JP2868029B2 - Precision plane alignment mechanism - Google Patents

Precision plane alignment mechanism

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JP2868029B2 JP15676591A JP15676591A JP2868029B2 JP 2868029 B2 JP2868029 B2 JP 2868029B2 JP 15676591 A JP15676591 A JP 15676591A JP 15676591 A JP15676591 A JP 15676591A JP 2868029 B2 JP2868029 B2 JP 2868029B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、精密平面調芯機構に関
し、詳しくは、高精度な搭載精度が要求されるファイン
ピッチのTAB(テープオートメイテッドボンディン
グ)又はフリップチップ等の半導体組立装置等に用いら
れる精密平面調芯機構に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a precision flat centering mechanism, and more particularly, to a semiconductor assembly device such as a TAB (tape automated bonding) or a flip chip of a fine pitch which requires high mounting accuracy. The present invention relates to a precision flat alignment mechanism used.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は半導体組立におけるフェイス・ダ
ウン・タイプのTAB実装の場合を示す図であり、
(a)はボンディング前の状態、(b)はボンディング
後の状態を示す図である。(a)図において、1は電極
パターン2が設けられた基板であり、ステージ3の上に
載置されている。4はボンディングツールでありチップ
5に接合されているTABリード6を電極パターン2に
押圧するとともに加熱して電極パターン2とリード6を
(b)図の如く接合するようになっている。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a view showing a case of a TAB mounting of a face-down type in a semiconductor assembly.
(A) is a diagram showing a state before bonding, and (b) is a diagram showing a state after bonding. 1A, reference numeral 1 denotes a substrate provided with an electrode pattern 2, which is mounted on a stage 3. Reference numeral 4 denotes a bonding tool which presses and heats the TAB lead 6 joined to the chip 5 against the electrode pattern 2 to join the electrode pattern 2 and the lead 6 as shown in FIG.

【0003】このようなフェイス・ダウン・タイプのT
AB実装において、TABのリードピッチが 200μmレ
ベル又は接合部にロウ材を用いる場合、基板側の電極パ
ターン2にリード6を接合する際の基準面(基板側:ス
テージ面、チップ側:ボンディングツール先端面)はそ
れぞれ機械的に組立てる際の組み上げ精度を上げて双方
共に固定された平面を維持し、接合動作を行なうように
なっている。
[0003] Such a face-down type T
In the AB mounting, when the lead pitch of the TAB is 200 μm or a brazing material is used for the bonding portion, the reference surface when bonding the lead 6 to the electrode pattern 2 on the substrate side (the substrate side: the stage surface, the chip side: the tip of the bonding tool) The surfaces (2) and (3) are designed so that the assembling operation is performed by increasing the assembling accuracy when mechanically assembling them, and maintaining a fixed flat surface on both sides.

【0004】この場合、双方の面単体での平面度が重要
であると共に、組み上げ精度が重要になる。また接合
時、リード面はボンディング・ツールに倣うが、基板側
は部材の反りがある為に実際に接合するリード下面と基
板の電極パターン面が同一面(平行面)となることはな
い。
In this case, the flatness of both surfaces alone is important, and the assembling accuracy is important. At the time of bonding, the lead surface follows the bonding tool, but the substrate side has warpage of the members, so that the lower surface of the lead to be actually bonded and the electrode pattern surface of the substrate do not become the same plane (parallel plane).

【0005】しかし、接合部にロウ材がある場合には、
ロウ材が座布団の働きをするため、見かけ上、あるレベ
ルの平面くずれ迄は接合可能である。また接合部にロウ
材が無い場合でも、リードピッチが広い場合にはTAB
リードそのものが厚い為、またリード本数が少ない為、
接合時の圧力で無理に接合する事は可能である。
However, when there is a brazing material at the joint,
Since the brazing material acts as a cushion, it can be apparently joined up to a certain level of planar collapse. Even when there is no brazing material at the joint, if the lead pitch is wide, TAB
Because the lead itself is thick and the number of leads is small,
It is possible to forcibly join with the pressure at the time of joining.

【0006】ところが、TABリードピッチが 100μm
レベル以下で接合部にロウ材が無い場合は接合部全域に
おいて、加圧時に5μm以下レベルの平面度が出ていな
いと、濡れ不足及びツール片当りにより接合不良が発生
する。このため、図4及び図5に示すような平面調芯機
構が考案実用化されている。
However, the TAB lead pitch is 100 μm
When there is no brazing material in the joint at the level or less, if the flatness of the level of 5 μm or less is not exerted in the entire joint at the time of pressurization, poor joining occurs due to insufficient wetting and contact with the tool piece. For this reason, planar alignment mechanisms as shown in FIGS. 4 and 5 have been devised and put to practical use.

【0007】図4は、ステージ側が固定でボンディング
ツール側を可動としたもので、同図(a)は準備状態、
(b)は接合動作状態を示す図である。これは、(a)
図の如くボンディングツール4を支持部材7でフローテ
ィング支持しており、(b)図の如く、ステージ3に載
置した基板1上の電極パターン2に半導体チップ5のリ
ード6を押圧・加熱してボンディングするようになって
いる。この際基板1が傾いていてもボンディングツール
4はその傾きに倣うことができる。
FIG. 4 shows a state in which the stage is fixed and the bonding tool is movable, and FIG.
(B) is a figure which shows the joining operation state. This is (a)
As shown in the figure, the bonding tool 4 is floatingly supported by the support member 7, and as shown in FIG. 2B, the lead 6 of the semiconductor chip 5 is pressed and heated on the electrode pattern 2 on the substrate 1 placed on the stage 3. It is designed to be bonded. At this time, even if the substrate 1 is inclined, the bonding tool 4 can follow the inclination.

【0008】図5は、ボンディングツール側が固定で基
板側を可動としたもので、同図(a)は準備状態、
(b)は接合動作状態を示す図である。これはステージ
3上にボール8を介して載置した基板1を、四方よりス
プリング9で引張っておき、(b)図の如くボンディン
グツール4が半導体チップ5のリード6を基板1の電極
パターン2に押圧・加熱してボンディングするようにな
っている。この際基板1が傾いていても、該基板1はボ
ール8で一点で支持されているため、自由に傾くことが
でき、ボンディングツール4の先端面に倣うことができ
る。
FIG. 5 shows a state in which the bonding tool side is fixed and the substrate side is movable. FIG.
(B) is a figure which shows the joining operation state. In this method, the substrate 1 placed on the stage 3 via the balls 8 is pulled from all sides by springs 9 and the bonding tool 4 connects the leads 6 of the semiconductor chip 5 to the electrode patterns 2 of the substrate 1 as shown in FIG. Is pressed and heated for bonding. At this time, even if the substrate 1 is inclined, since the substrate 1 is supported at one point by the ball 8, the substrate 1 can be freely inclined and can follow the tip surface of the bonding tool 4.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記、図4で説明した
平面調芯機構では、ボンディングツール4はパルスヒー
ト方式にて加熱するようになっているため、ヒート部が
機構的に複雑な構造であり、更に、それに調芯機構が付
加されているためメンテナンス性が悪い。また加圧接合
前に高精度な位置合わせを行なっているが、ツールが下
降し、TABリードの1点が基板側電極パターンに接触
した際(チップ各辺両端リードのいずれか)にボンディ
ングツールが水平面内で回転してしまう。このため、搭
載精度が悪い等の問題がある。
In the planar alignment mechanism described above with reference to FIG. 4, the bonding tool 4 is heated by a pulse heating method, so that the heating portion has a mechanically complicated structure. In addition, since a centering mechanism is additionally provided, the maintenance is poor. Although high-precision positioning is performed before pressure bonding, when the tool descends and one point of the TAB lead comes into contact with the substrate-side electrode pattern (one of both ends of each side of the chip), the bonding tool It rotates in the horizontal plane. For this reason, there are problems such as poor mounting accuracy.

【0010】また図5で説明した平面調芯機構では、ボ
ンディングツール側は機構的に簡単な構造であるが、基
板側は加圧の荷重をボールの1点に集中していることで
強度的な問題がある。更に基板を4方向からスプリング
のみによって位置決めしていることにより、最初の1個
を加圧・接合した後、次の基板を同一位置にセットして
も再現性(位置的な)が保証されないという問題があ
る。
In the flat centering mechanism described with reference to FIG. 5, the bonding tool side has a mechanically simple structure, but the substrate side concentrates the pressing load on one point of the ball, thereby increasing the strength. Problem. Furthermore, since the substrates are positioned only by the springs from four directions, reproducibility (positional) is not guaranteed even if the first substrate is pressed and joined and then the next substrate is set at the same position. There's a problem.

【0011】本発明は、半導体組立装置に用いて半導体
チップを基板に搭載するときの実装精度を良好にするこ
とができる精密平面調芯機構を実現しようとする。
An object of the present invention is to realize a precision flat centering mechanism capable of improving the mounting accuracy when a semiconductor chip is mounted on a substrate using a semiconductor assembling apparatus.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の精密平面調芯機
構に於いては、加圧力を受ける部材を支承する機能性ば
ね15と、該機能ばね15の中心に位置し、該機能性ばね15
より僅かに高さが低く、且つ先端が球面をなす支柱16と
を具備して成ることを特徴とする。
In the precision flat centering mechanism according to the present invention, a functional spring 15 for supporting a member receiving a pressing force, and a functional spring located at the center of the functional spring 15 are provided. Fifteen
And a column 16 having a slightly lower height and a spherical end.

【0013】また、それに加えて、上記機能性ばね15
は、弾性を有する材料で形成された円筒に、その外周の
左右から切り込み17,17′を入れた段を複数段設け、且
つその隣り合う段の切り込み方向が90°異なることを特
徴とする。この構成を採ることにより、半導体組立装置
に用いて、半導体チップを基板に搭載するときの実装精
度を良好にすることができる精密平面調芯機構を得るこ
とができる。
In addition, the functional spring 15
Is characterized in that a cylinder made of an elastic material is provided with a plurality of steps in which cuts 17, 17 'are formed from the left and right of the outer periphery, and the cut directions of adjacent steps are different by 90 °. By employing this configuration, it is possible to obtain a precision planar alignment mechanism that can be used in a semiconductor assembly device and can improve the mounting accuracy when mounting a semiconductor chip on a substrate.

【0014】[0014]

【作用】機能性ばね15はコイルばねと異なり、形状が軸
対称であるため、荷重により圧縮されても加圧された面
は回転しない。そのため半導体組立装置に用いたとき、
ボンディングツール面と、電極パターン面の平行度が狂
っていても、ボンディングツール側が下降し、リード12
aの1点が電極パターン13aに接触すれば、その部分直
下の機能性ばね部が圧縮を受け基板13はボンディングツ
ール10にならって下降する。
[Function] Unlike the coil spring, the functional spring 15 is axially symmetric in shape, so that even when compressed by a load, the pressed surface does not rotate. Therefore, when used in semiconductor assembly equipment,
Even if the parallelism between the bonding tool surface and the electrode pattern surface is incorrect, the bonding tool side is lowered and leads 12
When one point a contacts the electrode pattern 13a, the functional spring portion immediately below that portion is compressed and the substrate 13 descends following the bonding tool 10.

【0015】更に、ボンディングツール10が下降し、リ
ード12aが基板の電極パターン全部に接した後に、ボン
ディングツール側の加圧力は剛体の支柱16によって受け
止めることができる。
Further, after the bonding tool 10 is lowered and the leads 12a come into contact with all of the electrode patterns on the substrate, the pressing force on the bonding tool side can be received by the rigid support 16.

【0016】[0016]

【実施例】図1は本発明の実施側を半導体組立装置に用
いた場合を示す図で、(a)は断面図、(b)は機能性
ばねを示す斜視図である。(a)図において、10はボン
ディングツールであり、11は本実施側の精密平面調芯機
構である。
1 is a view showing a case where the embodiment of the present invention is used in a semiconductor assembling apparatus. FIG. 1 (a) is a sectional view, and FIG. 1 (b) is a perspective view showing a functional spring. 1A, reference numeral 10 denotes a bonding tool, and reference numeral 11 denotes a precision flat centering mechanism of the present embodiment.

【0017】該精密平面調芯機構11は、半導体チップ12
を搭載する基板13を支承するステージ(加圧力を受ける
部材)14と、該ステージ14を支持する機能性ばね15と、
該機能性ばね15の中心に位置する剛体の支柱16とを具備
している。
The precision planar alignment mechanism 11 includes a semiconductor chip 12
A stage (a member receiving a pressing force) 14 for supporting a substrate 13 on which is mounted, a functional spring 15 for supporting the stage 14,
And a rigid support 16 located at the center of the functional spring 15.

【0018】そして上記機能性ばね15は(b)図に示す
ように弾性を有する材料で形成された円筒に、その外周
の左右から所定の幅の接続部15aが残るように切り込み
17,17′を入れた段が複数段設けられており、且つその
隣り合う段の切り込み方向が90°異なっている。また支
柱16はその高さが機能性ばね15の高さより僅かに低く、
且つ先端は球面をなしている。なお機能性ばね15のばね
常数は、円筒の材質、内・外径、切り込み間の肉厚tを
変えることにより、任意の値に設計することができる。
The functional spring 15 is cut into a cylinder made of an elastic material as shown in FIG. 2B so that a connection portion 15a of a predetermined width remains from the left and right of the outer periphery.
A plurality of steps 17 and 17 'are provided, and the cutting directions of adjacent steps are different by 90 °. Also, the height of the support 16 is slightly lower than the height of the functional spring 15,
And the tip is spherical. The spring constant of the functional spring 15 can be designed to an arbitrary value by changing the material of the cylinder, the inner and outer diameters, and the thickness t between the cuts.

【0019】このように構成された本実施側は、図2の
如くステージ14の上に基板13を載置し、該基板13上の電
極パターン13aに半導体チップ12のリード12aを重ね合
わせ、該部をボンディングツール10により押圧すると同
時に加熱して両者を接合することができる。
In the present embodiment configured as above, the substrate 13 is placed on the stage 14 as shown in FIG. 2, and the leads 12a of the semiconductor chip 12 are superimposed on the electrode patterns 13a on the substrate 13, The two parts can be joined by pressing the part with the bonding tool 10 and heating at the same time.

【0020】この際、ボンディングツール面と、基板の
電極パターン面の平行度が狂っていても、ボンディング
ツール側が下降し、リード12aの1点が電極13aに接触
すれば、その部分直下の機能性ばね部分が圧縮力を受
け、基板13がボンディングツールにならって下降する。
更にボンディングツールが下降し、リード12aが基板の
全部の電極パターン13aに接触した後はステージ14が支
柱16に接触し、加圧力は支柱16が受けボンディングを完
了することができる。なお支柱16とステージ14との間隔
△H(図1参照)は、ボンディングツール面10と基板面
13の傾きによる高低差の1/2+αだけあれば良い。加
圧終了後は機能性ばね15の再現性により基板13はもとの
位置に戻る。
At this time, even if the parallelism between the bonding tool surface and the electrode pattern surface of the substrate is out of order, if the bonding tool side is lowered and one point of the lead 12a comes into contact with the electrode 13a, the functionality just below that part is obtained. The spring portion receives the compressive force, and the substrate 13 descends following the bonding tool.
Further, after the bonding tool is lowered and the leads 12a come into contact with all the electrode patterns 13a on the substrate, the stage 14 comes into contact with the columns 16, and the pressure is received by the columns 16 to complete the bonding. The distance ΔH between the support 16 and the stage 14 (see FIG. 1) depends on the bonding tool surface 10 and the substrate surface.
It suffices to have only 1/2 + α of the height difference due to the inclination of 13. After pressurization, the substrate 13 returns to its original position due to the reproducibility of the functional spring 15.

【0021】以上の本実施側によれば、半導体組立装置
に用いた場合機能性ばね15のばね常数をコントロール
(極力弱めにする)することによりボンディングツール
10が基板13に接触する際の衝撃的な力を回避でき品質が
安定する。(なお衝撃的な力が加わるとその部分のリー
ドのみつぶれが大きくなる。)またこれによりボンディ
ングツール側の下降速度を速くすることができ、インデ
ックスの短縮が可能となる。リードが均等に加圧され
るため、加圧ムラ、濡れ不足等が減少し品質が安定す
る。水平面内での回転ズレが生じないため搭載精度が
向上する。
According to the above embodiment, when used in a semiconductor assembling apparatus, the bonding tool can be controlled by controlling the spring constant of the functional spring 15 (to make it as weak as possible).
The impact force when the 10 comes into contact with the substrate 13 can be avoided and the quality is stabilized. (If a shocking force is applied, only the lead in that portion will be crushed.) In addition, the descending speed on the bonding tool side can be increased, and the index can be shortened. Since the leads are evenly pressed, unevenness in pressurization and insufficient wetting are reduced, and the quality is stabilized. Since there is no rotation displacement in the horizontal plane, mounting accuracy is improved.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によれば、機能性ばねと、その中
心に配置した支柱とを用いることにより、加圧力を受け
る面が水平面内で回転しないような精密な平面調芯が可
能となり、半導体組立装置に用いて品質の安定した半導
体装置が得られるといった効果がある。
According to the present invention, the use of the functional spring and the column disposed at the center thereof enables precise plane alignment such that the surface receiving the pressing force does not rotate in the horizontal plane. There is an effect that a semiconductor device of stable quality can be obtained by using the semiconductor assembly device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施側を半導体組立装置に用いた場合
を示す図で、(a)は断面図、(b)は機能性ばねを示
す斜視図である。
FIGS. 1A and 1B are diagrams showing a case where an embodiment of the present invention is used in a semiconductor assembling apparatus. FIG. 1A is a sectional view, and FIG. 1B is a perspective view showing a functional spring.

【図2】本発明の実施側の作用を説明するための図であ
る。
FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the embodiment of the present invention.

【図3】従来のフェイス・ダウン・タイプのTAB実装
の場合を示す図で、(a)はボンディング前の状態、
(b)はボンディング後の状態を示す図である。
3A and 3B are diagrams showing a conventional face-down type TAB mounting, in which FIG. 3A shows a state before bonding,
(B) is a figure which shows the state after bonding.

【図4】従来の平面調芯機構を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional planar alignment mechanism.

【図5】従来の平面調芯機構を示す図である。FIG. 5 is a view showing a conventional planar alignment mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ボンディングツール 11…精密平面調芯機構 12…半導体チップ 12a…リード 13…基板 13a…電極パターン 14…ステージ 15…機能性ばね 16…支柱 17,17′…切り込み 18…接続部 10 Bonding tool 11 Precision plane alignment mechanism 12 Semiconductor chip 12a Lead 13 Substrate 13a Electrode pattern 14 Stage 15 Functional spring 16 Post 17, 17 'Cut 18 Connection

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−218140(JP,A) 特開 平4−291936(JP,A) 特開 平4−94551(JP,A) 特開 平4−29341(JP,A) 特開 昭63−229727(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 311 H01L 21/52 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-5-218140 (JP, A) JP-A-4-291936 (JP, A) JP-A-4-94551 (JP, A) JP-A-4,945 29341 (JP, A) JP-A-63-229727 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 21/60 311 H01L 21/52

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 加圧力を受ける部材を支承する機能性ば
ね(15)と、該機能性ばね(15)の中心に位置し、該機能性
ばね(15)より僅かに高さが低く、且つ先端が球面をなす
支柱(16)とを具備して成ることを特徴とする精密平面調
芯機構。
1. A functional spring (15) for supporting a member that receives a pressing force, and a center located at the center of the functional spring (15), a height slightly lower than the functional spring (15), and A precision flat centering mechanism comprising a support (16) having a spherical end.
【請求項2】 上記機能性ばね(15)は、弾性を有する材
料で形成された円筒に、その外周の左右から切り込み
(17,17′)を入れた段を複数段設け、且つその隣り合
う段の切り込み方向が90°異なることを特徴とする請求
項1の精密平面調芯機構。
2. The functional spring (15) is formed by cutting a cylinder formed of a material having elasticity from the left and right of the outer periphery thereof.
2. The precision flat centering mechanism according to claim 1, wherein a plurality of steps including (17, 17 ') are provided, and the cutting directions of adjacent steps are different by 90 °.
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