JP2862330B2 - Retarding Wien filter - Google Patents

Retarding Wien filter

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    • H01J49/44Energy spectrometers, e.g. alpha-, beta-spectrometers
    • H01J49/46Static spectrometers
    • H01J49/466Static spectrometers using crossed electric and magnetic fields perpendicular to the beam, e.g. Wien filter

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  • Analytical Chemistry (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ウィーンフィルタに係り、特に、ウィーン
フィルタの直前に減速場を有するリターディングエネル
ギーフィルタに関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a Wien filter, and more particularly to a retarding energy filter having a deceleration field immediately before a Wien filter.

[従来の技術] ウィーンフィルタは、荷電粒子ビームのエネルギーま
たは質量の分析を行う装置として古くから用いられてお
り、特に、高分解能を実現させるものとして、ウィーン
フィルタの直前に減速場を備え、試料を透過した荷電粒
子ビームの速度を減速させてウィーンフィルタに入射さ
せるリターディングウィーンフィルタが知られている。
[Prior art] A Wien filter has long been used as an apparatus for analyzing the energy or mass of a charged particle beam. In particular, a Wien filter is provided with a deceleration field immediately before a Wien filter to realize high resolution. There is known a retarding Wien filter in which the speed of a charged particle beam transmitted through a filter is reduced and the speed of the charged particle beam is incident on a Wien filter.

その構成例を第4図に示す。第4図において、1はフ
ィラメント、2は試料、3は電極、4は絞り、5は電
極、6はウィーンフィルタ、7は電極、8は検出器を示
す。
An example of the configuration is shown in FIG. In FIG. 4, 1 is a filament, 2 is a sample, 3 is an electrode, 4 is a diaphragm, 5 is an electrode, 6 is a Wien filter, 7 is an electrode, and 8 is a detector.

第4図において、フィラメント1には負の高電圧、例
えば−100kV程度の電圧が印加されており、フィラメン
ト1から放出された電子ビームは設置電位になされた試
料2を透過し、対物レンズ、中間レンズ等のレンズ系
(図示せず)を通過して、アース電位にされた電極3の
近傍に置かれた絞り4の開口部に像12を結像する。ウィ
ーンフィルタ6を覆う電極5には、フィラメント1より
は少しだけ高い負の高電圧、例えば−100kV+20Vが印加
されている。これによって、電極3と電極5の間には電
子ビームに対する減速場9が形成される。そして、絞り
4に結像された像12は減速場9のレンズ作用によってウ
ィーンフィルタ6の入口部に像13を結像し、像13は更に
ウィーンフィルタ6のレンズ作用により出口部に像14と
して結像される。更に、像14を形成した電子ビームは、
電極5と接地電位になされた電極7との間に形成された
加速場10のレンズ作用により、検出器8に像15として結
像される。
In FIG. 4, a negative high voltage, for example, a voltage of about −100 kV is applied to the filament 1, and the electron beam emitted from the filament 1 passes through the sample 2 set at the set potential, the objective lens, the intermediate lens, and the like. After passing through a lens system (not shown) such as a lens, an image 12 is formed on the aperture of the diaphragm 4 placed near the electrode 3 set to the ground potential. A negative high voltage slightly higher than the filament 1, for example, −100 kV + 20 V is applied to the electrode 5 covering the Wien filter 6. Thereby, a deceleration field 9 for the electron beam is formed between the electrode 3 and the electrode 5. The image 12 formed on the stop 4 forms an image 13 at the entrance of the Wien filter 6 by the lens action of the deceleration field 9, and the image 13 is further formed as an image 14 at the exit by the lens action of the Wien filter 6. It is imaged. Further, the electron beam forming the image 14 is
An image 15 is formed on the detector 8 by the lens action of the acceleration field 10 formed between the electrode 5 and the electrode 7 at the ground potential.

以上の構成によって、エネルギー分析あるいは質量分
析を高い分解能で行うことができる。
With the above configuration, energy analysis or mass analysis can be performed with high resolution.

[発明が解決しようとする課題] ところで、ウィーンフィルタは、光軸(以下、Z軸と
称す)と直交する面内において、互いに直交する電場Ex
と磁場Byを加え、ビームの電場により曲がりを磁場によ
って正し、結果としてビームを直進させるもので、Ex
vBy(ウィーン条件)を満足する速度vを有する荷電粒
子のみが直進する。なお、荷電粒子の速度vは、電場の
ポテンシャルに依存し、電場のポンテンシャルをU、荷
電粒子の電化量をe、荷電粒子の質量をmとしたとき、 v=(2Ue/m)1/2 で表される。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, the Wien filter has an electric field E x orthogonal to each other in a plane orthogonal to an optical axis (hereinafter, referred to as a Z axis).
A magnetic field B y was added, correct by the magnetic field bends the electric field of the beam, resulting in which is straight beam, E x =
Only charged particles having a velocity v that satisfies vB y (Vienna condition) go straight. The velocity v of the charged particles depends on the potential of the electric field. When the potential of the electric field is U, the charged amount of the charged particles is e, and the mass of the charged particles is m, v = (2Ue / m) 1 / Represented by 2 .

そして、このウィーン条件は、単に電極と磁極が存在
する機械的位置においてだけ成立すれば良いものではな
く、ウィーンフィルタの電場Exおよび磁場Byの及ぶ全領
域において成立しなければならないものであり、従って
縁端場あるいはフリンジと呼ばれる電極や磁極の縁部に
おいてもウィーン条件を満足しなければビームは曲げら
れてしまい、直進することができない。従来、ウィーン
フィルタの設計に当たってはこの縁端場の影響を無視す
ることが多く、従って理論計算と実際との一致が甚だし
く悪く、ウィーンフィルタが難しい装置であるとして敬
遠される理由ともなってきたが、近年、この縁端場にお
いてもウィーン条件を満足させるようなフィルタ形状が
見い出され、この問題は解決した。
Then, the Vienna condition is not intended may be established only in the mere mechanical position electrodes and the magnetic poles are present, which must be satisfied in the entire area over which the electric field E x and the magnetic field B y Wien filter Therefore, the beam is bent and cannot go straight unless the Wien condition is satisfied, even at the edge field or at the edge of the electrode or magnetic pole called the fringe. In the past, Wien filters were often neglected in the design of Wien filters, ignoring the effects of these marginal fields, and thus the agreement between the theoretical calculations and the actual ones was extremely poor. In recent years, a filter shape that satisfies the Wien condition has been found in this marginal field, and this problem has been solved.

以上述べたように、荷電粒子の速度は電場のポテンシ
ャルに依存するが、このことによって、ウィーンフィル
タの配置が制約されるという問題があることが明らかに
なった。
As described above, the velocity of the charged particles depends on the potential of the electric field, and this has revealed that there is a problem that the arrangement of the Wien filter is restricted.

即ち、いま、第4図においてフィラメント1に印加さ
れる電圧を−U0(U0>0)、電極5に印加される電圧を
−U0+△U(△U>0)とし、更にウィーンフィルタ6
では電場Exおよび磁場Byが速度v0に対してウィーン条件
が満足されるように設定されているとすると、減速場9
でのZ軸方向のポテンシャルは、−U0から急峻に−U0
△Uに変化するのではなく、第5図に示すように−U0
ら徐々に変化して−U0+△Uに至る。そして、減速電場
のZ軸方向の強度は前記ポテンシャルに比例するから、
第5図の20で示す領域では減速電場の強度が徐々に変化
していることになる。従って、ウィーンフィルタを第5
図中20で示す減速電場の領域に配置した場合には、例え
前述のように当該ウィーンフィルタの電極および磁極の
形状が縁端場をも含めてウィーン条件を満足するように
設計されていたとしても、当該領域20での速度はv0とは
異なることにより、ウィーン条件を満足しないので直進
させることができない。
That is, in FIG. 4, the voltage applied to the filament 1 is −U 0 (U 0 > 0), the voltage applied to the electrode 5 is −U 0 + ΔU (ΔU> 0), and Filter 6
In When the electric field E x and the magnetic field B y is set to Wien condition is satisfied for the speed v 0, the deceleration field 9
, The potential in the Z-axis direction sharply changes from −U 0 to −U 0 +
△ rather than varying U, leads to, as shown in FIG. 5 gradually changes from -U 0 -U 0 + △ U. Since the intensity of the deceleration electric field in the Z-axis direction is proportional to the potential,
In the region indicated by 20 in FIG. 5, the intensity of the deceleration electric field is gradually changing. Therefore, the Wien filter is changed to the fifth
In the case of being arranged in the region of the deceleration electric field indicated by 20 in the figure, even if the shapes of the electrodes and the magnetic poles of the Wien filter are designed to satisfy the Wien condition including the edge field as described above, However, since the speed in the area 20 is different from v 0, the vehicle does not satisfy the Wien condition, and cannot travel straight.

そこで、ウィーンフィルタ6は、図5の21で示すよう
にZ軸方向のポテンシャルが一様であり、従って電場強
度が一様になっている領域に配置されることが望まれる
ことになるのであるが、そのようにすると、電極3と電
極5の距離を大きなものとせざるを得なくなり、装置が
大型化してしまうことになる。それよりも重要な問題
は、上述したように減速場のレンズ作用は像のトランス
ファーに寄与しているものであるから、減速場の距離を
大きなものとする場合には像のトランスファーが良好に
行われなくなる可能性が生じることである。
Therefore, it is desired that the Wien filter 6 be disposed in a region where the potential in the Z-axis direction is uniform as shown by 21 in FIG. 5 and therefore the electric field intensity is uniform. However, in such a case, the distance between the electrode 3 and the electrode 5 must be increased, and the device becomes large. More importantly, as described above, since the lens action of the deceleration field contributes to the image transfer, when the distance of the deceleration field is increased, the image transfer is performed well. The possibility of getting lost.

以上は減速場に関する議論であるが、加速場に関して
も同様である。
The above is a discussion about the deceleration field, but the same applies to the acceleration field.

本発明は、上記の課題を解決するものであって、所望
の速度を有する荷電粒子を直進させることができ、且つ
像のトランスファーも良好に行われ、更に装置を大型化
することのないリターディングウィーンフィルタを提供
することを目的とするものである。
The present invention has been made to solve the above problems, and enables charged particles having a desired velocity to travel straight, image transfer is performed well, and retarding without increasing the size of the apparatus. It is intended to provide a Wien filter.

[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、請求項1記載のリター
ディングウィーンフィルタは、減速電場分布とウィーン
フィルタの電場分布または磁場分布を重ねて描いたとき
に交差する位置であって、その当該交差する位置のポテ
ンシャルが加速電圧に比較して十分小さく、且つウィー
ンフィルタの電場強度および磁場強度がその中心部の電
場強度、磁場強度に比較して十分小さい領域にウィーン
フィルタが配置されてなることを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the retarding Wien filter according to claim 1 intersects when the deceleration electric field distribution and the electric field distribution or the magnetic field distribution of the Wien filter are drawn in an overlapping manner. In a region where the potential at the crossing position is sufficiently smaller than the accelerating voltage and the electric field strength and the magnetic field strength of the Wien filter are sufficiently smaller than the electric field strength and the magnetic field strength at the center thereof. It is characterized in that a filter is arranged.

請求項2記載のリターディングウィーンフィルタは、
請求項1記載のリターディングウィーンフィルタにおい
て、前記ウィーンフィルタは、そのウィーンフィルタが
配置される領域でのポテンシャルが、減速場のポテンシ
ャルが一様となる値の略5倍以下であり、且つウィーン
フィルタの電場および磁場の縁端場の強度がそれぞれウ
ィーンフィルタの中心における電場強度および磁場強度
の略10分の1以下である領域に配置されることを特徴と
する。
The retarding Wien filter according to claim 2,
2. The retarding Wien filter according to claim 1, wherein the Wien filter has a potential in a region where the Wien filter is arranged, substantially equal to or less than five times a value at which a potential of a deceleration field is uniform. Are arranged in regions where the intensity of the edge fields of the electric field and the magnetic field is less than or equal to approximately one-tenth of the electric field intensity and the magnetic field intensity at the center of the Wien filter, respectively.

[作用および発明の効果] 本発明の第1の発明においても、第2の発明において
も、荷電粒子をウィーンフィルタから出射させることが
できることは勿論、ウィーンフィルタを減速電場の強度
が変化している領域に配置することができるので、装置
をコンパクトに構成することができ、更に減速場のレン
ズ作用による像のトランスファーを良好に行える装置に
ウィーンフィルタを配置することができる。
[Operation and Effect of the Invention] In both the first invention and the second invention of the present invention, the intensity of the decelerating electric field of the Wien filter is changed as well as the charged particles can be emitted from the Wien filter. Since the device can be arranged in the region, the device can be made compact, and furthermore, the Wien filter can be arranged in a device that can transfer an image satisfactorily by the lens action of the deceleration field.

[実施例] 以下、実施例を説明する。Example An example will be described below.

上述したところから明らかなように、荷電粒子ビーム
を直進させるための条件は、縁端場をも含めてウィーン
条件を満足させることである。従って、ウィーンフィル
タを第5図の20で示されるような減速電場が変化してい
る領域に配置した場合においても、ウィーンフィルタの
電場Exおよび磁場Byが縁端場をも含めて、その場におけ
る荷電粒子の速度に対してウィーン条件を満足するよう
にすれば荷電粒子を直進させることができる。
As is clear from the above description, the condition for moving the charged particle beam straight is to satisfy the Wien condition including the edge field. Accordingly, when arranged in a region where the deceleration electric field as shown at 20 in Figure 5 the Wien filter is changed also, the electric field E x and the magnetic field B y of the Wien filter, including the edge field, the If the Wien condition is satisfied with respect to the velocity of the charged particles in the field, the charged particles can travel straight.

即ち、ウィーンフィルタの電場Ex、磁場Byが次の二つ
の式を同時に満足すれば、ウィーンフィルタを第5図の
領域20に配置することができることが分かる。
That is, the electric field E x of the Wien filter, the magnetic field B y is to satisfy the following two equations simultaneously, to be able to place the Wien filter to the region 20 of FIG. 5 can be seen.

Ex=v0By v0=(2Ue/m)1/2 但し、Uは減速場のポテンシャル、e,m,v0はそれぞれ荷
電粒子の電荷量、質量、速度である。
E x = v 0 B y v 0 = (2Ue / m) 1/2 where, U is the amount of charge in each potential deceleration field, e, m, v 0 is a charged particle, mass, and speed.

このような条件は、ウィーンフィルタの電極および磁
極の形状を選択することにより満足させることができ
る。即ち、第1図はZ軸と直交する面におけるウィーン
フィルタの断面図であるが、本出願人がこれまでの出願
において述べてきたように、ウィーンフィルタの縁端部
の電場Exの分布および磁場By分布の形状は、磁極25、2
5′の磁極間距離Smおよび電極27、27′の電極間距離Se
の寸法により決定される。従って、種々の値のSmおよび
Seについて荷電粒子の軌道のシミュレーション等を行う
ことにより、ウィーンフィルタを減速場の電場強度が一
定でなく変化している領域に配置した場合においても荷
電粒子を直進させることのできるウィーンフィルタの電
極形状および磁極形状を求めることができる。
Such conditions can be satisfied by selecting the shapes of the electrodes and magnetic poles of the Wien filter. That is, FIG. 1 is a sectional view of a Wien filter in a plane perpendicular to the Z-axis, as the applicant has been described in the application so far, the electric field E x of the edge of the Wien filter distribution and the shape of the magnetic field B y distribution pole 25,2
5 'inter-pole distance S m and electrodes 27, 27' the distance between the electrodes S e of
Is determined by the dimensions of Therefore, various values of S m and
By simulating the trajectory of charged particles for S e , an electrode of a Wien filter that allows charged particles to travel straight even when the Wien filter is placed in a region where the electric field strength of the deceleration field is not constant and changes The shape and pole shape can be determined.

さて、いま理解を容易にするために、第2図に示すよ
うにウィーンフィルタ30の電場分布31と磁場分布33の形
状が略一致しているものとする。これは、第1図におい
て、Sm=Seとすることで実現できる。なお、第2図中35
はウィーンフィルタ30の入射部の縁端場、37は出射部の
縁端場を示す。
Now, for ease of understanding, it is assumed that the electric field distribution 31 and the magnetic field distribution 33 of the Wien filter 30 have substantially the same shape as shown in FIG. This can be realized by setting S m = S e in FIG. Note that 35 in FIG.
Denotes an edge field at the entrance of the Wien filter 30, and 37 denotes an edge field at the exit.

このようなウィーンフィルタ30を減速電場が変化して
いる領域に配置した場合、減速電場分布とウィーンフィ
ルタの電場分布または磁場分布を重ねて描くと第3図に
示すようになる。なお、第3図中、40は減速電場のポテ
ンシャルの分布を示し、−U0は第4図のフィラメント1
に印加される加速電圧であり、−U0+△Uは同じく第4
図の電極5に印加されているポテンシャルを示す。ま
た、41はウィーンフィルタの電場分布または磁場分布を
示し、ウィーンフィルタの中央部ではそれぞれEx0,Ey0
という値になっている。
When such a Wien filter 30 is arranged in a region where the deceleration electric field is changing, the distribution of the deceleration electric field and the electric field distribution or the magnetic field distribution of the Wien filter are superimposed as shown in FIG. In FIG. 3, reference numeral 40 denotes the potential distribution of the deceleration electric field, and -U 0 denotes the filament 1
, And -U 0 + ΔU is the fourth
The potential applied to the electrode 5 in the figure is shown. Further, 41 indicates an electric field distribution or magnetic field distribution of the Wien filter, respectively in the central part of the Wien filter E x0, E y0
It is the value.

このような状態においてはウィーンフィルタの縁端場
では減速電場は一定していないからこれまでの理論から
は荷電粒子は直進しないと結論されることになるが、第
3図中Pで示す減速電場分布40とウィーンフィルタの電
場分布または磁場分布が交差する位置において、P点で
の減速場のポテンシャルをUPとするとき、UPがフィラメ
ント1に印加される加速電圧−U0に比較して十分に小さ
く、且つP点におけるウィーンフィルタの電場強度ExP
および磁場強度ByPが中心部の強度Ex0,By0に比較して十
分小さい場合には、荷電粒子をウィーンフィルタから出
射させることができることが分かった。実際、第4図の
5で示すウィーンフィルタを覆う電極の孔の直径が数mm
の場合には、 UP≦5×(−U0+△U) ExP≦Ex0/10 ByP≦By0/10 を全て満足すれば、荷電粒子をウィーンフィルタから出
射することが確認された。
In such a state, since the deceleration electric field is not constant at the edge field of the Wien filter, it can be concluded from the previous theory that the charged particles do not travel straight, but the deceleration electric field shown by P in FIG. in the position distribution 40 and the electric field distribution or magnetic field distribution of the Wien filter intersect, the potential of the decelerating field at point P when the U P, as compared with the accelerating voltage -U 0 to U P is applied to the filament 1 Electric field strength E xP of Wien filter at point P, small enough
When the magnetic field strength ByP was sufficiently smaller than the central intensities Ex0 , By0 , it was found that charged particles could be emitted from the Wien filter. In fact, the diameter of the hole of the electrode covering the Wien filter shown by 5 in FIG.
In the case of, if satisfied all U P ≦ 5 × (-U 0 + △ U) E xP ≦ E x0 / 10 B yP ≦ B y0 / 10, was confirmed to emit the charged particles from the Wien filter Was.

実際にUPをU0に対してどの程度にすればよいか、また
ExPおよびByPをEx0、By0に対してどの程度にすればよい
かはウィーンフィルタの使用状態によって異なるが、ウ
ィーンフィルタを覆う電極の孔の直径は大きくても数mm
程度であるのが一般的であるから、上述した条件は、特
殊な使用状態を除いて一般的に当てはまるものである。
How much U P should actually be with respect to U 0
E xP and B yP the E x0, how to do I against B y0 varies depending use state of the Wien filter, the number be greater the diameter of the hole of the electrode covering the Wien filter mm
In general, the above-mentioned conditions generally apply except for a special use state.

以上は減速場についての議論であるが、加速場につい
ても同様である。
The above is a discussion about the deceleration field, but the same applies to the acceleration field.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係るリターディングウィーンフィルタ
を説明するための図でリターディングウィーンフィルタ
の電極および磁極の形状の例を示す図、第2図はウィー
ンフィルタのZ軸方向の電場分布および磁場分布を示す
図、第3図は減速場におけるポテンシャルの分布と、ウ
ィーンフィルタの電場分布または磁場分布を重ねて描い
た図、第4図はリターディングウィーンフィルタの構成
例を示す図、第5図は減速場のポテンシャルの分布の例
を示す図である。 1……フィラメント、2……試料、3……電極、4……
絞り、5……電極、6……ウィーンフィルタ、7……電
極、8……検出器。
FIG. 1 is a diagram for explaining a retarding Wien filter according to the present invention, showing an example of the shape of the electrodes and magnetic poles of the retarding Wien filter. FIG. 2 is a diagram showing the electric field distribution and magnetic field of the Wien filter in the Z-axis direction. FIG. 3 is a diagram showing a distribution, FIG. 3 is a diagram in which a potential distribution in a deceleration field is superimposed on an electric field distribution or a magnetic field distribution of a Wien filter, FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of a retarding Wien filter, FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a potential distribution of a deceleration field. 1 ... filament, 2 ... sample, 3 ... electrode, 4 ...
Aperture, 5 ... electrode, 6 ... Wien filter, 7 ... electrode, 8 ... detector.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】減速電場分布とウィーンフィルタの電場分
布または磁場分布を重ねて描いたときに交差する位置で
あって、その当該交差する位置のポテンシャルが加速電
圧に比較して十分小さく、且つウィーンフィルタの電場
強度および磁場強度がその中心部の電場強度、磁場強度
に比較して十分小さい領域にウィーンフィルタが配置さ
れてなることを特徴とするリターディングウィーンフィ
ルタ。
1. A position where a deceleration electric field distribution and an electric field distribution or a magnetic field distribution of a Wien filter intersect when drawn in an overlapping manner, wherein the potential at the intersecting position is sufficiently smaller than an accelerating voltage, and A retarding Wien filter, wherein a Wien filter is arranged in a region where the electric field strength and the magnetic field strength of the filter are sufficiently smaller than the electric field strength and the magnetic field strength at the center thereof.
【請求項2】前記ウィーンフィルタは、そのウィーンフ
ィルタが配置される領域でのポテンシャルが、減速場の
ポテンシャルが一様となる値の略5倍以下であり、且つ
ウィーンフィルタの電場および磁場の縁端場の強度がそ
れぞれウィーンフィルタの中心における電場強度および
磁場強度の略10分の1以下である領域に配置されること
を特徴とする請求項1記載のリターディングウィーンフ
ィルタ。
2. The Wien filter has a potential in a region where the Wien filter is arranged, substantially equal to or less than five times a value at which a potential of a deceleration field is uniform, and an edge of an electric field and a magnetic field of the Wien filter. 2. The retarding Wien filter according to claim 1, wherein the intensity of the end field is arranged in a region where the intensity of the electric field and the intensity of the magnetic field at the center of the Wien filter are each approximately 1/10 or less.
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