JP2001108814A - Color filter with spacer, its production method and liquid crystal device using that color filter - Google Patents

Color filter with spacer, its production method and liquid crystal device using that color filter

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JP2001108814A
JP2001108814A JP28616199A JP28616199A JP2001108814A JP 2001108814 A JP2001108814 A JP 2001108814A JP 28616199 A JP28616199 A JP 28616199A JP 28616199 A JP28616199 A JP 28616199A JP 2001108814 A JP2001108814 A JP 2001108814A
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JP
Japan
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resin composition
color filter
spacer
layer
colored
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JP28616199A
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Japanese (ja)
Inventor
Masafumi Hirose
雅史 広瀬
Akio Kashiwazaki
昭夫 柏崎
Katsuhiro Shirota
勝浩 城田
Yoshihisa Yamashita
佳久 山下
Koichiro Nakazawa
広一郎 中澤
Takeshi Miyazaki
健 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily form a spacer which does not influence the display on a color filter at a low cost. SOLUTION: A black matrix 2, a color layer consisting of a colored part 9 and a non-colored part 5, a protective layer 10, a transparent conductive film 11 and a resin composition layer 12 are formed on a transparent substrate 1. A hardening agent 14 is applied partially through an ink jet head 13 on the resin composition layer 12 in a region including the overlapped region of the black matrix 2 to harden the resin composition layer 12 only in the region where the hardening agent 14 is applied to form a spacer 15.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材である
カラーフィルタとその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device for color display used in a color television, a personal computer, a pachinko game machine, and the like, a color filter as a constituent member of the liquid crystal device, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of personal computers,
In particular, with the development of portable personal computers, the demand for color liquid crystal displays tends to increase. However, cost reduction is indispensable for further spread.

【0003】従来、液晶素子の製造方法としては、一対
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にTFT(薄膜
トランジスタ)のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板全面に一般に3
〜10μm程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等からな
る真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分散させ
る。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラス基板
を上記スペーサーを介して重ね合わせ、その間隙に液晶
を封入することにより液晶素子が構成される。
Conventionally, as a method of manufacturing a liquid crystal element, a liquid crystal driving element such as a TFT (thin film transistor) or a coloring optical element such as a color filter is provided on a pair of transparent insulating substrates on a glass substrate. After the provision, a transparent electrode and an alignment film are formed. Next, generally, the entire surface of one glass substrate on which the transparent electrode and the alignment film are formed,
True spherical or cylindrical particles of silica, alumina, synthetic resin or the like of about 10 to 10 μm are dispersed as spacers. A liquid crystal element is formed by superposing the pair of glass substrates with the transparent electrodes facing each other via the spacer and sealing the liquid crystal in the gap.

【0004】ところが、有効画素部(透光部)では透過
/遮光状態が表示状態によって変化するため、上記スペ
ーサーを無色透明な素材で形成した場合には、遮光時に
輝点として、また、黒色に着色した場合には透過時に黒
点として観察されることとなり、表示品位が低下すると
いう問題があった。
However, in the effective pixel portion (light-transmitting portion), the transmissive / shielded state changes depending on the display state. Therefore, when the spacer is formed of a colorless and transparent material, it becomes a bright point at the time of light-shielding and becomes black. When colored, it is observed as a black spot at the time of transmission, and there is a problem that the display quality is reduced.

【0005】上記問題を解決するために、特開昭61−
173221号公報、特開平2−223922号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平3−94230号公報には、有効画素
部以外の領域の遮光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が述べられている。
In order to solve the above problem, Japanese Patent Application Laid-Open No.
As shown in 173221, JP-A-2-223922, etc., after performing an alignment treatment on an alignment film, a photosensitive polyimide or a photoresist is applied, and exposed through a mask to obtain a polyimide other than an effective pixel portion. And a method of forming a spacer made of resist. According to these methods, a spacer can be formed at an arbitrary density at an arbitrary place, and therefore, the non-uniformity of a liquid crystal cell gap when a liquid crystal is sealed can be improved. Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-94230 describes a method of fixing a bead spacer on a light-shielding layer in a region other than an effective pixel portion.

【0006】その他にも、膜厚の大きなブラックマトリ
クスをスペーサーとする方法(特開昭63−23703
2号公報、特開平3−184022号公報、特開平4−
122914号公報等)、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法(特開昭63−82405号公報)、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法(特開昭63−237032号公報)な
どが提案されている。
Another method is to use a black matrix having a large thickness as a spacer (Japanese Patent Laid-Open No. 63-23703).
No. 2, JP-A-3-184022, JP-A-4-184
122914), a method of using a colored resist overlapped as a spacer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-82405), and a method of forming a colored pattern on a black matrix and using it as a spacer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-237032). ) Has been proposed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記各公報に提案され
た改善方法は、いずれもフォトリソグラフィーを用いて
おり、非常に狭い幅の遮光層上にスペーサーを形成する
ためには、パターン露光工程においてフォトマスクとカ
ラーフィルタとを高精度に位置合わせしなければなら
ず、高価な露光機が必要であり、製造効率及び歩留まり
が悪くコスト的にも問題があった。
The improvement methods proposed in each of the above publications use photolithography. In order to form a spacer on a light-shielding layer having a very narrow width, it is necessary to use a pattern exposure process. The photomask and the color filter must be positioned with high precision, an expensive exposure machine is required, and the manufacturing efficiency and yield are poor, and there is a problem in cost.

【0008】本発明の目的は、セルギャップ保持機能が
良好で、表示に影響の無いスペーサーを容易に且つ歩留
まり良く形成し、表示品位に優れた液晶素子をより安価
に提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a liquid crystal element which has a good cell gap holding function and does not affect display easily and with good yield, and which has excellent display quality at a low cost.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、を少なくとも形成してカラーフィルタを形
成する工程と、該カラーフィルタ上に樹脂組成物層を形
成し、該樹脂組成物層上の上記遮光層に重複する領域に
部分的にインクジェット方式により上記樹脂組成物を硬
化させる硬化剤を付与して当該領域の樹脂組成物層を硬
化させ、未硬化の樹脂組成物を除去してスペーサーを形
成する工程と、を少なくとも有することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a color filter manufacturing method comprising: a light-shielding layer having a plurality of openings on a transparent substrate; and a coloring section having a colored portion disposed in each opening of the light-shielding layer. And a layer, at least forming a color filter, and forming a resin composition layer on the color filter, and partially inkjetting a region on the resin composition layer overlapping the light-shielding layer. Applying a curing agent for curing the resin composition to cure the resin composition layer in the region, and removing the uncured resin composition to form a spacer.

【0010】上記本発明は、樹脂組成物が光硬化型であ
り、硬化剤が該樹脂組成物層の光硬化反応開始剤である
こと、着色層上に保護層を形成し、該保護層上にスペー
サーを形成すること、及び/または、着色層上に透明導
電膜を形成し、該透明導電膜上にスペーサーを形成する
こと、を好ましい態様として含むものである。
According to the present invention, the resin composition is a photo-curing type, the curing agent is a photo-curing reaction initiator of the resin composition layer, a protective layer is formed on the colored layer, And / or forming a transparent conductive film on the colored layer and forming a spacer on the transparent conductive film as preferred embodiments.

【0011】また、上記本発明は、透明基板上に全面に
樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受
容層にインクジェット方式により着色インクを付与して
着色し、着色部を形成すること、或いは、黒色樹脂組成
物により開口部を有する遮光層を形成し、該遮光層の開
口部に着色樹脂組成物からなる硬化型着色インクを付与
して硬化し、着色部を形成することを、好ましい態様と
して含むものである。
Further, in the present invention, an ink receiving layer made of a resin composition is formed on the entire surface of a transparent substrate, and the ink receiving layer is colored by applying a colored ink by an ink jet method to form a colored portion. Or forming a light-shielding layer having an opening with a black resin composition, applying a curable coloring ink composed of a colored resin composition to the opening of the light-shielding layer, and curing the ink to form a colored portion. , As a preferred embodiment.

【0012】さらに、本発明は、透明基板上に、複数の
開口部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置さ
れた着色部を有する着色層と、を少なくとも有するカラ
ーフィルタと、該カラーフィルタ上の上記遮光層に重複
する領域に部分的に樹脂組成物を硬化してなるスペーサ
ーを備え、上記本発明の製造方法により製造されたこと
を特徴とするスペーサー付カラーフィルタを提供するも
のである。
Further, the present invention provides a color filter having at least a light-shielding layer having a plurality of openings on a transparent substrate, and a coloring layer having a coloring portion disposed in each opening of the light-shielding layer. A color filter with a spacer is provided, which is provided with a spacer obtained by partially curing a resin composition in a region overlapping the light-shielding layer on the color filter, and manufactured by the manufacturing method of the present invention. Things.

【0013】さらにまた、本発明は、一対の基板間に液
晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のスペーサ
ー付カラーフィルタであって、一対の基板間の距離が該
スペーサーにより保持されていることを特徴とする液晶
素子を提供するものである。
Further, according to the present invention, a liquid crystal is held between a pair of substrates, and one of the substrates is the color filter with a spacer according to the present invention, wherein the distance between the pair of substrates is held by the spacer. And a liquid crystal element characterized by the following.

【0014】本発明においては、カラーフィルタ上に形
成した樹脂組成物層を、インクジェット方式により付与
した硬化剤により部分的に硬化させてスペーサーを形成
するため、遮光層上にのみ選択的にスペーサーを形成し
うると同時に、従来のフォトリソグラフィーを用いたス
ペーサーの形成方法のように、フォトマスクとカラーフ
ィルタとの高精度な位置合わせが不要となる。
In the present invention, since the resin composition layer formed on the color filter is partially cured by a curing agent applied by an ink jet method to form a spacer, the spacer is selectively formed only on the light shielding layer. At the same time, it is not necessary to perform high-precision alignment between the photomask and the color filter as in the conventional method of forming a spacer using photolithography.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0016】図1〜図2は、本発明のスペーサー付カラ
ーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。図
中、1は透明基板、2はブラックマトリクス、3はイン
ク受容層、4はフォトマスク、5は非着色部、6は被着
色部、7はインクジェットヘッド、8は着色インク、9
は着色部、10は保護層、11は透明電極、12は樹脂
組成物層、13はインクジェットヘッド、14は硬化
剤、15はスペーサーである。尚、図1〜図2の(a)
〜(i)はそれぞれ以下の工程(a)〜(i)にそれぞ
れ対応する断面模式図である。
FIGS. 1 and 2 are process diagrams of an embodiment of a method for manufacturing a color filter with spacers according to the present invention. In the figure, 1 is a transparent substrate, 2 is a black matrix, 3 is an ink receiving layer, 4 is a photomask, 5 is a non-colored portion, 6 is a portion to be colored, 7 is an ink jet head, 8 is a colored ink, 9
Is a colored portion, 10 is a protective layer, 11 is a transparent electrode, 12 is a resin composition layer, 13 is an inkjet head, 14 is a curing agent, and 15 is a spacer. 1 and 2 (a).
(I) to (i) are schematic sectional views respectively corresponding to the following steps (a) to (i).

【0017】工程(a) 透明基板1上に、開口部を有する遮光層としてブラック
マトリクス2を形成し、その上に樹脂組成物からなるイ
ンク受容層3を全面に形成する。本発明において透明基
板1としては、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
素子としての透明性、機械的強度等の必要特性を有する
ものであればガラス基板に限定されるものではなく、プ
ラスチック基板なども用いることができる。本発明にか
かる遮光層は、ブラックストライプであっても良い。
Step (a) On a transparent substrate 1, a black matrix 2 is formed as a light-shielding layer having an opening, and an ink receiving layer 3 made of a resin composition is formed on the entire surface. In the present invention, a glass substrate is generally used as the transparent substrate 1. However, the substrate is not limited to a glass substrate as long as it has necessary characteristics such as transparency and mechanical strength as a liquid crystal element. Can also be used. The light-shielding layer according to the present invention may be a black stripe.

【0018】ブラックマトリクス2としては特に制限は
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板1上に形成したCr等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板1上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることにより、
形成することができる。
The black matrix 2 is not particularly limited, and any known black matrix can be used. For example, by etching a laminated film of a metal such as Cr or a metal oxide formed on the transparent substrate 1 into a pattern, or by patterning a black resist applied on the transparent substrate 1,
Can be formed.

【0019】インク受容層3は、光照射や熱処理、或い
はその両方により硬化する樹脂組成物からなり、インク
吸収性を有する。特に好ましくは、光照射によってイン
ク吸収性が増加或いは低減する感光性樹脂組成物で形成
し、後述するパターン露光によって隣接する被着色部6
間に非着色部5を形成して混色防止を図る。このような
感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂などが必要に応じて光開始剤(架橋剤)と併せ
て用いられる。本実施形態は、光照射によってインク吸
収性が低下するネガ型の感光性樹脂組成物を用いた例で
ある。
The ink receiving layer 3 is made of a resin composition which is cured by light irradiation, heat treatment, or both, and has ink absorbency. Particularly preferably, it is formed of a photosensitive resin composition whose ink absorptivity increases or decreases by light irradiation, and the adjacent colored portion 6 is formed by pattern exposure described later.
A non-colored portion 5 is formed therebetween to prevent color mixing. As such a photosensitive resin composition, an acrylic resin, an epoxy resin, an amide resin, a phenol resin, a polystyrene resin, or the like is used, if necessary, in combination with a photoinitiator (crosslinking agent). This embodiment is an example in which a negative photosensitive resin composition whose ink absorbency is reduced by light irradiation is used.

【0020】上記感光性樹脂組成物は透明基板1上にス
ピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バー
コート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布
し、必要に応じてプリベークしてインク受容層3とす
る。
The photosensitive resin composition is applied onto the transparent substrate 1 by a known method such as a spin coating method, a dipping method, a roll coating method, a bar coating method, a slit coating method and the like, and is prebaked if necessary. This is the receiving layer 3.

【0021】尚、インク受容層3は光照射によってイン
ク吸収性が増加または低減すると同時に、インクぬれ性
も増加または低減するものが好ましい。
It is preferable that the ink receiving layer 3 increases or decreases the ink absorbability by light irradiation and also increases or decreases the ink wettability.

【0022】工程(b) フォトマスク4を介してパターン露光を行うことによ
り、インク吸収性を有する被着色部6とインク吸収性が
被着色部6より低い(或いは無い)非着色部5を形成す
る。本例では、インク受容層3の感光性がネガ型であ
り、この場合、ブラックマトリクス2の開口部における
色抜けを防止するために、着色部9をブラックマトリク
ス2の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマ
トリクス2の幅よりも非着色部5の幅が狭くなるような
開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ま
しい。
Step (b) By performing pattern exposure through the photomask 4, a colored portion 6 having ink absorbency and a non-colored portion 5 having (or no) ink absorbency lower than the colored portion 6 are formed. I do. In the present embodiment, the photosensitivity of the ink receiving layer 3 is negative, and in this case, the colored portion 9 is formed wider than the opening of the black matrix 2 in order to prevent color loss at the opening of the black matrix 2. In terms of meaning, it is preferable to use a photomask having an opening pattern such that the width of the non-colored portion 5 is smaller than the width of the black matrix 2.

【0023】また、インク受容層3の感光性がポジ型の
場合には、ブラックマトリクス2をフォトマスクとして
用い、透明基板1の裏面から露光することにより、フォ
トマスクを用いずにパターン露光することが可能であ
る。
When the photosensitivity of the ink receiving layer 3 is positive, pattern exposure is performed without using a photomask by exposing the back surface of the transparent substrate 1 using the black matrix 2 as a photomask. Is possible.

【0024】工程(c) インク受容層の被着色部6にインクジェットヘッド7よ
り、所定の着色パターンに沿ってR(赤)、G(緑)、
B(青)の各着色インク8を付与する。本実施形態で
は、隣接する被着色部6間にはインク吸収性が低い(或
いはない)非着色部5が介在するため、被着色部6から
はみ出したインクは非着色部5においてはじかれ、隣接
する被着色部6間での混色が防止される。
Step (c) R (red), G (green), and R (red) are applied to the colored portion 6 of the ink receiving layer from the inkjet head 7 along a predetermined colored pattern.
Each colored ink 8 of B (blue) is applied. In the present embodiment, since the non-colored portion 5 having low (or no) ink absorbability intervenes between the adjacent colored portions 6, the ink that has protruded from the colored portion 6 is repelled in the non-colored portion 5, and Color mixing between the colored portions 6 is prevented.

【0025】本発明において用いられる着色インク8と
しては、染料系、顔料系のいずれでも用いることがで
き、インクジェット方式によって吐出が可能なものであ
れば好ましく用いることができる。
As the colored ink 8 used in the present invention, any of a dye-based ink and a pigment-based ink can be used, and any ink that can be ejected by an ink jet method can be preferably used.

【0026】また、本発明において用いられるインクジ
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着
色面積及び着色パターンは任意に設定することができ
る。
As an ink jet system used in the present invention, a bubble jet type using an electrothermal converter or a piezo jet type using a piezoelectric element can be used as an energy generating element. The pattern can be set arbitrarily.

【0027】工程(d) 着色インク8が被着色部6に吸収され十分に拡散した
後、必要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処
理等必要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、
非着色部5と着色部9からなる着色層を形成する。
Step (d) After the colored ink 8 is absorbed and sufficiently diffused in the colored portion 6, a drying process is performed as necessary, and further a necessary process such as light irradiation and heat treatment is performed to form the entire ink receiving layer. Cured,
A colored layer including a non-colored portion 5 and a colored portion 9 is formed.

【0028】工程(e) 必要に応じて保護層10及び液晶素子において液晶を駆
動するための電極となる透明導電膜11を形成する。保
護層10としては、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光
併用硬化型の樹脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等に
よって形成された無機膜等を用いることができる。いず
れの場合も、カラーフィルタとしての透明性を有し、そ
の後の配向膜形成工程、配向膜形成工程等液晶素子の製
造工程に耐えるものであれば使用することができる。ま
た、透明導電膜11としては、通常ITO(インジウム
・チン・オキサイド)をスパッタ法等により成膜して用
いられる。
Step (e) If necessary, a protective layer 10 and a transparent conductive film 11 serving as an electrode for driving liquid crystal in the liquid crystal element are formed. As the protective layer 10, a resin composition layer of a photo-curing type, a thermosetting type, or a thermosetting / light-curing type, or an inorganic film formed by vapor deposition, sputtering, or the like can be used. In any case, any material can be used as long as it has transparency as a color filter and can withstand the subsequent steps of forming a liquid crystal element such as an alignment film forming step and an alignment film forming step. The transparent conductive film 11 is usually formed by depositing ITO (indium tin oxide) by a sputtering method or the like.

【0029】さらに本発明のカラーフィルタにおいて
は、透明導電膜11上に液晶素子において液晶を配向さ
せるための配向膜を形成してから後述のスペーサー15
を形成する場合もある。
Further, in the color filter of the present invention, after forming an alignment film for aligning the liquid crystal in the liquid crystal element on the transparent conductive film 11, a spacer 15 described later is formed.
May be formed.

【0030】工程(f) 透明導電膜11上に樹脂組成物層12を形成する。該樹
脂組成物層12は後述の工程において付与された硬化剤
14により所望の形状にパターニングされてスペーサー
15となる部材である。
Step (f) A resin composition layer 12 is formed on the transparent conductive film 11. The resin composition layer 12 is a member that becomes a spacer 15 by being patterned into a desired shape by a curing agent 14 applied in a step described later.

【0031】本発明においてスペーサー15の形成に用
いられる樹脂組成物と硬化剤14の組み合わせとして
は、基材樹脂としては、エポキシ樹脂;アミド系樹脂、
フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、シリコン樹
脂;メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等
のセルロース誘導体或いはその変性物、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセル
ロース誘導体、ポリビニルアルコール等の高分子アルコ
ール及びそれらの誘導体、クレゾールノボラック等のノ
ボラック樹脂及びそれらの誘導体、ヒドロキシエチルメ
タクリレート等のアクリルモノマー単位を含むアクリル
系樹脂、等が挙げられる。
In the present invention, as the combination of the resin composition used for forming the spacer 15 and the curing agent 14, the base resin may be an epoxy resin; an amide resin;
Phenolic resins, polystyrene resins, silicone resins; cellulose derivatives or modified products thereof such as methylcellulose and carboxymethylcellulose; cellulose derivatives such as hydroxypropylcellulose and hydroxyethylcellulose; polymer alcohols such as polyvinyl alcohol and their derivatives; cresol novolak Novolak resins and their derivatives, acrylic resins containing acrylic monomer units such as hydroxyethyl methacrylate, and the like.

【0032】これらの樹脂を光或いは光と熱により架橋
反応を進行させるために用いる硬化剤14としては、一
般に光開始剤や架橋剤として用いられる組成物を用いる
ことができ、光開始剤としては、重クロム酸塩、ビスア
ジド化合物、ラジカル系開始剤、カチオン系開始剤、ア
ニオン系開始剤、トリフェニルスルフォニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、トリフェニルスルフォニウムト
リフラート等のオニウム塩、トリクロロメチルトリアジ
ン等のハロゲン化有機化合物等が使用可能である。また
架橋剤としては、メチロール化メラミン等のメラミン誘
導体、エポキシ系の架橋剤等が挙げられるが、いずれも
これらに限定されるものではない。また、これらの硬化
剤を混合して、あるいは他の増感剤と組み合わせて使用
することもできる。
As the curing agent 14 used for promoting the crosslinking reaction of these resins by light or light and heat, a composition generally used as a photoinitiator or a crosslinking agent can be used. , Dichromates, bisazide compounds, radical initiators, cationic initiators, anionic initiators, onium salts such as triphenylsulfonium hexafluoroantimonate and triphenylsulfonium triflate, and halogenations such as trichloromethyltriazine Organic compounds and the like can be used. Examples of the cross-linking agent include melamine derivatives such as methylolated melamine, and epoxy-based cross-linking agents, but are not limited thereto. Further, these curing agents can be mixed or used in combination with other sensitizers.

【0033】該樹脂組成物層12は、スピンコート法、
ディッピング法、ロールコート法、バーコート法、スリ
ットコート法等の公知の手段により塗布し、必要に応じ
て熱処理等を施して仮硬化させ、形成することができ
る。一般的な液晶素子のセルギャップは2〜10μmで
あり、本発明においてもこの範囲の高さのスペーサー1
5が好ましく、樹脂組成物層12は当該高さのスペーサ
ーを形成するようにその厚さを設定される。
The resin composition layer 12 is formed by spin coating,
It can be formed by applying by a known means such as a dipping method, a roll coating method, a bar coating method, a slit coating method and the like, and performing a heat treatment or the like as necessary and temporarily curing. The cell gap of a general liquid crystal element is 2 to 10 μm, and in the present invention, the spacer 1 having a height in this range is also used.
5 is preferable, and the thickness of the resin composition layer 12 is set so as to form a spacer having the height.

【0034】工程(g) インクジェットヘッド13より、硬化剤14をブラック
マトリクス2に重複する領域に部分的に付与する。
Step (g) The curing agent 14 is partially applied from the ink jet head 13 to a region overlapping the black matrix 2.

【0035】硬化剤14の調製に際しては、硬化剤成分
を水/または公知の溶剤で混合、溶解する。この操作
は、それ自体公知のものが利用できる。望ましくは、添
加溶剤或いは界面活性剤などの添加剤を加えて吐出され
た硬化剤14の形成するドットの径を調整することによ
り、硬化させる領域、即ちスペーサー15の径調整が可
能である。
In preparing the hardener 14, the hardener components are mixed and dissolved with water and / or a known solvent. For this operation, a known operation can be used. Desirably, by adjusting the diameter of the dots formed by the discharged curing agent 14 by adding an additive such as an additive solvent or a surfactant, the diameter of the region to be cured, that is, the spacer 15 can be adjusted.

【0036】また、硬化剤14の付与に用いるインクジ
ェット方式としては、先の着色インク8の付与工程と同
様に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた
バブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾ
ジェットタイプ等が使用可能である。硬化剤14の打ち
込み位置、及び打ち込み量は任意に設定することができ
る。
As the ink jet system used for applying the curing agent 14, a bubble jet type using an electrothermal converter as an energy generating element or a piezoelectric element is used as in the application step of the colored ink 8 described above. A piezo jet type or the like can be used. The driving position and the driving amount of the curing agent 14 can be arbitrarily set.

【0037】また、硬化剤14は、液晶素子を構成した
際にセルギャップを保持するために必要な部位にのみ、
ドット状或いはライン状で基板内に複数個、分散して付
与すればよい。
The curing agent 14 is applied only to a portion necessary to maintain a cell gap when a liquid crystal element is formed.
What is necessary is just to disperse | distribute and apply several pieces in a board | substrate in a dot form or a line form.

【0038】本発明においては、当該工程において、ス
ペーサーを形成する部分の樹脂組成物層にのみ、インク
ジェット方式により硬化剤を付与して硬化させてスペー
サーを形成するため、所望の位置に所望の形状でスペー
サーを形成することができ、従来のようなフォトマスク
とカラーフィルタとの高精度な位置合わせが不要であ
る。
In the present invention, in the step, a curing agent is applied by an ink-jet method to cure only the resin composition layer in a portion where the spacer is to be formed and cured to form the spacer. The spacer can be formed by using the above method, and the highly accurate alignment between the photomask and the color filter as in the related art is unnecessary.

【0039】工程(h) 硬化剤14を付与した領域において、樹脂組成物層12
の硬化反応が進行する。尚、光硬化型や熱硬化型の樹脂
組成物を用いた場合には、光照射や加熱処理等、必要な
処理を施す。
Step (h) In the region where the curing agent 14 has been applied, the resin composition layer 12
The curing reaction proceeds. When a photocurable or thermosetting resin composition is used, necessary treatments such as light irradiation and heat treatment are performed.

【0040】工程(i) 未硬化の樹脂組成物を除去し、必要に応じて熱処理等を
施してスペーサー15を形成し、本発明のスペーサー付
カラーフィルタを得る。
Step (i) The uncured resin composition is removed, and a heat treatment or the like is performed as necessary to form the spacers 15 to obtain the color filter with spacers of the present invention.

【0041】特に厳密な平坦性が必要な場合には、スペ
ーサー15の表面を研磨テープ等を用いて研磨してもか
まわない。
If particularly strict flatness is required, the surface of the spacer 15 may be polished using a polishing tape or the like.

【0042】次に、図4〜図5に本発明のスペーサー付
カラーフィルタの製造方法の他の実施形態の工程を示
す。図中、図1〜図2と同じ部材には同じ符号を付して
説明を省略する。また、図中、32はブラックマトリク
ス、37はインクジェットヘッド、38は硬化型着色イ
ンク、39は着色部である。尚、図4〜図5の(a)〜
(h)はそれぞれ以下の工程(a)〜(h)にそれぞれ
対応する断面模式図である。
Next, FIGS. 4 and 5 show the steps of another embodiment of the method for manufacturing a color filter with spacers of the present invention. In the drawings, the same members as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In the figure, 32 is a black matrix, 37 is an ink jet head, 38 is a curable colored ink, and 39 is a colored portion. 4A to 5A.
(H) is a schematic sectional view corresponding to each of the following steps (a) to (h).

【0043】工程(a) 透明基板1上に開口部を有するブラックマトリクス32
を黒色樹脂組成物で形成する。該ブラックマトリクス3
2は、着色部39を形成するための硬化型着色インク3
8の混色を防止する隔壁機能を備えている。このような
黒色樹脂組成物としては、感光性を備えたものが好まし
く、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ア
ミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂な
どが必要に応じて光開始剤(架橋剤)と併せて用いら
れ、黒色染料或いは顔料を混合して用いる。
Step (a) Black matrix 32 having an opening on transparent substrate 1
Is formed with a black resin composition. The black matrix 3
2 is a curable colored ink 3 for forming the colored portion 39
8 has a partition function to prevent color mixing. As such a black resin composition, those having photosensitivity are preferable, and specifically, an acrylic resin, an epoxy resin, an amide resin, a phenol resin, a polystyrene resin, etc. It is used in combination with an initiator (crosslinking agent), and is used by mixing a black dye or pigment.

【0044】上記感光性黒色樹脂組成物は、スピンコー
ト法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート
法、スリットコート法等の公知の手段により塗布され、
必要に応じてプリベークした後、パターン露光、現像し
て所定のパターンを有するブラックマトリクス32が得
られる。
The above photosensitive black resin composition is applied by a known means such as spin coating, dipping, roll coating, bar coating, slit coating, etc.
After prebaking as necessary, pattern exposure and development are performed to obtain a black matrix 32 having a predetermined pattern.

【0045】工程(b) ブラックマトリクス32の開口部にインクジェットヘッ
ド37より硬化型着色インク38を付与する。硬化型着
色インク38としては、光照射や熱処理などのエネルギ
ー付与により硬化する樹脂とR、G、Bの染料或いは顔
料を含有する着色樹脂組成物が用いられる。上記樹脂と
しては、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカル
ボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキ
シ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エ
ポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合
物、ネガ型レジストなどが用いられる。
Step (b) The curable coloring ink 38 is applied to the opening of the black matrix 32 from the ink jet head 37. As the curable colored ink 38, a colored resin composition containing a resin which is cured by energy irradiation such as light irradiation or heat treatment and R, G, B dyes or pigments is used. Examples of the resin include melamine resin, hydroxyl or carboxyl group-containing polymer and melamine, hydroxyl or carboxyl group-containing polymer and polyfunctional epoxy compound, hydroxyl or carboxyl group-containing polymer and cellulose reaction type compound, epoxy resin and resol type resin, epoxy Resins and amines, epoxy resins and carboxylic acids or acid anhydrides, epoxy compounds, negative resists and the like are used.

【0046】また、インクジェット方式としては、前記
第一の実施形態における着色インクの付与工程と同様
に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能であり、着色パターンは任意
に設定することができる。
As the ink jet system, a bubble jet type using an electrothermal converter as an energy generating element, or a piezo jet type using a piezoelectric element as in the step of applying the colored ink in the first embodiment. And the like can be used, and the coloring pattern can be set arbitrarily.

【0047】工程(c) 必要に応じて、乾燥処理を施し、光照射及び熱処理等必
要な処理を施して硬化型着色インク38を硬化し、着色
部39を形成する。本実施形態では、着色部39がカラ
ーフィルタの着色層に相当する。
Step (c) If necessary, a drying treatment is carried out, and a necessary treatment such as light irradiation and heat treatment is carried out to cure the curable coloring ink 38 to form a colored portion 39. In the present embodiment, the coloring section 39 corresponds to a coloring layer of a color filter.

【0048】工程(d) 図1(e)と同様に、必要に応じて保護層10と透明導
電膜11を形成する。
Step (d) As in FIG. 1E, a protective layer 10 and a transparent conductive film 11 are formed if necessary.

【0049】工程(e) 図2(f)と同様に、樹脂組成物層12を形成する。Step (e) As in FIG. 2 (f), a resin composition layer 12 is formed.

【0050】工程(f) 図2(g)と同様に、インクジェットヘッド13より硬
化剤14を樹脂組成物層12上のスペーサー形成位置に
付与する。 工程(g) 樹脂組成物層12の硬化剤14を付与した領域で硬化反
応が進行する。
Step (f) As in the case of FIG. 2 (g), a curing agent 14 is applied from the ink jet head 13 to the spacer forming position on the resin composition layer 12. Step (g) The curing reaction proceeds in the region of the resin composition layer 12 to which the curing agent 14 has been applied.

【0051】工程(h) 図2(i)と同様に、未硬化の樹脂組成物を除去し、必
要に応じて熱処理等を施してスペーサー15を形成し、
本発明のスペーサー付カラーフィルタを得る。
Step (h) As in FIG. 2 (i), the uncured resin composition is removed, and a heat treatment or the like is performed as necessary to form a spacer 15,
The color filter with a spacer of the present invention is obtained.

【0052】上記図1〜図2、図4〜図5には、インク
ジェット方式によりカラーフィルタの着色層を形成する
工程を示したが、本発明においては特にこれに限定され
るものではなく、従来の顔料分散法等により着色層を形
成したカラーフィルタにも好ましく適用される。尚、イ
ンクジェット方式による製造方法に従えば、顔料分散法
等によって製造されたカラーフィルタに比較して、凹凸
の少ない平坦な着色層を得ることが可能であるため、本
発明をより効果的に実施することができる。
FIGS. 1 and 2 and FIGS. 4 and 5 show steps of forming a colored layer of a color filter by an ink jet method. However, the present invention is not particularly limited to this. It is also preferably applied to a color filter having a colored layer formed by the pigment dispersion method or the like. In addition, according to the manufacturing method by the ink jet method, it is possible to obtain a flat colored layer with less unevenness as compared with a color filter manufactured by a pigment dispersion method or the like. can do.

【0053】次に、本発明の液晶素子の一例を図3に示
す。図3は、図2(i)に示した本発明のスペーサー付
カラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断面
模式図である。図中、21は対向基板、22は画素電
極、16,23は配向膜、24は液晶である。本液晶素
子は、画素毎にTFT(薄膜トランジスタ)を配置した
アクティブマトリクスタイプ(いわゆるTFT型)の液
晶素子の一例である。
Next, an example of the liquid crystal element of the present invention is shown in FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an example of a liquid crystal element formed using the color filter with spacer of the present invention shown in FIG. 2 (i). In the figure, 21 is a counter substrate, 22 is a pixel electrode, 16 and 23 are alignment films, and 24 is a liquid crystal. The present liquid crystal element is an example of an active matrix type (so-called TFT type) liquid crystal element in which a TFT (thin film transistor) is arranged for each pixel.

【0054】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側の基板1と対向基板21を合わせ込み、液晶
24を封入することにより形成される。対向基板21の
内側に、TFT(図示しない)と透明な画素電極22が
マトリクス状に形成される。また、透明基板1の内側に
は、画素電極22に対向する位置に、R、G、Bが配列
するようにカラーフィルタの着色部9が設置され、その
上に透明導電膜11(共通電極)が一面に形成される。
さらに、両基板の面内には配向膜16,23が形成され
ており、これらをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。これらの基板は
スペーサー15により一定の距離を介して対向配置さ
れ、シール材(図示しない)によって貼り合わされ、そ
の間隙に液晶24が充填される。液晶としては一般的に
用いられているTN型液晶や強誘電性液晶等いずれも用
いることができる。
A liquid crystal element for color display is generally formed by combining the substrate 1 on the color filter side with the counter substrate 21 and sealing the liquid crystal 24. A TFT (not shown) and a transparent pixel electrode 22 are formed in a matrix on the inside of the counter substrate 21. A colored portion 9 of a color filter is provided inside the transparent substrate 1 at a position facing the pixel electrode 22 so that R, G, and B are arranged, and a transparent conductive film 11 (common electrode) is placed thereon. Are formed on one surface.
Further, alignment films 16 and 23 are formed in the planes of both substrates, and by subjecting them to rubbing treatment, liquid crystal molecules can be arranged in a certain direction. These substrates are opposed to each other at a fixed distance by a spacer 15, bonded together by a sealing material (not shown), and the gap is filled with a liquid crystal 24. As the liquid crystal, any of the commonly used TN type liquid crystal and ferroelectric liquid crystal can be used.

【0055】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板1の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶24を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。
In the case of the transmissive type, the liquid crystal element is provided with a polarizing plate outside of both substrates. In general, a backlight having a combination of a fluorescent lamp and a scattering plate is used. The display is performed by disposing a polarizing plate on the outside of the device and making the liquid crystal 24 function as an optical shutter for changing the light transmittance.

【0056】上記実施形態においては、TFT型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。
In the above embodiment, the TFT type liquid crystal element has been described. However, the present invention is preferably applied to other driving type liquid crystal elements such as a simple matrix type. Further, the liquid crystal element of the present invention is suitably used in both a direct view type and a projection type.

【0057】[0057]

【実施例】開口部の大きさが75μm×250μmで幅
が30μm及び50μmの多層クロムからなるブラック
マトリクスの形成されたガラス基板上に、下記に示す組
成からなるアクリル系共重合体97質量部及びトリフェ
ニルスルフォニウムトリフラート3質量部をエチルセル
ソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚2μmとなるよ
うスピンコートし、90℃で20分間のプリベークを行
ってインク受容層を形成した。
EXAMPLE 97 parts by mass of an acrylic copolymer having the following composition was formed on a glass substrate having a black matrix composed of a multilayer chromium having openings of 75 μm × 250 μm and widths of 30 μm and 50 μm. A resin composition obtained by dissolving 3 parts by mass of triphenylsulfonium triflate in ethylcellulob was spin-coated so as to have a thickness of 2 μm, and prebaked at 90 ° C. for 20 minutes to form an ink receiving layer.

【0058】〔アクリル系共重合体の組成〕 メチルメタクリレート 50質量部 ヒドロキシエチルメタクリレート 30質量部 N−メチロールアクリルアミド 20質量部[Composition of acrylic copolymer] Methyl methacrylate 50 parts by mass Hydroxyethyl methacrylate 30 parts by mass N-methylolacrylamide 20 parts by mass

【0059】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介して
ブラックマトリクス上のインク受容層の一部をストライ
プ状にパターン露光し、さらに120℃のホットプレー
ト上で1分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対
して,インクジェット記録装置を用いてR(赤)、G
(緑)、B(青)の染料インクにより、連続するドット
でストライプ状のパターンを着色した後、90℃で5分
間のインク乾燥を行った。引き続き200℃で60分間
の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化させ、着色層
を得た。
Next, a part of the ink-receiving layer on the black matrix is pattern-exposed to a stripe through a photomask having a stripe-shaped opening smaller than the width of the black matrix, and further on a hot plate at 120 ° C. Heat treatment was performed for 1 minute. Next, R (red), G
After coloring the striped pattern with continuous dots using (green) and B (blue) dye inks, the ink was dried at 90 ° C. for 5 minutes. Subsequently, heat treatment was performed at 200 ° C. for 60 minutes to cure the entire ink receiving layer to obtain a colored layer.

【0060】上記着色層上に、二液型の熱硬化型樹脂組
成物(JSR社製「SS6699G」)を膜厚1μmと
なるようスピンコートし、90℃で30分間のプリベー
クを行った後、250℃で60分間の熱処理を行って保
護層を形成した。次いで、スパッタによりITOを厚さ
150nmとなるよう成膜し、カラーフィルターを得
た。
A two-part thermosetting resin composition (“SS6699G” manufactured by JSR Corporation) is spin-coated on the colored layer so as to have a thickness of 1 μm, and prebaked at 90 ° C. for 30 minutes. Heat treatment was performed at 250 ° C. for 60 minutes to form a protective layer. Next, ITO was deposited to a thickness of 150 nm by sputtering to obtain a color filter.

【0061】上記の工程により得られたカラーフィルタ
ー上に、スペーサー形成用の樹脂組成物として、メチル
メタクリレート5質量部、ヒドロキシメチルメタクリレ
ート3質量部、N−メチロールアクリルアミド2質量部
からなる3元共重合体を膜厚5μmとなるよう塗布し、
50℃で10分間の熱処理を行って仮硬化した。
On the color filter obtained by the above process, a ternary copolymer composed of 5 parts by mass of methyl methacrylate, 3 parts by mass of hydroxymethyl methacrylate, and 2 parts by mass of N-methylolacrylamide was used as a resin composition for forming a spacer. Coating is applied to a thickness of 5 μm,
Preliminary curing was performed by performing a heat treatment at 50 ° C for 10 minutes.

【0062】次いで、トリフェニルスルフォニウムトリ
フルオロスルホネートをセロソルブ系溶剤に溶解してな
る硬化剤を幅30μmのブラックマトリクス上に、1箇
所当たり10plずつ所定の間隔をあけて付与し、光照
射した後、ホットプレートで140℃で60秒間加熱
し、樹脂組成物層を部分的に硬化させた。
Next, a hardening agent obtained by dissolving triphenylsulfonium trifluorosulfonate in a cellosolve-based solvent was applied on a black matrix having a width of 30 μm at predetermined intervals of 10 pl per location and irradiated with light. The mixture was heated on a hot plate at 140 ° C. for 60 seconds to partially cure the resin composition layer.

【0063】未硬化の樹脂組成物をpH=12のアルカ
リ現像液にて溶解除去した後、230℃で30分間の熱
処理を行って本硬化させた。直径が20μmの円柱状
で、平均高さが5μmのスペーサーを得た。得られたス
ペーサー付基板を用いて液晶素子を作製し、表示を行っ
たところ、スペーサーによる影響が無く良好な画像が表
示された。
After the uncured resin composition was dissolved and removed with an alkaline developing solution having a pH of 12, it was subjected to a heat treatment at 230 ° C. for 30 minutes to be completely cured. A spacer having a cylindrical shape with a diameter of 20 μm and an average height of 5 μm was obtained. Using the obtained substrate with spacers, a liquid crystal element was produced and displayed. As a result, a good image was displayed without being affected by the spacers.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スペーサー形成時に樹脂組成物層にインクジェット方式
により硬化剤を付与して必要な領域のみ硬化させるた
め、高度な位置合わせが不要で高価な露光装置を用いる
必要がない。また、所望の位置に所望の形状に硬化剤を
付与することができるため、表示に影響しない遮光領域
にのみ容易に選択的にスペーサーを形成することができ
る。よって、本発明によれば、スペーサーによる表示へ
の影響が無く、セルギャップが均一に保持され、表示品
位の高い液晶素子がより安価に提供される。
As described above, according to the present invention,
When a spacer is formed, a curing agent is applied to the resin composition layer by an ink-jet method to cure only a necessary region, so that a high-level alignment is not required and an expensive exposure apparatus does not need to be used. In addition, since the curing agent can be applied to a desired position in a desired shape, a spacer can be easily and selectively formed only in a light-shielded region that does not affect display. Therefore, according to the present invention, there is no influence on the display by the spacer, the cell gap is kept uniform, and a liquid crystal element with high display quality is provided at lower cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程図である。
FIG. 1 is a process chart of an embodiment of a method of manufacturing a color filter with a spacer according to the present invention.

【図2】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程図である。
FIG. 2 is a process chart of one embodiment of a method for manufacturing a color filter with a spacer according to the present invention.

【図3】図2のスペーサー付カラーフィルタを用いて構
成した本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図であ
る。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of the liquid crystal element of the present invention configured using the color filter with spacers of FIG. 2;

【図4】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の他の実施形態の工程図である。
FIG. 4 is a process chart of another embodiment of the method for producing a color filter with spacers of the present invention.

【図5】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の他の実施形態の工程図である。
FIG. 5 is a process chart of another embodiment of the method for producing a color filter with spacers of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 2 ブラックマトリクス 3 インク受容層 4 フォトマスク 5 非着色部 6 被着色部 7 インクジェットヘッド 8 着色インク 9 着色部 10 保護層 11 透明導電膜 12 樹脂組成物層 13 インクジェットヘッド 14 硬化剤 15 スペーサー 16 配向膜 21 対向基板 22 画素電極 23 配向膜 24 液晶 32 ブラックマトリクス 37 インクジェットヘッド 38 硬化型着色インク 39 着色部 REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent substrate 2 black matrix 3 ink receiving layer 4 photomask 5 uncolored portion 6 colored portion 7 inkjet head 8 colored ink 9 colored portion 10 protective layer 11 transparent conductive film 12 resin composition layer 13 inkjet head 14 curing agent 15 spacer Reference Signs List 16 alignment film 21 counter substrate 22 pixel electrode 23 alignment film 24 liquid crystal 32 black matrix 37 inkjet head 38 curable coloring ink 39 coloring portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城田 勝浩 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 山下 佳久 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 中澤 広一郎 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 宮崎 健 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA02 BA11 BA15 BA16 BA17 BA25 BA37 BA57 BA66 BB02 BB14 BB15 BB22 BB37 BB44 2H089 LA09 LA12 MA04X NA07 PA02 QA12 QA14 QA16 TA02 TA12 TA13 2H091 FA03Y FA35Y FB04 FC12 FD04 GA03 GA08 LA12 LA30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Katsuhiro Shiroda, Inventor 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Within Canon Inc. (72) Yoshihisa Yamashita 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside (72) Inventor Koichiro Nakazawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Ken Miyazaki 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. F Term (reference) 2H048 BA02 BA11 BA15 BA16 BA17 BA25 BA37 BA57 BA66 BB02 BB14 BB15 BB22 BB37 BB44 2H089 LA09 LA12 MA04X NA07 PA02 QA12 QA14 QA16 TA02 TA12 TA13 2H091 FA03Y FA35Y FB04 FC12 FD04 GA03 LA

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、を少なくとも形成してカラーフィルタを形
成する工程と、該カラーフィルタ上に樹脂組成物層を形
成し、該樹脂組成物層上の上記遮光層に重複する領域に
部分的にインクジェット方式により上記樹脂組成物を硬
化させる硬化剤を付与して当該領域の樹脂組成物層を硬
化させ、未硬化の樹脂組成物を除去してスペーサーを形
成する工程と、を少なくとも有することを特徴とするス
ペーサー付カラーフィルタの製造方法。
1. A step of forming at least a light-shielding layer having a plurality of openings on a transparent substrate and a coloring layer having a coloring portion disposed at each opening of the light-shielding layer to form a color filter. And forming a resin composition layer on the color filter, applying a curing agent to partially cure the resin composition by an inkjet method in a region overlapping the light-shielding layer on the resin composition layer. Curing the resin composition layer in the region and removing the uncured resin composition to form a spacer.
【請求項2】 樹脂組成物が光硬化型であり、硬化剤が
該樹脂組成物の光硬化反応開始剤である請求項1記載の
スペーサー付カラーフィルタの製造方法。
2. The method for producing a color filter with a spacer according to claim 1, wherein the resin composition is a photo-curing type, and the curing agent is a photo-curing reaction initiator of the resin composition.
【請求項3】 着色層上に保護層を形成し、該保護層上
にスペーサーを形成する請求項1または2に記載のカラ
ーフィルタの製造方法。
3. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a protective layer is formed on the colored layer, and a spacer is formed on the protective layer.
【請求項4】 着色層上に透明導電膜を形成し、該透明
導電膜上にスペーサーを形成する請求項1〜3のいずれ
かに記載のカラーフィルタの製造方法。
4. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a transparent conductive film is formed on the colored layer, and a spacer is formed on the transparent conductive film.
【請求項5】 透明基板上に全面に樹脂組成物からなる
インク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェッ
ト方式により着色インクを付与して着色し、着色部を形
成する請求項1〜4のいずれかに記載のスペーサー付カ
ラーフィルタの製造方法。
5. An ink receiving layer made of a resin composition is formed on the entire surface of a transparent substrate, and the ink receiving layer is colored by applying a colored ink by an ink jet method to form a colored portion. The method for producing a color filter with a spacer according to any one of the above.
【請求項6】 黒色樹脂組成物により開口部を有する遮
光層を形成し、該遮光層の開口部に着色樹脂組成物から
なる硬化型着色インクを付与して硬化し、着色部を形成
する請求項1〜4のいずれかに記載のスペーサー付カラ
ーフィルタの製造方法。
6. A light-shielding layer having an opening made of a black resin composition, and a curable coloring ink made of a colored resin composition is applied to the opening of the light-shielding layer and cured to form a colored portion. Item 5. The method for producing a color filter with a spacer according to any one of Items 1 to 4.
【請求項7】 透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、を少なくとも有するカラーフィルタと、該
カラーフィルタ上の上記遮光層に重複する領域に部分的
に樹脂組成物を硬化してなるスペーサーを備え、請求項
1〜6のいずれかに記載の製造方法により製造されたこ
とを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ。
7. A color filter having at least a light-shielding layer having a plurality of openings on a transparent substrate, and a coloring layer having a coloring portion disposed in each of the openings of the light-shielding layer. 7. A color filter with a spacer, comprising a spacer obtained by partially curing a resin composition in a region overlapping the light-shielding layer, and manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 6. .
【請求項8】 一対の基板間に液晶を狭持してなり、一
方の基板が請求項7記載のスペーサー付カラーフィルタ
であって、一対の基板間の距離が該スペーサーにより保
持されていることを特徴とする液晶素子。
8. A color filter with a spacer according to claim 7, wherein a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, and the distance between the pair of substrates is held by the spacer. A liquid crystal device characterized by the above-mentioned.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100475165B1 (en) * 2002-05-16 2005-03-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Apparatus and Method of Fabricating Liquid Crystal Display
JP2011008123A (en) * 2009-06-26 2011-01-13 Fujitsu Frontech Ltd Adhesive applying method on supporting surface of supporting body
US9682237B2 (en) 2013-03-15 2017-06-20 Alfred E. Mann Foundation For Scientific Research High voltage monitoring successive approximation analog to digital converter

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