JP2884021B2 - Manufacturing method of electronic component mounting board - Google Patents

Manufacturing method of electronic component mounting board

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JP2884021B2
JP2884021B2 JP3036258A JP3625891A JP2884021B2 JP 2884021 B2 JP2884021 B2 JP 2884021B2 JP 3036258 A JP3036258 A JP 3036258A JP 3625891 A JP3625891 A JP 3625891A JP 2884021 B2 JP2884021 B2 JP 2884021B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品搭載用基板、
特にリードの両面に絶縁基材を一体化して構成される電
子部品搭載用基板の製造方法に関するものである。
The present invention relates to a substrate for mounting electronic components,
In particular, the present invention relates to a method for manufacturing an electronic component mounting substrate configured by integrating an insulating base material on both surfaces of a lead.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子部品を搭載するための基板として
は、現在までに種々な形式のものが提案されてきている
が、その中には電子部品を搭載した後、アウターリード
部を突出させた状態で全体を所謂モールド樹脂によって
封止することにより、図3に示すような所謂電子部品パ
ッケージ100つまり半導体装置を構成するようにした
ものがある。このような電子部品搭載用基板として、本
出願人は、リードフレームの両側に絶縁基材を一体的に
形成するとともに、この絶縁基材上の導体回路と各リー
ドとをスルーホールを介して電気的に接続するようにし
たものを既に提案してきている。
2. Description of the Related Art Various types of substrates for mounting electronic components have been proposed so far. Among them, after mounting electronic components, an outer lead portion is projected. In some cases, the whole is sealed with a so-called mold resin to form a so-called electronic component package 100 as shown in FIG. 3, that is, a semiconductor device. As such a substrate for mounting electronic components, the present applicant has formed an insulating base material integrally on both sides of a lead frame, and electrically connected a conductor circuit on the insulating base material and each lead through through holes. We have already proposed something that would be connected to the network.

【0003】このようなタイプの電子部品搭載用基板を
製造するためには、リードの両面に絶縁基材を一体化し
なければならないのであるが、リードは金属であり、絶
縁基材は通常合成樹脂をプリプレグ化したものを採用し
ているので、そのままでは両者の密着を確実かつ耐久性
のあるものとすることは困難である。そこで、従来は、
絶縁基材を一体化する前のリード側に酸化銅すなわち黒
化処理膜を形成することが行われていて、このリード側
の黒化処理膜を絶縁基材の所謂アンカーとしていたので
ある。そして、このアンカーとなる黒化処理膜を均一に
形成するためには、現在の有効な技術では純銅が不可欠
なものとなっているのであり、特に純銅によって形成さ
れていない金属板(リードフレームとなるもの)に対し
て銅メッキを施すことは必要な作業である。
In order to manufacture such a type of electronic component mounting board, an insulating base material must be integrated on both sides of the lead. The lead is made of metal and the insulating base material is usually made of synthetic resin. Since the prepreg is used, it is difficult to ensure the close contact between the two and to ensure durability in this state. So, conventionally,
Copper oxide, that is, a blackening film is formed on the lead side before the insulating base is integrated, and the blackening film on the lead side is used as a so-called anchor of the insulating base. In order to uniformly form the blackening treatment film serving as the anchor, pure copper is indispensable with the current effective technology. In particular, a metal plate not formed of pure copper (such as a lead frame and a lead frame) is used. Copper plating is a necessary operation.

【0004】以上の黒化処理膜を利用して、絶縁基材の
密着を行う従来の電子部品搭載用基板の製造方法は、次
のようにして行われていた。すなわち、まず金属板から
多数のリードが接続された状態のリードフレームを形成
し、このリードフレームの表面にメッキのバラツキを含
めた5μm以上の、即ち厚さ平均10μm程度の銅メッ
キ層を形成する。この銅メッキ層上に黒化処理膜を形成
するには、この銅メッキ層に対して脱脂及びソフトエッ
チングを前処理として施して黒化処理に移行するのであ
る。その後、完成された黒化処理膜をアンカーとして絶
縁基材を積層し、絶縁基材上に導体回路を形成して導体
回路と各リードをスルーホール接続した後、余剰の絶縁
基材を除去して各アウターリード部を露出させ、このア
ウターリード部上の黒化処理膜及びCuメッキ層をエッ
チングにより除去するようにしていたのである。
A conventional method of manufacturing a substrate for mounting an electronic component in which an insulating base material is adhered using the above-described blackening treatment film has been performed as follows. That is, first, a lead frame with a large number of leads connected thereto is formed from a metal plate, and a copper plating layer having a thickness of 5 μm or more including plating variations, that is, an average thickness of about 10 μm is formed on the surface of the lead frame. . In order to form a blackening film on the copper plating layer, degreasing and soft etching are performed as a pretreatment on the copper plating layer, and the process proceeds to a blackening process. After that, an insulating base material is laminated with the completed blackening treatment film as an anchor, a conductive circuit is formed on the insulating base material, and the conductive circuit and each lead are connected through holes. Thus, each outer lead portion is exposed, and the blackened film and the Cu plating layer on the outer lead portion are removed by etching.

【0005】以上のような電子部品搭載用基板の従来の
製造方法においては、次のような改良しなければならな
い点が本発明者等の検討によって見出されたのである。
In the above-described conventional method of manufacturing a substrate for mounting electronic components, the following points have to be improved by the present inventors.

【0006】アウターリード部においては、黒化処理
膜及びCuメッキ層の除去のためのエッチングにより、
部分的に規定の大きさより小さくなっていることが知見
された。これは、リードフレーム上の厚さ平均10μm
のCuメッキ層を完全に除去する必要があるからであ
る。つまり、Cuメッキ層とリードフレーム材ではその
結晶構造の違いから、表面の外観が全く異なり、両者が
混在する状態では良品とならないため、厚さ10μmの
Cuメッキ層を完全に除去し、リードフレーム材を完全
に露出する必要が出てくるのである。
In the outer lead portion, etching for removing the blackened film and the Cu plating layer is performed.
It was found that the size was partially smaller than the specified size. This is an average thickness of 10 μm on the lead frame.
This is because it is necessary to completely remove the Cu plating layer. That is, the appearance of the surface is completely different between the Cu plating layer and the lead frame material due to the difference in the crystal structure, and it is not a good product when both are mixed. Therefore, the Cu plating layer having a thickness of 10 μm is completely removed. It is necessary to completely expose the timber.

【0007】ここで、Cuメッキ厚さが平均10μmの
メッキをつけた場合、そのバラツキから厚い部分ではさ
らに厚くなり、その厚みは20μmに達する部分も出て
くるのである。
Here, when the Cu plating is applied with an average thickness of 10 μm, the thickness of the thick portion is further increased due to the variation, and the thickness reaches 20 μm.

【0008】この20μmの厚みのメッキを完全にエッ
チングするには、エッチングスピードのバラツキも加わ
り、始めからメッキの薄かった部分、あるいはエッチン
グスピードの速い部分などは元のリードフレーム材の部
分もかなりエッチングされてしまい規定の大きさよりも
小さくなってしまうのである。
In order to completely etch the plating having a thickness of 20 μm, a variation in etching speed is added. In a portion where plating is thin from the beginning or a portion where etching speed is high, a portion of the original lead frame material is considerably etched. It will be smaller than the specified size.

【0009】黒化処理膜を均一に形成するための銅メ
ッキ及びその黒化処理、そしてこの黒化処理膜及びCu
メッキの除去にそれぞれ相当時間がかかっており、全体
として電子部品搭載用基板の製造時間それ自体が長くな
っている。これは、そもそも銅メッキを10μmもかけ
なければならないことに原因していると考えられるが、
この銅メッキを10μmもかけなければならないのは、
これに対する黒化処理のためのソフトエッチングを必要
としているからである。つまり、10μmの銅メッキを
形成したリードフレームを黒化処理に移行するまでの間
に、保管や設備間での移動等の各種作業を行うために、
銅メッキ表面が酸化されたり汚れたりするから、これら
を除去するために脱脂やソフトエッチングを行わなけれ
ばならないのであり、これに耐えるものとして、銅メッ
キの厚さを10μm程度のものとしなければならないの
である。これが、電子部品搭載用基板を製造する全体の
時間を増大させている最大の原因と考えられる。
[0009] Copper plating for uniformly forming a blackening treatment film and its blackening treatment, and the blackening treatment film and Cu
It takes a considerable amount of time to remove the plating, and the manufacturing time itself of the electronic component mounting substrate itself becomes longer as a whole. This is thought to be due to the fact that copper plating must be applied as much as 10 μm in the first place,
The reason why this copper plating must be applied as much as 10 μm is
This is because soft etching for blackening is required. In other words, in order to perform various operations such as storage and movement between facilities before the lead frame on which the 10 μm copper plating is formed is shifted to the blackening process,
Since the copper plating surface is oxidized and stained, degreasing and soft etching must be performed to remove these, and the copper plating thickness must be about 10 μm to withstand this. It is. This is considered to be the biggest cause of increasing the entire time for manufacturing the electronic component mounting board.

【0010】電子部品搭載用基板は、金属板や絶縁基
材等の材料として大きなものを使用して製造することに
より、所謂多数個取りを行うようにしているのである
が、この多数個取りを行うための前述した製造工程は省
略部分がない。すなわち、絶縁基材とこれを密着させる
ための黒化処理を、それぞれ各電子部品搭載用基板とな
る部分のもののみを用意すればよいようであるが、その
ようにすることは全て個別に行うことになり工程が増加
することとなって、結局多数個取りする意味がなくなっ
てしまうのであり、一連のリードフレームに大きな絶縁
基材を一体化して各電子部品搭載用基板を同時に形成す
る方が効率が良いことになるのである。
The electronic component mounting board is manufactured by using a large material such as a metal plate or an insulating base material, so that a so-called multi-piece manufacturing is performed. The above-described manufacturing steps for performing the steps are not omitted. In other words, it seems that the blackening treatment for bringing the insulating base material into close contact with the insulating base material may be prepared only for those parts which become the respective electronic component mounting substrates, but all such steps are performed individually. As a result, the number of processes increases, which eventually makes it unnecessary to take a large number of pieces.Therefore, it is better to integrate a large insulating base material into a series of lead frames and form each electronic component mounting board at the same time. Efficiency will be good.

【0011】そこで、本発明者等は、この電子部品搭載
用基板の製造工程を工夫することにより、その多数個取
り製造を確実にしながら時間短縮を行うにはどうしたら
よいかについて種々検討を重ねてきた結果、本発明を完
成したのである。
Therefore, the present inventors have made various studies on how to reduce the time while ensuring the production of multiple pieces by devising the manufacturing process of the electronic component mounting board. As a result, the present invention has been completed.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は以上の経緯に
基づいてなされたもので、その解決しようとする課題
は、リードの両面に絶縁基材を一体化して構成するタイ
プの電子部品搭載用基板を製造する場合の製造時間の短
縮である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made on the basis of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an electronic component mounting type of a type in which an insulating substrate is integrally formed on both sides of a lead. This is a reduction in manufacturing time when manufacturing a substrate.

【0013】そして、本発明の目的とするところは、各
リードに対する各絶縁基材の密着が十分であり、かつ絶
縁基材から露出している各リードフレーム部が細ること
はなくて良好な電気的接続の信頼性が高く、しかも全体
としての製造時間の短縮を図ることのできる、電子部品
搭載用基板を多数個取りする製造方法を提供することに
ある。
An object of the present invention is to provide a good electrical connection because each of the insulating base materials is sufficiently adhered to each of the leads, and each of the lead frame portions exposed from the insulating base material is not thinned. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a large number of electronic component mounting substrates, which has high reliability of electrical connection and can shorten the overall manufacturing time.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段及び作用】以上のような課
題を解決するために、本発明の採った手段は、実施例に
おいて使用する符号を付して説明すると、「多数のリー
ド11の両面に絶縁基材15を一体的に形成するととも
に、この絶縁基材15上の導体回路16と各リード11
とをスルーホール17によって電気的に接続して、各リ
ード11のアウターリード部11aを外方に突出させた
電子部品搭載用基板10を次の各工程を経て製造する方
法。 イ)金属板を所定形状にエッチングまたはパンチングす
ることにより、多数のリード11を有するリードフレー
ム12を形成する工程; ロ)前処理として、厚さ1〜2μmの銅メッキ13をリ
ードフレーム12の表面に施した直後、この銅メッキ1
3に対して黒化処理を施す工程; ハ)このリードフレーム12の両面に対して絶縁基材1
5を一体化してから、この絶縁基材15上に導体回路1
6を形成するとともに、前記各スルーホール17による
電気的接続を行う工程; ニ)各絶縁基材15の、各アウターリード部11aとな
る部分を覆っている箇所を除去した後、露出した各アウ
ターリード部11a表面の黒化処理膜14を除去する工
程」である。
Means for Solving the Problems and Actions In order to solve the above problems, the means adopted by the present invention will be described with reference to the reference numerals used in the embodiments. An insulating substrate 15 is formed integrally with the conductive circuit 16 and each lead 11 on the insulating substrate 15.
Are electrically connected to each other by through holes 17, and the electronic component mounting board 10 in which the outer lead portions 11a of the respective leads 11 project outward is manufactured through the following steps. A) A step of forming a lead frame 12 having a large number of leads 11 by etching or punching a metal plate into a predetermined shape; b) As a pretreatment, a copper plating 13 having a thickness of 1 to 2 μm is formed on the surface of the lead frame 12. Immediately after being applied to
3) a step of subjecting the lead frame 12 to a blackening treatment;
5 are integrated, and the conductive circuit 1
6) forming an electrical connection by means of the through holes 17; d) removing the portions of the insulating base material 15 covering the portions to be the outer lead portions 11a, and then exposing the outer portions. Step of removing the blackening film 14 on the surface of the lead portion 11a ”.

【0015】なお、ここで述べているリードフレーム1
2は、各電子部品搭載用基板10を構成している多数の
リード11が一体化されたものを更に多数連続させたも
のを言うものであり、これと区別して各電子部品搭載用
基板10毎のリードフレームを指す場合は、「個別のリ
ードフレーム12」と表現することにする。
The lead frame 1 described here
Reference numeral 2 denotes a structure in which a large number of leads 11 constituting each electronic component mounting board 10 are integrated and further connected to each other. Are referred to as “individual lead frames 12”.

【0016】本発明に係る製造方法は、基本的には、図
2において示すようにしながら電子部品搭載用基板10
を多数個取りするものであるが、そのためには、まず
イ)金属板を所定形状にエッチングまたはパンチングす
ることにより、多数のリード11を有するリードフレー
ム12を形成する必要がある。つまり、この場合のリー
ドフレーム12としては、前述したように、図1の
(a)にて示すような一個の電子部品搭載用基板10に
対応するような個別のもの多数を、図2に示すような連
続したものとして一枚の金属板から形成する必要がある
のである。これにより、電子部品搭載用基板10を多数
個取りするためのベースができ上がるのであるが、この
リードフレーム12においては、まず一個の電子部品搭
載用基板10を構成するための個別のリードフレーム1
2が図2にも示すように形成されるのであり、かつこの
個別のリードフレーム12が複数連なった平面的なもの
となるのである。従って、このリードフレーム12の両
面に後述の絶縁基材15が一体化し易くなっているので
ある。
The manufacturing method according to the present invention is basically performed as shown in FIG.
For this purpose, it is necessary to first form a lead frame 12 having a large number of leads 11 by etching or punching a metal plate into a predetermined shape. In other words, as described above, many individual lead frames 12 corresponding to one electronic component mounting substrate 10 as shown in FIG. 1A are shown in FIG. It is necessary to form such a continuous one from a single metal plate. As a result, a base for obtaining a large number of electronic component mounting boards 10 is completed. In this lead frame 12, first, an individual lead frame 1 for forming one electronic component mounting board 10 is formed.
2 is formed as shown in FIG. 2, and a plurality of individual lead frames 12 are formed in a plane. Therefore, the insulating base material 15 described later is easily integrated with both surfaces of the lead frame 12.

【0017】以上のようにしたリードフレーム12は、
後述の黒化処理をするまでの間、そのままの状態で保管
され、あるいは運搬されるのであり、黒化処理の直前ま
では何等の加工もしないのである。そして、黒化処理を
するための準備が整えば、図1の(b)及び(c)にて
示すように、ロ)前処理として、厚さ1〜2μmの銅メ
ッキ13をリードフレーム12の表面に施した直後、こ
の銅メッキ13に対して黒化処理を施すのである。ここ
で重要なことは、銅メッキ13は、あくまでも黒化処理
膜14を形成する所謂前処理として形成されるものであ
ることであり、この銅メッキ13が形成された直後にこ
の銅メッキ13上に黒化処理を施してこれを黒化処理膜
14とすることである。
The lead frame 12 as described above is
It is stored or transported as it is until the blackening process described below is performed, and no processing is performed immediately before the blackening process. Then, when the preparation for the blackening process is completed, as shown in FIGS. 1B and 1C, b) As a pretreatment, a copper plating 13 having a thickness of 1 to 2 μm is formed on the lead frame 12. Immediately after being applied to the surface, the copper plating 13 is subjected to a blackening treatment. What is important here is that the copper plating 13 is formed only as a so-called pre-treatment for forming the blackening film 14, and the copper plating 13 is formed immediately after the copper plating 13 is formed. Is subjected to a blackening process to form a blackened film 14.

【0018】従って、この黒化処理の前処理としての銅
メッキ13は、1〜2μm程度のもので十分となってい
るのである。これを従来の製造方法と比較してみると次
の通りである。すなわち、従来の製造方法にあっては、
リードフレーム12の表面に均一な黒化処理膜14を形
成するための純銅である銅メッキ13をメッキしたので
あるが、この銅メッキ13は黒化処理するまでに酸化等
により汚れてしまうため、黒化処理の直前でソフトエッ
チングにより酸化等の汚れを除去してやる必要があっ
た。そのソフトエッチングで銅メッキ13がなくなって
しまわないように平均10μmの厚さの銅メッキが必要
であったのである。本発明の製造方法においては、黒化
処理の直前に銅メッキ13を形成するのであるから、銅
メッキ13は酸化等により汚れることはなく、また黒化
処理膜14として必要最小限の銅メッキ13の厚さを1
〜2μm程度のものとしても十分となっているのであ
る。
Therefore, about 1 to 2 μm of the copper plating 13 as a pretreatment for the blackening treatment is sufficient. This is as follows when compared with the conventional manufacturing method. That is, in the conventional manufacturing method,
Although copper plating 13 which is pure copper for forming a uniform blackening film 14 on the surface of the lead frame 12 was plated, the copper plating 13 becomes dirty by oxidation or the like before the blackening treatment. Immediately before the blackening treatment, it was necessary to remove stains such as oxidation by soft etching. Copper plating with an average thickness of 10 μm was required so that the copper plating 13 would not be lost by the soft etching. In the manufacturing method of the present invention, since the copper plating 13 is formed immediately before the blackening treatment, the copper plating 13 does not become stained by oxidation or the like, and the copper plating 13 which is the minimum necessary for the blackening treatment film 14 is formed. The thickness of 1
A thickness of about 2 μm is sufficient.

【0019】次いで、図2にも示したように、ハ)この
リードフレーム12の両面に対して絶縁基材15を一体
化してから、この絶縁基材15上に導体回路16を形成
するとともに、前記各スルーホール17による電気的接
続を行うのである。これは、多数の電子部品搭載用基板
10を個別に取り出したときに、それぞれが独立してそ
の作用をするようにするための工程であるが、導体回路
16の形成等は複数の電子部品搭載用基板10を同時に
形成するような、現在一般に採用されている方法で形成
すればよいものであり、従来設備をそのまま使用して行
えばよい。このハ)の工程において、図1の(d)にて
も示すように、各絶縁基材15は黒化処理膜14を介し
て各リード11に一体化されるのであるから、その各リ
ード11に対する密着は強固になされているのであり、
電子部品搭載用基板10として完成したときの耐久性を
十分なものとしているのである。
Next, as shown in FIG. 2, c) an insulating base material 15 is integrated on both sides of the lead frame 12, and a conductor circuit 16 is formed on the insulating base material 15, The electrical connection by the through holes 17 is performed. This is a process in which when a large number of electronic component mounting boards 10 are individually taken out, each of them operates independently. The substrate may be formed by a method generally used at present, such as forming the substrate 10 at the same time, and may be performed using conventional equipment as it is. In the step (c), as shown in FIG. 1D, since each insulating base material 15 is integrated with each lead 11 via the blackening film 14, the respective lead 11 The adherence to is made firmly,
The durability when completed as the electronic component mounting substrate 10 is sufficient.

【0020】最後に、ニ)各絶縁基材15の、各アウタ
ーリード部11aとなる部分を覆っている箇所を除去し
た後、露出した各アウターリード部11a表面の黒化処
理膜14及びCuメッキ層を除去し、リードフレーム材
を完全に露出させるとともに、各アウターリード部11
aをリードフレーム12から電子部品搭載用基板10毎
に切り離すことにより、個別に独立した電子部品搭載用
基板10を多数個取りするのである。この場合、各絶縁
基材15の不要部分となる箇所とリードフレーム12と
の間には、その剥離を容易にするための離型紙のような
シート材を介在させて、リードフレーム12に対する両
絶縁基材15の一体化がなされるものである。
Finally, d) after removing the portion of each insulating base material 15 which covers each of the outer lead portions 11a, the blackened film 14 and the Cu plating on the exposed surface of each outer lead portion 11a are removed. The layer is removed to completely expose the lead frame material, and each outer lead 11
By separating a from the lead frame 12 for each electronic component mounting substrate 10, a large number of individually independent electronic component mounting substrates 10 are obtained. In this case, a sheet material such as release paper for facilitating the separation is interposed between an unnecessary portion of each insulating base material 15 and the lead frame 12, and both insulating materials for the lead frame 12 are separated. The base material 15 is integrated.

【0021】このニ)の工程において、不要な絶縁基材
15を除去した後の各アウターリード部11aの表面か
ら黒化処理膜14とCuメッキ層を除去するのである
が、この黒化処理膜14とCuメッキ層の除去について
は、もともとのその厚さが1〜2μmの銅メッキ13上
に形成したものであるから、その作業は非常に容易なも
のとなっている。この「容易」については、黒化処理膜
14自体の厚さが薄いものであることから、これをエッ
チングによる除去を行う場合の作業時間を短縮するとい
う意味と、薄いものであるから、例えば酸処理のような
簡便な処理でも十分対応し得るものであるという意味と
を含むものである。従って、エッチングあるいは酸処理
のような簡便な処理のいずれを行なうにしろ、各アウタ
ーリード部11aの表面の黒化処理膜14とCuメッキ
層を除去し、リードフレーム材を完全に露出させること
によっては各アウターリード部11aの細りも殆ど生じ
ないものである。
In the step d), the blackened film 14 and the Cu plating layer are removed from the surface of each outer lead portion 11a after the unnecessary insulating base material 15 is removed. The removal of the Cu plating layer 14 and the Cu plating layer is very easy because the original thickness was formed on the copper plating 13 having a thickness of 1 to 2 μm. The term “easy” means that the thickness of the blackening film 14 itself is thin, which means that the work time for removing the film by etching is shortened. This means that simple processing such as processing can sufficiently cope with the processing. Therefore, irrespective of the simple processing such as etching or acid treatment, the blackened film 14 and the Cu plating layer on the surface of each outer lead portion 11a are removed to completely expose the lead frame material. Is such that the outer lead portions 11a hardly become thin.

【0022】以上のような本発明に係る製造方法によれ
ば、各電子部品搭載用基板10を完成させるまでの時間
が非常に短縮されているのである。つまり、従来の方法
であればリードフレームの全表面に銅メッキを5〜10
倍の厚さにしなければならず、それだけでも時間のかか
る作業であるだけでなく、この言わば厚い銅メッキの黒
化処理の前処理としてのソフトエッチングを必要とし、
かつ厚い銅メッキの黒化処理及びその除去のいずれも時
間がかかっていたのである。これに対して、本発明にお
いては、銅メッキ13の厚さが従来のそれに比して1/
5〜1/10程度のものにし得るのであるから、それ自
体の形成の時間短縮が図られているだけでなく、この銅
メッキ13自体が黒化処理の前処理であることから従来
では行っていた黒化処理の前処理であるソフトエッチン
グが不要となっており、しかもこの銅メッキ13から黒
化処理膜14とするための時間、及びこの黒化処理膜1
4の除去のための時間も短縮化されているのである。本
発明者等の実際の作業によると、同様な電子部品搭載用
基板10を製造するのに、従来の方法では約40〜60
時間かかっていたものが、本発明の方法によれば約30
〜40時間であって、その製造時間は相当短縮されたの
である。
According to the manufacturing method of the present invention as described above, the time required to complete each electronic component mounting substrate 10 is greatly reduced. That is, if the conventional method is used, copper plating is applied to the entire surface of the lead frame for 5 to 10 days.
The thickness must be doubled, which is not only a time-consuming operation, but also requires soft etching as a pretreatment for the so-called thick copper plating blackening process,
In addition, both the blackening treatment of the thick copper plating and its removal took time. On the other hand, in the present invention, the thickness of the copper plating 13 is 1 / compared to the conventional one.
Since the thickness can be reduced to about 5/10, not only the time for forming the copper plating itself is shortened, but also since the copper plating 13 itself is a pretreatment for the blackening treatment, it is conventionally performed. This eliminates the need for soft etching, which is a pre-treatment of the blackening treatment, and furthermore, the time required for converting the copper plating 13 to the blackening treatment film 14 and the time required for the blackening treatment film 1
The time for removing 4 is also reduced. According to the actual work of the present inventors, the conventional method for manufacturing the electronic component mounting board 10 requires about 40 to 60
What took a long time, according to the method of the present invention, was about 30 minutes.
4040 hours, the production time of which was considerably reduced.

【0023】[0023]

【実施例】以下に、本発明の製造方法を、実施例に従っ
て具体的に説明する。
EXAMPLES The production method of the present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0024】まず、多数のリード11を連結したリード
フレーム12を形成するために、厚さ150μmのCu
系リードフレーム材を用意し、これに所定のエッチング
レジストを付与した後、エッチング処理をすることによ
り、必要なリードフレーム12を得た。なお、現在のよ
うに、各種作業が分業化されている状態にあっては、こ
のようなリードフレーム12を当該電子部品搭載用基板
10の製造業者に対する納入業者が製造し、電子部品搭
載用基板10の製造業者側においてこのリードフレーム
12に対して電子部品搭載用基板10とするための加工
作業をする方が効率的であるため、本実施例においても
このようにして納入されたものを採用した。勿論、この
段階のリードフレーム12においては、これを構成して
いる材料(Cu系リードフレーム材)がそのまま露出し
た状態にあるのであり、その表面には銅メッキ13は未
だ形成されていないものである。
First, in order to form a lead frame 12 in which a large number of leads 11 are connected, a 150 μm-thick Cu
A required lead frame 12 was obtained by preparing a system lead frame material, applying a predetermined etching resist thereto, and performing an etching process. Note that, as in the present case, in a state where various tasks are separated, a supplier to the manufacturer of the electronic component mounting board 10 manufactures such a lead frame 12, and the electronic component mounting board 10 is manufactured. Since it is more efficient for the manufacturer of the 10 to process the lead frame 12 into the electronic component mounting board 10, the one delivered in this manner is also used in this embodiment. did. Of course, in the lead frame 12 at this stage, the material (Cu-based lead frame material) constituting the lead frame 12 is exposed as it is, and the copper plating 13 is not yet formed on the surface thereof. is there.

【0025】以上のようなリードフレーム12に対し
て、黒化処理膜14を形成する前処理として、所定の脱
脂等を行ってから銅メッキ13を全表面に形成した。銅
メッキ13は、無電解メッキによっても電解メッキによ
ってもよいが、本実施例においては電解メッキによって
形成したものであり、その厚さは約1μmであった。こ
のように銅メッキ13を形成したリードフレーム12
は、次工程において直ちに黒化処理が施され、これによ
り各リード11の表面に、図1の(c)にて示したよう
に、黒化処理膜14を形成したのである。なお、この黒
化処理そのものは通常一般に行われている方法を採用し
たものである。
As a pretreatment for forming the blackening film 14 on the above-described lead frame 12, a predetermined degreasing or the like was performed, and then copper plating 13 was formed on the entire surface. The copper plating 13 may be formed by electroless plating or electroless plating, but is formed by electrolytic plating in the present embodiment, and has a thickness of about 1 μm. The lead frame 12 thus formed with the copper plating 13
In the next step, a blackening process was immediately performed in the next step, whereby a blackening film 14 was formed on the surface of each lead 11 as shown in FIG. Note that the blackening process itself employs a generally-used method.

【0026】次に、各リード11のアウターリード部1
1aに対応する部分に離型シートを配置して、図2にて
示したように、プリプレグ化した絶縁基材15を熱圧着
した。その後、この絶縁基材15に対して導体回路16
やスルーホール17の形成を行って、不要な部分の絶縁
基材15を除去した。この絶縁基材15の除去は、まず
各電子部品搭載用基板10を構成するに必要な絶縁基材
15の周囲をレーザー光によって切れ目を入れてから、
不要な絶縁基材15を予め配置しておいた離型シートの
離型作用を利用して剥離することにより行った。
Next, the outer lead portion 1 of each lead 11
A release sheet was disposed at a portion corresponding to 1a, and the prepreg-formed insulating base material 15 was thermocompression-bonded as shown in FIG. After that, the conductor circuit 16
Then, an unnecessary portion of the insulating base material 15 was removed by forming a through hole 17. The removal of the insulating base material 15 is performed by first forming a cut around the insulating base material 15 necessary for forming each electronic component mounting substrate 10 by using a laser beam.
This was performed by peeling off unnecessary insulating base material 15 by utilizing the releasing action of the release sheet placed in advance.

【0027】以上のようにすることにより、各リード1
1のアウターリード部11aがその表面に黒化処理膜1
4を残した状態で露出するから、この黒化処理膜14と
Cuメッキ層をエッチングによって除去することによ
り、リードフレーム12を構成していたもともとの材
料、すなわち本実施例においてはCu系リードフレーム
材を露出させた。このように、本実施例においては、リ
ードフレーム12の材料としてCu系リードフレーム材
を使用しているが、エッチングによりCuメッキを全て
除去しても、リードの幅はほとんど減少することなく、
規格どうりの製品をつくることができた。
As described above, each lead 1
The outer lead portion 11a has a blackened film 1 on its surface.
4, the blackened film 14 and the Cu plating layer are removed by etching, so that the original material constituting the lead frame 12, that is, the Cu-based lead frame in this embodiment is removed. The material was exposed. As described above, in the present embodiment, the Cu-based lead frame material is used as the material of the lead frame 12, but even if all of the Cu plating is removed by etching, the width of the lead hardly decreases,
We were able to make products that meet the specifications.

【0028】その後、各アウターリード部11aをリー
ドフレーム12から切り離すことにより、個別の電子部
品搭載用基板10を多数個取りした。これら各電子部品
搭載用基板10に対しては、図3に示したように、必要
な電子部品20を搭載してこれと絶縁基材15上の各導
体回路16とをボンディングワイヤ21によって接続し
てから、その全体を封止樹脂30により封止をトランス
ファーモールド型等によって行うことにより、封止樹脂
30から各アウターリード部11aが露出した電子部品
パッケージ100が形成されるのである。
Thereafter, a large number of individual electronic component mounting substrates 10 were obtained by separating each outer lead portion 11a from the lead frame 12. As shown in FIG. 3, necessary electronic components 20 are mounted on these electronic component mounting boards 10, and the respective electronic circuits 20 are connected to the respective conductor circuits 16 on the insulating base material 15 by bonding wires 21. Thereafter, the whole is sealed with the sealing resin 30 by a transfer mold type or the like, whereby the electronic component package 100 in which the outer lead portions 11a are exposed from the sealing resin 30 is formed.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明においては、
各リード11の表面に形成すべき黒化処理膜14の前処
理として銅メッキ13を形成し、その後直ちにこの銅メ
ッキ13に対して黒化処理を施すようにしたことにその
特徴があり、これにより、各リードに対する各絶縁基材
の密着が十分であり、かつ絶縁基材から露出している各
リードフレーム部が細ることはなくて良好な電気的接続
の信頼性が高く、しかも全体としての製造時間の短縮を
図ることのできる、電子部品搭載用基板を多数個取りす
る製造方法を提供することができるのである。
As described in detail above, in the present invention,
The feature is that a copper plating 13 is formed as a pretreatment of a blackening film 14 to be formed on the surface of each lead 11, and immediately thereafter, the copper plating 13 is blackened. Therefore, the adhesion of each insulating base material to each lead is sufficient, and each lead frame portion exposed from the insulating base material does not become thin, and the reliability of good electrical connection is high. Thus, it is possible to provide a manufacturing method capable of shortening the manufacturing time and obtaining a large number of electronic component mounting substrates.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る製造方法を段階を追って示すリー
ドフレーム及びリードの部分拡大断面図である。
FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view of a lead frame and leads showing a manufacturing method according to the present invention step by step.

【図2】リードフレームの両面に対して絶縁基材を一体
化している状態を示す部分斜視図である。
FIG. 2 is a partial perspective view showing a state where an insulating base material is integrated with both surfaces of a lead frame.

【図3】電子部品搭載用基板を使用して構成される電子
部品パッケージの断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an electronic component package configured using an electronic component mounting board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 電子部品搭載用基板 11 リード 11a アウターリード部 12 リードフレーム 13 銅メッキ 14 黒化処理膜 15 絶縁基材 20 電子部品 30 封止樹脂 100 電子部品パッケージ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electronic component mounting board 11 Lead 11a Outer lead part 12 Lead frame 13 Copper plating 14 Blackening film 15 Insulating base material 20 Electronic component 30 Sealing resin 100 Electronic component package

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−171750(JP,A) 特開 平4−196261(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/12 - 23/14 H01L 23/50 Continuation of the front page (56) References JP-A-4-171750 (JP, A) JP-A-4-196261 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 23 / 12-23/14 H01L 23/50

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 多数のリードの両面に絶縁基材を一体的
に形成するとともに、この絶縁基材上の導体回路と前記
各リードとをスルーホールによって電気的に接続して、
前記各リードのアウターリード部を外方に突出させた電
子部品搭載用基板を次の各工程を経て製造する方法。 イ)金属板を所定形状にエッチングまたはパンチングす
ることにより、前記多数のリードを有するリードフレー
ムを形成する工程; ロ)前処理として、厚さ1〜2μmの銅メッキを前記リ
ードフレームの表面に施した直後、この銅メッキに対し
て黒化処理を施す工程; ハ)このリードフレームの両面に対して前記絶縁基材を
一体化してから、この絶縁基材上に前記導体回路を形成
するとともに、前記各スルーホールによる電気的接続を
行う工程; ニ)前記各絶縁基材の、前記各アウターリード部となる
部分を覆っている箇所を除去した後、露出した各アウタ
ーリード部表面の前記黒化処理膜を除去する工程。
1. An insulating base material is integrally formed on both surfaces of a large number of leads, and a conductor circuit on the insulating base material and each of the leads are electrically connected by through holes.
A method of manufacturing an electronic component mounting board in which outer leads of the respective leads are projected outward through the following steps. A) a step of forming a lead frame having a large number of leads by etching or punching a metal plate into a predetermined shape; b) applying a copper plating having a thickness of 1 to 2 μm to the surface of the lead frame as a pretreatment. Immediately after this, a step of subjecting the copper plating to a blackening treatment; c) integrating the insulating base material on both sides of the lead frame, forming the conductor circuit on the insulating base material, Making the electrical connection by the through holes; d) removing the portions of the insulating bases that cover the portions to become the outer lead portions, and then blackening the exposed outer lead portion surfaces. A step of removing the processing film;
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