarbonyl group, p-hydroxyphenylaminocarbonyl group, p-methoxyphenylaminocarbonyl group, m-chlorophenylaminocarbonyl group, p
-Bromophenylaminocarbonyl group, diphenylaminocarbonyl group, hydroxyaminocarbonyl group, N-
2. The process according to claim 1, which is a hydroxy-N-methylaminocarbonyl group, an N-hydroxy-N-phenylaminocarbonyl group, or a 5- or 6-membered cyclic aminocarbonyl group which may have oxygen or sulfur other than nitrogen. Law.
【請求項7】Yがエステル化されていてもよいカルボキ
シル基、アミノカルボニルオキシメチル基またはモノ−
低級アルキルアミノカルボニルオキシメチル基である請
求項1記載の製造法。
(7) Y is a carboxyl group, aminocarbonyloxymethyl group or mono-
The method according to claim 1, which is a lower alkylaminocarbonyloxymethyl group.
【請求項8】一般式 【化4】 [式中、R1は保護されていてもよい水酸基を、R2およ
びR3は同一または異なってメチル基またはメトキシ基
を、R4は水素原子または保護されていてもよい水酸基
を示す。]で表されるフェノール誘導体と一般式 【化5】 [式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,低級アルキル基
または低級アルコキシ基を、Yはメチル基,O−置換さ
れていてもよいヒドロキシメチル基またはエステル化も
しくはアミド化されていてもよいカルボキシル基を、n
は1〜15の整数を示す。]で表されるスチルベン誘導
体をメタンスルホン酸の存在下に反応させて一般式 【化7】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表されるジ
フェニルメタン誘導体を製造し、得られる該ジフェニル
メタン誘導体(III)中、R1および/またはR4が保護
された水酸基である場合には脱保護した後、酸化するこ
とを特徴とする一般式 【化8】 [式中、各記号は前記と同意義である。]で表されるキ
ノン類の製造法。
8. A compound of the general formula [In the formula, R 1 represents an optionally protected hydroxyl group, R 2 and R 3 are the same or different and represent a methyl group or a methoxy group, and R 4 represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group. And a phenol derivative represented by the general formula: [In the formula, X is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, Y is a methyl group, a hydroxymethyl group which may be O-substituted, or a carboxyl group which may be esterified or amidated. To n
Represents an integer of 1 to 15. Is reacted in the presence of methanesulfonic acid to give a stilbene derivative of the general formula Wherein each symbol is as defined above. Wherein R 1 and / or R 4 in the resulting diphenylmethane derivative (III) are protected hydroxyl groups, are deprotected and then oxidized. General formula Wherein each symbol is as defined above. ] The manufacturing method of the quinone represented by these.
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Chemical Abstracs(1972),Vol.76,p.454の第112836C欄
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