JP3117825B2 - Substrate for bump arrangement - Google Patents

Substrate for bump arrangement

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JP3117825B2
JP3117825B2 JP04333546A JP33354692A JP3117825B2 JP 3117825 B2 JP3117825 B2 JP 3117825B2 JP 04333546 A JP04333546 A JP 04333546A JP 33354692 A JP33354692 A JP 33354692A JP 3117825 B2 JP3117825 B2 JP 3117825B2
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bumps
base film
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忠克 丸山
敏範 安藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の実装技術
の1つであるTAB(Tape Automated Bonding)におい
て、接合用バンプとなる微細金属球を所定の配列パター
ンに従って配列し、所謂TABテープのリード先端部に
転写する際に使用するバンプ配列用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a TAB (Tape Automated Bonding), which is one of the mounting techniques for semiconductor devices, in which fine metal spheres serving as bonding bumps are arranged according to a predetermined arrangement pattern. The present invention relates to a bump arrangement substrate used when transferring to a lead tip.

【0002】[0002]

【従来の技術】TAB法は、半導体チップの電極部に対
してリード配線を行う際に、TABテープ(フィルムキ
ャリヤ)上にパターン化されて形成されているリード
(フィンガーリード)の先端部分と半導体チップの電極
部とを、接合用の金属突起、即ちバンプを介して接合す
る方法である。上記バンプは予めTABテープ側のリー
ド又は半導体チップの電極部に取り付けられており、か
かるTABテープと半導体チップを接合する場合、ボン
ディングマシンを使用して加熱・加圧することにより行
っている。
2. Description of the Related Art In a TAB method, when lead wiring is performed on an electrode portion of a semiconductor chip, a tip portion of a lead (finger lead) formed in a pattern on a TAB tape (film carrier) and a semiconductor are connected. This is a method of joining the chip to an electrode portion via a metal projection for joining, that is, a bump. The bumps are previously attached to the leads on the TAB tape side or the electrode portions of the semiconductor chip, and when the TAB tape and the semiconductor chip are joined, they are heated and pressed using a bonding machine.

【0003】図2及び図3はTAB法及びそのTABテ
ープ等の構成例を示しているが、図において、1は半導
体チップ、2はTABテープのベースフィルムであり、
その中央部にデバイスホール2aを有している。また、
3はこのデバイスホール2a内に突出するように形成さ
れたフィンガーリード、4はバンプである。TABテー
プと半導体チップ1を接合する場合、図3(a)に示さ
れる所謂、ICバンプ方式が一般に広く行われている。
このICバンプ方式は、バンプ4を予め半導体チップ1
に取り付けておく方法であり、この方法によれば、半導
体チップ1はTABテープのベースフィルム2に開設さ
れているデバイスホール2a内に収容されるため、実装
後の厚みを薄くすることができるという特徴を有してい
る。
FIGS. 2 and 3 show examples of the TAB method and its configuration such as a TAB tape. In the figures, reference numeral 1 denotes a semiconductor chip, 2 denotes a base film of a TAB tape,
It has a device hole 2a at its center. Also,
Reference numeral 3 denotes a finger lead formed to protrude into the device hole 2a, and reference numeral 4 denotes a bump. When joining the TAB tape and the semiconductor chip 1, a so-called IC bump method shown in FIG. 3A is generally widely used.
In this IC bump method, the bumps 4 are previously placed on the semiconductor chip 1.
According to this method, since the semiconductor chip 1 is housed in the device hole 2a opened in the base film 2 of the TAB tape, the thickness after mounting can be reduced. Has features.

【0004】一方、バンプを半導体チップ側でなくTA
Bテープ側に形成する方法(バンプ付きTAB)は、バ
ンプの形成中に半導体チップを損傷する危険がないこと
から、近年広く行われるようになってきている。かかる
バンプ付きTABを使用する実装では、図3(b),
(c)に示したように、バンプ4がTABテープの表裏
いずれの側に取り付けられるかにより2つの場合があ
る。通常、バンプ4は図3(b)に示されるように、ベ
ースフィルム2と反対側に設けられる。この場合、半導
体チップ1はベースフィルム2のデバイスホール2a内
に収容されないため、実装後の厚さはICバンプ方式
(図3(a))に比較して、かなり厚くなってしまう。
そこで、かかる実装厚さを薄くすべく、図3(c)に示
したように、バンプ4をベースフィルム2側に取り付け
るようにすることも可能である。
On the other hand, bumps are not formed on the semiconductor chip side but on the TA.
The method of forming on the B tape side (TAB with bump) has been widely used in recent years because there is no risk of damaging the semiconductor chip during the formation of the bump. In the mounting using such a TAB with bumps, FIG.
As shown in (c), there are two cases depending on which side of the TAB tape the bump 4 is attached to. Usually, the bumps 4 are provided on the side opposite to the base film 2 as shown in FIG. In this case, since the semiconductor chip 1 is not accommodated in the device hole 2a of the base film 2, the thickness after mounting becomes considerably larger than that of the IC bump method (FIG. 3A).
Therefore, in order to reduce the mounting thickness, it is possible to attach the bump 4 to the base film 2 as shown in FIG.

【0005】ところがバンプをフィンガーリードに取り
付ける際、平坦なガラス基板上にメッキで形成されたバ
ンプをフィンガーリードの先端部分に移しとるようにし
た通常の方法では、バンプを取り付けようとする側のベ
ースフィルムの厚さが障害になって実質的に取り付け不
可能になってしまう。尚、この場合、バンプの厚さをベ
ースフィルムの厚さよりも大きくして、該バンプの頭部
がベースフィルム上に突出するようにすれば、かかるバ
ンプをフィンガーリードに接合すること自体は可能であ
る。しかしながら、このように厚いバンプを使用したの
では、通常、金(Au)が用いられている高価なバンプ
素材金属を多量に使用することとなり、却ってコストが
高くなる上に、そのような厚いバンプを図3(c)のよ
うに形成したところで、実装厚さを薄くするという本来
の目的は達成され得ない。
However, when a bump is attached to a finger lead, the bump formed by plating on a flat glass substrate is transferred to the tip of the finger lead. The thickness of the film is an obstacle, making it virtually impossible to attach. In this case, if the thickness of the bump is made larger than the thickness of the base film so that the head of the bump projects above the base film, it is possible to join the bump to the finger lead itself. is there. However, when such a thick bump is used, usually, a large amount of expensive bump material metal using gold (Au) is used, which increases the cost and increases the thickness of such a thick bump. Is formed as shown in FIG. 3C, the original purpose of reducing the mounting thickness cannot be achieved.

【0006】また、本出願人は先に、TABテープのリ
ード先端部分に球形状のバンプを形成する新しい方法を
提案している(特開平3−174737号)。しかし、
この方法においても、バンプの大きさを小さくして、ベ
ースフィルムの厚みよりも該バンプの直径が小さくなる
ような条件にしていくと、図3(c)のような形にバン
プを形成することは困難になる。
The present applicant has previously proposed a new method of forming a spherical bump on the leading end of a TAB tape (Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-174737). But,
Also in this method, when the size of the bump is reduced so that the diameter of the bump is smaller than the thickness of the base film, the bump is formed in a shape as shown in FIG. Becomes difficult.

【0007】ここで、図4は本出願人が既に提案した新
規なバンプ付きTAB及びその半導体装置との接合工程
を模式的に示している。図において、一次接合工程で
は、バンプとなる微細金属球4を配列基板5の貫通孔の
上に吸引して仮固定した後、TABのベースフィルム2
上に形成されているフィンガーリード3の先端部に一括
接合される。また、二次接合工程では、一次接合工程で
バンプ形成されたTABテープのフィンガーリード3と
半導体チップ1の電極部とが位置合わせして接合され
る。この二次接合は、半導体チップの実装において行わ
れるの対して、一次接合は、バンプ付きTABの制作の
ために行われる。そして、一次接合工程では、バンプと
なる微細金属球4を所定のパターンに従って仮配列する
ための配列基板5が使用される。この配列基板5に吸着
された微細金属球4がTABテープのベースフィルム2
に取り付けられるか否かに関して、この配列基板5と、
バンプ4の大きさ及びベースフィルム2の厚さの関係が
問題となる。
Here, FIG. 4 schematically shows a novel bumped TAB proposed by the present applicant and a joining process of the same with a semiconductor device. In the drawing, in the primary bonding step, the fine metal spheres 4 serving as bumps are sucked onto the through holes of the array substrate 5 and temporarily fixed, and then the TAB base film 2 is formed.
It is collectively joined to the tip of the finger lead 3 formed above. In the secondary bonding step, the finger leads 3 of the TAB tape, on which the bumps are formed in the primary bonding step, and the electrode portions of the semiconductor chip 1 are aligned and bonded. The secondary bonding is performed in mounting a semiconductor chip, whereas the primary bonding is performed for producing a TAB with bumps. Then, in the primary bonding step, an array substrate 5 for temporarily arranging the fine metal spheres 4 to be bumps according to a predetermined pattern is used. The fine metal spheres 4 adsorbed on the array substrate 5 form the base film 2 of the TAB tape.
Regarding whether or not it is attached to the
The relationship between the size of the bumps 4 and the thickness of the base film 2 becomes a problem.

【0008】図5は、一次接合工程を説明するための図
であり、図5(a)は配列基板5の貫通孔6上にバンプ
4が吸着され、且つその上部に位置合わせされたTAB
テープのフィンガーリード3が待機している状態を示し
ている。図において、7は配列基板5の貫通孔6部を減
圧状態にするための基板受台であって、この基板受台7
の内部には上記貫通孔6と連通する減圧用通路9が形成
されていて、この減圧用通路9の他端側は、減圧吸引口
8を介して図示しない減圧装置に接続されている。
FIG. 5 is a view for explaining a primary bonding step. FIG. 5A shows a TAB in which the bumps 4 are adsorbed on the through holes 6 of the array substrate 5 and are aligned above the bumps 4.
This shows a state in which the finger lead 3 of the tape is on standby. In the figure, reference numeral 7 denotes a substrate pedestal for bringing the through-hole 6 of the array substrate 5 into a reduced pressure state.
A pressure reducing passage 9 communicating with the through-hole 6 is formed in the inside of the device. The other end of the pressure reducing passage 9 is connected to a pressure reducing device (not shown) via a pressure reducing suction port 8.

【0009】バンプ4がTABテープのベースフィルム
2の厚さよりも大きければ、図5(b)に示した状態
で、フィンガーリード3をバンプ4に接近させ、その上
方から図示しないボンディングツールを下降させて、加
熱・加圧することにより、該バンプ4をフィンガーリー
ド3のベースフィルム2側に固定することができる。と
ころが、バンプ4の大きさがベースフィルム2の厚さに
比べて小さくなると、図5(c)に示されるように、フ
ィンガーリード3及びバンプ4が接触する前に、配列基
板5の端部がTABテープのベースフィルム2と接触す
る。なお、ベースフィルム2が上向きになるようにセッ
トすれば、バンプ4をフィンガーリード3に取り付ける
こと自体は支障なく行うことができるが、この場合半導
体チップ1を実装した後の形態が図3(b)のタイプに
なってしまい、実装厚さを薄くするという目的を実現す
ることができなくなってしまう。つまり、バンプ付きT
ABは従来のいずれの方法においても、バンプ用金属の
使用量を少なくして、且つ実装厚さを薄くすることが困
難であった。
If the bumps 4 are larger than the thickness of the base film 2 of the TAB tape, the finger leads 3 are brought close to the bumps 4 in the state shown in FIG. 5B, and a bonding tool (not shown) is lowered from above. The bumps 4 can be fixed to the base film 2 side of the finger leads 3 by heating and pressing. However, when the size of the bumps 4 becomes smaller than the thickness of the base film 2, as shown in FIG. It contacts the base film 2 of the TAB tape. If the base film 2 is set so that the base film 2 faces upward, the mounting of the bumps 4 to the finger leads 3 can be performed without any trouble. In this case, the configuration after mounting the semiconductor chip 1 is shown in FIG. ), And the purpose of reducing the mounting thickness cannot be realized. That is, T with bump
In any conventional method, it is difficult for AB to reduce the amount of bump metal used and to reduce the mounting thickness.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】バンプをTABテープ
上のフィンガーリードのベースフィルム側に取り付ける
方法としては、フィンガーリードのインナーリード先端
部分がデバイスホール内に長く突き出るように設計する
か、あるいは逆にTABテープ側は変えずに、配列基板
とそれを受ける配列基板受台を、デバイスホール内に収
まる程度に小さく作ることによって、図6に示した様な
相対的な関係を実現させれば良いことは容易に考えられ
る。ところが、フィンガーリード3の先端を長くすると
リード変形が生じ易く、特に微細ピッチで正確に位置合
わせして接合を行う場合、TAB実装の歩留りを著しく
低下させる危険がある。
As a method of attaching the bump to the base film side of the finger lead on the TAB tape, a design is made such that the tip of the inner lead of the finger lead projects long into the device hole, or conversely. The relative relationship as shown in FIG. 6 may be realized by making the array substrate and the array substrate receiving table receiving it small enough to fit in the device hole without changing the TAB tape side. Is easily conceived. However, if the tip end of the finger lead 3 is lengthened, lead deformation is likely to occur. Particularly, when the bonding is performed with accurate positioning at a fine pitch, there is a risk that the yield of TAB mounting may be significantly reduced.

【0011】一方配列基板とその受台を小さく形成する
場合、原理的には配列基板上に形成されている貫通孔列
の外側ギリギリまでは小さくすることが可能である。そ
して実際にも、その限界ギリギリまで小さくした基板と
受台を使用するのでない限り、この手段で図6の状態を
実現することは困難である。しかしながら、配列基板5
を上記のように小さくしてしまうと、配列基板5の端部
10の部分の大きさを実質上、確保することができなく
なり、このため配列基板5を基板受台7上に安定してセ
ットすることが困難になる。また、仮に配列基板5をセ
ットすることができた場合でも、上記端部10が短い
と、減圧吸引力が配列基板5の貫通孔6以外の部分で、
該配列基板5及び基板受台7間の微小な間隙に対して及
ぶことになり、この結果、バンプ4を吸着する際に配列
基板5の貫通孔6と同時に配列基板5下側の間隙部分に
もバンプ4が吸着されてしまい、一次接合工程に支障を
来す等の問題が生じる。
On the other hand, when the arrangement board and its receiving stand are formed small, it is possible in principle to reduce the size to just outside the through-hole row formed on the arrangement board. In practice, it is difficult to realize the state shown in FIG. 6 by this means unless a substrate and a pedestal reduced to the limit are used. However, the array substrate 5
Is reduced as described above, the size of the end portion 10 of the array substrate 5 cannot be substantially secured, so that the array substrate 5 can be stably set on the substrate receiving table 7. It becomes difficult to do. Even if the array substrate 5 can be set, if the end portion 10 is short, the reduced-pressure suction force is applied to portions other than the through holes 6 of the array substrate 5.
The small gap between the arrangement substrate 5 and the substrate receiving table 7 extends to a small gap between the arrangement substrate 5 and the through hole 6 of the arrangement substrate 5 when the bumps 4 are sucked. Also, the bumps 4 are adsorbed, which causes problems such as disturbing the primary bonding process.

【0012】本発明は、上述の実情に鑑み、バンプ付き
TAB法を用いながらも、実装厚さを通常のTAB法と
同程度に薄くすることができ、且つ一次接合や半導体装
置の実装等を含めた他の作業に支障を来すことがないバ
ンプ配列用基板を提供することを目的とする。
In view of the above situation, the present invention can reduce the mounting thickness to about the same as a normal TAB method while using a TAB method with bumps, and can perform primary bonding and mounting of a semiconductor device. An object of the present invention is to provide a bump arrangement substrate that does not hinder other operations including the above.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のバンプ配列用基
板は、半導体チップと接続されるべき、ベースフィルム
上に形成されたリードの先端部に接合されるバンプの配
列パターンに対応して、多数開設された貫通孔を備え、
各貫通孔上に上記バンプを載置し得るようにしたバンプ
配列用基板において、上記ベースフィルム対向部分が減
肉されるように、上記バンプが載置される側の外周部分
の板厚を、上記貫通孔の開設部分の板厚よりも薄くした
もの、もしくは、同じ配列パターンを有し、周辺の大き
さが異なる複数の板を、互いの貫通孔が一致するように
重ね合わせることにより構成されるバンプ配列用基板で
ある。
According to the present invention, a bump arrangement substrate according to the present invention corresponds to an arrangement pattern of bumps to be connected to a semiconductor chip, which is to be joined to the tip of a lead formed on a base film. With a large number of through holes,
In the bump arrangement substrate capable of mounting the bump on each through-hole, the thickness of the outer peripheral portion on the side on which the bump is mounted, such that the base film facing portion is reduced in thickness, It is configured by laminating a plurality of plates having a thickness smaller than the plate thickness of the opening portion of the through hole or having the same arrangement pattern and different peripheral sizes so that the through holes coincide with each other. Substrate for bump arrangement.

【0014】[0014]

【作用】本発明によれば、バンプ配列用基板は、貫通孔
を有する基板本体部分の厚さに比較して、周辺部分の厚
さを薄く形成してある。この厚肉部と薄肉部との厚さの
差を、TABテープのベースフィルムの厚さとほぼ同程
度に設定することにより、バンプの大きさが極端に小さ
くなった場合でも、フィンガーリードのデバイスホール
側の面に球状のバンプを何ら支障なく接合することがで
きる。また配列用基板の薄肉部が周辺に広がっているた
め、基板受け台上へのセットも支障なく行うことができ
ると共に、フィンガーリードのデバイスホールへの突出
部分を長く形成する必要がなくなる。
According to the present invention, the thickness of the peripheral portion of the substrate for bump arrangement is formed smaller than the thickness of the substrate body portion having the through hole. By setting the thickness difference between the thick portion and the thin portion to be substantially the same as the thickness of the base film of the TAB tape, even when the size of the bump becomes extremely small, the device hole of the finger lead is formed. A spherical bump can be joined to the side surface without any trouble. In addition, since the thin portion of the arrangement substrate is spread around the periphery, it can be set on the substrate receiving table without any trouble, and it is not necessary to form the projecting portion of the finger lead into the device hole long.

【0015】本発明によるバンプ配列用基板は、ニッケ
ル又はステンレス等の金属又はセラミックス等を使用し
て形成することができる。基板本体部分とその周辺部分
との板厚に差を設ける方法としては、エッチング又は機
械加工等を利用することができる。貫通孔を形成する場
合、通常のバンプ配列用基板の場合に比較して、該貫通
孔を形成する部分の板厚が大きくなるだけ、小径の貫通
孔を形成し難くなるが、一体物の基板にかかる貫通孔を
形成することが困難な場合には、複数の基板を重ね合わ
せて行う方法が有利である。この場合、重合されるべき
各基板には同一パターンの貫通孔を形成後、それらの貫
通孔が整合するように各基板が重合される。複数の基板
のうち端部に重ね合わせる基板の大きさを大きく形成し
ておくことにより、簡単に周辺部分の厚さを薄くするこ
とができる。
The substrate for bump arrangement according to the present invention can be formed using a metal such as nickel or stainless steel, ceramics or the like. As a method for providing a difference in plate thickness between the substrate main body portion and its peripheral portion, etching, machining, or the like can be used. When a through hole is formed, it is difficult to form a small-diameter through hole as the thickness of the portion where the through hole is formed becomes larger as compared with the case of a normal bump arrangement substrate. When it is difficult to form such a through hole, it is advantageous to use a method in which a plurality of substrates are stacked. In this case, after forming through holes of the same pattern on each substrate to be superimposed, the substrates are superimposed so that the through holes are aligned. By increasing the size of the substrate to be overlapped on the end portion of the plurality of substrates, the thickness of the peripheral portion can be easily reduced.

【0016】[0016]

【実施例】以下、図1に基づき、従来例と実質的に同一
部材には同一符号を用いて本発明によるバンプ配列用基
板の第一実施例を説明する。第一実施例では、四辺外周
部に140μmピッチで合計200個の電極を有する半
導体チップ(図示せず)の実装に使用するTABテープ
のフィンガーリード3に球状のバンプ4を一次接合する
ために、厚さ0.2mmのステンレス鋼製の配列用基板
11が製作される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of a bump arrangement substrate according to the present invention will be described with reference to FIG. In the first embodiment, a spherical bump 4 is primarily bonded to a finger lead 3 of a TAB tape used for mounting a semiconductor chip (not shown) having a total of 200 electrodes at 140 μm pitches on the outer periphery of the four sides. An array substrate 11 made of stainless steel and having a thickness of 0.2 mm is manufactured.

【0017】この配列用基板11は、厚さ0.2mmの
ステンレス鋼板を15mm角に切断後、周辺の3.2m
m幅の縁部分をエッチングにより、厚さ0.1mmまで
減肉して薄肉部12が形成される。この後、中央の厚肉
部の外周部内側から至近位置に内径40μmの貫通孔6
を140μmピッチで放電加工法によって形成する。な
お、TABテープのベースフィルム2の厚さは100μ
mである。本実施例では、配列用基板11の中央部と周
辺部との板厚差は、上記ベースフィルム2の厚さと同じ
0.1mmに設定されているから、直径50μm程度の
比較的小さなバンプ4に対しても、TABテープのフィ
ンガーリード3のベースフィルム2側に支障なく且つ適
正に一次接合することができる。
The arrangement substrate 11 is formed by cutting a stainless steel plate having a thickness of 0.2 mm into 15 mm square, and then cutting 3.2 mm around the periphery.
The thinner portion 12 is formed by etching the edge portion having a width of m to a thickness of 0.1 mm by etching. Thereafter, a through-hole 6 having an inner diameter of 40 μm
Is formed at a pitch of 140 μm by an electric discharge machining method. The thickness of the TAB tape base film 2 is 100 μm.
m. In the present embodiment, the thickness difference between the central portion and the peripheral portion of the arrangement substrate 11 is set to 0.1 mm, which is the same as the thickness of the base film 2. Also, the primary bonding can be appropriately and appropriately performed to the base film 2 side of the finger lead 3 of the TAB tape.

【0018】上記の場合、バンプ4が極端に小さいと、
貫通孔6に該バンプ4が深く沈み込み、貫通孔6に仮固
定されたバンプ4に対してその上方からベースフィルム
2を押圧して一次接合した際に、バンプ4が貫通孔6の
開口縁部に食い込んでしまい、バンプ4は配列用基板1
1から離れ難くなるという問題が生じ得る。このため直
径50μm以下のバンプ4を使用する場合には、配列用
基板11の中央部と周辺部との板厚差のみならず、貫通
孔6の直径を30μm以下に小さく設定することが必要
になる。
In the above case, if the bump 4 is extremely small,
When the bump 4 sinks deeply into the through-hole 6, and the base film 2 is pressed against the bump 4 temporarily fixed to the through-hole 6 from above to perform primary bonding, the bump 4 forms an opening edge of the through-hole 6. And the bumps 4 penetrate into the array substrate 1
1 may be difficult to move away from. For this reason, when bumps 4 having a diameter of 50 μm or less are used, it is necessary to set the diameter of the through-hole 6 to 30 μm or less, as well as the difference in thickness between the central portion and the peripheral portion of the arrangement substrate 11. Become.

【0019】上記のように、本発明のバンプ配列用基板
11では、周辺部分に薄肉部12を設けたことにより、
その表面に減圧吸引用の溝が形成されている基板受台7
上にセットされた際にその周辺部分から減圧漏れを生じ
たり、さらにそれによってバンプ4の吸着時にバンプ配
列用基板11及び上記基板受台7間に隙間部分にバンプ
4が吸着されてしまう不都合を完全に解消することがで
きる。また、バンプ配列用基板11の大きさ自体はその
まま維持して、その周辺部分を薄くしたことにより、一
次接合時にTABテープのベースフィルム2がバンプ配
列用基板11と接触するのを有効に防止することがで
き、常にバンプ4を、TABテープのフィンガーリード
3のベースフィルム2側の所定位置に適正に接合するこ
とができる。
As described above, in the bump arrangement substrate 11 of the present invention, the thin portion 12 is provided in the peripheral portion,
Substrate support 7 having a groove for vacuum suction formed on its surface
When the bump 4 is set on the upper side, the pressure drop leaks from the peripheral portion thereof, and furthermore, when the bump 4 is sucked, the bump 4 is sucked in the gap between the bump arrangement substrate 11 and the substrate receiving table 7. It can be completely eliminated. In addition, by keeping the size of the bump arrangement substrate 11 as it is and making the peripheral portion thinner, it is possible to effectively prevent the base film 2 of the TAB tape from coming into contact with the bump arrangement substrate 11 at the time of the primary bonding. Therefore, the bumps 4 can always be properly bonded to predetermined positions on the base film 2 side of the finger leads 3 of the TAB tape.

【0020】本発明によるバンプ配列用基板の第二実施
例では、第一実施例の場合と同一パターンのTABテー
プに球状バンプを接合するためのバンプ配列用基板は、
厚さ40μmで15mm角のニッケル板(A板)と、厚
さ40μmで8mm角のニッケル板(B板)と、厚さ5
0μmで8.6mm角のステンレス鋼板(C板)の3枚
の基板を重合することにより製作される。A板,B板及
びC板のそれぞれ中央部分には、同一の配列パターンに
従って、バンプを載置するための貫通孔を形成するが、
上記A板及びB板には、エレクトフォーミング法により
形成される際に、同時に直径30μmの貫通孔が200
個形成される。またC板では、エッチングにより直径4
0μmの貫通孔を同様に200個形成する。これらの貫
通孔の配列は、第一実施例の場合と同様に、140μm
ピッチで四辺に50個ずつ配列したものである。そし
て、A板、B板、C板の順に重合して接着剤により相互
に貼合される。
In the second embodiment of the bump arrangement substrate according to the present invention, the bump arrangement substrate for joining the spherical bumps to the TAB tape having the same pattern as in the first embodiment is as follows.
A nickel plate (A plate) having a thickness of 40 μm and 15 mm square, a nickel plate (B plate) having a thickness of 40 μm and 8 mm square, and a thickness of 5 mm
It is manufactured by superposing three substrates of a stainless steel plate (C plate) of 8.6 mm square at 0 μm. In the center portions of the A plate, the B plate and the C plate, through holes for mounting bumps are formed in accordance with the same arrangement pattern.
In the A plate and the B plate, through holes having a diameter of 30 μm were formed at the same time when they were formed by the electroforming method.
Individually formed. In the case of a C plate, the diameter is 4 by etching.
Similarly, 200 through-holes of 0 μm are formed. The arrangement of these through holes is 140 μm, as in the first embodiment.
50 pieces are arranged on four sides at a pitch. Then, the A plate, the B plate, and the C plate are polymerized in this order and bonded to each other with an adhesive.

【0021】第二実施例によるバンプ配列用基板は、周
辺部分の板厚が40μmで、貫通孔の開設部分の板厚が
140μm強である。C板の貫通孔のサイズを、A板及
びB板のそれぞれ貫通孔よりも大きくしたのは、エッチ
ングにより高い精度で貫通孔を形成するためには、厚さ
50μmのステンレス鋼板の場合、40μmがその直径
の限界となるからである。なお、このようにした場合で
も、バンプ吸着時にはA板における直径30μmの貫通
孔が使用されるため、何ら不都合は生じない。第二実施
例によれば、直径35μm程度の小さなバンプであって
も、TABテープのフィンガーリードに対する適正且つ
確実なバンプの一次接合を保証することができる。
In the substrate for bump arrangement according to the second embodiment, the thickness of the peripheral portion is 40 μm, and the thickness of the portion where the through hole is formed is slightly more than 140 μm. The reason why the size of the through hole of the C plate is larger than that of each of the A plate and the B plate is that, in order to form the through hole with high accuracy by etching, in the case of a stainless steel plate having a thickness of 50 μm, 40 μm is required. This is because the diameter is limited. Even in this case, no inconvenience occurs because the through-hole having a diameter of 30 μm in the A-plate is used at the time of bump suction. According to the second embodiment, even with a small bump having a diameter of about 35 μm, it is possible to guarantee proper and reliable primary bonding of the bump to the finger lead of the TAB tape.

【0022】本発明によるバンプ配列用基板の第三実施
例では、導電性セラミックスの一種であるホウ化物系セ
ラミックス(商品名;セラボレックス)を使用して、厚
さ0.16mmで15mm角の基板が製作される。さら
にその周辺に沿って3.2mm幅の部分を0.1mmま
で研磨して薄くする。この場合、研磨による減肉加工で
は完全にシャープな角部を得られないため、この角部の
半径を考慮して研磨幅を設定する必要がある。また研磨
加工では上記角部の半径が大きくなり易いので、研磨加
工後に放電加工を行うようにするのが好ましい。このよ
うにその周辺部分に段差が設けられたバンプ配列用基板
は、更に中央の厚肉部分に直径30μmの貫通孔が14
0μmピッチで200個形成される。第三実施例によれ
ば、直径65μm程度の球形バンプを、TABテープの
フィンガーリードに対して適正且つ確実に一次接合する
ことができる。
In the third embodiment of the substrate for bump arrangement according to the present invention, a boride-based ceramic (trade name: SELABOREX) which is a kind of conductive ceramic is used, and a substrate of 0.16 mm in thickness and 15 mm square is used. Is produced. Further, a 3.2 mm wide portion is polished down to 0.1 mm along the periphery to make it thinner. In this case, it is not possible to obtain a completely sharp corner by thinning processing by polishing, so it is necessary to set the polishing width in consideration of the radius of this corner. Further, in the polishing process, the radius of the corner is likely to be large, so that it is preferable to perform the electric discharge machining after the polishing process. In this way, the bump arrangement substrate having a step at its peripheral portion has a through hole having a diameter of 30 μm in the thick portion at the center.
200 pieces are formed at a pitch of 0 μm. According to the third embodiment, the spherical bump having a diameter of about 65 μm can be properly and reliably primarily bonded to the finger lead of the TAB tape.

【0023】[0023]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、TAB
テープにバンプの一次接合を行う際に小さなバンプであ
っても、フィンガーリードのベースフィルム側へ確実に
接合することができ、これによりかかるTABテープを
半導体実装に適用した場合、実装厚さを有効に減少し、
従来のICバンプ方式と同等に薄くすることができる等
の利点を有している。
As described above, according to the present invention, TAB
Even when a small bump is used for the primary bonding of the bump to the tape, it can be securely bonded to the base film side of the finger lead, and when this TAB tape is applied to semiconductor mounting, the mounting thickness is effective. Decrease to
It has the advantage that it can be made as thin as the conventional IC bump method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のバンプ配列用基板の第一実施例による
使用状態を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a use state of a bump arrangement substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】TABテープの構造例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a structural example of a TAB tape.

【図3】各種TAB法を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing various TAB methods.

【図4】バンプ付きTABテープの製造およびそれを用
いた半導体実装の方法を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a TAB tape with bumps and a semiconductor mounting method using the same.

【図5】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるバン
プ一次接合の態様を示す縦断面図である。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing an aspect of a primary bump bonding performed using a conventional bump arrangement substrate.

【図6】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるバン
プ一次接合の他の態様を示す縦断面図である。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing another aspect of the primary bonding of bumps performed by using a conventional bump arrangement substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 ベースフィルム 3 フィンガーリード 4 バンプ 6 貫通孔 7 基板受台 8 減圧吸引口 9 減圧用通路 11 配列用基板 12 薄肉部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Base film 3 Finger lead 4 Bump 6 Through hole 7 Substrate pedestal 8 Decompression suction port 9 Decompression passage 11 Arrangement substrate 12 Thin part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−30140(JP,A) 特開 平3−196659(JP,A) 特開 昭62−25435(JP,A) 特開 平3−174737(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 311 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-2-30140 (JP, A) JP-A-3-196659 (JP, A) JP-A-62-243535 (JP, A) JP-A-3-25 174737 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/60 311

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体チップと接続されるべき、ベース
フィルム上に形成されたリードの先端部に接合されるバ
ンプの配列パターンに対応して、多数開設された貫通孔
を備え、各貫通孔上に上記バンプを載置し得るようにし
たバンプ配列用基板において、上記ベースフィルム対向
部分が減肉されるように、上記バンプが載置される側の
外周部分の板厚を、上記貫通孔の開設部分の板厚よりも
薄くしたことを特徴とするバンプ配列用基板。
1. A semiconductor device comprising: a plurality of through-holes corresponding to an arrangement pattern of bumps to be connected to a semiconductor chip, the bumps being bonded to the tips of leads formed on a base film; In the bump arrangement substrate on which the bumps can be placed, the thickness of the outer peripheral portion on the side on which the bumps are placed is set so that the thickness of the base film facing portion is reduced. A substrate for bump arrangement, characterized in that the thickness is smaller than the thickness of the opening portion.
【請求項2】 基板が、同じ配列パターンを有し、周辺
の大きさが異なる複数の板を、互いの貫通孔が一致する
ように重ね合わせて成る請求項1に記載のバンプ配列用
基板。
2. The bump arrangement substrate according to claim 1, wherein the substrate has a plurality of plates having the same arrangement pattern and different peripheral sizes overlapped with each other so that their through holes coincide with each other.
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