JP2876500B2 - エアーマウントシステム - Google Patents
エアーマウントシステムInfo
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- JP2876500B2 JP2876500B2 JP31748591A JP31748591A JP2876500B2 JP 2876500 B2 JP2876500 B2 JP 2876500B2 JP 31748591 A JP31748591 A JP 31748591A JP 31748591 A JP31748591 A JP 31748591A JP 2876500 B2 JP2876500 B2 JP 2876500B2
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- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエアーマウントシステム
に関する。更に詳細には、本発明は横揺れが大幅に軽減
されたベースを有するエアーマウントシステムおよび該
システムからなる表面検査装置に関する。
に関する。更に詳細には、本発明は横揺れが大幅に軽減
されたベースを有するエアーマウントシステムおよび該
システムからなる表面検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】印刷回路のパターン、半導体用ウエハ、
ホトマスク、磁気ディスクなど、精密加工表面の微細欠
陥（例えば、異物、パターンの断線、ショート、突起、
欠け、その他の傷及びピンホール等）の外観検査はこれ
まで目視検査に頼ってきたが、検査員の確保及び訓練を
要する上、検査結果も安定した基準が得られにくいとい
う問題がある。また、最近のパターンの高密度化および
／または電子技術の高細密化（高集積化）に伴い、品質
に対する要求は益々厳しくなってきている。特に、半導
体製造プロセスにおける異物管理は重要で、非常に厳し
い管理が要求されている。
ホトマスク、磁気ディスクなど、精密加工表面の微細欠
陥（例えば、異物、パターンの断線、ショート、突起、
欠け、その他の傷及びピンホール等）の外観検査はこれ
まで目視検査に頼ってきたが、検査員の確保及び訓練を
要する上、検査結果も安定した基準が得られにくいとい
う問題がある。また、最近のパターンの高密度化および
／または電子技術の高細密化（高集積化）に伴い、品質
に対する要求は益々厳しくなってきている。特に、半導
体製造プロセスにおける異物管理は重要で、非常に厳し
い管理が要求されている。
【０００３】この問題点を解決するため、従来の目視検
査に代わって、レーザ光により表面検査を自動的に行う
装置が使用されている。このような光学式表面検査装置
は精密な構成体であり、振動が厳禁されている。このた
め、装置全体を防振架台例えば、エアーマウントシステ
ム上に載置して使用される。
査に代わって、レーザ光により表面検査を自動的に行う
装置が使用されている。このような光学式表面検査装置
は精密な構成体であり、振動が厳禁されている。このた
め、装置全体を防振架台例えば、エアーマウントシステ
ム上に載置して使用される。
【０００４】図６はこのようなエアーマウントシステム
の一例を示す部分切り欠き概要斜視図である。図７は空
気バネの取付状況を示す部分拡大断面図である。エアー
マウントシステム１０は方形のフレーム３に４個の空気
バネ５を介してベース盤４を取着して構成され、ベース
盤の上に載置された光学式表面検査装置を防振して支持
するものである。エアーマウントシステムの構造を詳細
に説明すれば、各空気バネはフレームを構成する角パイ
プ３２の上面に設けられた固定板３１に、固定ボルト３
３を用いて固定され、フレームの４隅の取付孔４１の４
箇所に配置されて固定ボルト４３により頭部がベース盤
に固定される。ベース盤４は鋳物または大理石製で、下
面に補強用のリブが平行に設けられ、各空気バネはこの
リブの間に介在している。図８は空気バネの斜視図であ
り、その底板５１には対称的な４方向に取付部５２が、
また、頭部にはボルト孔５３がそれぞれ設けてある。こ
こで、ベース盤の防振作用について説明すると、ベース
盤は鋳物または大理石製として重量を重くし、空気バネ
を併用して防振効果を挙げている。
の一例を示す部分切り欠き概要斜視図である。図７は空
気バネの取付状況を示す部分拡大断面図である。エアー
マウントシステム１０は方形のフレーム３に４個の空気
バネ５を介してベース盤４を取着して構成され、ベース
盤の上に載置された光学式表面検査装置を防振して支持
するものである。エアーマウントシステムの構造を詳細
に説明すれば、各空気バネはフレームを構成する角パイ
プ３２の上面に設けられた固定板３１に、固定ボルト３
３を用いて固定され、フレームの４隅の取付孔４１の４
箇所に配置されて固定ボルト４３により頭部がベース盤
に固定される。ベース盤４は鋳物または大理石製で、下
面に補強用のリブが平行に設けられ、各空気バネはこの
リブの間に介在している。図８は空気バネの斜視図であ
り、その底板５１には対称的な４方向に取付部５２が、
また、頭部にはボルト孔５３がそれぞれ設けてある。こ
こで、ベース盤の防振作用について説明すると、ベース
盤は鋳物または大理石製として重量を重くし、空気バネ
を併用して防振効果を挙げている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】被検査物（例えば、ウ
エハ）表面上の異物または欠陥を検査する場合、ウエハ
をステージ上に吸着し、Ｘ−Ｙ方向に移動しながらレー
ザの乱反射光により異物または欠陥を検出する。この場
合、ベース盤上にステージおよび光学系を配置し、ベー
ス盤を空気バネで支承させる。このため、Ｘ−Ｙステー
ジを移動させた時に、加速度の変化に伴い、３〜５Ｈz
の低周波振動が発生し、検出に悪影響を与えていた。
エハ）表面上の異物または欠陥を検査する場合、ウエハ
をステージ上に吸着し、Ｘ−Ｙ方向に移動しながらレー
ザの乱反射光により異物または欠陥を検出する。この場
合、ベース盤上にステージおよび光学系を配置し、ベー
ス盤を空気バネで支承させる。このため、Ｘ−Ｙステー
ジを移動させた時に、加速度の変化に伴い、３〜５Ｈz
の低周波振動が発生し、検出に悪影響を与えていた。
【０００６】従って、本発明の目的は、空気バネで支承
されたベース盤上に移動ステージを有するエアーマウン
トシステムにおいて、移動ステージの運動により発生す
る横方向の振動を吸収する機構を有するエアーマウント
システムおよびこのような新規なエアーマウントシステ
ムからなる光学式表面検査装置を提供することである。
されたベース盤上に移動ステージを有するエアーマウン
トシステムにおいて、移動ステージの運動により発生す
る横方向の振動を吸収する機構を有するエアーマウント
システムおよびこのような新規なエアーマウントシステ
ムからなる光学式表面検査装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、上面に移動テーブルが配設されたベー
ス盤が空気バネにより支承されているエアーマウントシ
ステムにおいて、前記ベース盤の少なくとも２個の対向
する側壁面にダンパ機構がそれぞれ当接されていること
を特徴とするエアーマウントシステムを提供する。ま
た、本発明は、架台フレームに固定された空気バネによ
り支承されたベース盤を有し、該ベース盤上にＸ−Ｙス
テージが載置されている光学式表面検査装置において、
前記ベース盤はその側壁面に前後左右の４方向からダン
パが当接されていることを特徴とする表面検査装置を提
供する。
に、本発明では、上面に移動テーブルが配設されたベー
ス盤が空気バネにより支承されているエアーマウントシ
ステムにおいて、前記ベース盤の少なくとも２個の対向
する側壁面にダンパ機構がそれぞれ当接されていること
を特徴とするエアーマウントシステムを提供する。ま
た、本発明は、架台フレームに固定された空気バネによ
り支承されたベース盤を有し、該ベース盤上にＸ−Ｙス
テージが載置されている光学式表面検査装置において、
前記ベース盤はその側壁面に前後左右の４方向からダン
パが当接されていることを特徴とする表面検査装置を提
供する。
【０００８】
【作用】前記のように、本発明の表面検査装置では、ベ
ース盤の左右方向にダンパが当接されているので、Ｘ−
Ｙステージの移動に伴って発生する３〜５Ｈzの低周波
振動（横揺れ）はこのダンパにより吸収され、軽減また
は消去される。その結果、検査結果の信頼性を向上させ
ることができる。
ース盤の左右方向にダンパが当接されているので、Ｘ−
Ｙステージの移動に伴って発生する３〜５Ｈzの低周波
振動（横揺れ）はこのダンパにより吸収され、軽減また
は消去される。その結果、検査結果の信頼性を向上させ
ることができる。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明のエアーマ
ウントシステムの一例について説明する。図１は本発明
のエアーマウントシステムの一例の模式的断面図であ
る。本発明のエアーマウントシステムにおいて従来のエ
アーマウントシステムと同様な部材は同じ参照符号を使
用する。本発明のエアーマウントシステム１は架台フレ
ーム３を有する。このフレームの周縁部の上端面３４に
ダンパ６が配設されている。フレーム周縁部上端面３４
から所定の深さで凹陥した面３５に空気バネ５が固定さ
れている。空気バネ５はベース盤４を支承している。ベ
ース盤４の上面にはＸステージ７およびＹステージ８が
配設されている。Ｘステージ７は駆動モータ７１により
Ｘ方向に進退することができる。一方、Ｙステージ８は
駆動モータ８１によりＹ方向に進退することができる。
Ｘステージ７の上面にウエハ２が載置される。Ｘステー
ジは吸着機構を有することもできる。これによりウエハ
が移動しないように吸着保持することができる。ベース
盤の側壁面にはダンパ６のロッド６１が当接している。
ウントシステムの一例について説明する。図１は本発明
のエアーマウントシステムの一例の模式的断面図であ
る。本発明のエアーマウントシステムにおいて従来のエ
アーマウントシステムと同様な部材は同じ参照符号を使
用する。本発明のエアーマウントシステム１は架台フレ
ーム３を有する。このフレームの周縁部の上端面３４に
ダンパ６が配設されている。フレーム周縁部上端面３４
から所定の深さで凹陥した面３５に空気バネ５が固定さ
れている。空気バネ５はベース盤４を支承している。ベ
ース盤４の上面にはＸステージ７およびＹステージ８が
配設されている。Ｘステージ７は駆動モータ７１により
Ｘ方向に進退することができる。一方、Ｙステージ８は
駆動モータ８１によりＹ方向に進退することができる。
Ｘステージ７の上面にウエハ２が載置される。Ｘステー
ジは吸着機構を有することもできる。これによりウエハ
が移動しないように吸着保持することができる。ベース
盤の側壁面にはダンパ６のロッド６１が当接している。
【００１０】図２は図１のエアーマウントシステムの平
面図である。ダンパ６は架台フレーム周縁部上端面３４
の前後左右に４個大体等しい間隔で配設されている。こ
れによりＸステージおよびＹステージの何れのステージ
の進退により発生した横揺れも消去することができる。
面図である。ダンパ６は架台フレーム周縁部上端面３４
の前後左右に４個大体等しい間隔で配設されている。こ
れによりＸステージおよびＹステージの何れのステージ
の進退により発生した横揺れも消去することができる。
【００１１】図１および図２には光学系が図示されてい
ないが、このシステムにレーザ光照射系および被検査物
（例えば、ウエハ２）からの散乱光受光系を加えれば、
光学式表面検査装置が構成される。
ないが、このシステムにレーザ光照射系および被検査物
（例えば、ウエハ２）からの散乱光受光系を加えれば、
光学式表面検査装置が構成される。
【００１２】ダンパ自体は当業者に公知の部材である。
しかし、このようなベース盤の横揺れ防止手段としてダ
ンパを有するエアーマウントシステムおよび光学式表面
検査装置は未だ当業者に知られていない。ピエゾ素子な
どで逆方向に反作用を発生させて横揺れを吸収する装置
が提案されているが、装置が大型化するばかりか、電気
的制御が伴い、横揺れの吸収は容易ではない。ダンパは
装置自体小型であり、しかも、確実に横揺れを吸収する
ことができる。
しかし、このようなベース盤の横揺れ防止手段としてダ
ンパを有するエアーマウントシステムおよび光学式表面
検査装置は未だ当業者に知られていない。ピエゾ素子な
どで逆方向に反作用を発生させて横揺れを吸収する装置
が提案されているが、装置が大型化するばかりか、電気
的制御が伴い、横揺れの吸収は容易ではない。ダンパは
装置自体小型であり、しかも、確実に横揺れを吸収する
ことができる。
【００１３】本発明のエアーマウントシステムで使用す
るのに好適なダンパ機構の一例を図３に示す。このダン
パ機構６は、第１の部材６２と、この第１の部材にネジ
６３，６３で螺着される第２の部材６４を有する。第１
の部材６２と第２の部材６４との間には、所定の容積の
作動油（例えば、シリコン油）充填シリンダ６５が形成
されている。第１の部材６２および第２の部材６４の軸
穴にロッド６１が摺動可能に挿入されている。このロッ
ド６１は略中央部に円盤状ピストン６６を有する。ロッ
ドのベース盤側先端部には板バネ６７がネジ６８で螺着
されている。この板バネの各終端部はネジ６３，６３で
第２の部材に固定されている。板バネ６７はロッドが６
１が架台フレーム側に移動した時に、ベース盤側に復元
させるために設けられている。シリンダ内の充填作動油
の漏洩を防ぐために、各部材の境界面にはＯ−リング６
９が配設されている。このダンパ機構は例えば、ネジ９
により第１の部材６２を介して架台フレームの上端面３
４に固定することができる。第１の部材と架台フレーム
３との間には適当な緩衝材９１を配置することができ
る。図４の図３のダンパ機構の正面図である。このダン
パ機構の特徴はロッドが両軸形式であり、円盤状ピスト
ン６６の周縁部とシリンダ６５の円周との間に隙間が存
在することである。従来の一軸ロッドの場合、シリンダ
内にロッドが進入すると、進入したロッドの分だけシリ
ンダ内の体積が増大し、充填作動油の逃げ場がなくな
り、シリンダの破壊につながる危険性があった。本発明
のダンパ機構では両軸なので、シリンダ内におけるロッ
ドとピストンが占める体積は、ロッドおよびピストンが
何方の方向に移動しようとも常に一定である。このた
め、充填作動油によるシリンダ破壊の危険性は皆無とな
る。また、本発明のダンパ機構では、図５に示されるよ
うに、円盤状ピストン６６が左右に移動するのにつれ
て、点線で示されるように、隙間を通して充填作動油が
流動することができる。その結果、ベース盤の横揺れは
速やかに減衰される。
るのに好適なダンパ機構の一例を図３に示す。このダン
パ機構６は、第１の部材６２と、この第１の部材にネジ
６３，６３で螺着される第２の部材６４を有する。第１
の部材６２と第２の部材６４との間には、所定の容積の
作動油（例えば、シリコン油）充填シリンダ６５が形成
されている。第１の部材６２および第２の部材６４の軸
穴にロッド６１が摺動可能に挿入されている。このロッ
ド６１は略中央部に円盤状ピストン６６を有する。ロッ
ドのベース盤側先端部には板バネ６７がネジ６８で螺着
されている。この板バネの各終端部はネジ６３，６３で
第２の部材に固定されている。板バネ６７はロッドが６
１が架台フレーム側に移動した時に、ベース盤側に復元
させるために設けられている。シリンダ内の充填作動油
の漏洩を防ぐために、各部材の境界面にはＯ−リング６
９が配設されている。このダンパ機構は例えば、ネジ９
により第１の部材６２を介して架台フレームの上端面３
４に固定することができる。第１の部材と架台フレーム
３との間には適当な緩衝材９１を配置することができ
る。図４の図３のダンパ機構の正面図である。このダン
パ機構の特徴はロッドが両軸形式であり、円盤状ピスト
ン６６の周縁部とシリンダ６５の円周との間に隙間が存
在することである。従来の一軸ロッドの場合、シリンダ
内にロッドが進入すると、進入したロッドの分だけシリ
ンダ内の体積が増大し、充填作動油の逃げ場がなくな
り、シリンダの破壊につながる危険性があった。本発明
のダンパ機構では両軸なので、シリンダ内におけるロッ
ドとピストンが占める体積は、ロッドおよびピストンが
何方の方向に移動しようとも常に一定である。このた
め、充填作動油によるシリンダ破壊の危険性は皆無とな
る。また、本発明のダンパ機構では、図５に示されるよ
うに、円盤状ピストン６６が左右に移動するのにつれ
て、点線で示されるように、隙間を通して充填作動油が
流動することができる。その結果、ベース盤の横揺れは
速やかに減衰される。
【００１４】本発明のダンパ機構を有するエアーマウン
トシステムは光学式表面検査装置に限らず、上面に水平
方向移動テーブルを有し横揺れの発生する可能性のある
全ての測定器類（例えば、平面度測定装置、エリプソメ
ータ）あるいは半導体製造装置（例えば、イオン注入装
置、パターンジェネレータ、ホトリピータ、ウエハ露光
装置、電子線描画装置など）、試験装置について使用す
ることができる。
トシステムは光学式表面検査装置に限らず、上面に水平
方向移動テーブルを有し横揺れの発生する可能性のある
全ての測定器類（例えば、平面度測定装置、エリプソメ
ータ）あるいは半導体製造装置（例えば、イオン注入装
置、パターンジェネレータ、ホトリピータ、ウエハ露光
装置、電子線描画装置など）、試験装置について使用す
ることができる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のエアーマ
ウントシステムはベース盤の側壁に対称的に少なくとも
２個のダンパ機構を当接させている。このため、ベース
盤上に移動ステージを配設し、この移動ステージを運動
させたときに発生する横揺れはダンパ機構により速やか
に吸収される。従って、このようなエアーマウントシス
テムを光学式表面検査装置に使用すれば、検査精度を向
上させることができる。
ウントシステムはベース盤の側壁に対称的に少なくとも
２個のダンパ機構を当接させている。このため、ベース
盤上に移動ステージを配設し、この移動ステージを運動
させたときに発生する横揺れはダンパ機構により速やか
に吸収される。従って、このようなエアーマウントシス
テムを光学式表面検査装置に使用すれば、検査精度を向
上させることができる。
【図１】本発明のエアーマウントシステムの一例の模式
的断面図である。
的断面図である。
【図２】図１のエアーマウントシステムの平面図であ
る。
る。
【図３】本発明のエアーマウントシステムで使用するの
に適したダンパ機構の一例の部分切り欠き断面図であ
る。
に適したダンパ機構の一例の部分切り欠き断面図であ
る。
【図４】図３のダンパ機構の正面図である。
【図５】図３のダンパ機構におけるシリンダとピストン
の部分拡大断面図である。
の部分拡大断面図である。
【図６】従来のエアーマウントシステムの一例の部分切
り欠き概要斜視図である。
り欠き概要斜視図である。
【図７】図６におけるエアーマウントシステムの空気バ
ネの取付状況を示す部分拡大断面図である。
ネの取付状況を示す部分拡大断面図である。
【図８】空気バネの概要斜視図である。
１ 本発明のエアーマウントシステム ２ ウエハ ３ 架台フレーム ４ ベース盤 ５ 空気バネ ６ ダンパ機構 ７ Ｘステージ ８ Ｙステージ
Claims (2)
- 【請求項１】 上面に移動テーブルが配設されたベース
盤が空気バネにより支承されているエアーマウントシス
テムにおいて、前記ベース盤の少なくとも２個の対向す
る側壁面にダンパ機構がそれぞれ当接されており、前記
ダンパ機構は、第１の部材と第２の部材によりシリンダ
が形成され、該シリンダ内に両軸ピストンが装着され、
かつ、作動油が充填されていることからなることを特徴
とするエアーマウントシステム。 - 【請求項２】 架台フレームに固定された空気バネによ
り支承されたベース盤を有し、該ベース盤上にＸ−Ｙス
テージが配設されている光学式表面検査装置において、
前記ベース盤はその側壁面に前後左右の４方向からダン
パ機構が当接されており、前記ダンパ機構は、第１の部
材と第２の部材によりシリンダが形成され、該シリンダ
内に両軸ピストンが装着され、かつ、作動油が充填され
ていることからなることを特徴とする表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31748591A JP2876500B2 (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | エアーマウントシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31748591A JP2876500B2 (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | エアーマウントシステム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05126973A JPH05126973A (ja) | 1993-05-25 |
| JP2876500B2 true JP2876500B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=18088757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31748591A Expired - Fee Related JP2876500B2 (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | エアーマウントシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2876500B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3987811B2 (ja) | 2003-03-20 | 2007-10-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Ｘｙステージ、ヘッドキャリッジおよび磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ |
| US7135861B2 (en) | 2003-03-20 | 2006-11-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Movable stage, XY stage, head carriage and tester of magnetic head or magnetic disk |
| KR102407790B1 (ko) | 2020-11-05 | 2022-06-13 | 이노6 주식회사 | 반발력 저감 테이블 시스템 |
-
1991
- 1991-11-05 JP JP31748591A patent/JP2876500B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05126973A (ja) | 1993-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |