JP3696827B2 - Energy filter - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、特定エネルギーを持つ荷電粒子のみを選択的に通過させるエネルギーフィルタに関し、特に、透過型電子顕微鏡、エネルギー分析装置などのモノクロメータ等に使用されるエネルギーフィルタに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、試料を透過した電子ビームを蛍光板に拡大投射する電子光学系内にエネルギーフィルタを配置した透過型電子顕微鏡が開発されている。斯かるエネルギーフィルタを有する透過型電子顕微鏡によれば、試料によって影響を受けた透過電子(透過荷電粒子)のうち、特定エネルギーの透過電子のみに基づく顕微鏡像を形成することができる。
このようなエネルギーフィルタを用いる分析において高いエネルギー分解能を得るにあたり、電子銃で作られる、試料をする照射する以前の電子のエネルギーの拡がりが邪魔になる場合がある。このような場合に、電子銃と試料との間にもエネルギーフィルタを置き、照射ビームのエネルギー幅を狭くすることが行われる。このような目的で使用されるエネルギーフィルタはモノクロメータと呼ばれる。
【0003】
(従来例1)
図8は、一様電場と一様磁場を用いるウィーンフィルタによる電子ビーム軌道を示す。電子銃より出射された電子ビームは、フィルタ内での進行過程で、進行方向(Z方向)に対して直交するX方向(ZX面内)で1回収束(結像)し、X方向と直角のY方向では収束(結像)しない。
【0004】
しかし、このウィーンフィルタでは、フィルタの直前でクロスオバーを作って入射ビームをフィルタへ入れると、フィルタから射出される電子ビームの形は、X方向にはフォーカスして分散を生じるが、Y方向には長く伸びたビームとなり、その後の取扱が困難であった。
【0005】
(従来例2)
図9は、上述の欠点を克服した不均一場ウィーンフィルタによる電子ビーム軌道を示す。この不均一場ウィーンフィルタは、4極子場(不均一場)を加えることにより、Y方向にもフォーカスを実現し、フィルタ内のどこで見ても丸い横断面のビームとなるラウンドレンズ型のフォーカスを行う。
【0006】
しかし、この不均一場ウィーンフィルタでは、フィルタの出口にエネルギー選択スリットが配置される。従って、これをモノクロメータとして用いる場合、その後のビームはビームの位置によってエネルギーが異なる(Chromatic)一方、ビーム形状がスリットによって切断された細長形状となり、実用上不便であった。
【0007】
(従来例3)
図10は、前記不均一場ウィーンフィルタの欠点を克服する2段型エネルギーフィルタによる電子ビーム軌道を示す。
この2段型エネルギーフィルタは、電子ビームの進行方向に間隔をおいて配置された2個のウィーンフィルタを有し、1段目のエネルギーフィルタの後にエネルギー選択スリットを配置し、エネルギー選択スリットによってエネルギー選択した後に、2段目のエネルギーフィルタによりエネルギー分散をゼロへ戻す(Achromatic)。
【0008】
(従来例4)
ところで、電子銃のすぐ近傍で小さい加速電圧のもとでエネルギーフィルタが使用される場合、電子銃から出発した電子が、クロスオバーを作り互いに接近して飛翔すると、電子間クローン相互作用によってエネルギーの広がりやビーム径の増大を起こすことがある、と云う問題があった。
図11は、前記問題を解決する2段型エネルギーフィルタによる電子ビーム軌道を示す(特開2001−23558号公報)。
同図に示すように、このエネルギーフィルタでは、電子ビームの進行方向に対して直交するX方向では2回フォーカスし、Y方向では1回だけフォーカスする。従って、ラウンドレンズ型のフォーカシングではなく、非点型のフォーカスが行われる。そして前記X方向の第2フォーカス位置にスリットが配置され、エネルギー選択が行われる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
従来例4のエネルギーフィルタでは、1段目フィルタに比べて2段目フィルタの軸長が短く、ビーム進行方向に於いてスリット位置は、エネルギーフィルタ全長の中心に位置しない。従って、エネルギーフィルタによる収差が発生する懸念があった。
【0010】
この発明は、上述の如き問題点を解消するためになされたもので、収差の発生が少ないエネルギーフィルタを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、この発明によるエネルギーフィルタは、特定のエネルギーを持つ荷電粒子のみを通過させる為に電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、当該エネルギーフィルタ内を進行する荷電粒子は、進行方向に平行なZ軸及びこれに直交するX軸で定まるZX面内に於いて少なくとも一回収束し、前記Z軸及び、前記Z軸・X軸と直交するY軸で定まるZY面内に於いて、前記収束位置で所定値以上の幅を有し、前記ZX面内における収束位置に、エネルギー選択スリットが配置されている。好ましくは、前記ZX面内及びZY面内に於ける縦断面形状は、Z軸方向におけるエネルギーフィルタの中心位置を中心として対称にされる。
【0012】
前記エネルギーフィルタは、前記荷電粒子が、前記ZX面内に於いて所定符合のX座標値を有する少なくとも一つの第1フィルタ部分と、前記所定符合と逆符合のX座標値を有する少なくとも一つの第2フィルタ部分とを備え、
各フィルタ部分の長さは、前記荷電粒子が第1フィルタ部分を進行する際に発生する収差と、第2フィルタ部分を進行する際に発生する収差とが相互にうち消し合うように設定される。
【0013】
好ましくは、前記エネルギーフィルタは、光軸に沿って配置されたほぼ同じ長さを有する一つの第1フィルタ部分と一つの第2フィルタ部分とを有し、前記荷電粒子は、ZX面内に於いて当該第1フィルタ部分と第2フィルタ部分との間で一回収束する。
【0014】
好ましくは、磁場及び電場の分布は、光軸に沿ったエネルギーフィルタの中心位置を含むXY面を対称面として面対称を有し、前記荷電粒子の軌道は、前記ZX面内に於いて、光軸上の前記エネルギーフィルタ中心位置を中心に180°回転対称を有する。
【0015】
好ましくは、荷電粒子ビームは、前記ZX面内に於いて一回収束し、ZY面内に於いて、エネルギーフィルタ全長に亘って所定値以上の幅を有し、スリットは、前記Z軸に沿ってエネルギーフィルタの中央に配置される。
【0016】
好ましくは、荷電粒子ビームは、前記ZY面内に於いて、エネルギーフィルタ全長に亘って平行ビームを形成する。
【0017】
好ましくは、前記エネルギーフィルタは、Z軸方向に於ける長さがほぼ等しい2つのウィーンフィルタを有する。
【0018】
好ましくは、荷電粒子ビームは、前記ZX面内及びZY面内に於ける縦断面形状がフィルタ入り口において平行ビームを形成する。
【0019】
好ましくは、前記エネルギーフィルタは、間隔を置いて配置される複数のウィーンフィルタを含み、各ウィーンフィルタは、一様な電場及び磁場をそれぞれの内部に生成する。
【0020】
この発明の他の側面は、前記何れかのエネルギーフィルタを有する電子顕微鏡にある。
【0021】
好ましくは、前記電子顕微鏡に於いて、エネルギーフィルタの直前に配置されたレンズ又はレンズ群は、当該エネルギーフィルタへ入射する電子ビームが、エネルギーフィルタ入り口において平行ビームを形成するように調整されている。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、図1乃至4を参照してこの発明の実施の形態を説明する。
図1は、この発明によるエネルギーフィルタの一実施形態を示す概念図である。また、図2は、この実施形態の物理的構成を示す模式図、図3は、この実施形態で使用されるウィーンフィルタの構造を例示する斜視図、図4は、この実施形態で使用されるエネルギー選択スリット板の正面図である。
【0023】
これらの図に示すように、この実施形態のエネルギーフィルタ10は、一般的には、特定のエネルギーを持つ荷電粒子のみを通過させる為に電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、当該エネルギーフィルタ内を進行する荷電粒子は、進行方向に平行なZ軸及びこれに直交するX軸で定まるZX面内に於いて少なくとも一回収束し、前記Z軸及び、前記Z軸・X軸と直交するY軸で定まるZY面内に於いて、前記収束位置で所定値以上の幅を有し、前記ZX面内における収束位置にエネルギー選択スリット13aを配置したものである。
【0024】
前記エネルギーフィルタ10は、前記荷電粒子が、前記ZX面内に於いて所定符合のX座標値を有する少なくとも一つの第1フィルタ部分11と、前記所定符合と逆符合のX座標値を有する少なくとも一つの第2フィルタ部分12とを備え、各フィルタ部分11,12の長さは、前記荷電粒子が第1フィルタ部分11を進む際に発生する収差と、第2フィルタ部分12を進む際に発生する収差とが相互にうち消し合うように設定される。
【0025】
好ましくは、前記エネルギーフィルタは、光軸Oに沿って配置されたほぼ同じ長さを有する一つの第1フィルタ部分11と一つの第2フィルタ部分12とを有し、前記荷電粒子は、ZX面内に於いて当該第1フィルタ部分11と第2フィルタ部分12との間で一回収束する。
【0026】
また、磁場及び電場の分布は、光軸Oに沿ったエネルギーフィルタ10の中心位置Mを含むXY面を対称面として面対称を有し、前記荷電粒子の軌道は、前記ZX面内に於いて、光軸O上の前記エネルギーフィルタ中心位置Mを中心に180°回転対称を有する。
【0027】
より詳細には、以下の通りである。
図1及び図2に示すように、例えば電子顕微鏡に使用される前記エネルギーフィルタ10は、Z軸に平行な電子ビーム中心軌道O(以下、光軸と称する。)に沿って配置された1段目フィルタ11と、2段目フィルタ12と、エネルギーフィルタ10のZ軸方向の中央位置Mに配置されたエネルギー選択スリット板13と、を有する。エネルギー選択スリット板13はエネルギー選択スリット13aを有する。
【0028】
このエネルギーフィルタ10の前段に、電子銃の陰極16から射出された電子ビームの電子軌道を調整する前段静電レンズ14が設けてある。また、エネルギーフィルタ10の後段には、試料(図示せず)への電子ビームの軌道を調整する後段静電レンズ15が設けてある。
【0029】
図2に示すように、前記1段目フィルタ11および2段目フィルタ12は、それぞれ、Z軸に沿って進行する電子線eに対して、直交する電場E1及び磁場H1或いは、電場E2及び磁場H2を印加するウィ−ンフィルタから成る。
【0030】
図3に示すように、各ウィーンフィルタ11,12は、前記磁場H1,H2を生成するために、前記光軸Oを挟んで上下方向(Y方向)に対向配置される磁極板(磁極N)21及び磁極板(磁極S)22を有する。この磁極板21,22は、ウィーンフィルタ内部に一様な磁場H1,H2を生成する。
【0031】
また、各ウィーンフィルタ11,12は、前記電場E1,E2を生成するために、前記光軸Oを挟んで左右方向(X方向)に対向配置される一対のプラス電極板23及びマイナス電極板24を有する。この電極板23,24は、ウィーンフィルタ内部に一様な電場E1、E2を生成する。
【0032】
図2に示すように、前記初段フィルタ11及び2段目フィルタ12は、前記スリット13a(又はスリット板13)の位置Mを含むXY面を対称面として面対称の構造を有する。従って、前記フィルタ11,12のフィルタ長L1,L2は、ほぼ同じ長さを有する。
【0033】
従って、前記電場E1,E2及び磁場H1,H2の分布は、エネルギーフィルタ10のZ軸方向の中心位置Mを含むXY面を対称面として面対称(図2において左右対称)となる。
【0034】
エネルギーフィルタ10の入り口部及び出口部には、フィルタ11,12から発生する電磁場と周囲の電子光学要素が発生する電磁場との干渉を防止するためのシャント部材101,103が設けてある。
【0035】
上記構成により、Z軸に平行な光軸Oおよびその周辺に、当該光軸Oに直交するX方向に平行な電場E1,E2及び、X方向に対して直角なY方向に平行な磁場H1,H2が重畳された均一場が形成される。このため、光軸Oに沿って入射した電子は、直交した電場E1,E2と磁場H1,H2より受ける力と、個々の電子のエネルギーにより定まる所定の軌道を進む。
【0036】
より詳細には、前記電場E1,E2及び磁場H1,H2の向き及び強さは、次の1,2の条件を充足するように調整されている。
【0037】
1.エネルギーフィルタ10内を進行する荷電粒子ビームは、Z軸及X軸で定まるZX面内に於いて一回収束し、Z軸及びY軸で定まるZY面内に於いて、フィルタ10全長に亘って平行ビームを形成する。
【0038】
2.電子軌道は、光軸O上に於けるエネルギーフィルタ10の中心位置Mを通るY軸を対称軸として180°回転対称性を有する。
【0039】
図4は、前記スリット13aを含むスリット板13の正面図を示す。
同図に示すように、スリット13aは、X軸方向に狭い幅dを有すると共にY軸方向に広い幅Dを有する。また、スリット板13は、X軸方向に移動自在に設けてある。
【0040】
次に、図5及び図6を参照して、前記エネルギーフィルタ10の作用を説明する。図5において、各番号16,14,11,13a,12,15は、各番号に対応する各要素のZ方向の位置を示す。
【0041】
図5(a)は、前段静電レンズ14及び、1段目フィルタ11、エネルギー選択スリット13、2段目フィルタ12及び、後段静電レンズ15を通過する電子線のZX面での軌道形状を示す。
【0042】
同図に示すように、陰極16からの電子線ERは収束性を持つことなく、前段静電レンズ14の電子レンズ作用により平行ビームにされ、1段目フィルタ11へ入射される(レンズ14は、光学で云うコリメータ・レンズとして作用する)。前記フィルタ11の入り口に於ける平行ビームのビーム幅BWは、例えば、レンズ14の前方又は、レンズ14とフィルタ11との間に配置されるアパーチャ(図示せず)により設定され得る。
【0043】
1段目フィルタ11へ平行入射された電子線ERは、(X方向又はXZ面軌道で)当該フィルタ11の生成する電場E1及び磁場H1により、当該フィルタ11の後方であって、エネルギーフィルタ10のZ方向における中心位置Mで収束(結像)する。
【0044】
前記収束された電子線ERは、(後述するエネルギー条件を充足することを前提として)当該位置Mでスリット13aを通過する。
【0045】
前記スリット13aを通過した電子線ERは、前記1段目フィルタ11と面対称の構造及び電磁場分布を有する2段目フィルタ12の生成する電場E2及び磁場H2により、当該フィルタ12の出口において、1段目フィルタ11の入り口に於けると同じビーム幅BWに戻される。
【0046】
従って、ZX面内に於いて、電子線の軌道ERは、前記フィルタ中心位置Mを中心に180°回転対称を有する。
【0047】
その際、前記電子線の収差は、スリット位置(対称点)Mの前後でキャンセルされる。より詳細には、以下の通りである。
【0048】
図5(a)に示すように、各電子線の軌道(電子軌道)は、前記中間位置Mで光軸Oを通り、1段目フィルタ11内部と2段目フィルタ12内部とで、そのX座標値が反転する。
【0049】
一方、電子軌道の収差は、磁場或いは電場の大きさと軌道の高さ(X座標値)の積で表される。
【0050】
又、前記磁場及び電場は、1段目フィルタ11と2段目フィルタ12とで同じ方向を向く。
【0051】
従って、1段目フィルタ11内部と2段目フィルタ12内部とで、電子軌道のX座標値が反転することにより、前記第1フィルタ11での収差と第2フィルタ12での収差が打ち消し合う。
【0052】
例えば、ある軌道高さを有する電子軌道が、1段目フィルタ11によりプラスの収差を有する場合、2段目フィルタではほぼ同じ大きさのマイナスの収差を有する。従って、これらの収差はうち消し合い、エネルギーフィルタ全体としては、小さな収差を有する。
【0053】
図5(b)は、YZ面での電子線の軌道形状(又はビーム形状)を示す。
陰極16からの電子線ERは、XZ面でのビーム形状と同様、収束性を持つことなく、前段静電レンズ14の電子レンズ作用により、ビーム幅BWを有する平行ビームにされ、1段目フィルタ11へ入射される。
【0054】
従って、電子線ERは、1段目フィルタ11の入り口において、概略、直径BWの円形断面を有する。
【0055】
一方、既に示したように(図2及び図3)、ウイーンフィルタ11、12は、Y軸方向に於いて電子線へ力を及ぼさない。
【0056】
従って、YZ面に於いて、1段目フィルタ11へ平行ビームとして入射された電子線ERは、エネルギーフィルタ10内では一度も収束されることなく、平行ビームのまま(即ち、ビーム幅BWを保った儘)、2段目フィルタ12の出口から射出される。
【0057】
従って、各電子線の軌道ERは、光軸O上の前記位置Mを通るY軸を対称軸として180°回転対称を有する。
【0058】
なお、スリット13aのY軸方向の幅Dは、電子線ERのY軸方向の幅BWより大きく設定されている。
【0059】
図5(c)は、前記電子線ERの電子分散軌道(電子線ERの、X軸方向に於ける分散量のZ軸に沿っての変動)を示す。
【0060】
同図に示すように、前記電子線ERは、前記位置Mにおいて所定値以上の分散量を有する。即ち、異なるエネルギーを有する電子線は、位置Mにおいて異なるX軸位置を通過する。
【0061】
図6は、スリット板13上での電子線又は電子ビームの形状を示す。
同図に示すように、陰極16から射出され、所定エネルギー(中心エネルギー値)を有する電子ビームは、電子レンズ14及び1段目フィルタ11により、位置Mにおいて、Y軸方向に長い幅(BW)を有しX軸方向に短い幅を有する像IMを形成する。ここに、像IMのY軸方向の幅BWは、X軸方向の幅を1μmとするとき、その10倍程度以上に設定される。
【0062】
また、前記エネルギーと異なるエネルギーを有する電子ビームは、X軸方向において前記像IMからずれた位置に像IM´を形成する。
【0063】
従って、前記スリット板13をX軸方向へ移動し、エネルギー選択スリット13aを前記像IM、IM´等の位置へ選択的に移動又は配置することにより、所望のエネルギーを持つ電子ビームのみを選択的に通過させることができる。
【0064】
この場合、前記像IM、IM´は、X軸方向のみに収束され、Y軸方向には収束されていない。従って、比較的低エネルギーの電子ビームであっても、前記エネルギー選択の際、電子間クーロン相互作用の影響による、エネルギーの広がりやビーム径の増大を生じることがない。
【0065】
また、上記エネルギーフィルタ10によれば、磁場・電場の分布は、スリット板13の面(フィルタ中心位置Mを含むXY面)を対称面として面対称(図2、図4において左右対称)を有し、各電子線の軌跡は、ビーム中心軸O及び前記位置Mを通るY軸を対称軸として180°回転対称を有する。これにより、前述の如く電子ビームの収差は、スリット位置(対称点)の前後でキャンセルされ、エネルギーフィルタに於ける収差の発生を低減することができる。
【0066】
なお、上記において電場E1,E2及び磁場H1,H2の分布は、フィルタ11,12内において一様とした。しかし、エネルギーフィルタ10内における電場・磁場の分布が、Z軸方向の中心位置Mを含むXY面を対称面として面対称(図2において左右対称)であれば、どのようなものでも良い。
【0067】
又、前記エネルギーフィルタ10は、1つの第1フィルタ部分11と1つの第2フィルタ部分12とを有した。しかし、エネルギーフィルタ10は、複数の第1フィルタ部分又は複数の第2フィルタ部分を有することが出来る。この場合、第1フィルタ部分群による収差の合計と、第2フィルタ部分群による収差の合計とが、相互にうち消し合うように、第1フィルタ部分群の長さの合計と第2フィルター部分群の長さの合計とを設定するのが好ましい。
又、図6において、像IMのY軸方向の幅BWは、X軸方向の幅(例えば1μm)の数倍程度とすることもできる。
【0068】
図7(a)、(b)は、本発明のエネルギーフィルタを組み込んだ電子顕微鏡の構成を示す。
【0069】
図7(a)は、電界放射型電子銃(FEG)と加速器の間に本発明のエネルギーフィルタを配置した例を示す。
【0070】
FEG51から発射された1keV〜数keV程度の比較的低いエネルギーの電子ビームは、入射アパーチャ52、減速部53、エネルギーフィルタ部54、加速部55、出射アパーチャ56からなる減速型エネルギーフィルタ57へ入射される。
【0071】
この減速型エネルギーフィルタ57において、入射電子は減速部53で数100eV程度のエネルギーに減速された後、フィルタ部54において所定のエネルギーを持つもののみが選択され、加速部55によって再び元のエネルギーを持つように加速されて出射アパーチャ56から出射する。ここにエネルギーフィルタ部54は、図1乃至図3に示した構造を有する。
【0072】
出射アパーチャ56から出射された電子ビームは、加速器58によって所望の高エネルギー(例えば200keV程度)まで加速された後、コンデンサレンズ群59及び対物レンズ60を介して試料61へ照射される。
【0073】
図7(b)は、本発明のエネルギーフィルタを加速器の後段に配置した例を示す。
この例では、FEG51から発射された1keV〜数keV程度の比較的低いエネルギーの電子ビームは、加速器58によって所望の高エネルギー(例えば200ekV程度)まで加速された後、コンデンサレンズ62を介して減速型エネルギーフィルタ57へ入射される。この減速型エネルギーフィルタ57は、入射アパーチャ52、減速部53、エネルギーフィルタ部54、加速部55、出射アパーチャ56からなる。
【0074】
この減速型エネルギーフィルタ57において、入射電子は減速部53で数100eV程度のエネルギーに減速された後、エネルギーフィルタ部54において所定のエネルギーを持つもののみが選択され、加速部55によって再び元のエネルギーに加速されて出射アパーチャ57から出射する。エネルギーフィルタ部54は、図1乃至図3に示す構造を有する。
【0075】
出射アパーチャ56から出射された電子ビームは、コンデンサレンズ群59及び対物レンズ60を介して試料61へ照射される。
【0076】
なお、上記減速型エネルギーフィルタ57の減速部53及び加速部55は、高エネルギーの電子を数100eV程度のエネルギーに減速し、更に元の高エネルギーに加速することが必要なため、本来の加速器58と同様多段加速とするのが好ましい。
【0077】
上記電子顕微鏡によれば、FEG51から放射された電子ビームは、加速管を通りすぎて高電圧に加速されるまでの間にモノクロメータを通過したにも拘わらず、スリット位置において、X方向に1回だけしかフォーカスせず、フォーカス回数が少ないことによって、同種のエネルギーフィルタに比して、クーロン相互作用によるエネルギーの広がりやビーム径の増大を抑えることができる。
【0078】
また、収差の少ない前記エネルギーフィルタ10をモノクロメータとして用いることにより、フィルタを通過したビームの大きさを増大させないで、小さいビーム径のままで、試料を照射することができる。
【0079】
以上説明したように、この実施形態のエネルギーフィルタによれば、スリット位置に対して荷電粒子の軌道、磁場電場の分布が対称形となり、収差がスリット位置の前後でキャンセルされ、収差の発生を低減することが出来る。
【0080】
【発明の効果】
以上の説明から理解される如く、この発明によるエネルギーフィルタによれば、収差の発生を低減することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明によるエネルギーフィルタの一実施形態を示す全体概念図である。
【図2】前記実施形態の物理的構成を示す模式図である。
【図3】前記実施形態で使用されるウィーンフィルタの構造を例示する斜視図である。
【図4】前記実施形態で使用されるエネルギー選択スリット板の正面図である。
【図5】図5(a)は前記エネルギーフィルタを通過する電子ビームのZX面での軌道を示す説明図である。図5(b)は同じく電子ビームのZY面での軌道を示す。図5(c)は同じく電子ビームの電子分散軌道を示す。
【図6】前記スリット板上での電子ビームの形状を示す模式図である。
【図7】図7(a)、(b)は各々本発明の実施形態のエネルギーフィルタを組み込んだ電子顕微鏡の構成を示す模式図である。
【図8】従来例1のエネルギーフィルタにおける電子ビームの軌道を示す説明図である。
【図9】従来例2のエネルギーフィルタにおける電子ビームの軌道を示す説明図である。
【図10】従来例3のエネルギーフィルタにおける電子ビームの軌道を示す説明図である。
【図11】従来例4のエネルギーフィルタにおける電子ビームの軌道を示す説明図である。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an energy filter that selectively allows only charged particles having a specific energy to pass therethrough, and more particularly, to an energy filter used in a monochromator such as a transmission electron microscope or an energy analyzer.
[0002]
[Prior art]
In recent years, a transmission electron microscope has been developed in which an energy filter is disposed in an electron optical system that enlarges and projects an electron beam transmitted through a sample onto a fluorescent screen. According to the transmission electron microscope having such an energy filter, it is possible to form a microscope image based only on transmission electrons having a specific energy among transmission electrons (transmission charged particles) affected by the sample.
In the analysis using such an energy filter, in order to obtain high energy resolution, the spread of the energy of electrons before irradiation of the sample, which is produced by an electron gun, may be an obstacle. In such a case, an energy filter is also placed between the electron gun and the sample to reduce the energy width of the irradiation beam. An energy filter used for such a purpose is called a monochromator.
[0003]
(Conventional example 1)
FIG. 8 shows an electron beam trajectory by a Wien filter using a uniform electric field and a uniform magnetic field. The electron beam emitted from the electron gun converges (images) once in the X direction (in the ZX plane) perpendicular to the traveling direction (Z direction) during the traveling process in the filter, and is perpendicular to the X direction. Convergence (image formation) does not occur in the Y direction.
[0004]
However, in this Wien filter, when a crossover is made just before the filter and the incident beam is put into the filter, the shape of the electron beam emitted from the filter is focused in the X direction and dispersed, but in the Y direction. Became a long beam, and subsequent handling was difficult.
[0005]
(Conventional example 2)
FIG. 9 shows the electron beam trajectory with a non-uniform field Wien filter that overcomes the above-mentioned drawbacks. This inhomogeneous field Wien filter achieves focusing in the Y direction by adding a quadrupole field (inhomogeneous field), and a round lens type focus that produces a round cross-section beam anywhere in the filter. Do.
[0006]
However, in this non-uniform field Wien filter, an energy selection slit is arranged at the outlet of the filter. Accordingly, when this is used as a monochromator, the energy of the subsequent beam differs depending on the position of the beam (Chromatic), while the beam shape becomes an elongated shape cut by the slit, which is inconvenient in practice.
[0007]
(Conventional example 3)
FIG. 10 shows an electron beam trajectory by a two-stage energy filter that overcomes the disadvantages of the non-uniform field Wien filter.
This two-stage type energy filter has two Wien filters arranged at intervals in the traveling direction of the electron beam, an energy selection slit is arranged after the first stage energy filter, and the energy is selected by the energy selection slit. After the selection, the energy dispersion is returned to zero by the second stage energy filter (Achromatic).
[0008]
(Conventional example 4)
By the way, when an energy filter is used in the immediate vicinity of an electron gun under a small acceleration voltage, when electrons starting from the electron gun form a crossover and fly close to each other, the energy of the electrons is caused by the electron-clonal interaction. There was a problem that the spread and the beam diameter might increase.
FIG. 11 shows an electron beam trajectory by a two-stage energy filter that solves the above problem (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-23558).
As shown in the figure, this energy filter focuses twice in the X direction orthogonal to the traveling direction of the electron beam and focuses only once in the Y direction. Therefore, astigmatic focusing is performed instead of round lens focusing. A slit is disposed at the second focus position in the X direction, and energy selection is performed.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
In the energy filter of Conventional Example 4, the axial length of the second-stage filter is shorter than that of the first-stage filter, and the slit position in the beam traveling direction is not located at the center of the entire length of the energy filter. Therefore, there is a concern that aberration due to the energy filter occurs.
[0010]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an energy filter with less aberration.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, an energy filter according to the present invention is an energy filter that combines an electric field and a magnetic field so as to allow only charged particles having a specific energy to pass through, and the charged particles traveling in the energy filter. Is converged at least once in the ZX plane defined by the Z axis parallel to the traveling direction and the X axis orthogonal thereto, and is determined by the Z axis and the Y axis orthogonal to the Z axis / X axis. The energy selection slit is disposed at the convergence position in the ZX plane having a width equal to or greater than a predetermined value at the convergence position. Preferably, the longitudinal cross-sectional shapes in the ZX plane and the ZY plane are symmetric with respect to the center position of the energy filter in the Z-axis direction.
[0012]
In the energy filter, the charged particles have at least one first filter portion having an X coordinate value having a predetermined sign in the ZX plane, and at least one first coordinate portion having an X coordinate value having an opposite sign to the predetermined sign. Two filter parts,
The length of each filter portion is set so that the aberration that occurs when the charged particles travel through the first filter portion and the aberration that occurs when the charged particles travel through the second filter portion cancel each other out. .
[0013]
Preferably, the energy filter has one first filter portion and one second filter portion having substantially the same length disposed along the optical axis, and the charged particles are in the ZX plane. And converge once between the first filter portion and the second filter portion.
[0014]
Preferably, the distribution of the magnetic field and the electric field has a plane symmetry with the XY plane including the center position of the energy filter along the optical axis as a symmetry plane, and the trajectory of the charged particle is a light beam in the ZX plane. It has 180 ° rotational symmetry about the center position of the energy filter on the axis.
[0015]
Preferably, the charged particle beam converges once in the ZX plane, has a width of a predetermined value or more over the entire length of the energy filter in the ZY plane, and the slit extends along the Z axis. Is arranged in the center of the energy filter.
[0016]
Preferably, the charged particle beam forms a parallel beam over the entire length of the energy filter in the ZY plane.
[0017]
Preferably, the energy filter includes two Wien filters having substantially the same length in the Z-axis direction.
[0018]
Preferably, in the charged particle beam, the longitudinal cross-sectional shape in the ZX plane and the ZY plane forms a parallel beam at the filter entrance.
[0019]
Preferably, the energy filter includes a plurality of spaced apart Wien filters, each Wien filter generating a uniform electric and magnetic field therein.
[0020]
Another aspect of the present invention resides in an electron microscope having any one of the energy filters.
[0021]
Preferably, in the electron microscope, the lens or the lens group disposed immediately before the energy filter is adjusted so that the electron beam incident on the energy filter forms a parallel beam at the entrance of the energy filter.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of an energy filter according to the present invention. 2 is a schematic diagram showing the physical configuration of this embodiment, FIG. 3 is a perspective view illustrating the structure of a Wien filter used in this embodiment, and FIG. 4 is used in this embodiment. It is a front view of an energy selection slit board.
[0023]
As shown in these drawings, the
[0024]
In the
[0025]
Preferably, the energy filter has one
[0026]
Further, the distribution of the magnetic field and the electric field has surface symmetry with the XY plane including the center position M of the
[0027]
More details are as follows.
As shown in FIGS. 1 and 2, the
[0028]
A pre-stage
[0029]
As shown in FIG. 2, the first-
[0030]
As shown in FIG. 3, each
[0031]
Each
[0032]
As shown in FIG. 2, the first-
[0033]
Therefore, the distributions of the electric fields E1 and E2 and the magnetic fields H1 and H2 are plane symmetric (symmetric in FIG. 2) with the XY plane including the center position M in the Z-axis direction of the
[0034]
[0035]
With the above configuration, the electric field E1, E2 parallel to the X direction perpendicular to the optical axis O and the magnetic field H1, parallel to the Y direction perpendicular to the X direction, around the optical axis O parallel to the Z axis. A uniform field in which H2 is superimposed is formed. For this reason, the electrons incident along the optical axis O travel along a predetermined trajectory determined by the forces received from the orthogonal electric fields E1 and E2 and the magnetic fields H1 and H2 and the energy of each electron.
[0036]
More specifically, the directions and strengths of the electric fields E1 and E2 and the magnetic fields H1 and H2 are adjusted so as to satisfy the following
[0037]
1. The charged particle beam traveling in the
[0038]
2. The electron trajectory has 180 ° rotational symmetry with the Y axis passing through the center position M of the
[0039]
FIG. 4 shows a front view of the
As shown in the figure, the
[0040]
Next, the operation of the
[0041]
FIG. 5A shows the trajectory shape on the ZX plane of the electron beam passing through the front stage
[0042]
As shown in the figure, the electron beam ER from the
[0043]
The electron beam ER incident in parallel to the first-
[0044]
The converged electron beam ER passes through the
[0045]
The electron beam ER that has passed through the
[0046]
Accordingly, in the ZX plane, the electron beam trajectory ER has a 180 ° rotational symmetry about the filter center position M.
[0047]
At that time, the aberration of the electron beam is canceled before and after the slit position (symmetry point) M. More details are as follows.
[0048]
As shown in FIG. 5 (a), the trajectory (electron trajectory) of each electron beam passes through the optical axis O at the intermediate position M, and the X-rays inside the first-
[0049]
On the other hand, the aberration of the electron trajectory is expressed by the product of the magnitude of the magnetic field or electric field and the height of the trajectory (X coordinate value).
[0050]
The magnetic field and electric field are directed in the same direction in the
[0051]
Therefore, the X-coordinate value of the electron trajectory is inverted between the first-
[0052]
For example, when an electron trajectory having a certain trajectory height has a positive aberration by the first-
[0053]
FIG. 5B shows the trajectory shape (or beam shape) of the electron beam on the YZ plane.
Similar to the beam shape on the XZ plane, the electron beam ER from the
[0054]
Therefore, the electron beam ER generally has a circular cross section having a diameter BW at the entrance of the
[0055]
On the other hand, as already shown (FIGS. 2 and 3), the Wien filters 11 and 12 do not exert a force on the electron beam in the Y-axis direction.
[0056]
Accordingly, in the YZ plane, the electron beam ER incident as a parallel beam on the first-
[0057]
Accordingly, the orbit ER of each electron beam has a 180 ° rotational symmetry with the Y axis passing through the position M on the optical axis O as the symmetry axis.
[0058]
The width D in the Y-axis direction of the
[0059]
FIG. 5C shows the electron dispersion trajectory of the electron beam ER (the fluctuation of the dispersion amount of the electron beam ER in the X-axis direction along the Z-axis).
[0060]
As shown in the figure, the electron beam ER has a dispersion amount greater than or equal to a predetermined value at the position M. That is, electron beams having different energies pass through different X-axis positions at the position M.
[0061]
FIG. 6 shows the shape of the electron beam or electron beam on the
As shown in the figure, an electron beam emitted from the
[0062]
Further, an electron beam having an energy different from the energy forms an image IM ′ at a position shifted from the image IM in the X-axis direction.
[0063]
Accordingly, by moving the
[0064]
In this case, the images IM and IM ′ are converged only in the X-axis direction and are not converged in the Y-axis direction. Therefore, even when the electron beam has a relatively low energy, the energy spread and the beam diameter do not increase due to the influence of the inter-electron Coulomb interaction when the energy is selected.
[0065]
Further, according to the
[0066]
In the above, the distribution of the electric fields E1 and E2 and the magnetic fields H1 and H2 is uniform in the
[0067]
The
In FIG. 6, the width BW of the image IM in the Y-axis direction can be about several times the width in the X-axis direction (for example, 1 μm).
[0068]
7A and 7B show the configuration of an electron microscope incorporating the energy filter of the present invention.
[0069]
FIG. 7A shows an example in which the energy filter of the present invention is arranged between a field emission electron gun (FEG) and an accelerator.
[0070]
An electron beam having a relatively low energy of about 1 keV to several keV emitted from the
[0071]
In this decelerating
[0072]
The electron beam emitted from the
[0073]
FIG.7 (b) shows the example which has arrange | positioned the energy filter of this invention in the back | latter stage of an accelerator.
In this example, an electron beam having a relatively low energy of about 1 keV to several keV emitted from the
[0074]
In this decelerating
[0075]
The electron beam emitted from the
[0076]
The
[0077]
According to the above electron microscope, the electron beam emitted from the
[0078]
Further, by using the
[0079]
As described above, according to the energy filter of this embodiment, the trajectory of the charged particles and the magnetic field distribution are symmetrical with respect to the slit position, and the aberration is canceled before and after the slit position, thereby reducing the occurrence of aberration. I can do it.
[0080]
【The invention's effect】
As can be understood from the above description, the energy filter according to the present invention can reduce the occurrence of aberrations.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall conceptual diagram showing an embodiment of an energy filter according to the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a physical configuration of the embodiment.
FIG. 3 is a perspective view illustrating the structure of a Wien filter used in the embodiment.
FIG. 4 is a front view of an energy selection slit plate used in the embodiment.
FIG. 5 (a) is an explanatory view showing the trajectory of the electron beam passing through the energy filter on the ZX plane. FIG. 5B similarly shows the trajectory of the electron beam on the ZY plane. FIG. 5C also shows the electron dispersion trajectory of the electron beam.
FIG. 6 is a schematic diagram showing the shape of an electron beam on the slit plate.
FIGS. 7A and 7B are schematic views each showing a configuration of an electron microscope incorporating the energy filter according to the embodiment of the present invention.
8 is an explanatory diagram showing an electron beam trajectory in the energy filter of Conventional Example 1. FIG.
FIG. 9 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the energy filter of Conventional Example 2.
FIG. 10 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the energy filter of Conventional Example 3.
FIG. 11 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the energy filter of Conventional Example 4.
Claims (9)
当該エネルギーフィルタ内を進行する荷電粒子は、進行方向に平行なZ軸及びこれに直交するX軸で定まるZX面内に於いて少なくとも一回収束し、前記Z軸及び、前記Z軸・X軸と直交するY軸で定まるZY面内に於いて、前記収束位置で所定値以上の幅を有し、
前記ZX面内における収束位置に、エネルギー選択スリットが配置され、当該エネルギーフィルタは、前記荷電粒子の軌道が、前記ZX面内に於いてスリット面を境にして反転する少なくとも一つの第1フィルタ部分と少なくとも一つの第2フィルタ部分とを備え、第1フィルタ部分と第2フィルタ部分との長さがほぼ等しく、且つ、前記第1フィルタ部分は、荷電粒子線が前記スリット上に、当該第1フィルタ部分による荷電粒子分散方向であるX方向にほぼ直交するY方向に延びた断面形状を有するように調整されたエネルギーフィルタ。An energy filter that combines an electric field and a magnetic field to pass only charged particles with a specific energy,
The charged particles traveling in the energy filter converge at least once in a ZX plane defined by a Z axis parallel to the traveling direction and an X axis orthogonal thereto, and the Z axis, the Z axis, and the X axis In the ZY plane determined by the Y axis orthogonal to the width of the predetermined value or more at the convergence position,
An energy selection slit is disposed at a convergence position in the ZX plane, and the energy filter includes at least one first filter portion in which the trajectory of the charged particles is reversed with the slit plane as a boundary in the ZX plane. And at least one second filter portion, the lengths of the first filter portion and the second filter portion are substantially equal, and the first filter portion has a charged particle beam on the slit, An energy filter adjusted to have a cross-sectional shape extending in the Y direction substantially orthogonal to the X direction, which is a charged particle dispersion direction by the filter portion.
当該エネルギーフィルタ内を進行する荷電粒子は、進行方向に平行なZ軸及びこれに直交するX軸で定まるZX面内に於いて少なくとも一回収束し、前記Z軸及び、前記Z軸・X軸と直交するY軸で定まるZY面内に於いて、前記収束位置で所定値以上の幅を有し、
前記ZX面内における収束位置に、エネルギー選択スリットが配置され、当該エネルギーフィルタは、前記荷電粒子の軌道が、前記ZX面内に於いてスリット面を境にして反転する少なくとも一つの第1フィルタ部分と少なくとも一つの第2フィルタ部分とを備え、第1フィルタ部分と第2フィルタ部分との長さは、前記荷電粒子が第1フィルタ部分を進む際に発生する収差と、第2フィルタ部分を進む際に発生する収差とが相互にうち消し合うように設定され、且つ、前記第1フィルタ部分は、荷電粒子線が前記スリット上に、当該第1フィルタ部分による荷電粒子分散方向であるX方向にほぼ直交するY方向に延びた断面形状を有するように調整されたエネルギーフィルタ。An energy filter that combines an electric field and a magnetic field to pass only charged particles with a specific energy,
The charged particles traveling in the energy filter converge at least once in a ZX plane defined by a Z axis parallel to the traveling direction and an X axis orthogonal thereto, and the Z axis, the Z axis, and the X axis In the ZY plane determined by the Y axis orthogonal to the width of the predetermined value or more at the convergence position,
An energy selection slit is disposed at a convergence position in the ZX plane, and the energy filter includes at least one first filter portion in which the trajectory of the charged particles is reversed with the slit plane as a boundary in the ZX plane. And at least one second filter portion, the lengths of the first filter portion and the second filter portion are the aberration that occurs when the charged particles travel through the first filter portion and the second filter portion. The first filter portion is set in the X direction, which is a charged particle dispersion direction by the first filter portion, on the slit. An energy filter adjusted to have a cross-sectional shape extending in a substantially orthogonal Y direction.
光軸に沿って配置されたほぼ同じ長さを有する一つの第1フィルタ部分と一つの第2フィルタ部分とを有し、前記荷電粒子は、ZX面内に於いて当該第1フィルタ部分と第2フィルタ部分との間で一回収束する。The energy filter according to claim 1 or 3,
One first filter portion and one second filter portion having substantially the same length disposed along the optical axis, and the charged particles are separated from the first filter portion and the first filter portion in the ZX plane. Converge once between the two filter parts.
荷電粒子ビームは、前記ZY面内に於いて、エネルギーフィルター全長に亘ってほぼ平行ビームを形成するもの。The energy filter according to claim 4,
The charged particle beam forms a substantially parallel beam over the entire length of the energy filter in the ZY plane.
荷電粒子ビームは、前記ZX面内及びZY面内に於ける縦断面形状がフィルタ入り口において平行ビームを形成するもの。The energy filter according to claim 1, 2, or 4,
In the charged particle beam, the longitudinal cross-sectional shape in the ZX plane and the ZY plane forms a parallel beam at the filter entrance.
間隔を置いて配置される複数のウィーンフィルタを含み、各ウィーンフィルタは、一様な電場及び磁場をそれぞれの内部に生成するもの。The energy filter according to any one of claims 1 to 4,
A plurality of Wien filters arranged at intervals, each Wien filter generating a uniform electric and magnetic field within each.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001374549A JP3696827B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Energy filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001374549A JP3696827B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Energy filter |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003178709A JP2003178709A (en) | 2003-06-27 |
JP3696827B2 true JP3696827B2 (en) | 2005-09-21 |
Family
ID=19183095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001374549A Expired - Fee Related JP3696827B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Energy filter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3696827B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007024353B4 (en) * | 2007-05-24 | 2009-04-16 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Monochromator and beam source with monochromator |
US8274046B1 (en) * | 2011-05-19 | 2012-09-25 | Hermes Microvision Inc. | Monochromator for charged particle beam apparatus |
JP2014032943A (en) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Sadao Nomura | Scanning electron microscope for irradiating sample with electron beams having small energy width |
US9443696B2 (en) * | 2014-05-25 | 2016-09-13 | Kla-Tencor Corporation | Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator |
-
2001
- 2001-12-07 JP JP2001374549A patent/JP3696827B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003178709A (en) | 2003-06-27 |
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Legal Events
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