JP2872595B2 - Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal panel - Google Patents

Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal panel

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JP2872595B2 JP28985194A JP28985194A JP2872595B2 JP 2872595 B2 JP2872595 B2 JP 2872595B2 JP 28985194 A JP28985194 A JP 28985194A JP 28985194 A JP28985194 A JP 28985194A JP 2872595 B2 JP2872595 B2 JP 2872595B2
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健 宮▲崎▼
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビ、車載テ
レビ、パーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使
用されているカラー液晶ディスプレイに適用できるカラ
ーフィルタ及びその製造方法及び液晶パネルの製造方法
に関し、特にインクジェット記録技術を利用したカラー
フィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter applicable to a color liquid crystal display used in a color television, an in-vehicle television, a personal computer, a pachinko game console, and the like, and a method for producing the same and a method for producing a liquid crystal panel. The present invention relates to a method for manufacturing a color filter and a method for manufacturing a liquid crystal panel using an inkjet recording technique.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of personal computers,
In particular, with the development of portable personal computers, the demand for liquid crystal displays, especially color liquid crystal displays, tends to increase. However, cost reduction is necessary for further popularization, and in particular, there is an increasing demand for cost reduction of color filters having a high specific gravity.

【0003】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだすべての要求特性を満足する方法は確
立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
Conventionally, various methods have been tried to satisfy the above requirements while satisfying the required characteristics of the color filter, but no method has yet been established which satisfies all the required characteristics. The respective methods will be described below.

【0004】最も多く用いられている第一の方法が染色
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソ
グラフィー工程により所望の形状にパターニングした
後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパ
ターンを得る。これを3回繰り返すことによりR、G、
Bのカラーフィルタ層を形成する。
The first method most frequently used is a dyeing method. In the dyeing method, first, a water-soluble polymer material, which is a material for dyeing, is formed on a glass substrate, and this is patterned into a desired shape by a photolithography process, and the obtained pattern is immersed in a dye bath. Get a colored pattern. By repeating this three times, R, G,
A color filter layer of B is formed.

【0005】この染色法の別の例として特開平5−28
8913号公報には、基板上に感光層を設け、これをパ
ターン状に露光した後、未露光部を染色する方法が記載
され、この工程を3回繰り返すことにより、R、G、B
の3色からなるカラーフィルタを製造することが記載さ
れている。
[0005] Another example of this dyeing method is disclosed in JP-A-5-28.
No. 8913 describes a method of providing a photosensitive layer on a substrate, exposing the photosensitive layer in a pattern, and dyeing an unexposed portion. This process is repeated three times to obtain R, G, B
It is described that a color filter consisting of three colors is manufactured.

【0006】第二の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を3回繰り返すことによりR、G、Bのカラーフィ
ルタ層を形成する。
[0006] The second method is a pigment dispersion method, which has recently been replaced by a dyeing method. In this method, first, a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed is formed on a substrate, and a monochromatic pattern is obtained by patterning the photosensitive resin layer. This process is repeated three times to form R, G, and B color filter layers.

【0007】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を3回繰り返してR、G、Bのカ
ラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するものである。
As a third method, there is an electrodeposition method. In this method, first, a transparent electrode is patterned on a substrate, and a pigment,
The first color is electrodeposited by dipping in an electrodeposition coating solution containing a resin, an electrolytic solution or the like. This process is repeated three times to form R, G, and B color filter layers, and finally firing.

【0008】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を3回繰り返すことによりR、G、
Bを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
As a fourth method, a pigment is dispersed in a thermosetting resin, and printing is repeated three times so that R, G,
After separately applying B, the resin is thermally cured to form a colored layer. In any method, a protective layer is generally formed on the colored layer.

【0009】これらの方法に共通している点は、R、
G、Bの3色を着色するために同一の工程を3回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留りが低下するという問題を有している。
さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が
限定されるため、現状の技術ではTFT用には適用でき
ない。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピッ
チのパターンは形成できない。
The common features of these methods are R,
In order to color the three colors G and B, the same process needs to be repeated three times, which increases the cost. In addition, there is a problem that the yield decreases as the number of steps increases.
Further, in the electrodeposition method, the pattern shape that can be formed is limited, so that the current technology cannot be applied to TFTs. In the printing method, a fine pitch pattern cannot be formed due to poor resolution.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造
方法として、特開昭59−75205号公報、特開昭6
3−235901号公報、特開平1−217302号公
報等の提案があるが、いまだ不十分である。
To compensate for these drawbacks, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 59-75205 and 59-75205 disclose a method of manufacturing a color filter using an ink jet system.
There are proposals such as JP-A-3-235901 and JP-A-1-217302, but they are still insufficient.

【0011】そこで本発明の目的は、従来法の有する耐
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつイ
ンクジェット適性をも満足し、さらに工程の短縮された
安価なカラーフィルタの製造方法を提供するものであ
る。特に、インクジェットを用いてインクの吐出により
着色剤の配列を行う際の混色、色抜けを防止する信頼性
の高いカラーフィルタの製造方法を提供するものであ
る。
It is an object of the present invention to provide an inexpensive color filter which satisfies the required properties of the conventional method, such as heat resistance, solvent resistance, resolution, etc., and also satisfies the suitability for ink jet, and further has a reduced number of steps. Is provided. In particular, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a highly reliable color filter which prevents color mixing and color omission when arranging colorants by discharging ink using an ink jet.

【0012】又、本発明は、かかるカラーフィルタを備
えた新規な液晶パネルの製造方法を提供することを目的
とする。
Another object of the present invention is to provide a novel liquid crystal panel manufacturing method having such a color filter.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】かかる目的は、次に示す
手段により達成することができる。
This object can be achieved by the following means.

【0014】本発明は、インクジェット方式を用いて基
板上に着色剤を配列させてなるカラーフィルタの製造方
法であって、 1)基板上に、インク吸収性を有し、光照射又は光照射
及び熱処理により、インク吸収性が低下する樹脂層を設
ける工程、 2)基板上の該樹脂層に、インク吸収性の低下していな
い部分と、光照射又は光照射及び熱処理を施すことによ
りインク吸収性の低下した部分を形成する工程、 3)該樹脂層に、インクジェット方式を用いて色の異な
る複数種の着色剤を付与してインク吸収性の低下してい
ない部分を前記着色剤の各色で着色する工程と、 4)該樹脂層に光照射及び/又は熱処理を行って、該樹
脂層を硬化させる工程とを有してなり、該樹脂層が、
(a)下記式(I)で表される構造単位からなる単量体
の単独重合体及び/又は他のビニル系単量体との共重合
体と、(b)ハロゲン化トリアジン化合物、ジフェニル
ヨードニウム塩誘導体及びトリフェニルスルホニウム塩
誘導体から選択される化合物とを少なくとも含むことを
特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
The present invention relates to a method for producing a color filter in which a colorant is arranged on a substrate by using an ink-jet method. 1) The substrate has an ink-absorbing property and is irradiated with light or light. A step of providing a resin layer whose ink absorptivity decreases by heat treatment; 2) applying a portion of the resin layer on the substrate where the ink absorptivity does not decrease to light irradiation or light irradiation and heat treatment; 3) a plurality of different colorants having different colors are applied to the resin layer using an ink jet method, and a portion where the ink absorbency is not reduced is colored with each color of the colorant. And 4) performing light irradiation and / or heat treatment on the resin layer to cure the resin layer.
(A) a homopolymer of a monomer comprising a structural unit represented by the following formula (I) and / or a copolymer with another vinyl monomer, and (b) a halogenated triazine compound, diphenyliodonium A method for producing a color filter, comprising at least a compound selected from a salt derivative and a triphenylsulfonium salt derivative.

【0015】[0015]

【外7】 (但し、R1は水素原子又はメチル基、R2は水素原子又
は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)
[Outside 7] (However, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

【0016】更に本発明は、上記の製造方法で得られた
カラーフィルタと、これに対向する位置に基板を設け、
カラーフィルタと基板との間に液晶組成物を封入したこ
とを特徴とする液晶パネルの製造方法である。
Further, according to the present invention, there is provided a color filter obtained by the above manufacturing method, and a substrate provided at a position facing the color filter.
A method for manufacturing a liquid crystal panel, wherein a liquid crystal composition is sealed between a color filter and a substrate.

【0017】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。図1は、本発明における液晶用カラーフィルタの
製造方法を示したものであり、本発明にかかる液晶用カ
ラーフィルタの構成の一例が示されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a method of manufacturing a color filter for liquid crystal according to the present invention, and shows an example of a configuration of the color filter for liquid crystal according to the present invention.

【0018】本発明においては、基板として一般にガラ
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての
透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば
ガラス基板に限定されるものではない。
In the present invention, a glass substrate is generally used as the substrate, but the substrate is not limited to a glass substrate as long as it has necessary characteristics such as transparency and mechanical strength as a color filter for liquid crystal.

【0019】図1(a)は、ガラス基板上に遮光部2で
あるブラックマトリクスが形成された図を示したもので
ある。まず、ブラックマトリクスの形成された基板上
に、水性インク吸収性を有し、光照射又は光照射と熱処
理により光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂組成
物を塗布し、必要に応じてプリベークを行って光照射又
は光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低
下する樹脂層3を形成する(図1(b))。
FIG. 1A is a diagram in which a black matrix, which is a light shielding portion 2, is formed on a glass substrate. First, on a substrate on which a black matrix is formed, apply a resin composition having water-based ink absorbency, and the ink absorbability of the light-irradiated portion is reduced by light irradiation or light irradiation and heat treatment, and prebaked as necessary. To form a resin layer 3 in which the ink absorbability of the light-irradiated portion is reduced by light irradiation or light irradiation and heat treatment (FIG. 1B).

【0020】この樹脂層は、前記したような(a)、
(b)の2種の化合物を少なくとも含んでいる。以下そ
れぞれについて説明する。
This resin layer has the above-mentioned (a),
(B) at least two compounds. Hereinafter, each will be described.

【0021】(a)の上記式(I)で表される構造単位
からなる単量体としては、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−エトキシ
メチルアクリルアミド、N−イソプロポキシメチルアク
リルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−メ
トキシメチルメタクリルアミド、N−エトキシメチルメ
タクリルアミド等を挙げられるが、これらに限られるも
のではない。これらの単量体は、単独、あるいは、他の
ビニル系単量体と共重合される。他のビニル系単量体と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エ
ステル、ヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシメチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基を含有し
たビニル系単量体、その他スチレン、α−メチルスチレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、アリルアミン、ビニルアミン、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル等を挙げることが出来るが、もちろんこ
れらに限られるものではない。
The monomer comprising the structural unit represented by the above formula (I) in (a) includes N-methylolacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, N-isopropoxymethylacrylamide, Examples include, but are not limited to, N-methylol methacrylamide, N-methoxymethyl methacrylamide, N-ethoxymethyl methacrylamide, and the like. These monomers are copolymerized alone or with other vinyl monomers. Other vinyl monomers, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, acrylates such as ethyl acrylate, methyl methacrylate, methacrylates such as ethyl methacrylate, hydroxymethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, Hydroxymethyl acrylate, vinyl monomers having a hydroxyl group such as hydroxyethyl acrylate, and other styrene, α-methylstyrene, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, allylamine, vinylamine, vinyl acetate, vinyl propionate, and the like. However, of course, it is not limited to these.

【0022】次に、(b)のハロゲン化トリアジン化合
物としては、下記式(II)で表される化合物が挙げら
れ、
Next, examples of the halogenated triazine compound (b) include a compound represented by the following formula (II).

【0023】[0023]

【外8】 (但し、Zはハロゲン原子、YはCZ3(Zはハロゲン
原子)、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、
[Outside 8] (However, Z is a halogen atom, Y is CZ 3 (Z is a halogen atom), a phenyl group, a halogenated phenyl group,

【0024】[0024]

【外9】 7は炭素数1〜5のアルキル基であり、1つの基にR7
が2つある場合、互いに異なっていても良い)その好ま
しいものとしては、光開始剤として機能するものであれ
ば良く、前記の一般式(I)で表される化合物のよう
に、トリアジン環にトリクロロメチル基を導入した化合
物が好ましく、具体的には、2−(p−メトキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリア
ジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジ
ン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−S−トリアジンが挙げられる。
[Outside 9] R 7 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 7 in one group
In the case where there are two, they may be different from each other). Preferred are those which function as a photoinitiator, and like the compound represented by the general formula (I), Compounds having a trichloromethyl group introduced therein are preferred, and specific examples thereof include 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl ) -S-Triazine, 2- (p-methoxystyryl)
-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl)
—S-triazine.

【0025】ジフェニルヨードニウム塩誘導体として
は、下記式(III)で表される化合物が挙げられ、
The diphenyliodonium salt derivative includes a compound represented by the following formula (III):

【0026】[0026]

【外10】 (但し、R4、R5は水素原子、炭素数1〜5のアルコキ
シ基もしくはt−ブチル基、X-はBF4 -、PF6 -、S
bF6 -又はCF3SO3 -を表す。)その好ましいものと
しては、光開始剤として機能するものではあれば良く、
具体的には、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロ
ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート、ジフェニルヨードニウムトリフラート、また
これらの誘導体等が挙げられるが、もちろん、これらに
限られるものではない。
[Outside 10] (However, R 4 and R 5 are a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a t-butyl group, and X is BF 4 , PF 6 , S
bF 6 - or CF 3 SO 3 - represents a. The preferred is that it only functions as a photoinitiator,
Specific examples thereof include, but are not limited to, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium triflate, and derivatives thereof.

【0027】トリフェニルスルホニウム塩誘導体として
は、下記式(IV)で表される化合物が挙げられ、
The triphenylsulfonium salt derivative includes a compound represented by the following formula (IV):

【0028】[0028]

【外11】 (但し、R6は水素原子、炭素数1〜5のアルコキシ
基、炭素数1〜5のアルキル基、
[Outside 11] (However, R 6 is a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,

【0029】[0029]

【外12】 又はフッ素原子を表し、X-は上記と同じである)その
好ましいものとしては、光開始剤として機能するもので
はあれば良く、具体的には、トリフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニ
ウムトリフラート、またこれらの誘導体等が挙げられる
が、もちろん、これらに限られるものではない。
[Outside 12] Or a fluorine atom, and X - is the same as described above). Preferred examples thereof include those which function as a photoinitiator, and specifically include triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium tetra Examples include fluoroborate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium triflate, and derivatives thereof, but are not limited thereto.

【0030】上記(a)の重合体100重量部に対して
(b)の化合物を0.01〜10重量部、好ましくは
0.01〜5重量部含有せしめる。
The compound (b) is contained in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer (a).

【0031】上記重合体の分子量は102〜107の範囲
が好ましい。かかる樹脂を使用することにより、光照射
部と未照射部との間でインク吸収性に明確な差を生じ、
インクの混色を防止することができる。
The molecular weight of the above polymer is preferably in the range of 10 2 to 10 7 . By using such a resin, there is a clear difference in ink absorbency between the light-irradiated part and the non-irradiated part,
Color mixing of ink can be prevented.

【0032】また、この樹脂層の形成には、スピンコー
ト、ロールコート、バーコート、スプレーコート、ディ
ップコート等の塗布方法を用いることができ、特に限定
されるものではない。また、樹脂層中には増感剤として
ペリレン、アントラセン等の化合物を加えても良い。
The resin layer can be formed by a coating method such as spin coating, roll coating, bar coating, spray coating, or dip coating, and is not particularly limited. Further, a compound such as perylene or anthracene may be added as a sensitizer in the resin layer.

【0033】次いで、ブラックマトリクスにより遮光さ
れる部分の樹脂層をあらかじめ、フォトマスク4を使用
してパターン露光を行うことにより、樹脂層のインク吸
収性を低下させた後(図1(c))、インクジェットヘ
ッド5を用いて未露光部分である開口部をR、G、Bの
各色で同一層に着色し(図1(d))、必要に応じてイ
ンクの乾燥を行う。
Next, after the pattern of the resin layer in the portion to be shielded from light by the black matrix is subjected to pattern exposure using the photomask 4 beforehand, the ink absorbency of the resin layer is reduced (FIG. 1 (c)). Then, the opening, which is the unexposed portion, is colored in the same layer with each of R, G, and B using the inkjet head 5 (FIG. 1D), and the ink is dried as necessary.

【0034】パターン露光の際のフォトマスク4として
は、ブラックマトリクスによる遮光部分のインク吸収性
を低下させるための開口部を有するものを使用する。こ
の際、ブラックマトリクスに接する部分での色抜けを防
止するためには、多めのインクを吐出する必要があるこ
とを考慮すると、ブラックマトリクスの遮光幅よりも狭
い開口部を有するマスクを用いることが好ましい。ま
た、着色に用いるインクとしては、色素系、顔料系共に
用いることが可能であり、また液状インク、ソリッドイ
ンク共に使用可能である。
As the photomask 4 at the time of pattern exposure, a photomask having an opening for reducing the ink absorbency of a light-shielded portion by a black matrix is used. At this time, considering that it is necessary to discharge a large amount of ink in order to prevent color loss at a portion in contact with the black matrix, it is preferable to use a mask having an opening narrower than the light shielding width of the black matrix. preferable. As the ink used for coloring, it is possible to use both dye-based and pigment-based inks, and it is also possible to use both liquid inks and solid inks.

【0035】さらにインクジェット方式としては、エネ
ルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェ
ットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能であり、着色面積および着色パター
ンは任意に設定することができる。また、本例において
は基板上にブラックマトリクスが形成された例を示して
あるが、ブラックマトリクスは、水性インク吸収性を有
し、光照射または光照射と熱処理により光照射部分のイ
ンク吸収性が低下する組成を形成後、あるいは着色後に
樹脂層上に形成されたものであっても特に問題はなく、
その形態は本例に限定されるものではない。また、その
形成方法としては、基板上にスパッタもしくは蒸着によ
り金属薄膜を形成し、フォトリソ工程によりパターニン
グすることあるいは感光性の黒色樹脂をパターニングす
ることが好ましいが、これに限定されるものではない。
Further, as the ink jet system, a bubble jet type using an electrothermal converter or a piezo jet type using a piezoelectric element can be used as an energy generating element, and the coloring area and the coloring pattern are set arbitrarily. be able to. Further, in this example, an example in which a black matrix is formed on a substrate is shown. After forming the decreasing composition, or even if it is formed on the resin layer after coloring, there is no particular problem,
The form is not limited to this example. In addition, as a forming method, it is preferable to form a metal thin film on a substrate by sputtering or vapor deposition and pattern it by a photolithography process or pattern a photosensitive black resin, but it is not limited thereto.

【0036】次いで光照射あるいは、熱処理あるいは光
照射と熱処理を行って着色された樹脂層を硬化させ(図
1(e))、必要に応じて保護層6を形成(図1
(f))する。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパ
ッタ等によって形成された無機膜等を用いることがで
き、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後
のITO形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えう
るものであれば使用可能である。
Next, the colored resin layer is cured by light irradiation, heat treatment or light irradiation and heat treatment (FIG. 1E), and a protective layer 6 is formed as necessary (FIG. 1E).
(F)). As the protective layer, a photo-curable type, a thermo-curable type or a combination of light and heat type resin material, an inorganic film formed by vapor deposition, sputtering, or the like can be used, and has transparency when used as a color filter. Any material can be used as long as it can withstand the ITO forming process, the alignment film forming process, and the like.

【0037】図2に、対向する基板にブラックマトリク
スを設けた液晶パネルに用いるカラーフィルタの製造方
法を示す。
FIG. 2 shows a method of manufacturing a color filter used for a liquid crystal panel in which a black matrix is provided on an opposing substrate.

【0038】カラーフィルタ側にではなく、対向する基
板にブラックマトリクスを設ける方法は、開口率を向上
させる方法として有効である。
A method of providing a black matrix not on the color filter side but on the opposite substrate is effective as a method for improving the aperture ratio.

【0039】図2(a)に示すガラス基板1上に、光照
射あるいは光照射及び熱処理により光照射部分のインク
吸収性が低下する組成物を塗布し、必要に応じてプリベ
ークを行って光照射あるいは光照射及び熱処理により光
照射部分のインク吸収性が低下する樹脂層3を形成する
(図2(b))。
On the glass substrate 1 shown in FIG. 2 (a), a light-irradiating material or a composition which reduces the ink absorbability of the light-irradiated portion by light irradiation and heat treatment is applied, and if necessary, prebaking is performed to irradiate the light. Alternatively, the resin layer 3 whose ink absorbability at the light-irradiated portion is reduced by light irradiation and heat treatment is formed (FIG. 2B).

【0040】次いでフォトマスク4を使用してパターン
露光を行うことにより樹脂層3の露光部のインク吸収性
を低下させた後(図2(c))、インクジェットヘッド
5を用いて未露光部をR、G、Bの各色で同一層を着色
し(図2(d))、必要に応じて乾燥させる。色抜けを
防止するために、非着色部8の幅は対向する基板に設け
られたブラックマトリクス(不図示)の幅よりも狭くす
ることが重要である。
Next, after performing pattern exposure using the photomask 4 to reduce the ink absorbency of the exposed portion of the resin layer 3 (FIG. 2C), the unexposed portion is removed by using the ink jet head 5. The same layer is colored with each color of R, G, and B (FIG. 2D), and dried as needed. In order to prevent color loss, it is important that the width of the non-colored portion 8 is smaller than the width of a black matrix (not shown) provided on the opposing substrate.

【0041】次いで着色された樹脂層を光照射及び/又
は熱処理により硬化させ(図2(e))、必要に応じて
保護層6を形成(図2(f))してカラーフィルタを得
る。保護層としては、光硬化タイプ、熱効果タイプある
いは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によ
って形成された無機膜等を用いることができ、カラーフ
ィルタとした場合の透明性を有し、その後のITO形成
プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれ
ば使用可能である。
Next, the colored resin layer is cured by light irradiation and / or heat treatment (FIG. 2E), and if necessary, a protective layer 6 is formed (FIG. 2F) to obtain a color filter. As the protective layer, a photo-curable type, a heat-effect type or a photo-thermal type resin material, an inorganic film formed by vapor deposition, sputtering, or the like can be used, and has transparency when used as a color filter. Any material can be used as long as it can withstand the ITO forming process, the alignment film forming process, and the like.

【0042】このようにして基板上に樹脂層を有し、該
樹脂層が異なる色で着色された複数の着色部と非着色部
を有するカラーフィルタが製造される。
In this way, a color filter having a resin layer on the substrate and having a plurality of colored portions and non-colored portions in which the resin layer is colored with different colors is manufactured.

【0043】図3、図4に、本発明によるカラーフィル
タを組み込んだTFTカラー液晶パネルの断面を示す。
なお、その形態は本例に限定されるものではない。
FIGS. 3 and 4 show cross sections of a TFT color liquid crystal panel incorporating the color filter according to the present invention.
The mode is not limited to this example.

【0044】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルタ基板1と対向基板114を合わせ込み、液晶化合物
12を封入することにより形成される。液晶パネルの一
方の基板14の内側に、TFT(不図示)と透明な画素
電極13がマトリックス状に形成される。また、もう一
方の基板1の内側には、画素電極に対向する位置にRG
Bの色材が配列するようカラーフィルタ9が設置され、
その上に透明な対向電極(共通電極)10が一面に形成
される。ブラックマトリクスは、通常カラーフィルター
基板側に形成されるが(図3)、BMオンアレイタイプ
の液晶パネルにおいては対向するTFT基板側に形成さ
れる(図4)。さらに、両基板の面内には配向膜11が
形成されており、これをラビング処理することにより液
晶分子を一定方向に配列させることができる。また、そ
れぞれのガラス基板の外側には偏光板15が接着されて
おり、液晶化合物12は、これらのガラス基板の間隙
(2〜5μm程度)に充填される。また、バックライト
としては蛍光灯(不図示)と散乱板(不図示)の組み合
わせが一般的に用いられており、液晶化合物をバックラ
イト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能さ
せることにより表示を行う。
The color liquid crystal panel is generally formed by combining the color filter substrate 1 and the counter substrate 114 and enclosing the liquid crystal compound 12. TFTs (not shown) and transparent pixel electrodes 13 are formed in a matrix inside one substrate 14 of the liquid crystal panel. In addition, RG is provided inside the other substrate 1 at a position facing the pixel electrode.
A color filter 9 is installed so that the B color materials are arranged,
A transparent counter electrode (common electrode) 10 is formed on the entire surface. The black matrix is usually formed on the color filter substrate side (FIG. 3), but is formed on the opposite TFT substrate side in the BM-on-array type liquid crystal panel (FIG. 4). Further, an alignment film 11 is formed in the planes of both substrates, and rubbing the alignment film 11 allows liquid crystal molecules to be aligned in a certain direction. A polarizing plate 15 is adhered to the outside of each glass substrate, and the liquid crystal compound 12 fills the gap (about 2 to 5 μm) between these glass substrates. In addition, a combination of a fluorescent lamp (not shown) and a scattering plate (not shown) is generally used as the backlight, and the display is performed by making the liquid crystal compound function as an optical shutter that changes the transmittance of the backlight light. I do.

【0045】[0045]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0046】実施例1 (a)N−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの3元共重合体
10重量部と、(b)以下の構造からなるハロゲン化ト
リアジン化合物(ミドリ化学製 TAZ−101)0.
5重量部
Example 1 (a) 10 parts by weight of a terpolymer of N-methylolacrylamide, methyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate, and (b) a halogenated triazine compound having the following structure (TAZ- manufactured by Midori Kagaku) 101) 0.
5 parts by weight

【0047】[0047]

【外13】 からなる水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と熱
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、50℃で10分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する樹脂層を形成した。この時そ
の膜厚は、1μmであった。
[Outside 13] A composition having a water-based ink-absorbing property and having a reduced ink-absorbing property at a light-irradiated portion by light irradiation or light irradiation and heat treatment is prepared, and spin-coated on a glass substrate on which a black matrix is formed, at 50 ° C. Was performed for 10 minutes to form a resin layer in which the ink absorbability of the light-irradiated portion was reduced by light irradiation or light irradiation and heat treatment. At this time, the film thickness was 1 μm.

【0048】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の樹脂層の一部をパターン露光し、その部分のイ
ンク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッド
5を用いて染料インクにより開口部のR、G、Bのマト
リクスパターンを着色した後、90℃で5分間のインク
乾燥を行った。引き続き230℃、1時間の熱処理によ
りこの着色ずみ樹脂層を硬化させて、本発明によるカラ
ーフィルタを作成した。
Next, a portion of the resin layer on the black matrix was subjected to pattern exposure through a photomask having an opening smaller than the width of the black matrix, thereby reducing the ink absorbency at that portion. Further, after the R, G, and B matrix patterns at the openings were colored with dye ink using the inkjet head 5, the ink was dried at 90 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the colored resin layer was cured by a heat treatment at 230 ° C. for 1 hour to prepare a color filter according to the present invention.

【0049】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared color filter for liquid crystal with an optical microscope showed no obstruction such as color mixing, color unevenness and color omission.

【0050】実施例2〜10 表1に示す組成物を用いた他は、実施例1と同様にして
本発明によるカラーフィルタを作成した。その結果、実
施例1と同様の効果が認められた。
Examples 2 to 10 Color filters according to the present invention were prepared in the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in Table 1 were used. As a result, the same effect as in Example 1 was recognized.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】実施例11 実施例1により得られた着色済の基板上に、二液型の熱
硬化型樹脂組成物を膜厚1μmとなるようスピンコート
し、90℃で30分間のプリベークを行って第二の樹脂
層を形成した。次いで、230℃で30分間の熱処理を
行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カラ
ーフィルタを作成した。
Example 11 A two-pack type thermosetting resin composition was spin-coated on the colored substrate obtained in Example 1 so as to have a thickness of 1 μm, and prebaked at 90 ° C. for 30 minutes. Thus, a second resin layer was formed. Next, a heat treatment was performed at 230 ° C. for 30 minutes to cure the second resin layer, thereby producing a color filter for liquid crystal.

【0053】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared liquid crystal color filter with an optical microscope revealed no obstacles such as color mixture, color unevenness, and color omission.

【0054】又、このカラーフィルタを用いて図3に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
When the liquid crystal panel shown in FIG. 3 was prepared using the color filters and was driven, high-definition color display was possible.

【0055】実施例12 (a)N−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの3元共重合体
10重量部 (b)トリフェニルスルホニウムトリフラート(ミドリ
化学製 TPS−105) 0.2重量部 からなる水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と熱
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、60℃で10分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する樹脂層を形成した。この時そ
の膜厚は、1μmであった。
Example 12 (a) 10 parts by weight of a terpolymer of N-methylolacrylamide, methyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate (b) 0.2 parts by weight of triphenylsulfonium triflate (TPS-105 manufactured by Midori Kagaku) A composition having a water-based ink absorbing property and having a reduced ink absorbing property at a light-irradiated portion by light irradiation or light irradiation and heat treatment is prepared, and spin-coated on a glass substrate on which a black matrix is formed, at 60 ° C. Was performed for 10 minutes to form a resin layer in which the ink absorbability of the light-irradiated portion was reduced by light irradiation or light irradiation and heat treatment. At this time, the film thickness was 1 μm.

【0056】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の樹脂層の一部をパターン露光し、その部分のイ
ンク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッド
5を用いて染料インクにより開口部のR、G、Bのマト
リクスパターンを着色した後、90℃で5分間のインク
乾燥を行った。引き続き230℃、1時間の熱処理によ
りこの着色ずみ樹脂層を硬化させて、本発明によるカラ
ーフィルタを作成した。
Next, a portion of the resin layer on the black matrix was subjected to pattern exposure through a photomask having an opening smaller than the width of the black matrix, thereby reducing the ink absorbency at that portion. Further, after the R, G, and B matrix patterns at the openings were colored with dye ink using the inkjet head 5, the ink was dried at 90 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the colored resin layer was cured by a heat treatment at 230 ° C. for 1 hour to prepare a color filter according to the present invention.

【0057】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared liquid crystal color filter with an optical microscope revealed no obstacles such as color mixing, color unevenness and color omission.

【0058】実施例13〜21 表2に示す組成物を用いた他は、実施例12と同様にし
てカラーフィルタを作成した。その結果、実施例12と
同様の効果が認められた。
Examples 13 to 21 Color filters were prepared in the same manner as in Example 12, except that the compositions shown in Table 2 were used. As a result, the same effect as in Example 12 was recognized.

【0059】[0059]

【表2】 [Table 2]

【0060】実施例22 実施例12により得られた着色済の基板上に、二液型の
熱硬化型樹脂組成物を膜厚1μmとなるようスピンコー
トし、90℃で30分間のプリベークを行って第二の樹
脂層を形成した。次いで、230℃で30分間の熱処理
を行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カ
ラーフィルタを作成した。
Example 22 A two-pack type thermosetting resin composition was spin-coated on the colored substrate obtained in Example 12 so as to have a thickness of 1 μm, and prebaked at 90 ° C. for 30 minutes. Thus, a second resin layer was formed. Next, a heat treatment was performed at 230 ° C. for 30 minutes to cure the second resin layer, thereby producing a color filter for liquid crystal.

【0061】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared color filter for liquid crystal with an optical microscope revealed no obstacles such as color mixing, color unevenness and color omission.

【0062】又、このカラーフィルタを用いて図3に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
When the liquid crystal panel shown in FIG. 3 was prepared using the color filters and was driven, a high-definition color display was possible.

【0063】実施例23 (a)N−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの3元共重合体
10重量部 (b)ジフェニルヨードニウムトリフラート(ミドリ化
学製 DPI−105)0.2重量部 からなる水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と熱
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、50℃で10分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する樹脂層を形成した。この時そ
の膜厚は、1μmであった。
Example 23 (a) 10 parts by weight of a terpolymer of N-methylolacrylamide, methyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate (b) 0.2 parts by weight of diphenyliodonium triflate (DPI-105 manufactured by Midori Kagaku) Prepare a composition having a water-based ink absorbency and a decrease in the ink absorbability of the light-irradiated portion by light irradiation or light irradiation and heat treatment, spin-coated on a glass substrate on which a black matrix is formed, and heated at 50 ° C. Prebaking was performed for 10 minutes to form a resin layer in which the light absorbability was reduced by light irradiation or light irradiation and heat treatment. At this time, the film thickness was 1 μm.

【0064】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の樹脂層の一部をパターン露光し、その部分のイ
ンク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッド
5を用いて染料インクにより開口部のR、G、Bのマト
リクスパターンを着色した後、90℃で5分間のインク
乾燥を行った。引き続き230℃、1時間の熱処理によ
りこの着色ずみ樹脂層を硬化させて、本発明によるカラ
ーフィルタを作成した。
Next, a portion of the resin layer on the black matrix was subjected to pattern exposure through a photomask having an opening smaller than the width of the black matrix, thereby reducing the ink absorbency at that portion. Further, after the R, G, and B matrix patterns at the openings were colored with dye ink using the inkjet head 5, the ink was dried at 90 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the colored resin layer was cured by a heat treatment at 230 ° C. for 1 hour to prepare a color filter according to the present invention.

【0065】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared liquid crystal color filter with an optical microscope revealed no obstacles such as color mixing, color unevenness and color omission.

【0066】実施例24〜32 表3に示す組成物を用いたことを除いて、実施例23と
同様にしてカラーフィルタを作成した。その結果、実施
例23と同様の効果が確認できた。
Examples 24 to 32 Color filters were prepared in the same manner as in Example 23 except that the compositions shown in Table 3 were used. As a result, the same effect as in Example 23 was confirmed.

【0067】[0067]

【表3】 [Table 3]

【0068】実施例33 実施例23により得られた着色済の基板上に、二液型の
熱硬化型樹脂組成物を膜厚1μmとなるようスピンコー
トし、90℃で30分間のプリベークを行って第二の樹
脂層を形成した。次いで、230℃で30分間の熱処理
を行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カ
ラーフィルタを作成した。
Example 33 A two-pack type thermosetting resin composition was spin-coated on the colored substrate obtained in Example 23 so as to have a thickness of 1 μm, and prebaked at 90 ° C. for 30 minutes. Thus, a second resin layer was formed. Next, a heat treatment was performed at 230 ° C. for 30 minutes to cure the second resin layer, thereby producing a color filter for liquid crystal.

【0069】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared liquid crystal color filter with an optical microscope revealed no obstacles such as color mixture, color unevenness, and color omission.

【0070】又、このカラーフィルタを用いて図3に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
When the liquid crystal panel shown in FIG. 3 was prepared using the color filters and was driven, a high-definition color display was possible.

【0071】実施例34 実施例1、12、23の各組成物を図2に示すとおり、
ガラス基板1上に塗布し、樹脂層3を形成した。次いで
フォトマスク4を用いて樹脂層3側からパターン露光
し、露光部の樹脂のインク吸収性を低下させた。更にイ
ンクジェットヘッド5を用いて染料インクにより露光部
にR、G、Bのマトリクスパターンを着色した後、各実
施例と同様の条件で熱処理を行った。
Example 34 Each of the compositions of Examples 1, 12, and 23 was prepared as shown in FIG.
The resin layer 3 was formed by coating on the glass substrate 1. Next, pattern exposure was performed from the resin layer 3 side using the photomask 4 to reduce the ink absorbency of the resin in the exposed portion. Further, after the R, G, and B matrix patterns were colored on the exposed portions with a dye ink using the inkjet head 5, a heat treatment was performed under the same conditions as in each example.

【0072】更に実施例11と同様にして保護層6を形
成し、液晶用のカラーフィルタを作成した。
Further, a protective layer 6 was formed in the same manner as in Example 11, and a color filter for liquid crystal was formed.

【0073】このようにして作成された液晶用のカラー
フィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色
ムラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
Observation of the thus prepared liquid crystal color filter with an optical microscope revealed no obstacles such as color mixture, color unevenness, and color omission.

【0074】又、このカラーフィルタを用いて図4に示
す液晶パネルを作成し、駆動させたところ、高精細なカ
ラー表示が可能であった。
Further, when the liquid crystal panel shown in FIG. 4 was prepared and driven by using the color filters, a high-definition color display was possible.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明による液晶用カラーフィルタの製
造方法を採用することにより、混色、色ムラ、色抜け等
の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価
に製造することができる。
By employing the method of manufacturing a liquid crystal color filter according to the present invention, a highly reliable liquid crystal color filter free from obstacles such as color mixing, color unevenness, and color omission can be manufactured at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法
を示す図である。
FIG. 1 is a view illustrating a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal according to the present invention.

【図2】本発明による液晶用カラーフィルタの別の製造
方法を示す図である。
FIG. 2 is a view showing another method of manufacturing a color filter for a liquid crystal according to the present invention.

【図3】液晶パネルの断面を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a cross section of a liquid crystal panel.

【図4】別の液晶パネルの断面を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a cross section of another liquid crystal panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 ブラックマトリクス 3 光硬化型インク受容層 4 フォトマスク 5 インクジェットヘッド 6 保護層 7 光透過部 8 非着色部 9 カラーフィルタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Black matrix 3 Photocurable ink receiving layer 4 Photomask 5 Inkjet head 6 Protective layer 7 Light transmission part 8 Non-colored part 9 Color filter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城田 勝浩 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 宮▲崎▼ 健 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 佐藤 博 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−232310(JP,A) 特開 平5−142411(JP,A) 特開 平4−194941(JP,A) 特開 平6−148888(JP,A) 特開 平6−51513(JP,A) 特開 平1−217302(JP,A) 特開 昭61−77014(JP,A) 特開 平5−241012(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02B 5/20 - 5/28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Katsuhiro Shiroda, Inventor 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Miya ▲ Saki ▼ Ken 30-30, Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo (72) Inventor Hiroshi Sato 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (56) References JP 5-232310 (JP, A) JP 5-A 142411 (JP, A) JP-A-4-19491 (JP, A) JP-A-6-148888 (JP, A) JP-A-6-51513 (JP, A) JP-A-1-217302 (JP, A) JP-A-61-77014 (JP, A) JP-A-5-241012 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G02B 5/20-5/28

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 インクジェット方式を用いて基板上に着
色剤を配列させてなるカラーフィルタの製造方法であっ
て、 1)基板上に、インク吸収性を有し、光照射又は光照射
及び熱処理により、インク吸収性が低下する樹脂層を設
ける工程、 2)基板上の該樹脂層に、インク吸収性の低下していな
い部分と、光照射又は光照射及び熱処理を施すことによ
りインク吸収性の低下した部分を形成する工程、 3)該樹脂層に、インクジェット方式を用いて色の異な
る複数種の着色剤を付与してインク吸収性の低下してい
ない部分を前記着色剤の各色で着色する工程と、 4)該樹脂層に光照射及び/又は熱処理を行って、該樹
脂層を硬化させる工程とを有してなり、該樹脂層が、
(a)下記式(I)で表される構造単位からなる単量体
の単独重合体及び/又は他のビニル系単量体との共重合
体と、(b)ハロゲン化トリアジン化合物、ジフェニル
ヨードニウム塩誘導体及びトリフェニルスルホニウム塩
誘導体から選択される化合物とを少なくとも含むことを
特徴とするカラーフィルタの製造方法。 【外1】 (但し、R1は水素原子又はメチル基、R2は水素原子又
は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)
1. A method for manufacturing a color filter, comprising: arranging a colorant on a substrate using an ink-jet method, the method comprising: 1) having an ink-absorbing property on the substrate and performing light irradiation or light irradiation and heat treatment; Providing a resin layer with reduced ink absorbency; 2) reducing the ink absorbency by subjecting the resin layer on the substrate to a portion where the ink absorbency has not decreased, and performing light irradiation or light irradiation and heat treatment. 3) a step of applying a plurality of types of colorants having different colors to the resin layer by using an ink-jet method, and coloring a portion in which the ink absorbency is not reduced with each color of the colorant. And 4) performing a light irradiation and / or a heat treatment on the resin layer to cure the resin layer.
(A) a homopolymer of a monomer comprising a structural unit represented by the following formula (I) and / or a copolymer with another vinyl monomer, and (b) a halogenated triazine compound, diphenyliodonium A method for producing a color filter, comprising at least a compound selected from a salt derivative and a triphenylsulfonium salt derivative. [Outside 1] (However, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
【請求項2】 基板に遮光部を有し、該遮光部上のイン
ク吸収性を低下させた樹脂層の幅が、遮光部の幅より小
さい請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。
2. The color filter manufacturing method according to claim 1, wherein the substrate has a light-shielding portion, and the width of the resin layer on the light-shielding portion, which has reduced ink absorbency, is smaller than the width of the light-shielding portion.
【請求項3】 前記(a)の重合体100重量部に対し
て(b)の化合物の量が、0.01〜10重量部含まれ
る請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the amount of the compound (b) is 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer (a).
【請求項4】 一般式(I)で表される単量体が、N−
メチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアクリ
ルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−イ
ソプロポキシメチルアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−メトキシメチルメタクリルアミ
ド、N−エトキシメチルメタクリルアミドから選択され
る請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the monomer represented by the general formula (I) is N-
The methylol acrylamide, N-methoxymethyl acrylamide, N-ethoxymethyl acrylamide, N-isopropoxymethyl acrylamide, N-methylol methacrylamide, N-methoxymethyl methacrylamide, N-ethoxymethyl methacrylamide according to claim 1. Method for manufacturing a color filter.
【請求項5】 ビニル系単量体が、アクリル酸、メタク
リル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、ヒドロキシメチル
メタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒ
ドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリ
レート、スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、アリルアミ
ン、ビニルアミン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルか
ら選択される請求項1に記載のカラーフィルタの製造方
法。
5. A vinyl monomer comprising acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, hydroxymethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxymethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the color filter is selected from styrene, α-methylstyrene, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, allylamine, vinylamine, vinyl acetate, and vinyl propionate.
【請求項6】 ハロゲン化トリアジン化合物が、下記式
(II)で表される化合物である請求項1に記載のカラ
ーフィルタの製造方法。 【外2】 (但し、Zはハロゲン原子、YはCZ3(Zはハロゲン
原子)、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、 【外3】 7は炭素数1〜5のアルキル基であり、1つの基にR7
が2つある場合、互いに異なっていても良い)
6. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the halogenated triazine compound is a compound represented by the following formula (II). [Outside 2] (However, Z is a halogen atom, Y is CZ 3 (Z is a halogen atom), a phenyl group, a halogenated phenyl group, R 7 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 7 in one group
If there are two, they may be different from each other)
【請求項7】 前記ハロゲン化トリアジン化合物が、2
−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−S−トリアジン、2−スチリル−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−(p
−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−S−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジンから選択される
請求項6に記載のカラーフィルタの製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein the halogenated triazine compound is 2
-(P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-styryl-4,6-
Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p
7. The color filter according to claim 6, wherein the color filter is selected from -methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine. Method.
【請求項8】 ジフェニルヨードニウム塩誘導体が、下
記式(III)で表される化合物である請求項1に記載
のカラーフィルタの製造方法。 【外4】 (但し、R4、R5は水素原子、炭素数1〜5のアルコキ
シ基もしくはt−ブチル基、X-はBF4 -、PF6 -、S
bF6 -又はCF3SO3 -を表す。)
8. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the diphenyliodonium salt derivative is a compound represented by the following formula (III). [Outside 4] (However, R 4 and R 5 are a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a t-butyl group, and X is BF 4 , PF 6 , S
bF 6 - or CF 3 SO 3 - represents a. )
【請求項9】 前記ジフェニルヨードニウム塩誘導体
が、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネ
ート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェー
ト、ジフェニルヨードニウムトリフラート、これらの誘
導体から選択される請求項8に記載のカラーフィルタの
製造方法。
9. The color filter according to claim 8, wherein the diphenyliodonium salt derivative is selected from diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium triflate, and derivatives thereof. Manufacturing method.
【請求項10】 トリフェニルスルホニウム塩誘導が、
下記式(IV)で表される化合物である請求項1に記載
のカラーフィルタの製造方法。 【外5】 (但し、R6は水素原子、炭素数1〜5のアルコキシ
基、炭素数1〜5のアルキル基、 【外6】 又はフッ素原子を表し、X-はBF4 -、PF6 -、SbF6
-又はCF3SO3 -を表す。)
10. The triphenylsulfonium salt derivative,
The method for producing a color filter according to claim 1, which is a compound represented by the following formula (IV). [Outside 5] (Where R 6 is a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Or a fluorine atom, and X is BF 4 , PF 6 , SbF 6
- or CF 3 SO 3 - represents a. )
【請求項11】 前記トリフェニルスルホニウム塩誘導
体が、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
フェート、トリフェニルスルホニウムトリフラート、こ
れらの誘導体から選択される請求項10に記載のカラー
フィルタの製造方法。
11. The triphenylsulfonium salt derivative is selected from triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium triflate, and derivatives thereof. 3. The method for producing a color filter according to 1.
【請求項12】 請求項1乃至11に記載の製造方法で
得られたカラーフィルタと、これに対向する位置に基板
を設け、カラーフィルタと基板との間に液晶組成物を封
入したことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
12. A color filter obtained by the method according to claim 1, a substrate is provided at a position facing the color filter, and a liquid crystal composition is sealed between the color filter and the substrate. Liquid crystal panel manufacturing method.
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