JP2888885B2 - 文字切出し装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、帳票類に記載された文字図形の原画像パ
タンから、一単位の文字図形パタンを切出すための文字
切出し装置に関する。

（従来の技術） 従来より文字認識処理において、行単位に格納された
文字図形の原画像パタン（データ）から１文字分のパタ
ン（データ）を分離することが行なわれている。

この分離に広く用いられている従来技術では、１行分
の原画像パタンを文字行方向に垂直な列方向に走査して
各主走査位置毎に文字線部分を表す黒ビットを累積し１
行分の画像パタンに関する黒ビットのヒストグラムを作
成する。そして各主走査位置毎に累積黒ビット数を予め
定めた特定の値Ｓと比較し、行方向における文字始端及
び終端の位置として累積黒ビット数がＳ以上となる主走
査位置及びＳより小さい値となる主走査位置を検出し、
文字始端から終端までの領域のパタンを１文字のパタン
として分離する（切出す）。

しかしこの従来技術では、隣接する文字同士がオーバ
ーラップする又は接触する場合、これら文字を表す黒ビ
ットの分布領域が重なってひとつとなり、これがため一
文字分のパタンを正しく切出すことができなかった。

このような問題点を解決する従来技術として、文献I:
特公昭62−46039号公報に開示されている技術がある。

この従来技術は、一定幅の帯状の文字枠内に記入され
た複数の文字の原画像パタンから一文字分のパタンを切
出す技術であり、この従来技術においては、文字枠の一
方の枠線から文字線部までの列方向における第一文字距
離の変化と、文字枠の他方の枠線から文字線部までの列
方向における第二文字距離の変化とを検出し、これら文
字距離の変化が所定以上変化した変化点を検出し、一方
の枠側にて検出された第一の変化点と他方の枠側にて検
出された第二の変化点との間の少なくとも文字行方向に
おける距離が所定距離内にある一対の変化点を一つの組
として検出し、この一対の変化点の位置に対応して文字
の切出し位置を決定する。この結果、隣接する文字同士
がオーバーラップする場合にも、これら接触文字を精度
良く分離して一文字分のパタンを切出すことができる。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら上述した文献Ｉの従来技術では、第一文
字距離の変化を検出するために文字枠の全面に関して原
画像パタンを走査し、さらに第二文字距離の変化を検出
するために文字枠の全面に関して原画像パタンを走査す
る必要があり、これら２回の走査を行なうために処理速
度が遅くなるという問題点があった。

この発明の目的は上述した従来の問題点を解決するた
め、文字同士がオーバーラップ又は接触している場合に
少ない走査量で原画像パタンから一文字分のパタンを切
出すことができる文字切出し装置を提供することにあ
る。

（課題を解決するための手段） この目的の達成を図るため、この発明の文字切出し装
置は、 文字図形の原画像パタンから一単位の文字図形パタン
を切出す文字切出し装置において、 １行分の原画像パタンを行方向と垂直な列方向に投影
して得られる列方向の累積黒ビット数のヒストグラムに
基づいて、１行分の原画像パタンの文字線領域を検出す
るブロック検出手段と、 文字線領域の行方向における長さが所定の閾値を越え
るとき、当該文字線領域を接触文字領域とみなし、この
接触文字領域内に局所領域を設定し、この局所領域の列
方向の累積黒ビット数のなかから最小の累積黒ビット数
を検出し、この最小の累積黒ビット数を得た行方向の位
置及び当該位置近傍の領域を包含するマスク走査領域を
設定する走査領域設定手段と、 走査経路がそれぞれ異なる複数の走査線マスクを用い
てマスク走査領域内の原画像パタンを走査し、走査線マ
スクの走査経路のなかから走査線路上の黒ビット数が最
小となる最小走査経路を検出するマスク走査手段と、 最小走査経路の位置に基づき設定した分割線で接触文
字領域を分割し、該分割した接触文字領域毎の文字図形
パタンを一単位の文字図形パタンとして切出す文字切出
し手段とを備えて成ることを特徴とする。

（作用） このような構成の文字切出し装置によれば、行方向に
おける長さが所定の閾値を越える文字線領域を検出した
場合、当該文字線領域を隣接する文字図形同士がオーバ
ーラップする或は接触する接触文字領域とみなす（以
下、これら互いにオーバーラップ或は接触する文字図形
を接触文字図形と称す）。そしてこの接触文字領域を、
接触文字図形の各文字図形毎に分割するための分割線を
設定する。この分割線で分割された接触文字領域の文字
図形パタンを一単位例えば一文字分のパタンとして原画
像データから切出す。

分割線の設定に当っては、接触文字領域に対しマスク
走査領域を設定し、このマスク走査領域内を、走査経路
が異なる複数の走査線マスクを用いて走査する。そし
て、走査線マスクの走査経路のなかからその経路上の黒
ビット数が最小となる走査経路を検出する。この最小走
査経路上の黒ビット数が最小であるがゆえに、最小走査
経路及びこの経路近傍領域では接触文字図形の文字線の
重なりは最も少ないか又は重なりは無いとみなせる。

従って最小走査経路及びこの経路近傍領域を包含する
領域内の任意好適な位置に分割線を設定する（例えば最
小走査経路を分割線とする）ことによって、精度良く一
単位の文字図形パタンを切出せる。

（実施例） 以下、図面を参照し、この発明の実施例につき説明す
る。尚、図面はこの発明が理解できる程度に概略的に示
されているにすぎず、従って各構成成分の形状、配設位
置及び寸法を図示例に限定するものではない。

第１図はこの発明の実施例の構成の説明に供する機能
ブロック図である。

この実施例の文字切出し装置10は、第１図にも示すよ
うに、１行分の原画像パタンを行方向と垂直な列方向に
投影して得られる列方向の累積黒ビット数のヒストグラ
ムに基づいて、１行分の原画像パタンの文字線領域を検
出するブロック検出手段12と、文字線領域の行方向にお
ける長さが所定の閾値を越えるとき、当該文字線領域を
接触文字領域とみなし接触文字領域のマスク走査領域の
位置を設定する走査領域設定手段14と、走査経路がそれ
ぞれ異なる複数の走査線マスクを用いてマスク走査領域
内の原画像パタンを走査し、走査線マスクの走査経路の
なかから走査経路上の黒ビット数が最小となる最小走査
経路を検出するマスク走査手段16と、最小走査経路の位
置に基づき設定した分割線で接触文字領域を分割し、こ
の分割した接触文字領域毎の文字図形パタンを一単位の
文字図形パタンとして切出す文字切出し手段18とを備
え、さらに走査線マスクを格納するマスクメモリ20を備
えて成る。

以下、この実施例につきより詳細に説明する。

この実施例では、原画像パタンとして、光電変換部22
からの画像パタンを用いる。

光電変換部22は、帳票類の文字行記載領域を１行ずつ
光学的に走査し、文字行記載領域からの光信号Ｌを光電
変換して量子化した画像パタン、例えば文字線部を黒ビ
ット及び文字背景部を白ビットで表現した白黒２値のデ
ィジタル信号を出力する。画像メモリ24は光電変換部22
からの１行分の画像パタンを原画像パタンとして格納す
る。

第２図は画像メモリ24に格納された原画像パタンの例
であり、同図において26は原画像パタンを示す。

第２図にも示すように、画像メモリ24上には任意好適
な位置を原点ＯとするＸ−Ｙ座標系を設定しており、こ
の座標系で表される画素位置の原画像パタンのデータを
自在に読出せるように構成している。第２図に示す例で
は、文字行が横書きの例なので、仮想的に、Ｘ軸方向を
文字行に沿う行方向及びＹ軸方向を行方向と直交する列
方向とする。

画像メモリ24に原画像パタンが格納されると、ブロッ
ク検出部12は１行分の原画像パタン26を列方向に投影し
て列方向の累積黒ビット数のヒストグラムを作成する。

第３図は第２図の画像パタン26を走査して作成したヒ
ストグラムの例を示す図であり、同図の縦軸は累積黒ビ
ット数及び横軸は第２図のＸ軸に対応するＸ軸である。

ブロック検出手段12はヒストグラムの作成のために、
列方向を主走査方向として画像メモリ24内の原画像デー
タ26を走査する。そして各副走査位置Ｘ毎に走査線SC1
（第２図参照）上の黒ビット数を累積し、各位置Ｘ毎の
累積黒ビット数から成るヒストグラムを得る。

次いでブロック検出手段12はヒストグラムを調べ、原
画像データ26の行方向の文字線領域を検出する。

第４図は第３図のヒストグラムを調べて検出した文字
線領域の分布状態を示す図であり、同図においては、第
３図のＸ軸に対応するＸ軸を横軸とすると共に、検出さ
れた文字線領域の位置をハッチングを付した矩形領域で
表す。第４図中、検出された文字線領域を符号Bn（ｎ＝
１、２、３）を付して示した。また第４図において、文
字線領域Bnの始端位置及び終端位置を符号X_Sn及びX_Enを
付して示し、さらに理解の助けのために、第２図及び第
３図において第４図の始端位置X_Sn及び終端位置X_Enに対
応する位置を符号X_Sn及びX_Enを付して示した。以下の説
明では検出された文字線領域Bn、始端位置X_Sn及び終端
位置X_Enを単に文字線領域Ｂ、始端位置X_S及び終端位置X
_Eとも表現する。

ブロック検出手段12は文字線領域Ｂを検出するため、
列方向の累積黒ビット数が予め定めた閾値THL1（例えば
THL1＝１）未満からTHL1以上となったときの副走査位置
X_S及びTHL1以上からTHL1未満になったときの副走査位置
X_Eを検出し、これら位置X_S及びX_E間のTHL1以上の累積黒
ビット数が連続する領域Ｂの行方向における長さΔＸを
求める。そして長さΔＸを予め定めた閾値THL2（例えば
THL2＝２）と比較し、閾値THL2以上の長さΔＸを有する
領域Ｂを文字線領域として検出する。このときの位置X_S
及びX_Eは、文字線領域Ｂの行方向の始端及び終端位置で
ある。閾値THL1及びTHL2を任意好適に設定することによ
って原画像データ26中のノイズ領域を文字線領域として
検出するのを避けることができる。

文字線領域Ｂが検出されると、走査領域設定手段14
は、ブロック検出手段12から入力した文字線領域Ｂの長
さΔＸを予め定めた閾値THL3と比較する。閾値THL3は文
字線領域Ｂが何単位分の文字図形パタンを包含するか判
定するためのものであり、この実施例では１個の任意好
適な値の閾値THL3を設定し、閾値THL3以下の長さΔＸを
有する文字線領域Ｂは１単位分の文字図形パタンを包含
し、閾値THL3を越える長さΔＸを有する文字線領域Ｂは
オーバーラップ又は接触する文字図形（接触文字図形）
例えば第２図の数字「１」及び「２」の２単位分のパタ
ンを包含する接触文字領域であるとみなす。

走査領域設定手段14は長さΔＸが閾値THL3以下のとき
当該長さΔＸの文字線領域Ｂの始端位置X_S及びX_Eと、当
該文字線領域Ｂを分割しないことを表す情報Ｐとを出力
する。

また走査領域設定手段14は長さΔＸが閾値THL3を越え
るとき当該長さΔＸの文字線領域Ｂは接触文字図形を包
含する接触文字領域であるのでこれら文字図形を一単位
毎に分離するための分割線を得るべくマスク走査領域の
位置を設定し、当該接触文字領域Ｂの始端位置X_S及び終
端位置X_Eと、マスク走査領域の行方向の始端位置X_MS及
び終端位置M_MEと、当該接触文字領域Ｂを分割すること
を示す情報Ｑとを出力する。

この実施例では、接触文字領域Ｂの全領域又は局所領
域の列方向の累積黒ビット数のなかから最小の累積黒ビ
ット数を検出し、この最小の累積黒ビット数を得た行方
向の位置X_min及び当該位置近傍の領域を包含するように
マスク走査領域の位置X_MS及びX_MEを設定する。これらX
_MS及びX_MEの設定は、例えばX_S≦M_MS＜X_ME≦X_Eとなるよ
うに行なえばよい。

第５図はマスク走査領域の設定例を示す図であり、第
３図と同様の列方向の累積黒ビット数のヒストグラムを
示す。

第５図に示す例では、接触文字領域Ｂの任意好適な位
置例えば中央部に局所領域を設定しており、例えば行方
向の長さがΔX/2となるように設定した接触文字領域Ｂ
内のX_C−（ΔX/4）≦Ｘ≦X_C＋（ΔX/4）の範囲を局所領
域とする。但し、X_Cは行方向における接触文字領域Ｂの
中心位置を表す。

またマスク走査領域30を例えば行方向の長さがX/4と
なるように設定しており、例えば接触文字領域Ｂ内のX
_min−（ΔX/8）≦Ｘ≦X_min＋（ΔX/8）の範囲の領域を
マスク走査領域30とする。

マスク走査手段16は走査領域設定手段14より情報Ｐ又
はＱを入力し、これら情報に応じた動作を行なう。

情報Ｐを入力した場合、マスク走査手段16は走査領域
設定手段14から入力した情報Ｐと文字線領域Ｂの位置X_S
及びX_Eとを出力する。

また情報Ｑを入力した場合マスク走査手段16は走査領
域設定手段14から入力した接触文字領域Ｂの位置X_S及び
X_Eと、マスク走査領域の位置X_MS及びX_MEとに基づき、走
査線マスクを用いた処理のための動作を開始する。この
動作につき第６図〜第８図を参照し、説明する。

第６図は接触文字領域の列方向の位置検出の説明に供
する図であり、第２図と同様の原画像パタンを示す。

まずマスク走査手段16は接触文字領域Ｂの列方向の始
端位置Y_S及び終端位置Y_Eを検出する。

これら位置Y_S、Y_Eの検出のため、マスク走査手段16
は、接触文字領域Ｂ（X_S≦Ｘ≦X_Eの領域）内の原画像パ
タン26を行方向に投影して行方向の累積黒ビット数のヒ
ストグラムを作成する。この作成では、行方向を主走査
方向として接触文字領域Ｂの原画像データ26を走査し、
各副走査位置Ｙ毎に走査線SC2（第６図参照）上の黒ビ
ット数を累積し、各位置Ｙ毎の累積黒ビット数から成る
ヒストグラムを得る。そしてこのヒストグラムを調べブ
ロック検出手段12の行方向の文字線領域Ｂの検出の場合
と同様にして、接触文字領域Ｂにおける列方向の文字線
領域の始端位置Y_S及び終端位置Y_Eを検出する。

第６図にも示すように、点（X_S、Y_S）、（X_E、Y_S）、
（X_S、Y_E）及び（X_E、Y_E）を結ぶ矩形枠は接触文字図形
の外接枠Ｇとなる。

そしてマスク走査手段16は検出した位置Y_S及びY_Eに基
づいて、マスク走査領域30の列方向の始端位置Y_MS及びY
_MEを設定する。これら位置Y_MS及びY_MEの設定は、例えば
１行分の画像パタン26の格納領域内においてY_MS≦Y_S、Y
_E≦Y_MEとなるように行なえばよいが、以下の説明ではY
_MS＝Y_S及びY_ME＝Y_Eとする。

マスク走査領域30の位置Y_MS、Y_MEを設定すると、次に
マスク走査手段16はマスク走査領域30（X_MS≦Ｘ≦X_MEか
つY_MS≦Ｙ≦Y_MEの領域）のマスク走査を行なう。

第７図はマスク走査手段のマスク走査処理の流れの一
例を示す図である。

マスク走査手段16は、マスク走査領域30の位置Y_MS、Y
_MSを設定し終えると、当該マスク領域30を設定した接触
文字領域Ｂに関してのマスク走査を開始する（STAR
T）。

マスク走査を開始したマスク走査手段16は、走査線マ
スクの走査経路SC3（後述する第７図参照）上の累積黒
ビット数の最小を検出するための最小値レジスタ（MIN
レジスタ）に初期値例えば1000を設定してMINレジスタ
を初期化し（S1）、そして各走査線マスク毎に付された
番号（No）を指定するための走査Noカウンタに初期値例
えば１を設定して走査Noカウンタを初期化する（S2）。

次にマスク走査手段16は、走査Noカウンタの格納値で
指定される番号の走査線マスクをマスクメモリ20から読
み込み、マスク走査領域30内において走査線マスクの走
査経路SC3上の黒ビット数を計数（累積）し、計数結果
をBLACKレジスタに保存する（S3）。

第８図（Ａ）〜（Ｆ）は６種類の走査線マスクを１組
の走査線マスクとして用意した例を示す図であり、同図
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）及び（Ｆ）は
それぞれ走査No1、２、３、４、５及び６が付された走
査線マスクを示す。これら図において線分、、、
及びはそれぞれ直線Ｘ＝X_MS、Ｙ＝Y_MS＋ΔY/2、Ｘ
＝X_ME、Ｙ＝Y_MS＋ΔY/4及びＹ＝Y_MS＋（ΔＹ・3/4）上
の走査経路を示し（但しΔＹは位置Y_MS及びY_MEの間の列
方向における離間距離）、第８図にも示すように、行方
向の走査経路と、列方向の走査経路、又はと、
行方向の走査経路とを任意好適に組合せることによっ
て６種の走査経路SC3を形成している。

S3の次に、マスク走査手段16はBLACKレジスタの内容
が０か否か、すなわち走査経路SC3上に黒ビットが無い
走査経路SC3を検出したか否かを判定する（S4）。

S4でBLACKレジスタの内容が０でなければマスク走査
手段16はS5の処理を行なう。

第６図のマスク走査領域30を第８図（Ａ）の走査No1
の走査線マスクを用いて走査した場合、走査経路SC3上
の累積黒ビット数は２となり、従ってBLACKレジスタに
は２が保存されS4に次いでS5の処理が行なわれる。

S5では、BLACKレジスタ及びMINレジスタの内容（格納
値）を比較する。

S5でBLACKレジスタの内容がMINレジスタの内容より小
さければ、走査経路SC3上の累積黒ビット数の最小を検
出すべくMINレジスタの内容をBLACKレジスタの内容に書
換え、これと共に最小走査経路SC3を検出すべくSCANレ
ジスタの内容をこのときの走査Noレジスタの内容に書換
え（S6）、その後走査Noレジスタの格納値に１を加算し
て走査Noを更新する（S7）。

走査No1の走査では、BLACKレジスタの内容が２でMIN
レジスタの内容が1000であるのでS5の次にS6、S7が行な
われる。

またS5でBLACKレジスタの内容がMINレジスタの内容と
等しいか大きければ、S5の次にS6を行なわずにS7の処理
を行なう。

S7の次に、マスク走査手段16はマスクメモリ20に格納
された走査線マスク（例えば第８図に示す６種の走査線
マスク）の全てにつきマスク走査を終了したか否かを判
定する（S8）。

S8でマスク走査を行なっていない走査線マスクが残っ
ていたらS3の処理に戻る。

またS8で走査線マスクの全てにつきマスク走査を終了
していれば、SCANレジスタの格納値で指定される番号の
走査線マスクの走査経路SC3が最小走査経路であるの
で、当該最小走査経路の位置と、接触文字領域Ｂの行方
向の位置X_S、X_Eと情報Ｑとを出力し（S9）、次いでマス
ク走査処理を終了し、そして次の接触文字領域Ｂが検出
され次の接触文字領域Ｂにつきマスク走査領域30の位置
Y_MS、Y_MEが設定されたらS1から処理を開始すべく待機す
る（END）。

またS4でBLACKレジスタの内容が０であった場合に
は、マスク走査手段16はこのときの走査Noレジスタの内
容（格納値）で指定される走査線マスクの走査経路SC3
は最小走査経路であるとみなしＡレジスタの内容をこの
ときの走査Noレジスタの内容に置換え（S10）、その後S
9の処理を行なう。

第６図のマスク走査領域30を第８図（Ｃ）の走査No3
の走査線マスクを用いて走査した場合、走査経路SC3上
の累積黒ビット数は０となりS4でBLACKレジスタの内容
が０であるためS4の次にS10の処理が行なわれる。この
場合S10では最小走査経路SC3の位置として、例えば走査
経路SC3の端点D1（X_ME、Y_S）、D4（X_MS、Y_ME）及び折れ
点D2（X_ME、Y_S＋３・ΔY/4）、D3（X_MS、Y_S＋３・ΔY/
4）の位置が出力される。

文字切出し手段18はマスク走査手段16から情報Ｐ及び
文字線領域Ｂの行方向の位置X_S、X_Eを受信すると、１行
分の画像データ26の位置X_S、X_E間のパタンを一単位の文
字図形パタンとして切出し出力する。

また、文字切出し手段18はマスク走査手段16から情報
Ｑ、最小走査経路の位置D1〜D4及び接触文字領域Ｂの位
置X_S、X_Eを入力すると、位置D1〜D4及び接触文字領域Ｂ
の位置X_S、X_Eに基づき接触文字領域Ｂを分割し、分割し
た接触文字領域Ｂ内のパタンをそれぞれ切出し一単位の
文字図形パタンとして出力する。第６図にも示すよう
に、例えば点（X_ME、０）、D1、D2、D3、D4及び（X_MS、
Y_edg）を結ぶ線分を分割線として接触文字領域Ｂを分割
すればよい。

この発明は上述した実施例にのみ限定されるものでは
なく、従って各構成成分の数値的条件、範囲、形状、位
置関係、動作、入出力信号の流れを任意好適に変更でき
る。

例えば上述した実施例では走査線マスクとして６個の
マスクを用意したが、マスク数を増加することにより一
単位の文字図形パタンの欠けがない状態で又は欠けを最
小限度に抑えて精度良く文字切出しを行なえるようにな
る。

第９図（Ａ）〜（Ｈ）は８種類の走査線マスクを用意
した例を示す図である。これら図において線分、、
及びはそれぞれ直線Ｙ＝Y_MS＋ΔY/8、Ｙ＝Y_MS＋Δ
Ｙ・3/8、Ｙ＝Y_MS＋ΔＹ・5/8及びＹ＝Y_MS＋ΔＹ・7/8
上の走査経路を示し、第９図にも示すように、走査経路
と、走査経路、、又はと、走査経路とを任
意好適な位置、長さで結合し組合せることによって８種
の走査経路SC3を形成している。これら８種類の走査線
マスクにおいて行方向の走査経路、、、の位置
はΔY/8を単位として変化し、従ってこのΔY/8単位の変
化に応じて精度良く接触文字領域を分割し一単位の文字
図形パタンの切出しが行なえる。

走査線マスクの走査経路の形状は任意好適に変更する
ことができ、上述の走査線マスクの他、文字切出し対象
となる文字図形の連続する２文字（或は接触文字図形）
を分離するために、最も効率よく分離できる走査線マス
クを予め統計処理により求め、当該マスクをマスクメモ
リに登録し用いるようにしてもよい。

また上述の実施例では画像メモリに１行単位に格納し
た原画像パタンから一単位の文字図形パタンを切出す例
につき説明したが、複数行単位に原画像パタンを格納
し、１行分の原画像パタンを切出して或は行位置等の書
式情報を用いて１行分の原画像パタンを走査するように
し上述と同様にして一単位の文字図形パタンを切出すよ
うにしてもよい。

またマスク走査領域は位置X_min及びその近傍領域を包
含する領域に限定されず、任意好適に設定することがで
き、例えば接触文字領域の中央部の領域をマスク走査領
域としてもよい。

また一単位の文字図形パタンの列方向及び行方向にお
ける切出し位置は上述の実施例のものに限定されず任意
好適に変更することができる。

また原画像パタンとして背景処理等の前処理が施され
た画像パタンを用いてもよい。

（発明の効果） 上述した説明からも明らかなように、この発明の文字
切出し装置によれば、１行分の原画像パタンを列方向に
投影して得たヒストグラムを調べて文字線領域の行方向
の位置を検出し、この行方向の位置から文字線領域の行
方向の長さを求める。そして行方向の長さが所定の閾値
を越える文字線領域（接触文字領域）を検出した場合に
のみ、マスク走査領域内を走査線マスクを用いて走査し
て走査線マスクの走査経路につきその経路上の累積黒ビ
ット数が最小となる最小走査経路を検出し、この最小走
査経路の位置に基づいて接触文字領域を分割し、一単位
の文字図形パタンを切出す。

最小走査経路の位置に基づいて一単位の文字図形パタ
ンを切出すので、隣接する文字同士が手書きによりオー
バーラップ又は接触して帳票類に記入された場合でも、
一単位の文字図形パタンの欠けを無くし或は欠けが非常
に少ない状態で切出しを精度良く行なえる。

また行方向の長さが所定の閾値を越える文字線領域
（接触文字領域）を検出した場合にのみ、マスク走査領
域内を走査線マスクを用いて走査するので、従来の文字
切出し処理よりも原画像パタンの走査量を少なくするこ
とができ、これがため高速に文字切出しを行なえる。

従って本発明を文字認識装置に利用すれば高速な文字
認識装置が実現可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例の構成をの説明に供する機能
ブロック図、 第２図は原画像パタンの例を示す図、 第３図は列方向の累積黒ビット数のヒストグラムの例を
示す図、 第４図は文字線領域の分布状態の例を示す図、 第５図は実施例におけるマスク走査領域の設定例を示す
図、 第６図は実施例における接触文字領域の列方向の位置検
出の説明に供する図、 第７図は実施例におけるマスク走査処理の流れの一例を
示す図、 第８図（Ａ）〜（Ｆ）は６種類の走査線マスクを用意し
た例を示す図、 第９図（Ａ）〜（Ｈ）は８種類の走査線マスクを用意し
た例を示す図である。 10……文字切出し装置、12……ブロック検出手段 14……走査領域設定手段 16……マスク走査手段、26……原画像パタン 30……マスク走査領域。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−68871（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−38884（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−117671（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−127985（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−213770（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G06K 9/34

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】文字図形の原画像パタンから一単位の文字
   図形パタンを切出す文字切出し装置において、 １行分の原画像パタンを行方向と垂直な列方向に投影し
   て得られる列方向の累積黒ビット数のヒストグラムに基
   づいて、前記１行分の原画像パタンの文字線領域を検出
   するブロック検出手段と、 前記文字線領域の行方向における長さが所定の閾値を越
   えるとき、当該文字線領域を接触文字領域とみなし、該
   接触文字領域内に局所領域を設定し、該局所領域の列方
   向の累積黒ビット数のなかから最小の累積黒ビット数を
   検出し、該最小の累積黒ビット数を得た行方向の位置及
   び当該位置近傍の領域を包含するマスク走査領域を設定
   する走査領域設定手段と、 走査経路がそれぞれ異なる複数の走査線マスクを用いて
   前記マスク走査領域内の原画像パタンを走査し、前記走
   査線マスクの走査経路のなかから走査線路上の黒ビット
   数が最小となる最小走査経路を検出するマスク走査手段
   と、 前記最小走査経路の位置に基づき設定した分割線で前記
   接触文字領域を分割し、該分割した接触文字領域毎の文
   字図形パタンを一単位の文字図形パタンとして切出す文
   字切出し手段とを備えて成ることを特徴とする文字切出
   し装置。