JP3128703B2 - Method for producing color-forming compounds, intermediates thereof, and methods for producing them - Google Patents

Method for producing color-forming compounds, intermediates thereof, and methods for producing them

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JP3128703B2
JP3128703B2 JP03268938A JP26893891A JP3128703B2 JP 3128703 B2 JP3128703 B2 JP 3128703B2 JP 03268938 A JP03268938 A JP 03268938A JP 26893891 A JP26893891 A JP 26893891A JP 3128703 B2 JP3128703 B2 JP 3128703B2
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正昭 工藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は一般式(I) (式中、nは0〜2の整数を示す。)で表される発色性
化合物の製造方法及びその中間体並びに中間体の製造方
法に関するものである。
The present invention relates to a compound of the formula (I) (In the formula, n represents an integer of 0 to 2.) The present invention relates to a method for producing a color-forming compound represented by the formula (I), an intermediate thereof, and a method for producing an intermediate.

【0002】[0002]

【従来技術】従来、色素、染料等に用いられる化合物は
数多く製造され、実用化されているが、近年食品等に用
いられる食用色素等は人が直接摂取するため、より安全
性の高い色素が望まれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a large number of compounds used for pigments and dyes have been produced and put into practical use. Is desired.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、より安
全性の高い色素に関し研究を重ねた結果、紅花を組織培
養して得られた色素の成分である一般式(II)で表される
化合物及びその酸化物である一般式(I) で表される化合
物の有用性を見い出すとともに、それらの工業的な合成
法を確立し、本発明を完成させたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have conducted studies on pigments having higher safety, and as a result, they are represented by the general formula (II) which is a component of the pigment obtained by tissue culture of safflower. The present invention has found the usefulness of a compound represented by the general formula (I), which is an oxide thereof, and an oxide thereof, and has established an industrial synthesis method thereof, thereby completing the present invention.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本願発明の一般式(I) で
表される発色性化合物は、例えば下記図式に従って製造
することができる。 (式中、R、R1、n及びXは前記に同じくし、R2は低級
アルキル基を示す。)
The coloring compound represented by the general formula (I) of the present invention can be produced, for example, according to the following scheme. (In the formula, R, R 1 , n and X are the same as described above, and R 2 represents a lower alkyl group.)

【0005】一般式(I) で表される発色性化合物を製造
するには、例えば一般式(XII) で表されるアルデヒド類
と一般式(XI)で表される化合物又は一般式(X) で表され
る化合物を触媒の存在下又は不存在下、塩基及び不活性
溶媒の存在下で反応させて一般式(IX)で表される化合物
を得、該化合物(IX)を単離するか又は単離せずに不活性
溶媒の存在下に還元剤で還元反応を行い、一般式(VIII)
で表される化合物とし、該化合物(VIII)を単離するか又
は単離せずに不活性溶媒の存在下又は不存在下でハロゲ
ン化剤によりハロゲン化反応を行い、一般式(VII) で表
される化合物とし、該化合物(VII) を単離するか又は単
離せずに一般式(VI)で表される化合物と不活性溶媒の存
在下又は不存在下で反応させ、一般式(V) で表される化
合物とし、該化合物(V) を、該化合物(V) と塩基及び過
剰のグリオキサ−ルとの反応で得られる一般式(IV)で表
される化合物と反応させ、一般式(III) で表される化合
物とし、該化合物(III) を単離するか又は単離せずに脱
保護基反応で一般式(II)で表される化合物とし、該化合
物(II)を単離するか又は単離せずに酸化すればよい。
In order to produce a color-forming compound represented by the general formula (I), for example, an aldehyde represented by the general formula (XII) and a compound represented by the general formula (XI) or the compound represented by the general formula (X) Is reacted in the presence or absence of a catalyst in the presence of a base and an inert solvent to obtain a compound represented by the general formula (IX), and isolating the compound (IX) Or, without isolation, perform a reduction reaction with a reducing agent in the presence of an inert solvent to obtain a compound of the general formula (VIII)
A compound represented by the general formula (VII) is obtained by performing a halogenation reaction with a halogenating agent in the presence or absence of an inert solvent, with or without isolating the compound (VIII). And reacting the compound (VII) with or without the isolation of the compound represented by the general formula (VI) in the presence or absence of an inert solvent to obtain a compound of the general formula (V) Wherein the compound (V) is reacted with a compound represented by the general formula (IV) obtained by reacting the compound (V) with a base and an excess of glyoxal to obtain a compound represented by the general formula ( Or a compound represented by the general formula (II) by a deprotection reaction without isolation or isolation of the compound (III), and isolating the compound (II) Or it may be oxidized without isolation.

【0006】一般式(III) で表される化合物は、一般式
(V) で表される化合物を塩基の存在下で等モル以下の量
のグリオキサ−ルと反応させることによっても製造する
ことができる。又、一般式(II)で表される化合物は、一
般式(V) で表される化合物を過剰の塩基の存在下でグリ
オキサ−ルと反応させることによっても製造することが
できる。更に別法として一般式(VII) で表される化合物
と一般式(VI') で表される化合物とを反応させて一般式
(V')で表される化合物とし、該化合物(V')をグリオキサ
−ルと反応させることにより一般式(III) で表される化
合物を製造してもよい。本発明の一般式(I) で表される
化合物を製造する際の脱離可能な保護基としては、例え
ばアセチル基、エチルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、3、5−ジニトロフェニルカルボニル基、メチル
スルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ベン
ジル基、メトキシメチル基等の基を例示できるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
The compound represented by the general formula (III) is
It can also be produced by reacting the compound represented by (V) with an equimolar amount or less of glyoxal in the presence of a base. The compound represented by the general formula (II) can also be produced by reacting the compound represented by the general formula (V) with glyoxal in the presence of an excess base. Alternatively, a compound represented by the general formula (VII) is reacted with a compound represented by the general formula (VI ′) to form a compound represented by the general formula
The compound represented by the general formula (III) may be produced by reacting the compound (V ') with glyoxal as the compound represented by the formula (V'). Examples of the removable protecting group for producing the compound represented by the general formula (I) of the present invention include acetyl, ethylcarbonyl, phenylcarbonyl, 3,5-dinitrophenylcarbonyl, methylsulfonyl Examples include groups such as a group, a trifluoromethylsulfonyl group, a benzyl group, and a methoxymethyl group, but the present invention is not limited thereto.

【0007】以下に各反応の詳細を示す。 (1)一般式(XII) → 一般式(IX) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニ
トリル類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル、ジグ
ライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド、水等の不活性溶媒を例示すること
ができ、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使
用することができる。本反応では一般式(XI)で表される
ハライド類を使用する場合、塩基の使用は必須となる
が、一般式(X) で表される酸無水物を使用する場合、塩
基の使用は必須ではない。本反応で使用できる塩基とし
ては無機塩基又は有機塩基を使用することができ、例え
ば水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシ
ウム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基
を使用することができ、これらの塩基の使用量は一般式
(XII) で表されるアルデヒド類に対して等モル乃至過剰
モルの範囲で使用することができる。本反応では触媒の
存在下又は不存在下に行われ、使用できる触媒として
は、例えば酢酸ナトリウム等の有機酸塩を使用すること
ができ、その使用量は等モル以下の量である。本反応は
等モル反応であるので一般式(XII) で表される化合物と
一般式(XI)又は一般式(X) で表される化合物を等モル使
用すればよいが、過剰に使用することもできる。本反応
の反応温度は0℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から適宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応
温度等により一定しないが、数分乃至48時間の範囲か
ら選択すればよい。反応終了後、目的物を含む反応系か
ら常法により単離し、必要に応じてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−、再結晶等により精製することにより
目的物を製造することができる。又、反応終了後、目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
The details of each reaction are shown below. (1) General formula (XII) → General formula (IX) The inert solvent that can be used in this reaction may be any inert solvent that does not significantly inhibit the progress of this reaction, such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride and the like. Halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, ethers such as methylcellosolve, diethyl ether, diglyme, dioxane and tetrahydrofuran, and dimethylformamide And inert solvents such as dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and water. These inert solvents can be used alone or as a mixture. In the case of using a halide represented by the general formula (XI) in this reaction, the use of a base is indispensable, but when using an acid anhydride represented by the general formula (X), the use of a base is indispensable. is not. As the base that can be used in this reaction, an inorganic base or an organic base can be used, and for example, sodium hydride, sodium carbonate, potassium carbonate,
Inorganic bases such as sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, calcium oxide and the like, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, pyridine and N, N-dimethylaniline can be used. , The amount of these bases used is a general formula
It can be used in an equimolar to excess molar amount with respect to the aldehyde represented by (XII). This reaction is carried out in the presence or absence of a catalyst. As a usable catalyst, for example, an organic acid salt such as sodium acetate can be used, and the amount used is an equimolar amount or less. Since this reaction is an equimolar reaction, the compound represented by the general formula (XII) and the compound represented by the general formula (XI) or (X) may be used in equimolar amounts. Can also. The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to the boiling point range of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the desired product can be produced by isolating the reaction product from the reaction system containing the desired product by a conventional method and, if necessary, purifying the product by silica gel column chromatography, recrystallization or the like. After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0008】(2)一般式(IX) → 一般式(VIII) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、水等の不活性溶媒を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使用す
ることができる。本反応で使用できる還元剤としては、
例えば水素化ほう素ナトリウム(NaBH4)、水素化アルミ
ニウムナトリウム(NaAlH4)、水素化アルミニウムリチウ
ム(LiAlH4) 等の還元剤を使用することができ、これら
の塩基の使用量は一般式(IX)で表される化合物に対して
約0.5モル使用すればよいが、若干過剰に使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は反応規模、反応温度等
により一定しないが、0℃乃至室温の範囲から適宜選択
すればよい。反応時間は数分乃至48時間の範囲から選
択すればよい。反応終了後、(1)と同様に精製するこ
とにより目的物を得ることができる。又、反応終了後、
目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
(2) General formula (IX) → General formula (VIII) The inert solvent that can be used in the present reaction may be any inert solvent that does not significantly inhibit the progress of the present reaction, such as methanol and ethanol. Alcohols such as toluene, propanol and butanol, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, benzene, toluene,
An inert solvent such as aromatic hydrocarbons such as xylene, nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, ethers such as methyl cellosolve, diethyl ether, diglyme, dioxane and tetrahydrofuran, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and water. These inert solvents can be used alone or in combination. Reducing agents that can be used in this reaction include:
For example, reducing agents such as sodium borohydride (NaBH 4 ), sodium aluminum hydride (NaAlH 4 ), and lithium aluminum hydride (LiAlH 4 ) can be used. The compound represented by the formula (1) may be used in an amount of about 0.5 mol, but may be used in a slight excess. The reaction temperature of this reaction is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to room temperature. The reaction time may be selected from the range of several minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the desired product can be obtained by purification in the same manner as in (1). After the reaction,
The target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0009】(3)一般式(VIII) → 一般式(VII) 本反応は不活性溶媒の存在下又は不存在下に行われ、使
用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻
害しない不活性溶媒であればよく、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、
メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル、ジグライム、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル類等の不活
性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単
独で、又は混合して使用することができる。本反応で使
用できるハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素、三
塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、塩化チオニル、臭
化チオニル等のハロゲン化剤を使用することができ、ハ
ロゲン化剤の使用量は一般式(VIII)で表される化合物に
対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれ
ばよい。本反応の反応温度は0℃乃至室温の範囲から適
宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度等に
より一定しないが、数分乃至48時間の範囲から選択す
ればよい。反応終了後、目的物を含む反応系から(1)
と同様に精製することにより目的物を得ることができ
る。又、反応終了後、目的物を単離せずに次の反応に供
することもできる。
(3) General formula (VIII) → General formula (VII) This reaction is carried out in the presence or absence of an inert solvent. Any inert solvent may be used, for example, dichloromethane, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, acetonitrile, nitriles such as benzonitrile,
Examples include inert solvents such as ethers such as methyl cellosolve, diethyl ether, diglyme, dioxane, and tetrahydrofuran, and these inert solvents can be used alone or in combination. Examples of the halogenating agent that can be used in this reaction include halogenating agents such as chlorine, bromine, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus pentachloride, thionyl chloride, and thionyl bromide. May be used in an amount ranging from equimolar to excess molar with respect to the compound represented by formula (VIII). The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to room temperature. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After the completion of the reaction, the reaction system containing the target substance (1)
The desired product can be obtained by purification in the same manner as described above. After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0010】(4)一般式(VII) → 一般式(V) 本反応は不活性溶媒の存在下又は不存在下に行われ、使
用できる不活性溶媒としては(3)で使用できる不活性
溶媒を使用することができる。本反応は等モル反応であ
るので一般式(VII) で表される化合物と一般式(VI)で表
される化合物を等モル使用すればよいが、いずれかを過
剰に使用することもできる。本反応の反応温度は0℃乃
至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すれ
ばよい。反応時間は反応規模、反応温度等により一定し
ないが、数分乃至48時間の範囲から選択すればよい。
反応終了後、目的物を含む反応系から(1)と同様に精
製することにより目的物を得ることができる。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。 (5)一般式(VII) → 一般式(V') 本反応は(4)と同様にすることにより製造することが
できる。
(4) General formula (VII) → General formula (V) This reaction is carried out in the presence or absence of an inert solvent. Can be used. Since this reaction is an equimolar reaction, the compound represented by the general formula (VII) and the compound represented by the general formula (VI) may be used in equimolar amounts, but either of them may be used in excess. The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to the boiling point range of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours.
After completion of the reaction, the desired product can be obtained by purifying the reaction system containing the desired product in the same manner as in (1). After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation. (5) General formula (VII) → General formula (V ') This reaction can be produced by the same manner as in (4).

【0011】(6)一般式(V) → 一般式(IV) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、水等の不活性溶媒を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使用す
ることができる。本反応で使用できる塩基としては無機
塩基又は有機塩基を使用することができ、例えば水素化
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム等の
無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、N、N−ジメチルアニリン、ブチルリチウム等の
有機塩基を使用することができ、これらの塩基の使用量
は一般式(V) で表される化合物に対して等モル乃至過剰
モルの範囲で使用することができ、好ましくは一般式
(V) で表される化合物に対して4倍モル程度使用するの
が良い。本反応では反応剤のグリオキサ−ルを一般式
(V) で表される化合物に対して過剰に使用すればよく、
好ましくは5〜10倍モル程度使用するのが良い。本反
応で使用するグリオキサ−ルにかえてグリオキサ−ル
トリメリック デハイドレ−トを使用することもでき
る。本反応の反応温度は0℃乃至使用する不活性溶媒の
沸点域の範囲から適宜選択すればよい。反応時間は反応
規模、反応温度等により一定しないが、数分乃至48時
間の範囲から選択すればよい。反応終了後、目的物を含
む反応系から(1)と同様に精製することにより目的物
を得ることができる。又、反応終了後、目的物を単離せ
ずに次の反応に供することもできる。
(6) General formula (V) → General formula (IV) The inert solvent which can be used in the present reaction may be any inert solvent which does not significantly inhibit the progress of the present reaction, such as methanol and ethanol. Alcohols such as toluene, propanol and butanol, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, benzene, toluene,
An inert solvent such as aromatic hydrocarbons such as xylene, nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, ethers such as methyl cellosolve, diethyl ether, diglyme, dioxane and tetrahydrofuran, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and water. These inert solvents can be used alone or in combination. As the base that can be used in this reaction, an inorganic base or an organic base can be used, and examples thereof include sodium hydride, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide. And inorganic bases such as calcium oxide, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, and butyllithium. The amount of these bases used is represented by the general formula (V). Can be used in an equimolar to excess molar range with respect to the compound represented by the general formula:
It is preferred to use about 4 times the molar amount of the compound represented by (V). In this reaction, the reactant glyoxal is represented by the general formula
It may be used in excess of the compound represented by (V),
Preferably, it is used in an amount of about 5 to 10 moles. Glyoxal instead of glyoxal used in this reaction
Trimeric dehydrate can also be used. The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to the boiling point range of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the desired product can be obtained by purifying the reaction system containing the desired product in the same manner as in (1). After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0012】 (7)一般式(V) + 一般式(IV) → 一般式(III) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、水等の不活性溶
媒を例示することができる。 これらの不活性溶媒は単
独で、又は混合して使用することができる。本反応で使
用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用する
ことができ、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウ
ム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基
を使用することができ、これらの塩基の使用量は一般式
(V) で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範
囲で使用することができる。本反応は等モル反応である
ので一般式(V) で表される化合物と一般式(IV)で表され
る化合物を等モル使用すればよいが、過剰に使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は0℃乃至使用する不活
性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すればよい。反応時
間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分乃
至48時間の範囲から選択すればよい。反応終了後、目
的物を含む反応系から(1)と同様にすることにより目
的物を製造することができる。本反応で得られる一般式
(III) で表される化合物はシス/シス、トランス/トラ
ンス、シス/トランスの異性体が存在するがこれらを分
離してもよく、混合物として単離してもよい。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。
(7) General formula (V) + General formula (IV) → General formula (III) The inert solvent that can be used in this reaction may be any inert solvent that does not significantly inhibit the progress of this reaction. For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene, nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, ethers such as methylcellosolve, diethyl ether, diglyme, dioxane and tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, water and the like An active solvent can be exemplified. These inert solvents can be used alone or as a mixture. As the base that can be used in this reaction, an inorganic base or an organic base can be used, and examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and calcium oxide. Inorganic bases, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, and the like.
The compound can be used in an equimolar to excess molar amount with respect to the compound represented by (V). Since this reaction is an equimolar reaction, the compound represented by the general formula (V) and the compound represented by the general formula (IV) may be used in equimolar amounts, but may be used in excess. The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to the boiling point range of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After the completion of the reaction, the target substance can be produced from the reaction system containing the target substance in the same manner as in (1). General formula obtained by this reaction
The compound represented by (III) has cis / cis, trans / trans, and cis / trans isomers, which may be separated or isolated as a mixture. After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0013】(8)一般式(V) → 一般式(III) 本発明で使用できる不活性溶媒としては(6)で使用で
きる不活性溶媒を例示することができる。本反応で使用
できる塩基としては(6)で例示の塩基を使用すること
ができ、これらの塩基の使用量は一般式(V) で表される
化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲で使用するこ
とができ、好ましくは一般式(V) で表される化合物に対
して等モル〜4倍モル程度使用するのが良い。本反応で
は反応剤のグリオキサ−ルを一般式(V) で表される化合
物に対して等モル以下、好ましくは0.5倍モル程度使
用するのが良い。本反応で使用するグリオキサ−ルにか
えてグリオキサ−ル トリメリック ジハイドレ−トを
使用することもできる。本反応の反応温度は0℃乃至使
用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すればよ
い。反応時間は反応規模、反応温度等により一定しない
が、数分乃至48時間の範囲から選択すればよい。反応
終了後、目的物を含む反応系から(1)と同様に精製す
ることにより目的物を得るすることができる。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。
(8) General formula (V) → General formula (III) As the inert solvent usable in the present invention, the inert solvent usable in (6) can be exemplified. As the base that can be used in this reaction, the bases exemplified in (6) can be used, and the amount of these bases used is in a range of equimolar to excess molar with respect to the compound represented by the general formula (V). It can be used, and it is preferably used in an amount of about 1 to 4 moles per mole of the compound represented by the general formula (V). In this reaction, the reactant glyoxal is used in an equimolar amount or less, preferably about 0.5-fold molar amount, relative to the compound represented by formula (V). Glyoxal trimeric dihydrate can be used instead of glyoxal used in this reaction. The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to the boiling point range of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the target substance can be obtained by purifying the reaction system containing the target substance in the same manner as in (1). After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0014】(9)一般式(V') → 一般式(III) 本反応は(8)と同様にすることにより製造することが
できる。 (10)一般式(III) → 一般式(II) 本反応は酸性又は塩基性条件下に行うことができ、酸性
条件下では鉱酸を不活性溶媒及び脱保護剤として使用す
ることができ、塩基性条件下では不活性溶媒として、例
えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ
−ル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−
テル類、水等を使用することができる。本反応の脱保護
剤としては酸又は塩基を使用することができ、酸として
は、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸、塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を使用すること
ができる。酸又は塩基の使用量は一般式(III) で表され
る化合物に対して等モル乃至過剰に使用することがで
き、好ましくは過剰量使用するのが良い。反応温度は0
℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選択すればよ
い。反応時間は反応規模、反応温度等により一定しない
が、数分乃至48時間の範囲から選択すればよい。反応
終了後、目的物を含む反応系から(1)と同様に精製す
ることにより目的物を得ることができる。又、反応終了
後、目的物を単離せずに次の反応に供することもでき
る。
(9) General formula (V ') → General formula (III) This reaction can be produced by the same manner as in (8). (10) General formula (III) → General formula (II) This reaction can be carried out under acidic or basic conditions, and under acidic conditions, a mineral acid can be used as an inert solvent and a deprotecting agent, Under basic conditions, inert solvents include, for example, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, and cyclic ethers such as dioxane and tetrahydrofuran.
Ters, water and the like can be used. As the deprotecting agent for this reaction, an acid or a base can be used.As the acid, for example, a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and as a base, an inorganic base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide can be used. it can. The acid or base can be used in an equimolar amount or in excess with respect to the compound represented by the general formula (III), preferably in an excess amount. Reaction temperature is 0
The temperature may be selected from the range of ° C. to the boiling point of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the desired product can be obtained by purifying the reaction system containing the desired product in the same manner as in (1). After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0015】(11)一般式(V) → 一般式(II) 本発明で使用できる不活性溶媒としては(6)で使用で
きる不活性溶媒を例示することができる。本反応で使用
できる塩基としては(6)で例示の塩基を使用すること
ができ、これらの塩基の使用量は一般式(V) で表される
化合物に対して過剰使用するのが良く、好ましくは一般
式(V) で表される化合物に対して等モル〜8倍モル程度
使用するのが良い。本反応では反応剤のグリオキサ−ル
を一般式(V) で表される化合物に対して0.5倍モル程
度の量を使用するのが良い。本反応で使用するグリオキ
サ−ルにかえてグリオキサ−ル トリメリック ジハイ
ドレ−トを使用することもできる。本反応の反応温度は
0℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選
択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度等により
一定しないが、数分乃至48時間の範囲から選択すれば
よい。反応終了後、目的物を含む反応系から(1)と同
様にすることにより目的物を製造することができる。
又、反応終了後、目的物を単離せずに次の反応に供する
こともできる。
(11) General formula (V) → General formula (II) As the inert solvent usable in the present invention, the inert solvent usable in (6) can be exemplified. As the base that can be used in this reaction, the bases exemplified in (6) can be used, and the amount of these bases is preferably used in excess with respect to the compound represented by the general formula (V), and is preferably used. Is preferably used in an amount of about equimolar to 8 times the molar amount of the compound represented by the general formula (V). In this reaction, the reactant glyoxal is preferably used in an amount of about 0.5 times the molar amount of the compound represented by the general formula (V). Glyoxal trimeric dihydrate can be used instead of glyoxal used in this reaction. The reaction temperature of this reaction may be appropriately selected from the range of 0 ° C. to the boiling point range of the inert solvent used. The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, the reaction temperature and the like, but may be selected from a range of several minutes to 48 hours. After the completion of the reaction, the target substance can be produced from the reaction system containing the target substance in the same manner as in (1).
After completion of the reaction, the target product can be subjected to the next reaction without isolation.

【0016】(12)一般式(II) → 一般式(I) 本酸化反応で使用できる不活性溶媒としては、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類等の不活性溶媒を例示す
ることができ、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合
して使用することができる。本反応で使用できる酸化剤
としては、例えば過酸化水素、過酸化ベンゾイル、m-ク
ロロ過酸化安息香酸、過酸化−t−ブチル、t−ブチル
ハイドロパ−オキサイド等の酸化剤を使用することがで
きる。過酸化剤の使用量は一般式(II)で表される化合物
に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用す
れば良く、好ましくは過剰に使用するのが良い。反応温
度は0℃乃至使用する室温の範囲から選択すればよい。
反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、
数分乃至48時間の範囲から選択すればよい。反応終了
後、目的物を含む反応系から(1)と同様にすることに
より目的物を製造することができる。
(12) General formula (II) → General formula (I) Examples of inert solvents usable in the present oxidation reaction include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol. , Dichloromethane, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, benzene, toluene,
Inert solvents such as aromatic hydrocarbons such as xylene can be exemplified, and these inert solvents can be used alone or as a mixture. As an oxidizing agent that can be used in this reaction, for example, an oxidizing agent such as hydrogen peroxide, benzoyl peroxide, m-chloroperoxybenzoic acid, t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide or the like can be used. it can. The amount of the peroxide to be used may be selected from the range of equimolar to excess molar with respect to the compound represented by the general formula (II), and is preferably used in excess. The reaction temperature may be selected from the range of 0 ° C. to the room temperature to be used.
The reaction time is not fixed depending on the reaction scale, reaction temperature, etc.
What is necessary is just to select from the range of several minutes to 48 hours. After the completion of the reaction, the target substance can be produced from the reaction system containing the target substance in the same manner as in (1).

【0017】[0017]

【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which by no means limit the present invention.

【0018】実施例1: アセチルシリンガアルデヒド
の製造 シリンガアルデヒド75g(0.41モル)及び触媒と
して酢酸ナトリウム0.5g(触媒量)をベンゼン15
0mlに溶解し、該溶液に無水酢酸63g(0.62モ
ル)を加え攪拌下に2時間加熱還流する。反応終了後、
反応液を50℃まで放冷し、n−ヘキサン300mlを
攪拌下に滴下し目的物を晶析する。析出した結晶を濾集
し、n−ヘキサン及び水で順次洗浄し、減圧乾燥するこ
とにより目的物を90g得た(収率97%)。 物性: 融点122℃; 1H−NMR(CDCl3 /T
MS、δ値、pp)…2.35(s,3H),3.89
(s,6H),7.14(s,2H),9.89(s,
1H).
Example 1 Production of Acetylsyringaldehyde 75 g (0.41 mol) of syringaldehyde and 0.5 g (catalytic amount) of sodium acetate as a catalyst were added to benzene 15
The solution was dissolved in 0 ml, 63 g (0.62 mol) of acetic anhydride was added to the solution, and the mixture was heated under reflux with stirring for 2 hours. After the reaction,
The reaction solution is allowed to cool to 50 ° C., and 300 ml of n-hexane is added dropwise with stirring to crystallize the desired product. The precipitated crystals were collected by filtration, washed sequentially with n-hexane and water, and dried under reduced pressure to obtain 90 g of the desired product (97% yield). Physical properties: melting point 122 ° C .; 1 H-NMR (CDCl 3 / T
MS, δ value, pp) ... 2.35 (s, 3H), 3.89
(S, 6H), 7.14 (s, 2H), 9.89 (s,
1H).

【0019】実施例2: 3,5−ジメトキシ−4−ア
セトキシベンジルアルコ−ルの製造 実施例1で得られたアセチルシリンガアルデヒド90g
(0.4モル)をメタノ−ル500mlに溶解し、冷却
下に水素化ほう素ナトリウム7.5g(0.2モル)を
4回に分けて添加し、添加後1時間攪拌下に反応を行っ
た。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、次いで飽和食塩
水を加え目的物をクロロホルム(100ml×2)で抽
出した。抽出液を減圧濃縮することによりペ−スト状の
目的物を得る。得られたペ−スト状物をイソプロパノ−
ルに加温下に溶解し、n−ヘキサンを室温下に加え、析
出した結晶を濾集し乾燥することにより目的物を71g
得た(収率78%)。 物性: 融点98℃; 1H−NMR(CDCl3 /TM
S、δ値、ppm)…1.80(t,1H),2.33
(s,3H),3.81(s,6H),4.63(d,
2H),6.61(s,2H).
Example 2: Preparation of 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzyl alcohol 90 g of acetyl syringaldehyde obtained in Example 1
(0.4 mol) was dissolved in 500 ml of methanol, and 7.5 g (0.2 mol) of sodium borohydride was added in four portions under cooling, and the reaction was carried out with stirring for 1 hour after the addition. went. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and then a saturated saline solution was added, and the desired product was extracted with chloroform (100 ml × 2). The extract is concentrated under reduced pressure to obtain a paste-like target product. The obtained paste-like product is isopropano-
And heated at room temperature, n-hexane was added at room temperature, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 71 g of the desired product.
Was obtained (yield 78%). Physical properties: melting point 98 ° C .; 1 H-NMR (CDCl 3 / TM
S, δ value, ppm) 1.80 (t, 1H), 2.33
(S, 3H), 3.81 (s, 6H), 4.63 (d,
2H), 6.61 (s, 2H).

【0020】実施例3: 3,5−ジメトキシ−4−ア
セトキシベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド
の製造 3,5−ジメトキシ−4−アセトキシベンジルアルコ−
ル50g(0.22モル)をベンゼン150mlに懸濁
させ、冷却下にチオニルクロライド29g(0.24モ
ル)を滴下する。滴下終了後、室温で1時間攪拌下反応
を行い、反応終了後、反応液を濃縮し、濃縮液にトルエ
ン200mlを加えて溶解し、該溶解液にトリフェニル
ホスフィン87g(0.33モル)を加え3時間加熱還
流し、反応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、析
出した結晶を濾集し、ベンゼン、n−ヘキサンで洗浄
し、乾燥することにより目的物を64g得た(収率 5
7%)。 物性: 融点215℃; 1H−NMR(CDCl3 /T
MS、δ値、ppm)…2.27(s,3H),3.4
1(s,6H),5.38(d,J=21.4Hz,2
H),6.47(d,J=4.0Hz,2H),7.5
−7.8(m,15H). 3,5−ジメトキシ−4−アセトキシベンジルクロリド
の物性: 1H−NMR(CDCl3 /TMS、δ値、p
pm)…2.34(s,3H),3.84(s,6
H),4.57(s,2H),6.66(s,2H).
Example 3 Preparation of 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzyltriphenylphosphonium chloride 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzylalco-
50 g (0.22 mol) are suspended in 150 ml of benzene, and 29 g (0.24 mol) of thionyl chloride are added dropwise while cooling. After the completion of the dropwise addition, the reaction was carried out with stirring at room temperature for 1 hour. After the completion of the reaction, the reaction solution was concentrated, and 200 ml of toluene was added to the concentrated solution to dissolve the solution. The mixture was heated and refluxed for 3 hours to carry out a reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with benzene and n-hexane, and dried to obtain 64 g of the desired product (yield 5).
7%). Physical properties: melting point 215 ° C .; 1 H-NMR (CDCl 3 / T
MS, δ value, ppm) ... 2.27 (s, 3H), 3.4
1 (s, 6H), 5.38 (d, J = 21.4 Hz, 2
H), 6.47 (d, J = 4.0 Hz, 2H), 7.5
-7.8 (m, 15H). Physical properties of 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzyl chloride: 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ value, p
pm) 2.34 (s, 3H), 3.84 (s, 6
H), 4.57 (s, 2H), 6.66 (s, 2H).

【0021】実施例4: ジエチル 3,5−ジメトキ
シ4−アセトキシベンジルホスホネ−トの製造 3,5−ジメトキシ−4−アセトキシベンジルアルコ−
ル4.5g(0.02モル)をエ−テル50mlに溶解
させ、水浴で冷却下に三臭化リン2.2g(0.008
モル)を加え30分間反応を行った。反応終了後、反応
液を氷水中に注ぎ、目的物をエ−テルにより抽出し、有
機層を減圧濃縮することにより3,5−ジメトキシ−4
−アセトキシベンジルブロミド4.6gを得た(収率8
0%)。 物性: 1H−NMR(CDCl3 /TMS、δ値、pp
m)…2.33(s,3H),3.83(s,6H),
4.45(s,2H),6.64(s,2H).次いで
得られた3,5−ジメトキシ−4−アセトキシベンジル
ブロミド2.9g(0.01モル)とトリエチルホスフ
ァイト1.7g(0.01モル)を浴温150℃で2時
間反応を行った。反応終了後、冷却して固化した目的物
にn−ヘキサンを加えて粉砕して懸濁状とし、これを濾
過してn−ヘキサンで洗浄することにより目的物3.2
gを得た(収率100%)。 物性: 融点97℃; 1H−NMR(CDCl3 /TM
S、δ値、ppm)…1.26(t,J=6.9Hz,
6H),2.33(s,3H),3.11(d,J=2
1.6Hz,2H),3.81(s,6H),3.9−
4.1(m,4H),6.57(d,J=2.4Hz,
2H).
Example 4: Preparation of diethyl 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzylphosphonate 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzylalco-
4.5 g (0.02 mol) was dissolved in 50 ml of ether, and 2.2 g (0.008 mol) of phosphorus tribromide was cooled in a water bath.
Mol) was added and the reaction was carried out for 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water, the desired product was extracted with ether, and the organic layer was concentrated under reduced pressure to give 3,5-dimethoxy-4.
4.6 g of acetoxybenzyl bromide was obtained (yield 8).
0%). Physical properties: 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ value, pp
m) 2.33 (s, 3H), 3.83 (s, 6H),
4.45 (s, 2H), 6.64 (s, 2H). Next, 2.9 g (0.01 mol) of the obtained 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzyl bromide and 1.7 g (0.01 mol) of triethyl phosphite were reacted at a bath temperature of 150 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, n-hexane was added to the solidified product which was cooled and solidified by pulverization to obtain a suspension, which was filtered and washed with n-hexane to obtain 3.2.
g was obtained (100% yield). Physical properties: melting point 97 ° C .; 1 H-NMR (CDCl 3 / TM
S, δ value, ppm) 1.26 (t, J = 6.9 Hz,
6H), 2.33 (s, 3H), 3.11 (d, J = 2
1.6 Hz, 2H), 3.81 (s, 6H), 3.9-
4.1 (m, 4H), 6.57 (d, J = 2.4 Hz,
2H).

【0022】実施例5: 3,5−ジメチル−4−アセ
トキシシンナムアルデヒドの製造 実施例3で得られた3,5−ジメトキシ−4−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド5.1
g(0.01モル)をテトラヒドロフラン30mlに懸
濁し、該懸濁液にグリオキサ−ル14.5g(40%水
溶液、0.1モル)を加え均一な溶液とした後、20%
水酸化ナトリウム水溶液4g(0.02モル)加え、5
0℃で3時間反応を行った。反応終了後、反応液を室温
まで冷却し、酢酸エチル及び飽和食塩水を加え目的物を
抽出した。得られた酢酸エチル層を乾燥後減圧濃縮する
ことにより粘稠物を得、得られた粘稠物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ−で精製しすることにより目的物
を1.0g得た(収率40%)。 物性: 融点135℃; 1H−NMR(CDCl3
TMS、δ値、ppm)…2.35(s,3H),3.
86(s,6H),6.61−6.71(q,1H),
6.81(s,2H),7.42(d,J=7.4H
z,1H),9.70(d,J=7.5Hz,1H)
Example 5: Preparation of 3,5-dimethyl-4-acetoxycinnamaldehyde 3,5-Dimethoxy-4-acetoxybenzyltriphenylphosphonium chloride 5.1 obtained in Example 3
g (0.01 mol) was suspended in 30 ml of tetrahydrofuran, and 14.5 g (40% aqueous solution, 0.1 mol) of glyoxal was added to the suspension to form a uniform solution.
4 g (0.02 mol) of an aqueous sodium hydroxide solution was added, and 5
The reaction was performed at 0 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and ethyl acetate and saturated saline were added thereto to extract the desired product. The obtained ethyl acetate layer was dried and concentrated under reduced pressure to obtain a viscous substance, and the obtained viscous substance was purified by silica gel column chromatography to obtain 1.0 g of an intended product (yield: 40%). ). Physical properties: melting point 135 ° C; 1 H-NMR (CDCl 3 /
2.35 (s, 3H), TMS, δ value, ppm)
86 (s, 6H), 6.61-6.71 (q, 1H),
6.81 (s, 2H), 7.42 (d, J = 7.4H
z, 1H), 9.70 (d, J = 7.5 Hz, 1H)

【0023】実施例6: 1,4−ビス(4−アセトキ
シ−3,5−ジメトキシフェニル)ブタジエンの製造 実施例5で得られた3,5−ジメチル−4−アセトキシ
シンナムアルデヒド0.5g(0.002モル)及び実
施例3で得られた3,5−ジメトキシ−4−アセトキシ
ベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド1.22
g(0.0024モル)をテトラヒドロフラン15ml
に懸濁させ、該懸濁液に水素化ナトリウム0.12g
(60%、0.002モル)を加え2時間室温下に反応
を行った。反応終了後、反応液を6N塩酸で中和し、目
的物を酢酸エチルで抽出した。得られた抽出液を乾燥
し、減圧濃縮することにより得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−で精製することにより目
的物0.35gを得た(収率40%)。目的物の1,4
−ビス(4−アセトキシ−3,5−ジメトキシフェニ
ル)ブタジエンはシス/シス、トランス/トランス、シ
ス/トランス又はこれらの混合物として単離でき、カラ
ムクロマトグラフィ−等で分離することもでき、代表的
R>な分離物及びこれらの混合物の物性を例示する。 物性:分離物 融点221℃; 1H−NMR(CDCl
3 /TMS、δ値、ppm)…2.35(s,6H),
3.86(s,12H),6.57−6.69(m,2
H),6.68(s,4H),6.82−6.93
(m,2H); 1H−NMR(DMSO/TMS、δ
値、ppm)…2.25(s,6H),3.81(s,
12H),6.68−6.80(m,2H),6.91
(s,4H),7.11−7.22(m,2H). 混合物 融点155−166℃(混合物の融点は各異性
体の混合割合により上記の範囲で変化する。).
Example 6: Preparation of 1,4-bis (4-acetoxy-3,5-dimethoxyphenyl) butadiene 0.5 g (0.002 mol) of 3,5-dimethyl-4-acetoxycinnamaldehyde obtained in Example 5 and 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzyltriphenylphosphonium chloride 1 obtained in Example 3 .22
g (0.0024 mol) in 15 ml of tetrahydrofuran
And 0.12 g of sodium hydride is added to the suspension.
(60%, 0.002 mol) and the reaction was carried out at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was neutralized with 6N hydrochloric acid, and the desired product was extracted with ethyl acetate. The obtained extract was dried and concentrated under reduced pressure, and the crude product obtained was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.35 g of the desired product (yield 40%). 1,4 of the target
-Bis (4-acetoxy-3,5-dimethoxyphenyl) butadiene can be isolated as cis / cis, trans / trans, cis / trans or a mixture thereof, and can be separated by column chromatography or the like.
The physical properties of R> separates and their mixtures are exemplified. Physical properties: Isolate, melting point 221 ° C; 1 H-NMR (CDCl
3 / TMS, δ value, ppm) ... 2.35 (s, 6H),
3.86 (s, 12H), 6.57-6.69 (m, 2
H), 6.68 (s, 4H), 6.82-6.93.
(M, 2H); 1 H-NMR (DMSO / TMS, δ
Value, ppm) ... 2.25 (s, 6H), 3.81 (s,
12H), 6.68-6.80 (m, 2H), 6.91.
(S, 4H), 7.11-7.22 (m, 2H). Mixing point: 155 to 166 ° C. (The melting point of the mixture varies within the above range depending on the mixing ratio of each isomer).

【0024】実施例7: 1,4−ビス(4−アセトキ
シ−3,5−ジメトキシフェニル)ブタジエンの製造 実施例3で得られた3,5−ジメトキシ−4−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド5.5
8g(0.011モル)、グリオキサ−ル0.73g
(0.005モル)、テトラヒドロフラン50ml及び
蒸留水5mlを加え、窒素雰囲気下で40%水酸化ナト
リウム水溶液2.5g(0.025モル)を滴下し、滴
下終了後60℃で2時間反応を行った。反応終了後、反
応液を冷却し不溶物を濾去し、濾液を中和した後、酢酸
エチル及び飽和食塩水を加え分液し、得られた酢酸エチ
ル溶液を乾燥し、減圧下に濃縮することにより目的物
2.0gを得た(収率90%)。
Example 7: Preparation of 1,4-bis (4-acetoxy-3,5-dimethoxyphenyl) butadiene 3,5-Dimethoxy-4-acetoxybenzyltriphenylphosphonium chloride 5.5 obtained in Example 3
8 g (0.011 mol), glyoxal 0.73 g
(0.005 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 5 ml of distilled water were added, and 2.5 g (0.025 mol) of a 40% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise under a nitrogen atmosphere. After the completion of the addition, the reaction was carried out at 60 ° C. for 2 hours. Was. After the completion of the reaction, the reaction solution was cooled, insolubles were removed by filtration, the filtrate was neutralized, and ethyl acetate and saturated saline were added to separate the solution. The obtained ethyl acetate solution was dried and concentrated under reduced pressure. As a result, 2.0 g of the desired product was obtained (yield: 90%).

【0025】実施例8: 1,4−ビス(4−アセトキ
シ−3,5−ジメトキシフェニル)ブタジエンの製造 実施例3で得られた3,5−ジメトキシ−4−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド10g
(0.02モル)をN,N−ジメチルホルムアミドに懸
濁し、該懸濁液にグリオキサ−ル トリメリック ジハ
イドレ−ト0.63g(0.03モル)を加え、氷水浴
で冷却し、水素化ナトリウム0.9g(60%、0.0
22モル)を加え30分間攪拌した後、60℃まで加温
し2時間反応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、
酢酸エチル及び水を加えて分液し、得られた有機層を乾
燥した後、減圧濃縮して得られた粘稠物をカラムクロマ
トグラフィ−で精製することにより目的物を2.1g得
た(収率24%)。
Example 8: Preparation of 1,4-bis (4-acetoxy-3,5-dimethoxyphenyl) butadiene 10 g of 3,5-dimethoxy-4-acetoxybenzyltriphenylphosphonium chloride obtained in Example 3
(0.02 mol) was suspended in N, N-dimethylformamide, and 0.63 g (0.03 mol) of glyoxal trimeric dihydrate was added to the suspension. 0.9 g (60%, 0.0
22 mol) and stirred for 30 minutes, then heated to 60 ° C. and reacted for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is allowed to cool,
Ethyl acetate and water were added to carry out liquid separation, the obtained organic layer was dried, and concentrated under reduced pressure, and the obtained viscous material was purified by column chromatography to obtain 2.1 g of the desired product. Rate 24%).

【0026】実施例9: 4,4’−(1,3−ブタジ
エン−1,4−ジイル)ビス−1,6−ジメトキシフェ
ノ−ルの製造 水酸化ナトリウム0.37g(0.009モル)を蒸留
水3gに溶解し、該溶液にエタノ−ル20ml及び実施
例7で得られた1,4−ビス(4−アセトキシ−3,5
−ジメトキシフェニル)ブタジエン0.87g(0.0
02モル)を加え室温で4時間反応を行った。反応終了
後、反応液を6N塩酸で酸性にした後、目的物を酢酸エ
チルで抽出した。、抽出液を乾燥後減圧濃縮することに
より目的物を結晶物として0.55g得た(収率77
%)。 物性: 1H−NMR(CDCl3 /TMS、δ値、pp
m)…3.93(s,12H),5.57(s,2
H),6.50−6.62(m,2H),6.67
(s,4H),6.74−6.86(m,2H).
Example 9: Preparation of 4,4 '-(1,3-butadiene-1,4-diyl) bis-1,6-dimethoxyphenol 0.37 g (0.009 mol) of sodium hydroxide was dissolved in 3 g of distilled water, and 20 ml of ethanol and 1,4-bis (4-acetoxy-3,5,5) obtained in Example 7 were added to the solution.
-Dimethoxyphenyl) butadiene 0.87 g (0.0
02 mol) and reacted at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was acidified with 6N hydrochloric acid, and the target substance was extracted with ethyl acetate. The extract was dried and concentrated under reduced pressure to obtain 0.55 g of the desired product as a crystal (yield 77).
%). Physical properties: 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ value, pp
m) ... 3.93 (s, 12H), 5.57 (s, 2
H), 6.50-6.62 (m, 2H), 6.67.
(S, 4H), 6.74-6.86 (m, 2H).

【0027】実施例10: 4,4’−(1,3−ブタ
ジエン−1,4−ジイル)ビス−1,−ジメトキシフェ
ノ−ルの製造 実施例3で得られた3,5−ジメトキシ−4−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド22.
3g(0.044モル)及びテトラヒドロフラン100
mlからなる溶液を窒素雰囲気下に60℃でグリオキサ
−ル2.9g(40%水溶液、0.02モル)を加え、
次いで40%水酸化ナトリウム水溶液10g(0.1モ
ル)を滴下した。滴下終了後、更に60℃で1時間攪拌
下に反応を行い、再度40%水酸化ナトリウム水溶液1
0g(0.1モル)を滴下し、60℃で2時間攪拌下に
反応を行った。反応終了後、反応液を冷却し濾過し、得
られた濾過物を600mlの蒸留水に懸濁し、再度該懸
濁液を濾過する。得られた濾液をエチルエ−テル(10
0ml×3)で抽出し、得られた水層を6N塩酸水溶液
で弱酸性とし、析出した結晶を濾集し乾燥することによ
り目的物を結晶物として3.8g得た(収率53%)。 物性: 1H−NMR(CDCl3 /TMS、δ値、pp
m)…3.93(s,12H),5.57(s,2
H),6.50−6.62(m,2H),6.67
(s,4H),6.74−6.86(m,2H).
Example 10: Preparation of 4,4 '-(1,3-butadiene-1,4-diyl) bis-1, -dimethoxyphenol 22. 3,5-Dimethoxy-4-acetoxybenzyltriphenylphosphonium chloride obtained in Example 3
3 g (0.044 mol) and tetrahydrofuran 100
2.9 g of glyoxal (40% aqueous solution, 0.02 mol) was added to the solution consisting of
Next, 10 g (0.1 mol) of a 40% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise. After the completion of the dropwise addition, the reaction was further performed with stirring at 60 ° C. for 1 hour, and again a 40% aqueous sodium hydroxide solution
0 g (0.1 mol) was added dropwise, and the reaction was carried out at 60 ° C. for 2 hours with stirring. After completion of the reaction, the reaction solution is cooled and filtered, and the obtained filtrate is suspended in 600 ml of distilled water, and the suspension is filtered again. The obtained filtrate was washed with ethyl ether (10
The resulting aqueous layer was made weakly acidic with a 6N aqueous hydrochloric acid solution, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 3.8 g of the desired product as crystals (yield 53%). . Physical properties: 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ value, pp
m) ... 3.93 (s, 12H), 5.57 (s, 2
H), 6.50-6.62 (m, 2H), 6.67.
(S, 4H), 6.74-6.86 (m, 2H).

【0028】実施例11: 4,4’−(2−ブテン−
1,4−ジイリデン)ビス(2,6−メトキシ)−2,
5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造 実施例9で得られた4,4’−(1,3−ブタジエン−
1,4−ジイル)ビス−1,6−ジメトキシフェノ−ル
100mg(0.28ミリモル)をクロロホルム5ml
に溶解し、該溶液に過酸化ベンゾイル200mg(0.
83ミリモル)を加え、室温下に30分攪拌し反応を行
った。反応終了後、反応液をアルカリ水、ハイポ水溶液
で洗浄し、減圧濃縮することにより目的物を結晶物とし
て90mgを得た(収率90%)。 物性: 1H−NMR(CDCl3 /TMS、δ値、pp
m)…3.85(s,6H),3.91(s,6H),
6.32(d,J=1.8Hz,2H),6.75
(d,J=1.8Hz,2H)6.79−6.93
(m,2H),7.18−7.32(m,2H)。
Example 11: 4,4 '-(2-butene-
1,4-diylidene) bis (2,6-methoxy) -2,
Production of 5-cyclohexadien-1-one The 4,4 ′-(1,3-butadiene- obtained in Example 9
100 mg (0.28 mmol) of 1,4-diyl) bis-1,6-dimethoxyphenol was added to 5 ml of chloroform.
And 200 mg of benzoyl peroxide (0.
83 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes to carry out a reaction. After the completion of the reaction, the reaction solution was washed with alkaline water and hypo aqueous solution, and concentrated under reduced pressure to obtain 90 mg of the desired product as a crystal (yield 90%). Physical properties: 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ value, pp
m) ... 3.85 (s, 6H), 3.91 (s, 6H),
6.32 (d, J = 1.8 Hz, 2H), 6.75
(D, J = 1.8 Hz, 2H) 6.79-6.93
(M, 2H), 7.18-7.32 (m, 2H).

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 45/64 C07C 45/64 45/68 45/68 47/277 47/277 47/575 47/575 49/653 49/653 49/753 49/753 C 67/08 67/08 69/18 69/18 C07F 9/54 C07F 9/54 (56)参考文献 特開 昭62−175475(JP,A) 特開 昭50−157378(JP,A) 特開 昭54−95572(JP,A) 特表 平3−500123(JP,A) Aust.J.Chem.,1988,V ol.41,No.6,p.919−933 Aust.J.Chem.,1979,V ol.32,No.3,p.681−686 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 45/29 C07C 37/01 C07C 39/21 C07C 41/18 C07C 43/23 C07C 45/64 C07C 45/68 C07C 47/277 C07C 47/575 C07C 49/653 C07C 49/753 C07C 67/08 C07C 69/18 CA(STN) REGISTRY(STN)Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C07C 45/64 C07C 45/64 45/68 45/68 47/277 47/277 47/575 47/575 49/653 49/653 49/753 49/753 C 67/08 67/08 69/18 69/18 C07F 9/54 C07F 9/54 (56) References JP-A-62-175475 (JP, A) JP-A 50-157378 (JP, A JP-A-54-95572 (JP, A) JP-A-3-500123 (JP, A) Aust. J. Chem. 1988, Vol. 41, No. 6, p. 919-933 Aust. J. Chem. 1979, Vol. 32, No. 3, p. 681-686 (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C07C 45/29 C07C 37/01 C07C 39/21 C07C 41/18 C07C 43/23 C07C 45/64 C07C 45/68 C07C 47 / 277 C07C 47/575 C07C 49/653 C07C 49/753 C07C 67/08 C07C 69/18 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式(XII) 【化1】 (式中、nは0〜2の整数を示す。)で表されるアルデ
ヒド類を、一般式(XI) R-X (XI) (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、Xはハロゲン原
子を示す。)で表されるハライド類、又は一般式(X) (R)2O (X) (式中、Rは前記に同じ。)である化合物と反応させ、
一般式(IX) 【化2】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物と
し、該化合物(IX)を単離するか又は単離せずに還元反応
を行い、一般式(VIII) 【化3】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物と
し、該化合物(VIII)を単離するか又は単離せずにハロゲ
ン化剤の存在下でハロゲン化し、一般式(VII) 【化4】 (式中、R、X及びnは前記に同じ。)で表される化合
物とし、該化合物(VII) を単離するか単離せずに一般式
(VI) (R1)3-P (VI) (式中、R1 は低級アルキル基又はフェニル基を示
す。)で表される化合物と反応させ、一般式(V) 【化5】 (式中、R、1 、X及びnは前記に同じ。)で表され
る化合物とし、該化合物(V) を単離するか単離せずに一
般式(IV) 【化6】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物と
反応させ、一般式(III) 【化7】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物と
し、該化合物(III) を単離するか単離せずに脱保護基反
応で、一般式(II) 【化8】 (式中、nは前記に同じ。)で表される化合物とし、該
化合物(II)を単離するか単離せずに酸化することを特徴
とする一般式(I) 【化9】 (式中、nは前記に同じ。)で表される発色性化合物の
製造方法。
1. A compound of the general formula (XII) (Wherein, n represents an integer of 0 to 2) by converting an aldehyde represented by the general formula (XI) RX (XI) (wherein R represents a removable protecting group, and X represents a halogen. With a compound represented by the general formula (X) (R) 2 O (X) (wherein R is as defined above),
General formula (IX) (Wherein R and n are the same as described above), and a reduction reaction is carried out by isolating or not isolating the compound (IX) to give a compound of the general formula (VIII) Wherein R and n are the same as defined above, and the compound (VIII) is isolated or not isolated, and halogenated in the presence of a halogenating agent to obtain a compound of the general formula (VII) Embedded image Wherein R, X and n are the same as defined above, and the compound (VII) is isolated or not isolated,
(VI) (R 1 ) 3 -P (VI) (wherein R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group), and reacted with a compound represented by the general formula (V): (Wherein, R, R 1 , X and n are the same as those described above), and the compound (V) is isolated or not isolated to obtain a compound of the general formula (IV): (Wherein R and n are the same as described above), and reacted with a compound represented by the general formula (III). (Wherein R and n are the same as described above), and the compound (III) is isolated or not isolated by a deprotection reaction to obtain a compound of the general formula (II): (Wherein n is as defined above), and the compound (II) is oxidized without isolation or isolation. (Wherein, n is the same as described above).
【請求項2】一般式(VII) 【化10】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、nは0〜2の整
数を示し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合
物と一般式(VI) (R1)3-P (VI) (式中、R1 は低級アルキル基又はフェニル基を示
す。)で表される化合物と反応させることを特徴とする
一般式(V) 【化11】 (式中、R、1 、X及びnは前記に同じ。)で表され
る化合物の製造方法。
2. A compound of the general formula (VII) (Wherein, R represents a removable protecting group, n represents an integer of 0 to 2, and X represents a halogen atom) and a compound represented by the general formula (VI) (R 1 ) 3- Wherein the compound is reacted with a compound represented by P (VI) (wherein R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group). (Wherein, R, R 1 , X and n are the same as described above).
【請求項3】 一般式(V) 【化12】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、R1 は低級アル
キル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を示
し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物。
3. A compound of the general formula (V) (Wherein, R represents a removable protecting group, R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group, n represents an integer of 0 to 2, and X represents a halogen atom). .
【請求項4】 一般式(V) 【化13】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、R1 は低級アル
キル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を示
し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物を塩
基の存在下で、過剰のグリオキサールと反応させること
を特徴とする一般式(IV) 【化14】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物の
製造方法。
4. A compound of the general formula (V) (Wherein, R represents a removable protecting group, R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group, n represents an integer of 0 to 2, and X represents a halogen atom). Is reacted with an excess of glyoxal in the presence of a base. (Wherein, R and n are the same as described above).
【請求項5】 一般式(V) 【化15】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、R1 は低級アル
キル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を示
し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物と一
般式(IV) 【化16】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物と
を反応させることを特徴とする一般式(III) 【化17】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物の
製造方法。
5. A compound of the general formula (V) (Wherein, R represents a removable protecting group, R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group, n represents an integer of 0 to 2, and X represents a halogen atom). And the general formula (IV) (Wherein R and n are the same as described above), characterized by reacting with a compound represented by the following general formula (III): (Wherein, R and n are the same as described above).
【請求項6】 一般式(V) 【化18】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、R1 は低級アル
キル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を示
し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物を塩
基の存在下で、一般式(V) で表される化合物に対して等
モル以下のグリオキサールと反応させることを特徴とす
る一般式(III) 【化19】 (式中、R及びnは前記に同じ。)で表される化合物の
製造方法。
6. A compound of the general formula (V) (Wherein, R represents a removable protecting group, R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group, n represents an integer of 0 to 2, and X represents a halogen atom). In the presence of a base with glyoxal of equimolar or less with respect to the compound represented by the general formula (V). (Wherein, R and n are the same as described above).
【請求項7】 一般式(III) 【化20】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、nは0〜2の整
数を示す。)で表される化合物。
7. A compound of the general formula (III) (Wherein, R represents a removable protecting group, and n represents an integer of 0 to 2).
【請求項8】 一般式(III) 【化21】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、nは0〜2の整
数を示す。)で表される化合物を脱保護基反応させるこ
とを特徴とする一般式(II) 【化22】 (式中、nは前記に同じ。)で表される化合物の製造方
法。
8. A compound of the general formula (III) Wherein R represents a removable protecting group, and n represents an integer of 0 to 2. A compound represented by the general formula (II): ] (Wherein, n is the same as described above).
【請求項9】 一般式(V) 【化23】 (式中、Rは脱離可能な保護基を示し、R1 は低級アル
キル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を示
し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物を過
剰の塩基の存在下でグリオキサールと反応させることを
特徴とする一般式(II) 【化24】 (式中nは前記に同じ。)で表される化合物の製造方
法。
9. A compound of the general formula (V) (Wherein, R represents a removable protecting group, R 1 represents a lower alkyl group or a phenyl group, n represents an integer of 0 to 2, and X represents a halogen atom). Is reacted with glyoxal in the presence of an excess base. (Wherein , n is the same as described above).
【請求項10】 一般式(II) 【化25】 (式中、nは0〜2の整数を示す。)で表される化合物
を酸化することを特徴とする一般式(I) 【化26】 (式中、nは前記に同じ。)で表される発色性化合物の
製造方法。
10. A compound of the general formula (II) (Wherein n represents an integer of 0 to 2), wherein the compound represented by the general formula (I) is oxidized. (Wherein, n is the same as described above).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Aust.J.Chem.,1979,Vol.32,No.3,p.681−686
Aust.J.Chem.,1988,Vol.41,No.6,p.919−933

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