JPH06163638A - Substrate for arrangement of bump - Google Patents

Substrate for arrangement of bump

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JPH06163638A
JPH06163638A JP33354692A JP33354692A JPH06163638A JP H06163638 A JPH06163638 A JP H06163638A JP 33354692 A JP33354692 A JP 33354692A JP 33354692 A JP33354692 A JP 33354692A JP H06163638 A JPH06163638 A JP H06163638A
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bump
bumps
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thickness
base film
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Tadakatsu Maruyama
忠克 丸山
Toshinori Ando
敏範 安藤
Hiroshi Hoshiba
日朗志 干場
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Abstract

PURPOSE:To effectively thin the thickness in mounting and enable the works such as primary junction, mounting of a semiconductor device, and others to be performed smoothly. CONSTITUTION:This board is arranged so that it can mount a bump 4 on each through hole 6, being equipped with many through holes 6 which are opened according to the disposition pattern of the bumps 4 junctioned with the tips of the leads 3 made on a base film 2, to be connected with a semiconductor chip. The thickness of a board at the peripheral section on the side where the bumps 4 are mounted is made thinner than the thickness of the board at the section where the through hole 6 is opened, so that the opposite section of the base film 2 may be thin. Especially, even if it is a small bump 4, it can be junctioned surely to the tip on base film 2 side of the lead, and thickness in mounting can be effectively thinned.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の実装技術
の1つであるTAB(Tape Automated Bonding)におい
て、接合用バンプとなる微細金属球を所定の配列パター
ンに従って配列し、所謂TABテープのリード先端部に
転写する際に使用するバンプ配列用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called TAB tape in which TAB (Tape Automated Bonding), which is one of the mounting techniques for semiconductor elements, has fine metal spheres that serve as bonding bumps arranged in a predetermined arrangement pattern. The present invention relates to a bump array substrate used when transferring to a tip of a lead.

【0002】[0002]

【従来の技術】TAB法は、半導体チップの電極部に対
してリード配線を行う際に、TABテープ(フィルムキ
ャリヤ)上にパターン化されて形成されているリード
(フィンガーリード)の先端部分と半導体チップの電極
部とを、接合用の金属突起、即ちバンプを介して接合す
る方法である。上記バンプは予めTABテープ側のリー
ド又は半導体チップの電極部に取り付けられており、か
かるTABテープと半導体チップを接合する場合、ボン
ディングマシンを使用して加熱・加圧することにより行
っている。
2. Description of the Related Art In the TAB method, when lead wiring is performed on an electrode portion of a semiconductor chip, a tip portion of leads (finger leads) formed by patterning on a TAB tape (film carrier) and a semiconductor are formed. This is a method of joining the electrode portion of the chip via a metal projection for joining, that is, a bump. The bumps are attached in advance to the leads on the TAB tape side or the electrode parts of the semiconductor chip, and when the TAB tape and the semiconductor chip are bonded, heating and pressing are performed using a bonding machine.

【0003】図2及び図3はTAB法及びそのTABテ
ープ等の構成例を示しているが、図において、1は半導
体チップ、2はTABテープのベースフィルムであり、
その中央部にデバイスホール2aを有している。また、
3はこのデバイスホール2a内に突出するように形成さ
れたフィンガーリード、4はバンプである。TABテー
プと半導体チップ1を接合する場合、図3(a)に示さ
れる所謂、ICバンプ方式が一般に広く行われている。
このICバンプ方式は、バンプ4を予め半導体チップ1
に取り付けておく方法であり、この方法によれば、半導
体チップ1はTABテープのベースフィルム2に開設さ
れているデバイスホール2a内に収容されるため、実装
後の厚みを薄くすることができるという特徴を有してい
る。
2 and 3 show examples of the structure of the TAB method and its TAB tape, etc. In the figures, 1 is a semiconductor chip, 2 is a base film of the TAB tape,
It has a device hole 2a in the center thereof. Also,
Reference numeral 3 is a finger lead formed so as to project into the device hole 2a, and 4 is a bump. When bonding the TAB tape and the semiconductor chip 1, the so-called IC bump method shown in FIG. 3A is generally widely used.
In this IC bump method, the bumps 4 are previously formed on the semiconductor chip 1
According to this method, since the semiconductor chip 1 is housed in the device hole 2a formed in the base film 2 of the TAB tape, the thickness after mounting can be reduced. It has features.

【0004】一方、バンプ4を半導体チップ1側に取り
付けるのではなく、TABテープ側に形成しておく方法
(バンプ付きTAB)は、バンプ4の形成中に半導体チ
ップ1を損傷する危険がないことから、近年広く行われ
るようになってきている。かかるバンプ付きTABを使
用する実装では、図3(b),(c)に示したように、
バンプ4がTABテープの表裏いずれの側に取り付けら
れるかにより2つの場合がある。通常、バンプ4は図3
(b)に示されるように、ベースフィルム2と反対側に
設けられる。この場合、半導体チップ1はベースフィル
ム2のデバイスホール2a内に収容されないため、実装
後の厚さはICバンプ方式(図3(a))に比較して、
かなり厚くなってしまう。そこで、かかる実装厚さを薄
くすべく、図3(c)に示したように、バンプ4をベー
スフィルム2側に取り付けるようにすることも可能であ
る。
On the other hand, the method of forming the bumps 4 on the TAB tape side instead of attaching the bumps 4 to the semiconductor chip 1 side (TAB with bumps) has no risk of damaging the semiconductor chip 1 during the formation of the bumps 4. Since then, it has been widely practiced in recent years. In the mounting using the TAB with bumps, as shown in FIGS. 3 (b) and 3 (c),
There are two cases depending on whether the bump 4 is attached to the front or back side of the TAB tape. Normally, the bump 4 is shown in FIG.
As shown in (b), it is provided on the side opposite to the base film 2. In this case, since the semiconductor chip 1 is not housed in the device hole 2a of the base film 2, the thickness after mounting is smaller than that of the IC bump method (FIG. 3A).
It gets quite thick. Therefore, in order to reduce the mounting thickness, it is possible to attach the bumps 4 to the base film 2 side as shown in FIG.

【0005】ところが、バンプ4をフィンガーリード3
に取り付ける際、平坦なガラス基板上にメッキで形成さ
れている取付前のバンプを、フィンガーリード3の先端
部分に移し取るようにした通常の方法では、図3(c)
の場合のように、バンプ4の取付側のベースフィルム2
の厚さが障害になって実質的に取付不可能になってしま
う。尚、この場合、バンプ4の厚さをベースフィルム2
の厚さよりも大きくして、該バンプ4の頭部がベースフ
ィルム2上に突出するようにすれば、かかるバンプ4を
フィンガーリード3に接合すること自体は可能である。
しかしながら、このように厚いバンプ4を使用したので
は、通常、金(Au)が用いられている高価なバンプ素
材金属を多量に使用することとなり、却ってコストが高
くなる上に、そのような厚いバンプ4を図3(c)のよ
うに形成したところで、実装厚さを薄くするという本来
の目的は達成され得ない。
However, the bump 4 is replaced with the finger lead 3
3 (c), the bumps formed by plating on a flat glass substrate before attachment are transferred to the tip portions of the finger leads 3 when attaching to
The base film 2 on the mounting side of the bump 4 as in the case of
The thickness of the hindrance hinders practical installation. In this case, the thickness of the bumps 4 is set to the base film 2
It is possible to bond the bumps 4 to the finger leads 3 by making the heads of the bumps 4 project above the base film 2.
However, the use of such thick bumps 4 usually leads to the use of a large amount of expensive bump material metal using gold (Au), which in turn raises the cost and increases the thickness of such thick bumps. When the bumps 4 are formed as shown in FIG. 3C, the original purpose of reducing the mounting thickness cannot be achieved.

【0006】また、本出願人は先に、TABテープのリ
ード先端部分に球形状のバンプを形成する新しい方法を
提案している(特開平3−174737号)。しかし、
この方法においても、バンプの大きさを小さくして、ベ
ースフィルムの厚みよりも該バンプの直径が小さくなる
ような条件にしていくと、図3(c)のような形にバン
プを形成することは困難になる。
Further, the present applicant has previously proposed a new method of forming a spherical bump on the lead tip portion of the TAB tape (Japanese Patent Laid-Open No. 3-174737). But,
Also in this method, when the size of the bump is reduced so that the diameter of the bump is smaller than the thickness of the base film, the bump is formed in a shape as shown in FIG. 3C. Will be difficult.

【0007】ここで、図4は本出願人が既に提案した新
規なバンプ付きTAB及びその半導体装置との接合工程
を模式的に示している。図において、一次接合工程で
は、バンプとなる微細金属球4を配列基板5の貫通孔の
上に吸引して固定した後、TABのベースフィルム2上
に形成されているフィンガーリード3の先端部に一括接
合される。また、二次接合工程では、一次接合工程でバ
ンプ形成されたTABテープのフィンガーリード3と半
導体チップ1の電極部とが位置合わせして接合される。
この二次接合は、半導体チップ1の実装において行われ
るの対して、一次接合は、バンプ付きTABの制作のた
めに行われる。そして、一次接合工程では、バンプとな
る微細金属球4を所定のパターンに従って仮配列するた
めの配列基板5が使用される。この配列基板5に吸着さ
れた微細金属球4がTABテープのベースフィルム2に
取り付けられるか否かに関して、この配列基板5と、バ
ンプ4の大きさ及びベースフィルム2の厚さの関係が問
題となる。
Here, FIG. 4 schematically shows the novel TAB with bumps already proposed by the present applicant and the bonding process with the semiconductor device. In the figure, in the primary bonding step, after the fine metal spheres 4 to be bumps are sucked and fixed onto the through holes of the array substrate 5, they are attached to the tips of the finger leads 3 formed on the TAB base film 2. Joined together. In the secondary bonding step, the finger leads 3 of the TAB tape bumped in the primary bonding step and the electrode portions of the semiconductor chip 1 are aligned and bonded.
The secondary bonding is performed in mounting the semiconductor chip 1, while the primary bonding is performed for manufacturing the bumped TAB. Then, in the primary bonding step, the array substrate 5 for temporarily arraying the fine metal balls 4 to be bumps according to a predetermined pattern is used. Regarding whether or not the fine metal spheres 4 adsorbed on the array substrate 5 are attached to the base film 2 of the TAB tape, the relationship between the array substrate 5 and the size of the bumps 4 and the thickness of the base film 2 is a problem. Become.

【0008】図5は、一次接合工程を説明するための図
であり、図5(a)は配列基板5の貫通孔6上にバンプ
4が吸着され、且つその上部に位置合わせされたTAB
テープのフィンガーリード3が待機している状態を示し
ている。図において、7は配列基板5の貫通孔6部を減
圧状態にするたの基板受台であって、この基板受台7の
内部には上記貫通孔6と連通する減圧用通路9が形成さ
れていて、この減圧用通路9の他端側は、減圧吸引口8
を介して図示しない減圧装置に接続されている。
FIG. 5 is a diagram for explaining the primary bonding process. FIG. 5A shows a TAB in which the bumps 4 are adsorbed on the through holes 6 of the array substrate 5 and aligned with the upper portions thereof.
The finger lead 3 of the tape is on standby. In the figure, reference numeral 7 denotes a substrate pedestal for depressurizing the through holes 6 of the array substrate 5, and inside the substrate pedestal 7, a depressurizing passage 9 communicating with the through holes 6 is formed. However, the other end of the pressure reducing passage 9 is connected to the pressure reducing suction port 8
Is connected to a decompression device (not shown).

【0009】バンプ4がTABテープのベースフィルム
2の厚さよりも大きければ、図5(b)に示した状態
で、フィンガーリード3をバンプ4に接近させ、その上
方から図示しないボンディングツールを下降させて、加
熱・加圧することにより、該バンプ4をフィンガーリー
ド3のベースフィルム2側に固定することができる。と
ころが、バンプ4の大きさがベースフィルム2の厚さに
比べて小さくなると、図5(c)に示されるように、フ
ィンガーリード3及びバンプ4が接触する前に、配列基
板5の端部がTABテープのベースフィルム2と接触す
る。なお、ベースフィルム2が上向きになるようにセッ
トすれば、バンプ4をフィンガーリード3に取り付ける
こと自体は支障なく行うことができるが、この場合半導
体チップ1を実装した後の形態が図5(b)のタイプに
なってしまい、実装厚さを薄くするという目的を実現す
ることができなくなってしまう。つまり、バンプ付きT
ABは従来のいずれの方法においても、バンプ用金属の
使用量を少なくして、且つ実装厚さを薄くすることが困
難であった。
If the bump 4 is larger than the thickness of the base film 2 of the TAB tape, the finger lead 3 is brought close to the bump 4 in the state shown in FIG. 5B, and a bonding tool (not shown) is lowered from above. The bumps 4 can be fixed to the base film 2 side of the finger leads 3 by heating and pressing. However, if the size of the bumps 4 becomes smaller than the thickness of the base film 2, as shown in FIG. 5C, before the finger leads 3 and the bumps 4 come into contact with each other, the end portions of the array substrate 5 are It contacts the base film 2 of the TAB tape. If the base film 2 is set so as to face upward, the mounting of the bumps 4 on the finger leads 3 can be performed without any problem. In this case, the configuration after mounting the semiconductor chip 1 is shown in FIG. ) Type, and it becomes impossible to realize the purpose of reducing the mounting thickness. In other words, T with bump
It is difficult for AB to reduce the amount of bump metal used and to reduce the mounting thickness by any of the conventional methods.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】バンプ4をTABテー
プ上のフィンガーリード3に取り付ける方法としては、
該フィンガーリード3のインナーリード部分がベースフ
ィルム2のデバイスホール2a内に向かって長く突き出
るように設計するか、又はこれとは逆にTABテープ側
はそのままにして、配列基板5とこれを受ける基板受台
7を、デバイスホール2a内に収容される程度の大きさ
に形成する。そしてこれによって図6に示したような相
対的関係を設定し、配列基板5とベースフィルム2が接
触することなく、一次接合を行うことは容易に考えられ
る。ところが、フィンガーリード3の先端を長くすると
リード変形が生じ易く、特に微細ピッチで正確に位置合
わせして接合を行う場合、TAB実装の歩留りを著しく
低下させる危険がある。
The method of attaching the bumps 4 to the finger leads 3 on the TAB tape is as follows.
The inner lead portion of the finger lead 3 is designed to project long into the device hole 2a of the base film 2, or conversely, the TAB tape side is left as it is, and the array substrate 5 and a substrate for receiving the same. The pedestal 7 is formed in such a size that it can be accommodated in the device hole 2a. Therefore, it is easily conceivable to set the relative relationship as shown in FIG. 6 and perform the primary bonding without contact between the array substrate 5 and the base film 2. However, if the tips of the finger leads 3 are lengthened, lead deformation is likely to occur, and there is a risk that the yield of TAB mounting will be significantly reduced, especially when joining is performed by accurately aligning with a fine pitch.

【0011】一方、配列基板5及びその基板受台7を小
さく形成した場合、原理的には配列基板5上に形成され
ている貫通孔6の列の外側限界位置まで配列基板5を小
さくすることが可能である。また実際的にも、そのよう
に配列基板5を小さくしなければ、図6に示される状態
を実現することはできない。しかしながら、配列基板5
を上記のように小さくしてしまうと、配列基板5の端部
10の部分の大きさを実質上、確保することができなく
なり、このため配列基板5を基板受台7上に安定してセ
ットすることが困難になる。また、仮に配列基板5をセ
ットすることができた場合でも、上記端部10が短い
と、減圧吸引力が配列基板5の貫通孔6以外の部分で、
該配列基板5及び基板受台7間の微小な間隙に対して及
ぶことになり、この結果、バンプ4を吸着する際に配列
基板5の貫通孔6と同時に配列基板5下側の間隙部分に
もバンプ4が吸着されてしまい、一次接合工程に支障を
来す等の問題が生じる。
On the other hand, when the array substrate 5 and its substrate pedestal 7 are formed small, in principle, the array substrate 5 should be downsized to the outer limit position of the row of the through holes 6 formed on the array substrate 5. Is possible. Further, practically, the state shown in FIG. 6 cannot be realized unless the array substrate 5 is reduced in size. However, the array substrate 5
If the above is reduced as described above, the size of the end portion 10 of the array substrate 5 cannot be substantially secured, and therefore the array substrate 5 can be stably set on the substrate pedestal 7. Difficult to do. Further, even if the array substrate 5 can be set, if the end portion 10 is short, the reduced pressure suction force is generated in a portion other than the through hole 6 of the array substrate 5,
This extends to a minute gap between the array substrate 5 and the substrate pedestal 7. As a result, when the bumps 4 are adsorbed, the through holes 6 of the array substrate 5 and the gap portion below the array substrate 5 are formed at the same time. However, the bumps 4 are also adsorbed, which causes a problem such as hindering the primary bonding process.

【0012】本発明は、上述の実情に鑑み、バンプ付き
TAB法を用いながらも、実装厚さを通常のTAB法と
同程度に薄くすることができ、且つ一次接合や半導体装
置の実装等を含めた他の作業に支障を来すことがないバ
ンプ配列用基板を提供することを目的とする。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention can reduce the mounting thickness to the same extent as the normal TAB method while using the bumped TAB method, and can perform the primary bonding and the mounting of the semiconductor device. It is an object of the present invention to provide a bump arranging substrate that does not hinder other operations including the above.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のバンプ配列用基
板は、半導体チップと接続されるべき、ベースフィルム
上に形成されたリードの先端部に接合されるバンプの配
列パターンに対応して、多数開設された貫通孔を備え、
各貫通孔上に上記バンプを載置し得るようにしたバンプ
配列用基板において、上記ベースフィルム対向部分が減
肉されるように、上記バンプが載置される側の外周部分
の板厚を、上記貫通孔の開設部分の板厚よりも薄くした
ものである。
The bump arranging substrate of the present invention corresponds to a bump arranging pattern to be connected to a semiconductor chip, the bump arranging pattern being bonded to the tips of the leads formed on the base film. Equipped with a large number of through holes,
In the substrate for bump arrangement capable of mounting the bumps on each through hole, the plate thickness of the outer peripheral portion on the side where the bumps are mounted is reduced so that the base film facing portion is thinned, It is made thinner than the plate thickness of the opening portion of the through hole.

【0014】また特に本発明のバンプ配列用基板は、同
じ配列パターンを有し、周辺の大きさが異なる複数の板
を、互いの貫通孔が一致するように重ね合わせることに
より構成される。
Further, in particular, the bump arranging substrate of the present invention is constituted by stacking a plurality of plates having the same arranging pattern and having different peripheral sizes so that their through holes are aligned with each other.

【0015】[0015]

【作用】本発明によれば、バンプ配列用基板は、貫通孔
を有する基板本体部分の厚さに比較して、周辺部分の厚
さを薄く形成してある。この厚肉部と薄肉部との厚さの
差を、TABテープのベースフィルムの厚さとほぼ同程
度に設定することにより、バンプの大きさが極端に小さ
くなった場合でも、フィンガーリードのデバイスホール
側の面に球状のバンプを何ら支障なく接合することがで
きる。また配列用基板の薄肉部が周辺に広がっているた
め、基板受け台上へのセットも支障なく行うことができ
ると共に、フィンガーリードのデバイスホールへの突出
部分を長く形成する必要がなくなる。
According to the present invention, the bump arranging substrate is formed such that the peripheral portion is thinner than the substrate main body portion having the through holes. By setting the difference in thickness between the thick portion and the thin portion to be approximately the same as the thickness of the base film of the TAB tape, even if the size of the bump is extremely small, the device hole of the finger lead is not formed. A spherical bump can be bonded to the side surface without any trouble. Further, since the thin portion of the array substrate spreads in the periphery, it can be set on the substrate pedestal without any trouble, and it is not necessary to form the protruding portion of the finger lead into the device hole for a long time.

【0016】本発明によるバンプ配列用基板は、ニッケ
ル又はステンレス等の金属又はセラミックス等を使用し
て形成することができる。基板本体部分とその周辺部分
との板厚に差を設ける方法としては、エッチング又は機
械加工等を利用することができる。貫通孔を形成する場
合、通常のバンプ配列用基板の場合に比較して、該貫通
孔を形成する部分の板厚が大きくなるだけ、小径の貫通
孔を形成し難くなるが、一体物の基板にかかる貫通孔を
形成することが困難な場合には、複数の基板を重ね合わ
せて行う方法が有利である。この場合、重合されるべき
各基板には同一パターンの貫通孔を形成後、それらの貫
通孔が整合するように各基板が重合される。複数の基板
のうち端部に重ね合わせる基板の大きさを大きく形成し
ておくことにより、簡単に周辺部分の厚さを薄くするこ
とができる。
The bump arranging substrate according to the present invention can be formed by using metal such as nickel or stainless or ceramics. Etching or machining can be used as a method for providing a difference in plate thickness between the substrate main body portion and its peripheral portion. In the case of forming a through hole, as compared with the case of a normal bump arranging substrate, it becomes difficult to form a small diameter through hole as the plate thickness of the portion where the through hole is formed becomes larger, but a substrate of an integral body. When it is difficult to form the through-holes, it is advantageous to stack a plurality of substrates. In this case, after forming through holes of the same pattern on each substrate to be polymerized, each substrate is polymerized so that the through holes are aligned. By forming a large size of the plurality of substrates to be overlapped with the end portions, the thickness of the peripheral portion can be easily reduced.

【0017】[0017]

【実施例】以下、図1に基づき、従来例と実質的に同一
部材には同一符号を用いて本発明によるバンプ配列用基
板の第一実施例を説明する。第一実施例では、四辺外周
部に140μmピッチで合計200個の電極を有する半
導体チップ(図示せず)の実装に使用するTABテープ
のフィンガーリード3に球状のバンプ4を一次接合する
ために、厚さ0.2mmのステンレス鋼製の配列用基板
11が製作される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of a bump arranging substrate according to the present invention will be described below with reference to FIG. In the first embodiment, in order to primary-bond the spherical bumps 4 to the finger leads 3 of the TAB tape used for mounting a semiconductor chip (not shown) having a total of 200 electrodes on the outer periphery of the four sides at a pitch of 140 μm, An array substrate 11 made of stainless steel and having a thickness of 0.2 mm is manufactured.

【0018】この配列用基板11は、厚さ0.2mmの
ステンレス鋼板を15mm角に切断後、周辺の3.2m
m幅の縁部分をエッチングにより、厚さ0.1mmまで
減肉して薄肉部12が形成される。この後、中央の厚肉
部の外周部内側から至近位置に内径40μmの貫通孔6
を140μmピッチで放電加工法によって形成する。な
お、TABテープのベースフィルム2の厚さは100μ
mである。本実施例では、配列用基板11の中央部と周
辺部との板厚差は、上記ベースフィルム2の厚さと同じ
0.1mmに設定されているから、直径50μm程度の
比較的小さなバンプ4に対しても、TABテープのフィ
ンガーリード3のベースフィルム2側に支障なく且つ適
正に一次接合することができる。
This array substrate 11 is made by cutting a stainless steel plate having a thickness of 0.2 mm into 15 mm squares, and then cutting the peripheral area of 3.2 m.
By etching the edge portion having a width of m, the thickness is reduced to 0.1 mm to form the thin portion 12. After this, a through hole 6 having an inner diameter of 40 μm is provided at a position close to the inside of the outer peripheral portion of the thick portion in the center.
Are formed at a pitch of 140 μm by an electric discharge machining method. The thickness of the base film 2 of the TAB tape is 100μ.
m. In the present embodiment, the difference in plate thickness between the central portion and the peripheral portion of the array substrate 11 is set to 0.1 mm, which is the same as the thickness of the base film 2, so that the bumps 4 having a relatively small diameter of about 50 μm are formed. Even with respect to this, the primary bonding can be properly and properly performed on the base film 2 side of the finger lead 3 of the TAB tape.

【0019】上記の場合、バンプ4が極端に小さいと、
貫通孔6に該バンプ4が深く沈み込み、貫通孔6に仮固
定されたバンプ4に対してその上方からベースフィルム
2を押圧して一次接合した際に、バンプ4が貫通孔6の
開口縁部に食い込んでしまい、バンプ4は配列用基板1
1から離れ難くなるという問題が生じ得る。このため直
径50μm以下のバンプ4を使用する場合には、配列用
基板11の中央部と周辺部との板厚差のみならず、貫通
孔6の直径を30μm以下に小さく設定することが必要
になる。
In the above case, if the bump 4 is extremely small,
When the bump 4 is deeply sunk into the through hole 6 and the base film 2 is pressed against the bump 4 temporarily fixed to the through hole 6 from above to make a primary bond, the bump 4 has an opening edge of the through hole 6. The bumps 4 are digging into the area, and the bumps 4 are the array substrate 1
The problem that it becomes difficult to separate from 1 may occur. Therefore, when using the bumps 4 having a diameter of 50 μm or less, it is necessary to set the diameter of the through holes 6 to 30 μm or less as well as the thickness difference between the central portion and the peripheral portion of the array substrate 11. Become.

【0020】上記のように、本発明のバンプ配列用基板
11では、周辺部分に薄肉部12を設けたことにより、
その表面に減圧吸引用の溝が形成されている基板受台7
上にセットされた際にその周辺部分から減圧漏れを生じ
たり、さらにそれによってバンプ4の吸着時にバンプ配
列用基板11及び上記基板受台7間に隙間部分にバンプ
4が吸着されてしまう不都合を完全に解消することがで
きる。また、バンプ配列用基板11の大きさ自体はその
まま維持して、その周辺部分を薄くしたことにより、一
次接合時にTABテープのベースフィルム2がバンプ配
列用基板11と接触するのを有効に防止することがで
き、常にバンプ4を、TABテープのフィンガーリード
3のベースフィルム2側の所定位置に適正に接合するこ
とができる。
As described above, in the bump arranging substrate 11 of the present invention, since the thin portion 12 is provided in the peripheral portion,
Substrate pedestal 7 having grooves for vacuum suction formed on its surface
When it is set on the upper side, a pressure leak occurs from its peripheral portion, and further, when the bumps 4 are sucked, the bumps 4 are sucked in the gaps between the bump array substrate 11 and the substrate pedestal 7. It can be completely eliminated. Further, the size of the bump arranging substrate 11 itself is maintained as it is, and the peripheral portion thereof is thinned to effectively prevent the base film 2 of the TAB tape from coming into contact with the bump arranging substrate 11 during the primary bonding. Therefore, the bumps 4 can always be properly bonded to the predetermined positions on the base film 2 side of the finger leads 3 of the TAB tape.

【0021】本発明によるバンプ配列用基板の第二実施
例では、第一実施例の場合と同一パターンのTABテー
プに球状バンプを接合するためのバンプ配列用基板は、
厚さ40μmで15mm角のニッケル板(A基板)と、
厚さ40μmで8mm角のニッケル板(B基板)と、厚
さ50μmで8.6mm角のステンレス鋼板(C基板)
の3枚の基板を重合することにより製作される。A基
板,B基板及びC基板のそれぞれ中央部分には、同一の
配列パターンに従って、バンプを載置するための貫通孔
を形成するが、上記A基板及びB基板には、エレクトフ
ォーミング法により形成される際に、同時に直径30μ
mの貫通孔が200個形成される。またC基板では、エ
ッチングにより直径40μmの貫通孔を同様に200個
形成する。これらの貫通孔の配列は、第一実施例の場合
と同様に、140μmピッチで四辺に50個ずつ配列し
たものである。そして、A基板、B基板、C基板の順に
重合して接着剤により相互に貼合される。
In the second embodiment of the bump arranging substrate according to the present invention, the bump arranging substrate for bonding the spherical bumps to the TAB tape having the same pattern as in the first embodiment is:
15 mm square nickel plate (A substrate) with a thickness of 40 μm,
8 mm square nickel plate (B substrate) with a thickness of 40 μm and 8.6 mm square stainless steel plate (C substrate) with a thickness of 50 μm
It is manufactured by polymerizing three substrates. Through holes for mounting bumps are formed in the central portions of the A substrate, the B substrate, and the C substrate in accordance with the same arrangement pattern. The A substrate and the B substrate are formed by the elect forming method. Diameter of 30μ at the same time
200 m through holes are formed. Further, in the C substrate, 200 through holes having a diameter of 40 μm are similarly formed by etching. As in the case of the first embodiment, these through holes are arranged such that 50 holes are arranged on each of the four sides at a pitch of 140 μm. Then, the A substrate, the B substrate, and the C substrate are polymerized in this order and attached to each other with an adhesive.

【0022】第二実施例によるバンプ配列用基板は、周
辺部分の板厚が40μmで、貫通孔の開設部分の板厚が
140μm強である。C基板の貫通孔のサイズを、A基
板及びB基板のそれぞれ貫通孔よりも大きくしたのは、
エッチングにより高い精度で貫通孔を形成するために
は、厚さ50μmのステンレス鋼板の場合、40μmが
その直径の限界となるからである。なお、このようにし
た場合でも、バンプ吸着時にはA基板における直径30
μmの貫通孔が使用されるため、何ら不都合は生じな
い。第二実施例によれば、直径35μm程度の小さなバ
ンプであっても、TABテープのフィンガーリードに対
する適正且つ確実なバンプの一次接合を保証することが
できる。
In the bump arranging substrate according to the second embodiment, the peripheral portion has a plate thickness of 40 μm, and the through hole opening portion has a plate thickness of more than 140 μm. The size of the through holes of the C substrate is made larger than the through holes of the A substrate and the B substrate, respectively.
This is because in order to form the through holes with high accuracy by etching, the diameter of the stainless steel plate having a thickness of 50 μm is limited to 40 μm. Even in this case, the diameter of the A substrate is 30 when the bumps are picked up.
Since the through hole of μm is used, no inconvenience occurs. According to the second embodiment, even with a small bump having a diameter of about 35 μm, proper and reliable primary bonding of the bump to the finger lead of the TAB tape can be guaranteed.

【0023】本発明によるバンプ配列用基板の第三実施
例では、導電性セラミックスの一種であるホウ化物系セ
ラミックス(商品名;セラボレックス)を使用して、厚
さ0.16mmで15mm角の基板が製作される。さら
にその周辺に沿って3.2mm幅の部分を0.1mmま
で研磨して薄くする。この場合、研磨による減肉加工で
は完全にシャープな角部を得られないため、この角部の
半径を考慮して研磨幅を設定する必要がある。また研磨
加工では上記角部の半径が大きくなり易いので、研磨加
工後に放電加工を行うようにするのが好ましい。このよ
うにその周辺部分に段差が設けられたバンプ配列用基板
は、更に中央の厚肉部分に直径30μmの貫通孔が14
0μmピッチで200個形成される。第三実施例によれ
ば、直径65μm程度の球形バンプを、TABテープの
フィンガーリードに対して適正且つ確実に一次接合する
ことができる。
In the third embodiment of the bump arranging substrate according to the present invention, a substrate having a thickness of 0.16 mm and a size of 15 mm square is formed by using a boride-based ceramic (trade name: Cera-Borex) which is one of conductive ceramics. Is produced. Further, along the periphery thereof, a 3.2 mm wide portion is polished to 0.1 mm to be thin. In this case, it is necessary to set the polishing width in consideration of the radius of the corners because the sharp corners cannot be obtained by the thinning process by polishing. In addition, since the radius of the corner portion is likely to be large during polishing, it is preferable to perform electric discharge machining after polishing. In this way, the bump array substrate having a stepped portion in the peripheral portion thereof has a through hole having a diameter of 30 μm in the thick portion in the center.
200 pieces are formed at a pitch of 0 μm. According to the third embodiment, the spherical bump having a diameter of about 65 μm can be primary-bonded properly and reliably to the finger lead of the TAB tape.

【0024】[0024]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、TAB
テープにバンプの一次接合を行う際に小さなバンプであ
っても、フィンガーリードのベースフィルム側へ確実に
接合することができ、これによりかかるTABテープを
半導体実装に適用した場合、実装厚さを有効に減少し、
従来のICバンプ方式と同等に薄くすることができる等
の利点を有している。
As described above, according to the present invention, the TAB
Even small bumps can be reliably bonded to the base film side of the finger leads when the primary bonding of the bumps to the tape is performed, and when this TAB tape is applied to semiconductor mounting, the mounting thickness is effective. Decreased to
It has the advantage that it can be as thin as the conventional IC bump method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のバンプ配列用基板の第一実施例による
使用状態を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing a usage state of a bump array substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】従来のバンプ配列用基板に係るTABテープの
構造例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a structural example of a TAB tape according to a conventional bump array substrate.

【図3】従来のバンプ位置が異なる各種TAB法を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing various conventional TAB methods with different bump positions.

【図4】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるTA
Bテープの製造工程を示す斜視図である。
FIG. 4 is a TA performed using a conventional bump array substrate.
It is a perspective view which shows the manufacturing process of B tape.

【図5】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるバン
プ一次接合の態様を示す縦断面図である。
FIG. 5 is a vertical cross-sectional view showing a mode of bump primary bonding performed using a conventional bump arranging substrate.

【図6】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるバン
プ一次接合の他の態様を示す縦断面図である。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing another mode of bump primary bonding performed using a conventional bump arranging substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 ベースフィルム 3 フィンガーリード 4 バンプ 6 貫通孔 7 基板受台 8 減圧吸引口 9 減圧用通路 11 配列用基板 12 薄肉部 1 semiconductor chip 2 base film 3 finger leads 4 bumps 6 through holes 7 substrate pedestal 8 decompression suction port 9 decompression passage 11 array substrate 12 thin portion

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成6年1月25日[Submission date] January 25, 1994

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の詳細な説明[Name of item to be amended] Detailed explanation of the invention

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の実装技術
の1つであるTAB(Tape Automated Bonding)におい
て、接合用バンプとなる微細金属球を所定の配列パター
ンに従って配列し、所謂TABテープのリード先端部に
転写する際に使用するバンプ配列用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called TAB tape in which TAB (Tape Automated Bonding), which is one of the mounting techniques for semiconductor elements, has fine metal spheres that serve as bonding bumps arranged in a predetermined arrangement pattern. The present invention relates to a bump array substrate used when transferring to a tip of a lead.

【0002】[0002]

【従来の技術】TAB法は、半導体チップの電極部に対
してリード配線を行う際に、TABテープ(フィルムキ
ャリヤ)上にパターン化されて形成されているリード
(フィンガーリード)の先端部分と半導体チップの電極
部とを、接合用の金属突起、即ちバンプを介して接合す
る方法である。上記バンプは予めTABテープ側のリー
ド又は半導体チップの電極部に取り付けられており、か
かるTABテープと半導体チップを接合する場合、ボン
ディングマシンを使用して加熱・加圧することにより行
っている。
2. Description of the Related Art In the TAB method, when lead wiring is performed on an electrode portion of a semiconductor chip, a tip portion of leads (finger leads) formed by patterning on a TAB tape (film carrier) and a semiconductor are formed. This is a method of joining the electrode portion of the chip via a metal projection for joining, that is, a bump. The bumps are attached in advance to the leads on the TAB tape side or the electrode parts of the semiconductor chip, and when the TAB tape and the semiconductor chip are bonded, heating and pressing are performed using a bonding machine.

【0003】図2及び図3はTAB法及びそのTABテ
ープ等の構成例を示しているが、図において、1は半導
体チップ、2はTABテープのベースフィルムであり、
その中央部にデバイスホール2aを有している。また、
3はこのデバイスホール2a内に突出するように形成さ
れたフィンガーリード、4はバンプである。TABテー
プと半導体チップ1を接合する場合、図3(a)に示さ
れる所謂、ICバンプ方式が一般に広く行われている。
このICバンプ方式は、バンプ4を予め半導体チップ1
に取り付けておく方法であり、この方法によれば、半導
体チップ1はTABテープのベースフィルム2に開設さ
れているデバイスホール2a内に収容されるため、実装
後の厚みを薄くすることができるという特徴を有してい
る。
2 and 3 show examples of the structure of the TAB method and its TAB tape, etc. In the figures, 1 is a semiconductor chip, 2 is a base film of the TAB tape,
It has a device hole 2a in the center thereof. Also,
Reference numeral 3 is a finger lead formed so as to project into the device hole 2a, and 4 is a bump. When bonding the TAB tape and the semiconductor chip 1, the so-called IC bump method shown in FIG. 3A is generally widely used.
In this IC bump method, the bumps 4 are previously formed on the semiconductor chip 1
According to this method, since the semiconductor chip 1 is housed in the device hole 2a formed in the base film 2 of the TAB tape, the thickness after mounting can be reduced. It has features.

【0004】一方、バンプを半導体チップ側でなくTA
Bテープ側に形成する方法(バンプ付きTAB)は、バ
ンプの形成中に半導体チップを損傷する危険がないこと
から、近年広く行われるようになってきている。かかる
バンプ付きTABを使用する実装では、図3(b),
(c)に示したように、バンプ4がTABテープの表裏
いずれの側に取り付けられるかにより2つの場合があ
る。通常、バンプ4は図3(b)に示されるように、ベ
ースフィルム2と反対側に設けられる。この場合、半導
体チップ1はベースフィルム2のデバイスホール2a内
に収容されないため、実装後の厚さはICバンプ方式
(図3(a))に比較して、かなり厚くなってしまう。
そこで、かかる実装厚さを薄くすべく、図3(c)に示
したように、バンプ4をベースフィルム2側に取り付け
るようにすることも可能である。
On the other hand, the bumps should be TA instead of the semiconductor chip side.
The method of forming on the B tape side (TAB with bumps) has been widely used in recent years because there is no risk of damaging a semiconductor chip during the formation of bumps. In the mounting using such a bumped TAB, as shown in FIG.
As shown in (c), there are two cases depending on whether the bump 4 is attached to the front or back side of the TAB tape. Usually, the bumps 4 are provided on the side opposite to the base film 2, as shown in FIG. In this case, since the semiconductor chip 1 is not housed in the device hole 2a of the base film 2, the thickness after mounting becomes considerably thicker than that of the IC bump method (FIG. 3A).
Therefore, in order to reduce the mounting thickness, it is possible to attach the bumps 4 to the base film 2 side as shown in FIG.

【0005】ところがバンプをフィンガーリードに取り
付ける際、平坦なガラス基板上にメッキで形成されたバ
ンプをフィンガーリードの先端部分に移しとるようにし
た通常の方法では、バンプを取り付けようとする側のベ
ースフィルムの厚さが障害になって実質的に取り付け不
可能になってしまう。尚、この場合、バンプの厚さをベ
ースフィルムの厚さよりも大きくして、該バンプの頭部
がベースフィルム上に突出するようにすれば、かかるバ
ンプをフィンガーリードに接合すること自体は可能であ
る。しかしながら、このように厚いバンプを使用したの
では、通常、金(Au)が用いられている高価なバンプ
素材金属を多量に使用することとなり、却ってコストが
高くなる上に、そのような厚いバンプを図3(c)のよ
うに形成したところで、実装厚さを薄くするという本来
の目的は達成され得ない。
However, when the bumps are attached to the finger leads, the bumps formed by plating on a flat glass substrate are transferred to the tip portions of the finger leads. In the usual method, the base on the side where the bumps are attached is mounted. The thickness of the film becomes an obstacle, making it virtually impossible to attach. In this case, if the bumps are made thicker than the base film so that the heads of the bumps project above the base film, it is possible to bond the bumps to the finger leads themselves. is there. However, the use of such thick bumps usually requires the use of a large amount of expensive bump material metal, which uses gold (Au), which in turn increases the cost and increases the thickness of such thick bumps. 3C is formed, the original purpose of reducing the mounting thickness cannot be achieved.

【0006】また、本出願人は先に、TABテープのリ
ード先端部分に球形状のバンプを形成する新しい方法を
提案している(特開平3−174737号)。しかし、
この方法においても、バンプの大きさを小さくして、ベ
ースフィルムの厚みよりも該バンプの直径が小さくなる
ような条件にしていくと、図3(c)のような形にバン
プを形成することは困難になる。
Further, the present applicant has previously proposed a new method of forming a spherical bump on the lead tip portion of the TAB tape (Japanese Patent Laid-Open No. 3-174737). But,
Also in this method, when the size of the bump is reduced so that the diameter of the bump is smaller than the thickness of the base film, the bump is formed in a shape as shown in FIG. 3C. Will be difficult.

【0007】ここで、図4は本出願人が既に提案した新
規なバンプ付きTAB及びその半導体装置との接合工程
を模式的に示している。図において、一次接合工程で
は、バンプとなる微細金属球4を配列基板5の貫通孔の
上に吸引して仮固定した後、TABのベースフィルム2
上に形成されているフィンガーリード3の先端部に一括
接合される。また、二次接合工程では、一次接合工程で
バンプ形成されたTABテープのフィンガーリード3と
半導体チップ1の電極部とが位置合わせして接合され
る。この二次接合は、半導体チップの実装において行わ
れるの対して、一次接合は、バンプ付きTABの制作の
ために行われる。そして、一次接合工程では、バンプと
なる微細金属球4を所定のパターンに従って仮配列する
ための配列基板5が使用される。この配列基板5に吸着
された微細金属球4がTABテープのベースフィルム2
に取り付けられるか否かに関して、この配列基板5と、
バンプ4の大きさ及びベースフィルム2の厚さの関係が
問題となる。
Here, FIG. 4 schematically shows the novel TAB with bumps already proposed by the present applicant and the bonding process with the semiconductor device. In the figure, in the primary bonding step, the fine metal spheres 4 to be bumps are sucked onto the through holes of the array substrate 5 and temporarily fixed, and then the TAB base film 2 is formed.
The tip ends of the finger leads 3 formed above are collectively joined. In the secondary bonding step, the finger leads 3 of the TAB tape bumped in the primary bonding step and the electrode portions of the semiconductor chip 1 are aligned and bonded. This secondary bonding is carried out in the mounting of the semiconductor chip, while the primary bonding is carried out for the production of the TAB with bumps. Then, in the primary bonding step, the array substrate 5 for temporarily arraying the fine metal balls 4 to be bumps according to a predetermined pattern is used. The fine metal balls 4 adsorbed on the array substrate 5 are the base film 2 of the TAB tape.
Whether or not it is attached to
The relationship between the size of the bump 4 and the thickness of the base film 2 poses a problem.

【0008】図5は、一次接合工程を説明するための図
であり、図5(a)は配列基板5の貫通孔6上にバンプ
4が吸着され、且つその上部に位置合わせされたTAB
テープのフィンガーリード3が待機している状態を示し
ている。図において、7は配列基板5の貫通孔6部を減
圧状態にするための基板受台であって、この基板受台7
の内部には上記貫通孔6と連通する減圧用通路9が形成
されていて、この減圧用通路9の他端側は、減圧吸引口
8を介して図示しない減圧装置に接続されている。
FIG. 5 is a diagram for explaining the primary bonding process. FIG. 5A shows a TAB in which the bumps 4 are adsorbed on the through holes 6 of the array substrate 5 and aligned with the upper portions thereof.
The finger lead 3 of the tape is on standby. In the figure, 7 is a substrate pedestal for depressurizing the through holes 6 of the array substrate 5, and this substrate pedestal 7
A pressure reducing passage 9 communicating with the through hole 6 is formed in the inside of the pressure reducing passage 9, and the other end of the pressure reducing passage 9 is connected to a pressure reducing device (not shown) via a pressure reducing suction port 8.

【0009】バンプ4がTABテープのベースフィルム
2の厚さよりも大きければ、図5(b)に示した状態
で、フィンガーリード3をバンプ4に接近させ、その上
方から図示しないボンディングツールを下降させて、加
熱・加圧することにより、該バンプ4をフィンガーリー
ド3のベースフィルム2側に固定することができる。と
ころが、バンプ4の大きさがベースフィルム2の厚さに
比べて小さくなると、図5(c)に示されるように、フ
ィンガーリード3及びバンプ4が接触する前に、配列基
板5の端部がTABテープのベースフィルム2と接触す
る。なお、ベースフィルム2が上向きになるようにセッ
トすれば、バンプ4をフィンガーリード3に取り付ける
こと自体は支障なく行うことができるが、この場合半導
体チップ1を実装した後の形態が図3(b)のタイプに
なってしまい、実装厚さを薄くするという目的を実現す
ることができなくなってしまう。つまり、バンプ付きT
ABは従来のいずれの方法においても、バンプ用金属の
使用量を少なくして、且つ実装厚さを薄くすることが困
難であった。
If the bump 4 is larger than the thickness of the base film 2 of the TAB tape, the finger lead 3 is brought close to the bump 4 in the state shown in FIG. 5B, and a bonding tool (not shown) is lowered from above. The bumps 4 can be fixed to the base film 2 side of the finger leads 3 by heating and pressing. However, if the size of the bumps 4 becomes smaller than the thickness of the base film 2, as shown in FIG. 5C, before the finger leads 3 and the bumps 4 come into contact with each other, the end portions of the array substrate 5 are It contacts the base film 2 of the TAB tape. If the base film 2 is set so as to face upward, the mounting of the bumps 4 on the finger leads 3 can be performed without any trouble. In this case, the configuration after mounting the semiconductor chip 1 is shown in FIG. ) Type, and it becomes impossible to realize the purpose of reducing the mounting thickness. In other words, T with bump
It is difficult for AB to reduce the amount of bump metal used and to reduce the mounting thickness by any of the conventional methods.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】バンプをTABテープ
上のフィンガーリードのベースフィルム側に取り付ける
方法としては、フィンガーリードのインナーリード先端
部分がデバイスホール内に長く突き出るように設計する
か、あるいは逆にTABテープ側は変えずに、配列基板
とそれを受ける配列基板受台を、デバイスホール内に収
まる程度に小さく作ることによって、図6に示した様な
相対的な関係を実現させれば良いことは容易に考えられ
る。ところが、フィンガーリード3の先端を長くすると
リード変形が生じ易く、特に微細ピッチで正確に位置合
わせして接合を行う場合、TAB実装の歩留りを著しく
低下させる危険がある。
The method of attaching the bumps to the base film side of the finger leads on the TAB tape is to design the tip ends of the inner leads of the finger leads to project into the device hole for a long time, or conversely. The relative relationship as shown in FIG. 6 should be realized by making the array substrate and the array substrate support that receives it small enough to fit in the device hole without changing the TAB tape side. Is easily thought of. However, if the tips of the finger leads 3 are lengthened, lead deformation is likely to occur, and there is a risk that the yield of TAB mounting will be significantly reduced, especially when joining is performed by accurately aligning with a fine pitch.

【0011】一方配列基板とその受台を小さく形成する
場合、原理的には配列基板上に形成されている貫通孔列
の外側ギリギリまでは小さくすることが可能である。そ
して実際にも、その限界ギリギリまで小さくした基板と
受台を使用するのでない限り、この手段で図6の状態を
実現することは困難である。しかしながら、配列基板5
を上記のように小さくしてしまうと、配列基板5の端部
10の部分の大きさを実質上、確保することができなく
なり、このため配列基板5を基板受台7上に安定してセ
ットすることが困難になる。また、仮に配列基板5をセ
ットすることができた場合でも、上記端部10が短い
と、減圧吸引力が配列基板5の貫通孔6以外の部分で、
該配列基板5及び基板受台7間の微小な間隙に対して及
ぶことになり、この結果、バンプ4を吸着する際に配列
基板5の貫通孔6と同時に配列基板5下側の間隙部分に
もバンプ4が吸着されてしまい、一次接合工程に支障を
来す等の問題が生じる。
On the other hand, when the array substrate and its pedestal are formed small, it is possible in principle to reduce the size to the outside of the through hole array formed on the array substrate. And, in reality, it is difficult to realize the state of FIG. 6 by this means unless a substrate and a pedestal that are reduced to the limit are used. However, the array substrate 5
If the above is reduced as described above, the size of the end portion 10 of the array substrate 5 cannot be substantially secured, and therefore the array substrate 5 can be stably set on the substrate pedestal 7. Difficult to do. Further, even if the array substrate 5 can be set, if the end portion 10 is short, the reduced pressure suction force is generated in a portion other than the through hole 6 of the array substrate 5,
This extends to a minute gap between the array substrate 5 and the substrate pedestal 7. As a result, when the bumps 4 are adsorbed, the through holes 6 of the array substrate 5 and the gap portion below the array substrate 5 are formed at the same time. However, the bumps 4 are also adsorbed, which causes a problem such as hindering the primary bonding process.

【0012】本発明は、上述の実情に鑑み、バンプ付き
TAB法を用いながらも、実装厚さを通常のTAB法と
同程度に薄くすることができ、且つ一次接合や半導体装
置の実装等を含めた他の作業に支障を来すことがないバ
ンプ配列用基板を提供することを目的とする。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention can reduce the mounting thickness to the same extent as the normal TAB method while using the bumped TAB method, and can perform the primary bonding and the mounting of the semiconductor device. It is an object of the present invention to provide a bump arranging substrate that does not hinder other operations including the above.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のバンプ配列用基
板は、半導体チップと接続されるべき、ベースフィルム
上に形成されたリードの先端部に接合されるバンプの配
列パターンに対応して、多数開設された貫通孔を備え、
各貫通孔上に上記バンプを載置し得るようにしたバンプ
配列用基板において、上記ベースフィルム対向部分が減
肉されるように、上記バンプが載置される側の外周部分
の板厚を、上記貫通孔の開設部分の板厚よりも薄くした
もの、もしくは、同じ配列パターンを有し、周辺の大き
さが異なる複数の板を、互いの貫通孔が一致するように
重ね合わせることにより構成されるバンプ配列用基板で
ある。
The bump arranging substrate of the present invention corresponds to a bump arranging pattern to be connected to a semiconductor chip, the bump arranging pattern being bonded to the tips of the leads formed on the base film. Equipped with a large number of through holes,
In the substrate for bump arrangement capable of mounting the bumps on each through hole, the plate thickness of the outer peripheral portion on the side where the bumps are mounted is reduced so that the base film facing portion is thinned, It is made thinner than the plate thickness of the opening of the through hole, or is formed by stacking a plurality of plates having the same array pattern and different peripheral sizes so that the through holes are aligned with each other. This is a substrate for bump arrangement.

【0014】[0014]

【作用】本発明によれば、バンプ配列用基板は、貫通孔
を有する基板本体部分の厚さに比較して、周辺部分の厚
さを薄く形成してある。この厚肉部と薄肉部との厚さの
差を、TABテープのベースフィルムの厚さとほぼ同程
度に設定することにより、バンプの大きさが極端に小さ
くなった場合でも、フィンガーリードのデバイスホール
側の面に球状のバンプを何ら支障なく接合することがで
きる。また配列用基板の薄肉部が周辺に広がっているた
め、基板受け台上へのセットも支障なく行うことができ
ると共に、フィンガーリードのデバイスホールへの突出
部分を長く形成する必要がなくなる。
According to the present invention, the bump arranging substrate is formed such that the peripheral portion is thinner than the substrate main body portion having the through holes. By setting the difference in thickness between the thick portion and the thin portion to be approximately the same as the thickness of the base film of the TAB tape, even if the size of the bump is extremely small, the device hole of the finger lead is not formed. A spherical bump can be bonded to the side surface without any trouble. Further, since the thin portion of the array substrate spreads in the periphery, it can be set on the substrate pedestal without any trouble, and it is not necessary to form the protruding portion of the finger lead into the device hole for a long time.

【0015】本発明によるバンプ配列用基板は、ニッケ
ル又はステンレス等の金属又はセラミックス等を使用し
て形成することができる。基板本体部分とその周辺部分
との板厚に差を設ける方法としては、エッチング又は機
械加工等を利用することができる。貫通孔を形成する場
合、通常のバンプ配列用基板の場合に比較して、該貫通
孔を形成する部分の板厚が大きくなるだけ、小径の貫通
孔を形成し難くなるが、一体物の基板にかかる貫通孔を
形成することが困難な場合には、複数の基板を重ね合わ
せて行う方法が有利である。この場合、重合されるべき
各基板には同一パターンの貫通孔を形成後、それらの貫
通孔が整合するように各基板が重合される。複数の基板
のうち端部に重ね合わせる基板の大きさを大きく形成し
ておくことにより、簡単に周辺部分の厚さを薄くするこ
とができる。
The bump arranging substrate according to the present invention can be formed by using metal such as nickel or stainless or ceramics. Etching or machining can be used as a method for providing a difference in plate thickness between the substrate main body portion and its peripheral portion. In the case of forming a through hole, as compared with the case of a normal bump arranging substrate, it becomes difficult to form a small diameter through hole as the plate thickness of the portion where the through hole is formed becomes larger, but a substrate of an integral body. When it is difficult to form the through-holes, it is advantageous to stack a plurality of substrates. In this case, after forming through holes of the same pattern on each substrate to be polymerized, each substrate is polymerized so that the through holes are aligned. By forming a large size of the plurality of substrates to be overlapped with the end portions, the thickness of the peripheral portion can be easily reduced.

【0016】[0016]

【実施例】以下、図1に基づき、従来例と実質的に同一
部材には同一符号を用いて本発明によるバンプ配列用基
板の第一実施例を説明する。第一実施例では、四辺外周
部に140μmピッチで合計200個の電極を有する半
導体チップ(図示せず)の実装に使用するTABテープ
のフィンガーリード3に球状のバンプ4を一次接合する
ために、厚さ0.2mmのステンレス鋼製の配列用基板
11が製作される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of a bump arranging substrate according to the present invention will be described below with reference to FIG. In the first embodiment, in order to primary-bond the spherical bumps 4 to the finger leads 3 of the TAB tape used for mounting a semiconductor chip (not shown) having a total of 200 electrodes on the outer periphery of the four sides at a pitch of 140 μm, An array substrate 11 made of stainless steel and having a thickness of 0.2 mm is manufactured.

【0017】この配列用基板11は、厚さ0.2mmの
ステンレス鋼板を15mm角に切断後、周辺の3.2m
m幅の縁部分をエッチングにより、厚さ0.1mmまで
減肉して薄肉部12が形成される。この後、中央の厚肉
部の外周部内側から至近位置に内径40μmの貫通孔6
を140μmピッチで放電加工法によって形成する。な
お、TABテープのベースフィルム2の厚さは100μ
mである。本実施例では、配列用基板11の中央部と周
辺部との板厚差は、上記ベースフィルム2の厚さと同じ
0.1mmに設定されているから、直径50μm程度の
比較的小さなバンプ4に対しても、TABテープのフィ
ンガーリード3のベースフィルム2側に支障なく且つ適
正に一次接合することができる。
This arraying substrate 11 is formed by cutting a stainless steel plate having a thickness of 0.2 mm into 15 mm squares, and then cutting the periphery by 3.2 m.
By etching the edge portion having a width of m, the thickness is reduced to 0.1 mm to form the thin portion 12. After this, a through hole 6 having an inner diameter of 40 μm is provided at a position close to the inside of the outer peripheral portion of the thick portion in the center.
Are formed at a pitch of 140 μm by an electric discharge machining method. The thickness of the base film 2 of the TAB tape is 100μ.
m. In the present embodiment, the difference in plate thickness between the central portion and the peripheral portion of the array substrate 11 is set to 0.1 mm, which is the same as the thickness of the base film 2, so that the bumps 4 having a relatively small diameter of about 50 μm are formed. Even with respect to this, the primary bonding can be properly and properly performed on the base film 2 side of the finger lead 3 of the TAB tape.

【0018】上記の場合、バンプ4が極端に小さいと、
貫通孔6に該バンプ4が深く沈み込み、貫通孔6に仮固
定されたバンプ4に対してその上方からベースフィルム
2を押圧して一次接合した際に、バンプ4が貫通孔6の
開口縁部に食い込んでしまい、バンプ4は配列用基板1
1から離れ難くなるという問題が生じ得る。このため直
径50μm以下のバンプ4を使用する場合には、配列用
基板11の中央部と周辺部との板厚差のみならず、貫通
孔6の直径を30μm以下に小さく設定することが必要
になる。
In the above case, if the bump 4 is extremely small,
When the bump 4 is deeply sunk into the through hole 6 and the base film 2 is pressed against the bump 4 temporarily fixed to the through hole 6 from above to make a primary bond, the bump 4 has an opening edge of the through hole 6. The bumps 4 are digging into the area, and the bumps 4 are the array substrate 1
The problem that it becomes difficult to separate from 1 may occur. Therefore, when using the bumps 4 having a diameter of 50 μm or less, it is necessary to set the diameter of the through holes 6 to 30 μm or less as well as the thickness difference between the central portion and the peripheral portion of the array substrate 11. Become.

【0019】上記のように、本発明のバンプ配列用基板
11では、周辺部分に薄肉部12を設けたことにより、
その表面に減圧吸引用の溝が形成されている基板受台7
上にセットされた際にその周辺部分から減圧漏れを生じ
たり、さらにそれによってバンプ4の吸着時にバンプ配
列用基板11及び上記基板受台7間に隙間部分にバンプ
4が吸着されてしまう不都合を完全に解消することがで
きる。また、バンプ配列用基板11の大きさ自体はその
まま維持して、その周辺部分を薄くしたことにより、一
次接合時にTABテープのベースフィルム2がバンプ配
列用基板11と接触するのを有効に防止することがで
き、常にバンプ4を、TABテープのフィンガーリード
3のベースフィルム2側の所定位置に適正に接合するこ
とができる。
As described above, in the bump arranging substrate 11 of the present invention, since the thin portion 12 is provided in the peripheral portion,
Substrate pedestal 7 having grooves for vacuum suction formed on its surface
When it is set on the upper side, a pressure leak occurs from its peripheral portion, and further, when the bumps 4 are sucked, the bumps 4 are sucked in the gaps between the bump array substrate 11 and the substrate pedestal 7. It can be completely eliminated. Further, the size of the bump arranging substrate 11 itself is maintained as it is, and the peripheral portion thereof is thinned to effectively prevent the base film 2 of the TAB tape from coming into contact with the bump arranging substrate 11 during the primary bonding. Therefore, the bumps 4 can always be properly bonded to the predetermined positions on the base film 2 side of the finger leads 3 of the TAB tape.

【0020】本発明によるバンプ配列用基板の第二実施
例では、第一実施例の場合と同一パターンのTABテー
プに球状バンプを接合するためのバンプ配列用基板は、
厚さ40μmで15mm角のニッケル板(A板)と、厚
さ40μmで8mm角のニッケル板(B板)と、厚さ5
0μmで8.6mm角のステンレス鋼板(C板)の3枚
の基板を重合することにより製作される。A板,B板及
びC板のそれぞれ中央部分には、同一の配列パターンに
従って、バンプを載置するための貫通孔を形成するが、
上記A板及びB板には、エレクトフォーミング法により
形成される際に、同時に直径30μmの貫通孔が200
個形成される。またC板では、エッチングにより直径4
0μmの貫通孔を同様に200個形成する。これらの貫
通孔の配列は、第一実施例の場合と同様に、140μm
ピッチで四辺に50個ずつ配列したものである。そし
て、A板、B板、C板の順に重合して接着剤により相互
に貼合される。
In the second embodiment of the bump arranging substrate according to the present invention, the bump arranging substrate for bonding the spherical bumps to the TAB tape having the same pattern as in the first embodiment is
15 mm square nickel plate (A plate) with a thickness of 40 μm, 8 mm square nickel plate (B plate) with a thickness of 40 μm, and a thickness of 5
It is manufactured by polymerizing 3 substrates of 0 μm and 8.6 mm square stainless steel plate (C plate). Through holes for mounting the bumps are formed in the central portions of the A plate, the B plate, and the C plate in accordance with the same arrangement pattern.
When the A plate and the B plate are formed by the elect forming method, 200 through holes each having a diameter of 30 μm are simultaneously formed.
Individually formed. For C plate, the diameter is 4 by etching.
Similarly, 200 0 μm through holes are formed. The arrangement of these through holes is 140 μm, as in the case of the first embodiment.
Fifty pieces are arranged on each of the four sides at a pitch. Then, the A plate, the B plate, and the C plate are polymerized in this order and attached to each other with an adhesive.

【0021】第二実施例によるバンプ配列用基板は、周
辺部分の板厚が40μmで、貫通孔の開設部分の板厚が
140μm強である。C板の貫通孔のサイズを、A板及
びB板のそれぞれ貫通孔よりも大きくしたのは、エッチ
ングにより高い精度で貫通孔を形成するためには、厚さ
50μmのステンレス鋼板の場合、40μmがその直径
の限界となるからである。なお、このようにした場合で
も、バンプ吸着時にはA板における直径30μmの貫通
孔が使用されるため、何ら不都合は生じない。第二実施
例によれば、直径35μm程度の小さなバンプであって
も、TABテープのフィンガーリードに対する適正且つ
確実なバンプの一次接合を保証することができる。
In the bump arranging substrate according to the second embodiment, the peripheral portion has a plate thickness of 40 μm, and the through hole opening portion has a plate thickness of more than 140 μm. The size of the through holes of the C plate is made larger than the through holes of the A plate and the B plate. The reason for forming the through holes with high accuracy by etching is that the thickness of the stainless steel plate having a thickness of 50 μm is 40 μm. This is the limit of the diameter. Even in this case, since a through hole having a diameter of 30 μm in the A plate is used when the bump is adsorbed, no inconvenience occurs. According to the second embodiment, even with a small bump having a diameter of about 35 μm, proper and reliable primary bonding of the bump to the finger lead of the TAB tape can be guaranteed.

【0022】本発明によるバンプ配列用基板の第三実施
例では、導電性セラミックスの一種であるホウ化物系セ
ラミックス(商品名;セラボレックス)を使用して、厚
さ0.16mmで15mm角の基板が製作される。さら
にその周辺に沿って3.2mm幅の部分を0.1mmま
で研磨して薄くする。この場合、研磨による減肉加工で
は完全にシャープな角部を得られないため、この角部の
半径を考慮して研磨幅を設定する必要がある。また研磨
加工では上記角部の半径が大きくなり易いので、研磨加
工後に放電加工を行うようにするのが好ましい。このよ
うにその周辺部分に段差が設けられたバンプ配列用基板
は、更に中央の厚肉部分に直径30μmの貫通孔が14
0μmピッチで200個形成される。第三実施例によれ
ば、直径65μm程度の球形バンプを、TABテープの
フィンガーリードに対して適正且つ確実に一次接合する
ことができる。
In the third embodiment of the bump arranging substrate according to the present invention, a substrate having a thickness of 0.16 mm and a size of 15 mm square is formed by using a boride-based ceramic (trade name: Cera-Borex) which is one of conductive ceramics. Is produced. Further, along the periphery thereof, a 3.2 mm wide portion is polished to 0.1 mm to be thin. In this case, it is necessary to set the polishing width in consideration of the radius of the corners because the sharp corners cannot be obtained by the thinning process by polishing. In addition, since the radius of the corner portion is likely to be large during polishing, it is preferable to perform electric discharge machining after polishing. In this way, the bump array substrate having a stepped portion in the peripheral portion thereof has a through hole having a diameter of 30 μm in the thick portion in the center.
200 pieces are formed at a pitch of 0 μm. According to the third embodiment, the spherical bump having a diameter of about 65 μm can be primary-bonded properly and reliably to the finger lead of the TAB tape.

【0023】[0023]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、TAB
テープにバンプの一次接合を行う際に小さなバンプであ
っても、フィンガーリードのベースフィルム側へ確実に
接合することができ、これによりかかるTABテープを
半導体実装に適用した場合、実装厚さを有効に減少し、
従来のICバンプ方式と同等に薄くすることができる等
の利点を有している。
As described above, according to the present invention, the TAB
Even small bumps can be reliably bonded to the base film side of the finger leads when the primary bonding of the bumps to the tape is performed, and when this TAB tape is applied to semiconductor mounting, the mounting thickness is effective. Decreased to
It has the advantage that it can be as thin as the conventional IC bump method.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Name of item to be corrected] Brief description of the drawing

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のバンプ配列用基板の第一実施例による
使用状態を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing a usage state of a bump array substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】TABテープの構造例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a structural example of a TAB tape.

【図3】各種TAB法を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing various TAB methods.

【図4】バンプ付きTABテープの製造およびそれを用
いた半導体実装の方法を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a TAB tape with bumps and a semiconductor mounting method using the TAB tape.

【図5】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるバン
プ一次接合の態様を示す縦断面図である。
FIG. 5 is a vertical cross-sectional view showing a mode of bump primary bonding performed using a conventional bump arranging substrate.

【図6】従来のバンプ配列用基板を用いて行われるバン
プ一次接合の他の態様を示す縦断面図である。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing another mode of bump primary bonding performed using a conventional bump arranging substrate.

【符号の説明】 1 半導体チップ 2 ベースフィルム 3 フィンガーリード 4 バンプ 6 貫通孔 7 基板受台 8 減圧吸引口 9 減圧用通路 11 配列用基板 12 薄肉部[Explanation of reference symbols] 1 semiconductor chip 2 base film 3 finger leads 4 bumps 6 through holes 7 substrate pedestal 8 decompression suction port 9 decompression passage 11 array substrate 12 thin portion

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図2[Name of item to be corrected] Figure 2

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図2】 [Fig. 2]

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図3[Name of item to be corrected] Figure 3

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図3】 [Figure 3]

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図5[Name of item to be corrected] Figure 5

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図5】 [Figure 5]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップと接続されるべき、ベース
フィルム上に形成されたリードの先端部に接合されるバ
ンプの配列パターンに対応して、多数開設された貫通孔
を備え、各貫通孔上に上記バンプを載置し得るようにし
たバンプ配列用基板において、上記ベースフィルム対向
部分が減肉されるように、上記バンプが載置される側の
外周部分の板厚を、上記貫通孔の開設部分の板厚よりも
薄くしたことを特徴とするバンプ配列用基板。
1. A plurality of through holes are provided corresponding to an array pattern of bumps to be connected to a semiconductor chip, the bumps being bonded to the tips of leads formed on a base film. In the substrate for bump arrangement capable of mounting the bumps on, the plate thickness of the outer peripheral portion on the side on which the bumps are mounted is set so as to reduce the thickness of the base film facing portion. A bump array substrate characterized by being made thinner than the opening portion.
【請求項2】 基板が、同じ配列パターンを有し、周辺
の大きさが異なる複数の板を、互いの貫通孔が一致する
ように重ね合わせて成る請求項1に記載のバンプ配列用
基板。
2. The bump arranging substrate according to claim 1, wherein the substrate is formed by stacking a plurality of plates having the same arrangement pattern and having different peripheral sizes so that their through holes are aligned with each other.
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