JP2884265B2 - Method for manufacturing two-layer TAB tape - Google Patents

Method for manufacturing two-layer TAB tape

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JP2884265B2 JP5014191A JP5014191A JP2884265B2 JP 2884265 B2 JP2884265 B2 JP 2884265B2 JP 5014191 A JP5014191 A JP 5014191A JP 5014191 A JP5014191 A JP 5014191A JP 2884265 B2 JP2884265 B2 JP 2884265B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は2層TABテープの製造
方法に関し、より詳細には金属箔に液状の熱硬化性樹脂
を支持体として必要な部分のみに塗布し、硬化後、導電
パターンを形成することにより、安価かつ簡便で、しか
も折り曲げ性、寸法安定性、耐熱性等の諸特性に優れた
2層TABテープの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a two-layer TAB tape, and more particularly, to a method in which a liquid thermosetting resin is applied to a metal foil only as necessary as a support and cured to form a conductive pattern. The present invention relates to a method for manufacturing a two-layer TAB tape which is inexpensive and simple by being formed, and which is excellent in various properties such as bendability, dimensional stability and heat resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、窓あきプリント配線板やTABテ
ープは、図1〜2に示されるように、その導体配線パタ
ーンをその下から支持する絶縁基板部分が存在せずに導
体パターンがむき出しになっている箇所を部分的に有す
るものであり、これらは一般的にフォトエッチング法等
により製造されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIGS. 1 and 2, a windowed printed wiring board or TAB tape has a conductor pattern exposed without an insulating substrate portion for supporting the conductor wiring pattern from below. Are partially formed, and these are generally manufactured by a photo-etching method or the like.

【0003】このようなTABテープの製造方法として
は、図3にその工程を示すように糊等の接着剤層3を介
して金属箔(導電金属層)1を所望箇所に穴を開けた絶
縁基板2にプレス接着し(図3(a))、次に、金属箔
1をフォトエッチング法によって露光、現像、エッチン
グを行なって導電パターン4を得(図3(b))、次に
ソルダーレジスト印刷を施し、さらに部分的に金または
錫等のメッキを行ない、配線パターンを形成するもので
ある。
[0003] As a method of manufacturing such a TAB tape, as shown in FIG. 3, a metal foil (conductive metal layer) 1 is formed through an adhesive layer 3 made of glue or the like by punching a hole at a desired position. Press bonding to the substrate 2 (FIG. 3A), and then exposing, developing, and etching the metal foil 1 by a photo-etching method to obtain a conductive pattern 4 (FIG. 3B), Printing is performed, and plating of gold or tin is partially performed to form a wiring pattern.

【0004】また、接着剤が存在しない2層基板を用い
て、部分的に絶縁基板を化学的あるいは機械的に除去し
た後、金属箔をフォトエッチング法によって配線パター
ンを形成してなるものもある。この方法は、図4にその
工程が示されるように、ポリイミドからなる絶縁基板2
の片面上に銅等の金属をスパッタ後、さらにその上に銅
等の金属を厚メッキして金属箔1を形成し、さらにその
反対面にも同様にスパッタ後、厚メッキにより銅等のマ
スキング層5を設ける(図4(a));次に、絶縁基板
(ポリイミド)2のデバイスホール部になる部分を露出
させるべく、マスキング剤5の一部をエッチングし(図
4(b))、さらにポリイミドエッチングによって絶縁
基板2にデバイスホールを開ける(図4(c));次い
で、金属箔1をフォトエッチング法によって露光、現
像、エッチングを行ない導体パターン4を得る(図4
(d));さらにマスキング層5をエッチング除去した
後(図4(e))、次にソルダーレジスト印刷を施し、
さらに部分的に金または錫等のメッキを行ない、配線パ
ターンを形成してなるものである。
Further, there is a method in which a wiring pattern is formed by photoetching a metal foil after a part of an insulating substrate is chemically or mechanically removed using a two-layer substrate in which no adhesive is present. . This method uses an insulating substrate 2 made of polyimide, as shown in FIG.
After a metal such as copper is sputtered on one side of the above, a metal foil 1 is formed by further thickly plating a metal such as copper thereon, and the other side is similarly sputtered, and a masking of copper or the like is performed by thick plating. A layer 5 is provided (FIG. 4A); then, a portion of the masking agent 5 is etched to expose a portion to be a device hole of the insulating substrate (polyimide) 2 (FIG. 4B). Further, device holes are opened in the insulating substrate 2 by polyimide etching (FIG. 4C); then, the metal foil 1 is exposed, developed and etched by a photo-etching method to obtain a conductor pattern 4 (FIG. 4).
(D)); After further removing the masking layer 5 by etching (FIG. 4 (e)), a solder resist printing is then performed.
Further, a wiring pattern is formed by partially plating gold or tin.

【0005】しかしながら、接着剤を用いたTABテー
プの場合、金型が必要であり、そのためには製造に時間
を要し、しかもコストがかかるという問題があり、また
接着剤が存在するため耐熱性が悪く、液晶パネル基板と
の熱圧着中に接着剤が軟化して導体が動いてしまうこと
があり、さらには加熱工程や水洗、乾燥工程において伸
縮し、寸法コントロールが困難である。また、折り曲げ
性も接着剤の厚みの分だけ不利になる。このため厚みの
薄いフィルムを用いて折り曲げ性を良好にしようとする
と、連続状の処理ではハンドリングに問題がおこり、金
属箔に皺、切断等を生じ、接着剤を塗布するのが困難と
なり、特に1ミル(25μm)厚以下のベースフィルム
では、この傾向が顕著である。しかも、TABテープは
液晶デイスプレイの用途に汎用されているが、この場合
にはTABテープは曲げて使用されるが、この曲げによ
ってクラックが生じるため、曲げ部のベースフィルムを
打ち抜いて導体を露出させる必要があり、このような金
型を製造することもコストの上昇に通じる。
However, in the case of a TAB tape using an adhesive, there is a problem that a mold is required, which requires a long time for manufacturing and is costly. In some cases, the adhesive softens during thermocompression bonding with the liquid crystal panel substrate, causing the conductor to move. In addition, the conductor expands and contracts in a heating step, a washing step, and a drying step, and it is difficult to control the dimensions. Further, the bending property is disadvantageous by the thickness of the adhesive. For this reason, when trying to improve the bendability using a thin film, there is a problem in handling in the continuous processing, wrinkles and cuts are generated in the metal foil, and it becomes difficult to apply the adhesive, particularly This tendency is remarkable in a base film having a thickness of 1 mil (25 μm) or less. Moreover, the TAB tape is widely used for liquid crystal displays. In this case, the TAB tape is bent and used. However, this bending causes cracks. It is necessary to manufacture such a mold, which leads to an increase in cost.

【0006】一方、接着剤の存在しない2層TABテー
プを使用した場合、絶縁基板で支持されない部分を作る
ため、絶縁基板の一部分を化学的にエッチングする必要
があり、そのためのマスキング層が必要なことや反応性
の強いエッチング剤が必要なこと等のために価格的にも
高価となり、また環境衛生上も好ましくないという課題
がある。さらにエッチング後の形状も適正でなく誤差を
生じるという課題もある。エキシマレーザー等により絶
縁基板の一部分を機械的に除去するという方法もある
が、この場合にはコストが非常に高くなるという課題を
有する。また、スパッタ法による銅直付け原板の場合、
パターン材質は銅が一般的であり、しかも電気メッキに
よる電着銅が用いられるので、引張強さ、硬度、伸び等
のコントロールや材料選定の自由度がない。例えばリン
青銅、ステンレス、その他のリードフレーム用銅合金の
使用ができない。
On the other hand, when a two-layer TAB tape without an adhesive is used, a part of the insulating substrate must be chemically etched in order to form a part that is not supported by the insulating substrate, and a masking layer for that purpose is required. In addition, there is a problem that the cost is high due to the fact that an etching agent having a high reactivity is required, and it is not preferable from the viewpoint of environmental hygiene. Further, there is a problem that the shape after the etching is not appropriate and an error occurs. There is also a method of mechanically removing a part of the insulating substrate using an excimer laser or the like, but in this case, there is a problem that the cost becomes extremely high. In addition, in the case of a copper directly attached original plate by the sputtering method,
Copper is generally used as the pattern material, and since electrodeposited copper by electroplating is used, there is no flexibility in controlling the tensile strength, hardness, elongation, and the like and in selecting the material. For example, phosphor bronze, stainless steel, and other copper alloys for lead frames cannot be used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の課題を
解決するものであり、その目的とするところは高密度、
微細な配線パターンを有し、かつ電気的、機械的特性に
優れ、また接着剤層が存在せず、配線パターンの断線や
短絡がない、安価かつ簡便な2層TABテープの製造方
法を提供することにあり、特に導体パターンをその下か
ら支持する絶縁基板部分が存在せず、導体パターンの一
部がむき出しになっている2層TABテープを提供する
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is to achieve high density,
Provided is an inexpensive and simple method for manufacturing a two-layer TAB tape which has a fine wiring pattern, has excellent electrical and mechanical properties, does not have an adhesive layer, has no disconnection or short circuit of the wiring pattern. In particular, an object of the present invention is to provide a two-layer TAB tape in which there is no insulating substrate portion for supporting the conductor pattern from below, and a part of the conductor pattern is exposed.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は2層TABテ
ープの製造工程について種々の試験、研究を行なった結
果、本発明の2層TABテープの製造方法を完成するに
至った。
The inventor of the present invention has conducted various tests and studies on the manufacturing process of a two-layer TAB tape, and has completed the method of manufacturing a two-layer TAB tape of the present invention.

【0009】すなわち本発明は、金属箔の裏面に液状の
熱硬化性樹脂を所定の形状に塗布し、加熱硬化させ、次
いで該金属箔の表裏面をレジストで被覆し、さらに該表
裏面を露光、現像した後、エッチングすることにより導
電パターンを得ることを特徴とする2層TABテープの
製造方法にある。
That is, according to the present invention, a liquid thermosetting resin is applied to the back surface of a metal foil in a predetermined shape, cured by heating, and then the front and back surfaces of the metal foil are coated with a resist. , Developing, and then etching to obtain a conductive pattern.

【0010】以下、本発明を図面に基づいて具体的に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0011】図5は、本発明の製造方法を示す工程図で
あり、同図において、1は金属箔(導体パターン層)、
4は導体パターン、6は液状の熱硬化性樹脂(支持体
層)、7は支持体、8はフォトレジスト(ドライフィル
ム)、9はソルダーレジストをそれぞれ示す。
FIG. 5 is a process chart showing the manufacturing method of the present invention. In FIG. 5, reference numeral 1 denotes a metal foil (conductor pattern layer);
Reference numeral 4 denotes a conductor pattern, 6 denotes a liquid thermosetting resin (support layer), 7 denotes a support, 8 denotes a photoresist (dry film), and 9 denotes a solder resist.

【0012】同図(a)に示されるように、本発明で
は、金属箔1の裏面に液状の熱硬化性樹脂が所定の形状
に塗布されている。この金属箔1はフォトエッチング法
によって導体パターン4が形成されるものであり、少な
くとも導電性を有することが必要である。このような金
属箔1は適宜選択されるが、具体的には銅、りん青銅等
の銅合金、ステンレス等が例示される。一方、液状の熱
硬化性樹脂6は、スクリーン印刷等で所望の部位に塗布
され、加熱硬化されて支持体7として用いられる。この
支持体7は製造中に金属箔1または導体パターン4を機
械的に支持するものであり、少なくとも機械的強度を有
するものである。このような支持体7として用いられる
液状の熱硬化性樹脂6は適当な粘度を有する液状のポリ
イミド、エポキシ樹脂等が挙げられるが、回路形成のた
めのフォトエッチング液によって、エッチングされない
素材を選択する必要がある。
As shown in FIG. 1A, in the present invention, a liquid thermosetting resin is applied to the back surface of the metal foil 1 in a predetermined shape. The conductive pattern 4 is formed on the metal foil 1 by a photo-etching method, and it is necessary that the metal foil 1 has at least conductivity. Such a metal foil 1 is appropriately selected, and specific examples thereof include copper, a copper alloy such as phosphor bronze, and stainless steel. On the other hand, the liquid thermosetting resin 6 is applied to a desired portion by screen printing or the like, and is heated and cured to be used as the support 7. The support 7 mechanically supports the metal foil 1 or the conductor pattern 4 during manufacture, and has at least mechanical strength. Examples of the liquid thermosetting resin 6 used as the support 7 include liquid polyimide, epoxy resin, and the like having an appropriate viscosity. A material that is not etched by a photoetching solution for forming a circuit is selected. There is a need.

【0013】次に、同図(b)に示されるように、金属
箔1の表裏両面にレジスト8が被覆され、フォトエッチ
ング法によって金属箔1上に所望の導体パターン4が形
成される。このフォトエッチング法は通常の技術によ
る。例えば、金属箔1の表面にフォトレジスト8を塗布
し、この上に所望のパターンの描かれたマスク(フォト
マスク)等をのせ、紫外線等を照射して未感光のレジス
トを選択的に除去し残ったレジストをマスクとして金属
箔をエッチングすることができる。
Next, as shown in FIG. 1B, the front and back surfaces of the metal foil 1 are coated with a resist 8, and a desired conductor pattern 4 is formed on the metal foil 1 by a photo-etching method. This photo etching method is based on a usual technique. For example, a photoresist 8 is applied to the surface of the metal foil 1, a mask (photomask) or the like on which a desired pattern is drawn is placed thereon, and ultraviolet light or the like is irradiated to selectively remove unexposed resist. The metal foil can be etched using the remaining resist as a mask.

【0014】このようにして、同図(c)に示されるご
とく、一部に支持体7を有する導体パターン4が得られ
る。また、同図(c)では支持体7の窓部(アウターリ
ードウィンドウ、デバイスホール等)等に支持体7で支
持されない導体パターン4部分がむき出しになる。
In this way, as shown in FIG. 1C, a conductor pattern 4 partially having the support 7 is obtained. Further, in FIG. 3C, the portion of the conductor pattern 4 that is not supported by the support 7 at the window (outer lead window, device hole, etc.) of the support 7 is exposed.

【0015】さらに、同図(d)に示されるように所望
によりソルダーレジスト9を印刷により施し、また部分
的に金または錫等のメッキを行ない、配線パターンを形
成する。
Further, as shown in FIG. 1D, if necessary, a solder resist 9 is applied by printing, and plating of gold or tin is performed partially to form a wiring pattern.

【0016】このようにして得られた2層TABテープ
の一例を図6に示す。同図(a)はパターン表面(×2
倍)であり、この例ではソルダーレジストは塗布され
ず、全面が金メッキされている。また、同図(b)はパ
ターン裏面(×2倍)を示されている。
FIG. 6 shows an example of the two-layer TAB tape thus obtained. FIG. 3A shows the pattern surface (× 2).
In this example, no solder resist is applied, and the entire surface is gold-plated. FIG. 2B shows the back surface of the pattern (× 2).

【0017】このような本発明により得られた2層TA
Bテープは必要に応じて種々の処理が施されその用途に
供される。
The two-layer TA obtained according to the present invention as described above.
The B tape is subjected to various treatments as necessary, and is provided for the purpose.

【0018】[0018]

【作用】本発明の2層TABテープの製造方法の作用は
次の通りである。
The operation of the method for producing a two-layer TAB tape according to the present invention is as follows.

【0019】(1) 金属箔そのものに液状の熱硬化性
樹脂を塗布することにより、窓あき部とサポート用絶縁
部とを形成するため、パンチ加工やポリイミドエッチン
グ等の加工をしなくとも簡単に窓あき部を得ることがで
きる。
(1) Since a liquid thermosetting resin is applied to the metal foil itself to form a windowed portion and a supporting insulating portion, it can be easily performed without punching or polyimide etching. A window can be obtained.

【0020】(2) 接着剤を使用しないため、得られ
たTABテープは屈曲性(柔軟性)に優れ、かつ液状の
熱硬化性樹脂を用いるため耐熱性も高く、寸法精度も良
好である。
(2) Since no adhesive is used, the obtained TAB tape has excellent flexibility (flexibility), and since it uses a liquid thermosetting resin, it has high heat resistance and good dimensional accuracy.

【0021】(3) 金属箔に液状の熱硬化性樹脂を薄
く塗布することが可能であり、しかも金属箔として腰の
強い材料を使用すればハンドリングも容易である。
(3) Liquid thermosetting resin can be thinly applied to the metal foil, and handling is easy if a strong material is used as the metal foil.

【0022】(4)金属箔に選択性があり、引張強さや
硬度等の特性を自由に制御することが可能である。
(4) The metal foil has selectivity, and characteristics such as tensile strength and hardness can be controlled freely.

【0023】(5)金型を作る必要がなく、スクリーン
印刷のマスクのみを作成すればよいので、製造時間が短
縮され、また安価に得られる。
(5) Since there is no need to make a mold and only a screen printing mask needs to be made, the manufacturing time can be reduced and the cost can be reduced.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によって、高密度、微細な配線パ
ターンを有し、かつ電気的、機械的特性に優れ、また接
着剤層が存在せず、配線パターンの断線や短絡がない2
層TABテープが安価でしかも簡便に得られる。
According to the present invention, a high-density, fine wiring pattern, excellent electrical and mechanical properties, no adhesive layer, no disconnection or short circuit of the wiring pattern are obtained.
A layer TAB tape can be obtained at low cost and easily.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below based on embodiments.

【0026】実施例1 りん青銅箔(横15cm、縦15cm、厚さ40μm)
を用い、これを過硫酸アンモニウム溶液(60℃、20
0g/l)により8分間浸漬して表面を溶解、粗化し、
30μmまで薄くし、位置合わせ用の穴をドリルにより
4ケ所穿孔した。
Example 1 Phosphor bronze foil (width 15 cm, height 15 cm, thickness 40 μm)
Using an ammonium persulfate solution (60 ° C., 20
0 g / l) for 8 minutes to dissolve and roughen the surface.
The thickness was reduced to 30 μm, and four holes for positioning were drilled with a drill.

【0027】このりん青銅箔の裏面の所定部分にスクリ
ーン印刷により液状の熱硬化性樹脂(ポリイミドワニ
ス、FS−100、宇部興産社製)を9μmの厚さに塗
布した。ここで用いたスクリーンマスクはテトロン製の
200メッシュの版であり、乳剤の厚みは20μmとし
た。また、スクリーン印刷はシリコーンゴム製のスキー
ジにより30cm/sec程度で行なった。
A liquid thermosetting resin (polyimide varnish, FS-100, manufactured by Ube Industries) was applied to a predetermined portion on the back surface of the phosphor bronze foil by screen printing to a thickness of 9 μm. The screen mask used here was a 200 mesh plate made of Tetron, and the thickness of the emulsion was 20 μm. Screen printing was performed at about 30 cm / sec using a silicone rubber squeegee.

【0028】次に、200℃で30分間大気中でポリイ
ミドを加熱硬化し、支持体とした。さらに、酸洗(5%
硫酸)、乾燥後、25μm厚のドライフィルム(フォト
レジスト)を支持体付きのリン青銅箔の両面に100℃
でラミネートした。
Next, the polyimide was heated and cured in the air at 200 ° C. for 30 minutes to obtain a support. Further, pickling (5%
Sulfuric acid) and after drying, a 25 μm thick dry film (photoresist) was applied to both sides of a phosphor bronze foil with a support at 100 ° C.
Was laminated.

【0029】その後、露光機に入れ、パターンマスクを
のせて真空引きし30mJ/cm2で紫外線照射を行な
い、両面を露光した。インナーリードピッチは100μ
m、線幅50μm、であり、4方向に各56本のピンが
でているパターンを用いた。現像は1%炭酸ナトリウム
で50秒(30℃)行ない、次に塩化第二銅溶液でエッ
チングした。エッチングは40℃、125秒で行なっ
た。
Thereafter, the film was placed in an exposure machine, a pattern mask was placed thereon, and the inside of the chamber was evacuated to irradiate ultraviolet rays at 30 mJ / cm 2 to expose both sides. Inner lead pitch is 100μ
m, a line width of 50 μm, and a pattern having 56 pins in four directions were used. Development was carried out with 1% sodium carbonate for 50 seconds (30 ° C.), followed by etching with a cupric chloride solution. The etching was performed at 40 ° C. for 125 seconds.

【0030】ドライフィルムを剥離後、ソルダーレジス
トインクを約10μm厚にスクリーン印刷により塗布
し、110℃で60分加熱後、無電解スズメッキを0.
5μm厚に付着させて2層TABテープを製造した。
After peeling off the dry film, a solder resist ink was applied to a thickness of about 10 μm by screen printing, heated at 110 ° C. for 60 minutes, and electroless tin plated to a thickness of 0.1 μm.
A two-layer TAB tape was prepared by depositing to a thickness of 5 μm.

【0031】この結果、所望の2層TABテープを得る
ことができた。この2層TABテープでは、基板の窓部
等に導体パターンが突き出してむき出しになっている
が、パターンの破損、変形、接触等の不良の発生は全く
なかった。
As a result, a desired two-layer TAB tape was obtained. In this two-layer TAB tape, the conductor pattern protruded to the window portion of the substrate and was exposed, but no failure such as breakage, deformation, or contact of the pattern occurred.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来より用いられている窓あきプリント配線板
の一例を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a conventionally used windowed printed wiring board.

【図2】従来より用いられているTABテープの一例を
示す斜視図。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of a conventionally used TAB tape.

【図3】従来の2層TABテープの製造方法の一例を示
す工程図。
FIG. 3 is a process chart showing an example of a conventional method for manufacturing a two-layer TAB tape.

【図4】従来の2層TABテープの製造方法の他の例を
示す工程図。
FIG. 4 is a process chart showing another example of a conventional method for manufacturing a two-layer TAB tape.

【図5】本発明の2層TABテープの製造方法の一例を
示す工程図。
FIG. 5 is a process chart showing an example of a method for producing a two-layer TAB tape of the present invention.

【図6】本発明により得られた2層TABテープの一例
を示す平面図および底面図。
FIG. 6 is a plan view and a bottom view showing an example of a two-layer TAB tape obtained according to the present invention.

【符号の説明】 1 金属箔 2 絶縁基板 3 接着剤層 4 導体パターン 5 マスキング層 6 液状の熱硬化性樹脂 7 支持体 8 フォトレジスト 9 ソルダーレジスト[Description of Signs] 1 Metal foil 2 Insulating substrate 3 Adhesive layer 4 Conductor pattern 5 Masking layer 6 Liquid thermosetting resin 7 Support 8 Photo resist 9 Solder resist

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 金属箔の裏面に液状の熱硬化性樹脂を所
定の形状に塗布し、加熱硬化させ、次いで該金属箔の表
裏面をレジストで被覆し、さらに該表裏面を露光、現像
した後、エッチングすることにより導電パターンを得る
ことを特徴とする2層TABテープの製造方法。
1. A liquid thermosetting resin is applied on the back surface of a metal foil in a predetermined shape, cured by heating, and then the front and back surfaces of the metal foil are coated with a resist, and the front and back surfaces are exposed and developed. Thereafter, a conductive pattern is obtained by etching, thereby producing a two-layer TAB tape.
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