JP2847720B2 - Photoresist film - Google Patents

Photoresist film

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JP2847720B2
JP2847720B2 JP63235995A JP23599588A JP2847720B2 JP 2847720 B2 JP2847720 B2 JP 2847720B2 JP 63235995 A JP63235995 A JP 63235995A JP 23599588 A JP23599588 A JP 23599588A JP 2847720 B2 JP2847720 B2 JP 2847720B2
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coating layer
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フォトレジストフィルムに関するものであ
る。詳しくは、離型性、易滑性に優れた基材からなるフ
ォトレジストフィルムに関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photoresist film. More specifically, the present invention relates to a photoresist film made of a substrate having excellent release properties and lubricity.

[従来の技術] 近年、印刷配線回路板の製造等において、フォトレジ
ストフィルムが広く用いられている。通常、フォトレジ
ストフィルムは、支持体層/フォトレジスト層/保護層
からなる積層構造体であり、フォトレジストフィルムの
支持体層、或いは、保護層の基材としては、その機械的
性質、光学的性質、耐熱性、耐薬品性等に優れたポリエ
ステルフィルムが主に使用されている。一般に、フォト
レジスト層は非粘着性で取り扱い性が容易であって、し
かも現像、エッチング工程に耐え得る接着性を導電性基
材に対して保持していることが望まれる。ところが、印
刷回路等の製造迅速化による生産性向上、或いはフォト
レジスト層の導電性基材への密着性向上等を計るためフ
ォトレジスト層の組成を変えると、、フォトレジストの
組成によっては支持体層や保護層への接着力が増し、基
材との剥離不良によってフォトレジスト層の平面性、平
滑性が悪化するなどの欠点や加工時の作業性の悪さ等を
まねいたり、更にはフォトレジスト層を分離できず使用
困難な場合もあることが知られている。このため、支持
体層や保護層とフォトレジスト層との剥離力を低減する
ため従来から種々の検討がなされてきた。この様なフォ
トレジストフィルムとしては、ポリエステルフィルム表
面上に架橋性シリコンやワックス類を塗設した基材から
なるフォトレジストフィルムなどが知られている。
[Related Art] In recent years, photoresist films have been widely used in the production of printed wiring circuit boards and the like. Usually, a photoresist film is a laminated structure composed of a support layer / photoresist layer / protective layer. As the support layer of the photoresist film or the base material of the protective layer, its mechanical properties, optical properties, Polyester films excellent in properties, heat resistance, chemical resistance and the like are mainly used. In general, it is desired that the photoresist layer be non-adhesive and easy to handle, and that the photoresist layer maintain an adhesive property that can withstand the development and etching steps with respect to the conductive substrate. However, if the composition of the photoresist layer is changed in order to improve the productivity by speeding up the production of a printed circuit or the like, or to improve the adhesion of the photoresist layer to the conductive substrate, depending on the composition of the photoresist, the support may be changed depending on the composition of the photoresist. Adhesion to the layer and the protective layer is increased, and defects such as poor flatness and smoothness of the photoresist layer due to poor peeling from the substrate, poor workability during processing, etc. It is known that the layers cannot be separated and are sometimes difficult to use. For this reason, various studies have hitherto been made to reduce the peeling force between the support layer or the protective layer and the photoresist layer. As such a photoresist film, a photoresist film formed of a base material having a polyester film surface coated with crosslinkable silicon or wax is known.

[発明が解決しようとする課題] しかし、前述したフォトレジストフィルムには次の様
な問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned photoresist film has the following problems.

すなわち、ポリエステルフィルム表面上に架橋性シリ
コンやワックス類を塗設した基材からなるフォトレジス
トフィルムでは、所望の離型性が得られてもシリコンや
ワックス類のフォトレジスト層への転着により、フォト
レジスト層と導電性基材との密着力の低下をまねき、後
加工で種々弊害が増し易い。更には、フォトレジスト層
に付着したシリコンやワックス類が各工程の装置を汚染
したり、現像液等の性能低下を引き起こすこともある。
That is, in a photoresist film composed of a base material coated with crosslinkable silicon or wax on the polyester film surface, even if the desired releasability is obtained, the transfer of silicon or wax to the photoresist layer results in The adhesion between the photoresist layer and the conductive substrate is reduced, and various adverse effects are likely to increase in post-processing. Furthermore, silicon or wax attached to the photoresist layer may contaminate the equipment in each process or cause a decrease in the performance of a developer or the like.

本発明は、これらの従来技術の欠点を解消せしめ、離
型性に優れ、しかも易滑性、耐熱性に優れた基材からな
るフォトレジストフィルムを提供せんとするものであ
る。
An object of the present invention is to solve these disadvantages of the prior art, and to provide a photoresist film comprising a substrate having excellent release properties, and also excellent in slipperiness and heat resistance.

[課題を解決するための手段] 本発明は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面
に、パーフルオロアルキル基を有するビニル重合体単量
体を主成分として得られる水分散性フッ素含有重合体樹
脂からなる被覆層を設け、更に該被覆層上にフォトレジ
スト層を設けてなるフォトレジストフィルムであって、
該被覆層はフッ素含有量が5〜50重量%で、かつ、ASTM
−D−1894−63により測定したときに0.40〜0.52の易滑
性を有するものであるフォトレジストフィルムを要旨と
するものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a coating layer comprising a water-dispersible fluorine-containing polymer resin obtained by using a vinyl polymer monomer having a perfluoroalkyl group as a main component on at least one surface of a polyester film. Is provided, a photoresist film further provided with a photoresist layer on the coating layer,
The coating layer has a fluorine content of 5 to 50% by weight and an ASTM
The gist of the present invention is a photoresist film having a slipperiness of 0.40 to 0.52 as measured according to -D-1894-63.

本発明においていう、ポリエステルとは、周知のも
の、具体的には例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ナ
フタレンジカルボン酸、ビス−α,β(2−クロルフェ
ノキシ)エタン−4,4′−ジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸等の2官能カルボン酸の少なくとも1種と、
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
メチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカ
メチレングリコール等のグリコールの少なくとも1種と
を重縮合して得られるポリエステルを挙げることができ
る。また、該ポリエステルには本発明の目的を阻害しな
い範囲内で他種ポリマをブレンドしたり、共重合しても
よいし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、顔料、紫外線吸
収剤等が含まれていてもよい。ポリエステルの固有粘度
(25℃オルトクロルフェノール中で測定)は、0.4〜2.0
であり、好ましくは0.5〜1.0の範囲のものが通常用いら
れる。
In the present invention, the polyester is a well-known polyester, specifically, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, bis-α, β (2-chlorophenoxy) ethane-4,4′-dicarboxylic acid, adipine acid,
At least one bifunctional carboxylic acid such as sebacic acid;
Examples include polyesters obtained by polycondensing at least one kind of glycol such as ethylene glycol, triethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, decamethylene glycol and the like. Further, the polyester may be blended with another polymer or copolymerized within a range not to impair the object of the present invention, and may include an antioxidant, a heat stabilizer, a lubricant, a pigment, an ultraviolet absorber and the like. It may be. The intrinsic viscosity of the polyester (measured in orthochlorophenol at 25 ° C) is 0.4-2.0
And preferably those having a range of 0.5 to 1.0 are usually used.

本発明には、ポリエステルとしてポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートを用いた
場合、特に優れた効果が得られるので好ましい。
In the present invention, it is preferable to use polyethylene terephthalate or polyethylene-2,6-naphthalate as the polyester because particularly excellent effects can be obtained.

本発明でいう被覆層とは、パーフルオロアルキル基を
有するビニル重合体単量体を主成分として得られる水分
散性フッ素含有重合体樹脂からなる層である。主成分と
は、パーフルオロアルキル基を有するビニル重合性単量
体が樹脂中50%以上、好ましくは65%以上、より好まし
くは75%以上であるものを指し、適宜他の物質を含有し
てもよい。本発明においては、かかる被覆層を前記ポリ
エステルフィルムの少なくとも片面に設けるのである
が、この中で両表面に設ける場合には、以下に述べる該
層の説明は、少なくとも一方に適用されるものである。
The coating layer referred to in the present invention is a layer composed of a water-dispersible fluorine-containing polymer resin obtained mainly from a vinyl polymer monomer having a perfluoroalkyl group. The main component refers to a resin in which the vinyl polymerizable monomer having a perfluoroalkyl group is at least 50%, preferably at least 65%, more preferably at least 75% in the resin, and optionally containing other substances. Is also good. In the present invention, such a coating layer is provided on at least one surface of the polyester film. When provided on both surfaces, the description of the layer described below is applied to at least one of the polyester films. .

本発明でいう水分散性フッ素含有重合体樹脂とは、パ
ーフルオロアルキル基を有するビニル重合体単量体とフ
ッ素原子で置換されたアルキル基、官能基等を含まない
ビニル重合体単量体の少なくとも一種との共重合樹脂で
あり、炭素数4以上、好ましくは6〜12のパーフルオロ
アルキル基を有し、分子量が好ましくは約500〜約20万
の範囲で、ベース基材と親和力の良いものが望ましい。
The water-dispersible fluorine-containing polymer resin referred to in the present invention is a vinyl polymer monomer having a perfluoroalkyl group and an alkyl group substituted with a fluorine atom, a vinyl polymer monomer containing no functional group or the like. It is a copolymer resin with at least one kind, has a perfluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms, preferably 6 to 12 and has a molecular weight of preferably about 500 to about 200,000, and has good affinity with the base substrate. Things are desirable.

パーフルオロアルキル基を有するビニル重合性単量体
とは、炭化水素の水素がフッ素原子で置換された炭素数
4以上、好ましくは6〜12のパーフルオロアルキル基を
有する化合物であり、例えば、C7F15COOCH=CH2、C8F17
C4H8OCOCH=CH2、C7F15C2H4OCOC(CH3)=CH3、C12F25C
3H6OCOCH=CH2、C9F19C3H6OCOCH=CH2、C5F11CH2OCOC
(CH3)=CH2、C8F17SO2N(C3H7)C2H4OCOCH=CH2、C8F
17SO2N(CH3)C2H4OCOCH=CH2、C8F17SO2N(C2H5)C2H4
OCOC(CH3)=CH2、C7F15CON(C2H5)C2H4OCOC(CH3
=CH2、C8F17C2H4OCOCH=CH2、C8F17SO2NHC2H4SO2CH=C
H2、C8F17SO2N(C2H5)C2H4OCOCH=CHCOOC4H9、C8F17SO
2N(CH3)C10H20COOCH2CH=CH2、C8F16SO2N(C2H4OCOCH
=CH2、C2F5(OC2F44CON(CH3)C2H4OCOCH=C
H2、(CF32CFOC5H10OCOCH=CH2、C8F17CH2C(OH)HCH
2OCOC(CH3)=CH2などが挙げられ、これらの中から選
ばれた少なくとも一種が適用されるが特に限定されるも
のではない。
The vinyl polymerizable monomer having a perfluoroalkyl group is a compound having a perfluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms, preferably 6 to 12, in which hydrogen of a hydrocarbon is substituted with a fluorine atom. 7 F 15 COOCH = CH 2 , C 8 F 17
C 4 H 8 OCOCH = CH 2 , C 7 F 15 C 2 H 4 OCOC (CH 3 ) = CH 3 , C 12 F 25 C
3 H 6 OCOCH = CH 2 , C 9 F 19 C 3 H 6 OCOCH = CH 2 , C 5 F 11 CH 2 OCOC
(CH 3 ) = CH 2 , C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7 ) C 2 H 4 OCOCH = CH 2 , C 8 F
17 SO 2 N (CH 3 ) C 2 H 4 OCOCH = CH 2 , C 8 F 17 SO 2 N (C 2 H 5 ) C 2 H 4
OCOC (CH 3) = CH 2 , C 7 F 15 CON (C 2 H 5) C 2 H 4 OCOC (CH 3)
= CH 2, C 8 F 17 C 2 H 4 OCOCH = CH 2, C 8 F 17 SO 2 NHC 2 H 4 SO 2 CH = C
H 2, C 8 F 17 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 OCOCH = CHCOOC 4 H 9, C 8 F 17 SO
2 N (CH 3) C 10 H 20 COOCH 2 CH = CH 2, C 8 F 16 SO 2 N (C 2 H 4 OCOCH
= CH 2) 2, C 2 F 5 (OC 2 F 4) 4 CON (CH 3) C 2 H 4 OCOCH = C
H 2 , (CF 3 ) 2 CFOC 5 H 10 OCOCH = CH 2 , C 8 F 17 CH 2 C (OH) HCH
2 OCOC (CH 3 ) = CH 2, and at least one selected from these is applied, but is not particularly limited.

前記化合物と共重合するフッ素原子を含有しないビニ
ル重合性単量体としては、炭化水素系ビニル重合性単量
体、炭化水素系非共役ジビニル重合体単量体、官能基含
有ビニル重合性単量体などの化合物が挙げられ、炭化水
素系ビニル重合性単量体としては、例えば、アクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸プロピル、メ
タクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸
ブチル、アクリル酸イソアミル、メタクリル酸イソアミ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸2−
エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オ
クチル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタ
デシル、アクリル酸ラウリル、メタクリル酸ラウリル、
アクリル酸セチル、メタクリル酸セチル、アクリル酸
N、N−ジエチルアミノエチル、メタクリル酸N、Nジ
エチルアミノエチル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、カプリ酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸
ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、P−メチルス
チレン、フッ化ビニル、塩化ビニル、臭化ビニル、フッ
化デニリデン、塩化ビニリデン、ヘプタン酸アルリル、
酢酸アルリル、カプリン酸アルリル、カプロン酸アルリ
ル、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、1,3−
ブタジエン、2−クロロ−1,3−ブタジエン、2,3−ジク
ロロ−1,3−ブタジエン、イソプレン、 炭化水素系非共役ジビニル重合性単量体としては、例
えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、プロピレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン、ビニルアクリレート、ジブロムネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、 官能基含有ビニル重合性単量体としては、例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリル
アミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシ
メチルアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、
メチロールダイアセトンアクリルアミド、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、ヒドロキシプロピルアクリレート、3−クロロ
−2−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどが挙げら
れ、これらの中から選択されるが特に限定されるもので
はない。
Examples of the vinyl polymerizable monomer containing no fluorine atom to be copolymerized with the compound include a hydrocarbon-based vinyl polymerizable monomer, a hydrocarbon-based non-conjugated divinyl polymer monomer, and a functional group-containing vinyl polymerizable monomer. And the like.Examples of the hydrocarbon-based vinyl polymerizable monomer include, for example, methyl acrylate, methyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isoamyl acrylate, Isoamyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-methacrylic acid 2-
Ethylhexyl, octyl acrylate, octyl methacrylate, octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate,
Cetyl acrylate, cetyl methacrylate, N, N-diethylaminoethyl acrylate, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl capryate, vinyl laurate, vinyl stearate, styrene, α-methylstyrene , P-methylstyrene, vinyl fluoride, vinyl chloride, vinyl bromide, denenylidene fluoride, vinylidene chloride, allyl heptanoate,
Aryl acetate, allyl caprate, allyl caproate, vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, 1,3-
Examples of butadiene, 2-chloro-1,3-butadiene, 2,3-dichloro-1,3-butadiene, isoprene, and hydrocarbon-based non-conjugated divinyl polymerizable monomers include ethylene glycol diacrylate and ethylene glycol diacrylate. Methacrylate, propylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate,
Polyethylene glycol dimethacrylate, divinylbenzene, vinyl acrylate, dibromoneopentyl glycol dimethacrylate, and functional group-containing vinyl polymerizable monomers include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N -Butoxymethyl acrylamide, diacetone acrylamide,
Methylol diacetone acrylamide, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, and the like are selected from, but not particularly limited to, these. .

水分散性フッ素含有重合体樹脂は、公知の乳化重合方
法によって製造されるが、通常、乳化剤としてアニオン
型、カチオン型、両性型、非イオン型などの界面活性剤
が使用され、好ましい含有量は全単量体量の重量に対し
0.5〜15%である。
The water-dispersible fluorine-containing polymer resin is produced by a known emulsion polymerization method, and usually, an anionic, cationic, amphoteric or nonionic surfactant is used as an emulsifier, and the preferred content is Based on the weight of all monomers
0.5 to 15%.

また、被覆層には、被覆層の密着性、耐水性、耐溶剤
性、機械的強度の改良のため、架橋剤としてメチロール
化あるいはアルキロール化した尿素系、メラミン系、ア
クリルアミド系、ポリアミド系などの樹脂、エポキシ化
合物、アジリジン化合物、ブロックポリイソシアネー
ト、ビニル化合物などの反応性化合物を含有せしめても
よい。更に必要に応じて、本発明の効果を損なわない量
で公知の添加剤、例えば消泡剤、塗布性改良剤、増粘
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔
料、滑剤などを含有せしめてもよい。
For the coating layer, a urea-based, melamine-based, acrylamide-based, polyamide-based, etc. methylolated or alkylolized crosslinking agent is used to improve the adhesion, water resistance, solvent resistance, and mechanical strength of the coating layer. , A reactive compound such as an epoxy compound, an aziridine compound, a blocked polyisocyanate, or a vinyl compound. Further, if necessary, known additives in an amount that does not impair the effects of the present invention, such as an antifoaming agent, a coating improver, a thickener, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, A lubricant or the like may be contained.

本発明フィルムを構成するポリエステルフィルムは、
機械的強度や寸法安定性、剛性等の点で常法により二軸
配向させたものであり、ポリエステルフィルムの表面粗
さRaは0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、より好ま
しくは0.2μm以下のものがフィルム上に形成するフォ
トレジスト層の表面粗れ、表面欠点を防止し精密印刷が
計れるので望ましい。ポリエステルフィルムの光学ヘイ
ズ(濁度)、厚みは特に限定されるものではないが、光
学ヘイズは5.0%以下、好ましくは2.0%以下のものが活
性光線の透過率が高まるので望ましく、厚みは2〜500
μmが好ましく、5〜300μmの範囲がより好ましく基
材ベースとしての実用面での取り扱い性に優れている。
The polyester film constituting the film of the present invention,
Mechanical strength and dimensional stability, biaxially oriented by a conventional method in terms of rigidity, etc., the surface roughness Ra of the polyester film is 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.2 μm or less This is desirable because it prevents the surface roughness and surface defects of the photoresist layer formed on the film and enables precise printing. The optical haze (turbidity) and thickness of the polyester film are not particularly limited, but those having an optical haze of 5.0% or less, preferably 2.0% or less are desirable because the transmittance of active light is increased. 500
μm is preferable, and the range of 5 to 300 μm is more preferable, and the handleability in practical use as a substrate base is excellent.

本発明フィルムを構成する被覆層の積層厚みは0.005
〜2.0μmが好ましく。0.01〜0.5μmの範囲がより好ま
しい。積層厚みが0.005μm未満では、均一積層が難し
いのみならず外力による変形に対し耐久性のある被覆層
が得にくい。2.0μmを越えるものは、透明性が低下し
たり、場合によっては、被覆層の密着性低下や被覆層の
層間剥離が生じ易くなる。
The laminated thickness of the coating layer constituting the film of the present invention is 0.005.
~ 2.0 μm is preferred. The range of 0.01 to 0.5 μm is more preferable. If the lamination thickness is less than 0.005 μm, it is difficult not only to achieve uniform lamination but also to obtain a coating layer that is durable against deformation due to external force. When the thickness exceeds 2.0 μm, the transparency is reduced, and in some cases, the adhesion of the coating layer is reduced and the coating layer is liable to delaminate.

本発明フィルムは、被覆層のフッ素含有量が5〜50重
量%、好ましくは10〜40重量%、より好ましくは15〜30
重量%の範囲で、かつ、ASTM−D−1984−63により測定
した時に0.40〜0.52の易滑性を有するものであることが
必要である。すなわちフッ素含有量が5重量%以下では
フォトレジストフィルムの離型性、易滑性が悪化し、フ
ォトレジスト層に表面欠点などの弊害が増すので好まし
くない。50重量%を越えるものでは、塗設性が悪化し、
均一な被覆層を形成することが難しくなる傾向が出てく
るし、また、易滑性が前記範囲外のものでは、基材との
濡れ性が悪化し易く、フォトレジスト層の成型不良をま
ねくこともあるので好ましくない。
In the film of the present invention, the fluorine content of the coating layer is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, more preferably 15 to 30% by weight.
It must be in the range of% by weight and have a slipperiness of 0.40 to 0.52 as measured according to ASTM-D-1984-63. That is, when the fluorine content is 5% by weight or less, the releasability and the lubricity of the photoresist film are deteriorated, and adverse effects such as surface defects are increased in the photoresist layer. If the content exceeds 50% by weight, the coating property deteriorates,
There is a tendency that it is difficult to form a uniform coating layer, and if the slipperiness is out of the above range, the wettability with the base material is likely to be deteriorated, leading to poor molding of the photoresist layer. Is not preferred because of

また、本発明フィルムの被覆層は、一方向に配向した
後、熱処理されることが望ましく、延伸・熱処理作用に
よって被覆層表面にフッ素原子が配列し易くなるのでフ
ォトレジストフィルムとしての離型性と易滑性とが共に
優れたものとなる。
In addition, the coating layer of the film of the present invention is desirably heat-treated after being oriented in one direction, and since the fluorine atoms are easily arranged on the surface of the coating layer by the stretching / heat-treating action, the releasability as a photoresist film is improved. Both the lubricity and the lubricity are excellent.

次に本発明の製造方法について説明する。まず、常法
によって重合されたポリエステルのペレットを十分乾燥
した後、公知の押出機、好ましくは圧縮比3.8以上の溶
融押出機に共給し、ペレットが溶融する温度以上、ポリ
マが分解する温度以下の温度でスリット状のダイからシ
ート状に溶融押出し、冷却固化せしめて未延伸シートを
作る。この際、未延伸シートの固有粘度はフィルム特性
から0.5以上であることが望ましい。次に、該未延伸シ
ート或いは該未延伸シートを70〜120℃で2.0〜5.0倍延
伸したフィルム上に、前記組成物を所定量に調製した塗
材を塗布し、塗膜を乾燥させて所定の塗布層を設けた後
70〜150℃で、横方向に2.0〜5.0倍横延伸する。さら
に、二軸配向フィルムは150〜240℃で0〜10%弛緩を与
えつつ1〜60秒熱処理する。
Next, the manufacturing method of the present invention will be described. First, after thoroughly drying the polyester pellets polymerized by a conventional method, a known extruder, preferably co-feed to a melt extruder having a compression ratio of 3.8 or more, the temperature at which the pellets are melted, the temperature at which the polymer decomposes or less. At a temperature of, a sheet is melt-extruded from a slit die and solidified by cooling to produce an unstretched sheet. At this time, the intrinsic viscosity of the unstretched sheet is desirably 0.5 or more from the viewpoint of film properties. Next, on the unstretched sheet or a film obtained by stretching the unstretched sheet 2.0 to 5.0 times at 70 to 120 ° C., a coating material prepared in a predetermined amount of the composition is applied, and the coating film is dried to a predetermined amount. After the application layer of
At 70 to 150 ° C, the film is stretched 2.0 to 5.0 times in the transverse direction. Further, the biaxially oriented film is heat-treated at 150 to 240 ° C. for 1 to 60 seconds while giving 0 to 10% relaxation.

塗布方法は、特に限定されず押出ラミネート法、メル
トコーティング法を用いてもよいが、高速で薄膜コート
することが可能であるという理由から水分酸化させた塗
材のグラビアコート法、リバースコート法、キッスコー
ト法、ダイコート法、メタリングバーコード法など公知
の方法を適用するのが好適である。この際、フィルム上
には塗布する前に必要に応じて空気中あるいはその他種
々の雰囲気中でのコロナ放電処理など公知の表面処理を
施すことによって、塗布性が良化するのみならず被覆層
をより強固にフィルム表面上に形成できる。尚、塗材濃
度、塗膜乾燥条件は特に限定されるものではないが、塗
膜乾燥条件はポリエステルフィルムの諸特性に悪影響を
及ぼさない範囲で行なうのが望ましい。
The application method is not particularly limited, and an extrusion lamination method or a melt coating method may be used.However, a gravure coating method, a reverse coating method, or the like of a water-oxidized coating material can be used because a thin film can be coated at a high speed. It is preferable to apply a known method such as a kiss coat method, a die coat method, and a metaling bar code method. At this time, if necessary, a known surface treatment such as a corona discharge treatment in air or other various atmospheres is performed on the film before coating, so that not only the coatability is improved but also the coating layer is formed. It can be formed more firmly on the film surface. The concentration of the coating material and the conditions for drying the coating film are not particularly limited, but the drying conditions for the coating film are desirably performed within a range that does not adversely affect the properties of the polyester film.

次に、前記被覆層を設けたポリエステルフィルムを支
持体とし、その表面上にフォトレジストを所定量に調整
した塗材を塗布し、塗膜を乾燥させ所定のレジスト層を
設けた後、保護層としてポリオレフィンフィルムあるい
は前記ポリエステルフィルムを積層することによってフ
ォトレジストフィルムを得ることができる。この際、被
覆層表面には、事前に公知であるコロナ放電処理やプラ
ズマ処理(空気中、窒素中、炭酸ガス中など)を施すこ
とにより、フォトレジスト層をより均一に形成できる。
塗材の塗布方法は、公知であるエアードクターコート
法、エアーナイフコート法、リバースコート法、グラビ
アコート法、キッスコート法、キャストコート法等を適
用できる。塗材濃度、塗膜乾燥条件は、塗布性、フォト
レジストなどに悪影響を及ぼさない範囲で行なうのが好
ましい。
Next, a polyester film provided with the coating layer is used as a support, and a coating material prepared by adjusting a photoresist to a predetermined amount is applied on the surface thereof, and the coating film is dried to provide a predetermined resist layer. By laminating a polyolefin film or the polyester film, a photoresist film can be obtained. At this time, the photoresist layer can be more uniformly formed on the surface of the coating layer by performing a known corona discharge treatment or a plasma treatment (in air, in nitrogen, in carbon dioxide, or the like) in advance.
As a method of applying the coating material, a known air doctor coating method, air knife coating method, reverse coating method, gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, or the like can be applied. The concentration of the coating material and the conditions for drying the coating film are preferably set within a range that does not adversely affect the coating properties and the photoresist.

[評価法] 本発明の特性値は、次の測定方法、評価基準による。[Evaluation Method] The characteristic values of the present invention are based on the following measurement methods and evaluation criteria.

(1) 易滑性(μs) ASTM−D−1894−63により、被覆層面と未被覆層面の
静摩擦係数μsを測定した。
(1) Slipperiness (μs) The static friction coefficient μs between the coated layer surface and the uncoated layer surface was measured by ASTM-D-1894-63.

(2) 被覆層の厚み(μ) 被覆層にセロハンテープを貼り、セロハンテープ端部
の被覆層をジメチルホルムアミド等の溶剤で溶解除去す
る。次いてセロハンテープを剥がし、セロハンテープで
保護された面と、溶解除去した面との境界を小坂研究所
製ET−10高精度段差測定器により測定し、厚みを求め
た。
(2) Thickness of coating layer (μ) A cellophane tape is attached to the coating layer, and the coating layer at the end of the cellophane tape is dissolved and removed with a solvent such as dimethylformamide. Next, the cellophane tape was peeled off, and the boundary between the surface protected by the cellophane tape and the surface that had been dissolved and removed was measured with a Kosaka Lab.

上記方法で困難な場合は、日立製作所製透過型電子顕
微鏡HU−12型を用い、積層フィルムの超薄断面切片を観
察し、厚みを求めた。
When the above method was difficult, the ultrathin section of the laminated film was observed using a transmission electron microscope model HU-12 manufactured by Hitachi, Ltd. to determine the thickness.

(3) 被覆層の塗設性 被覆層表面あるいはアルミ蒸着をした被覆層表面の塗
布状態を肉視にて判定し、次の如く評価した。
(3) Coating property of coating layer The coating state of the coating layer surface or the aluminum-deposited coating layer surface was visually judged and evaluated as follows.

○:塗布欠点がない。(塗布性良好) △:塗布欠点が若干ある。:: There is no coating defect. (Good coatability) Δ: There are some coating defects.

×:塗布欠点が多い。(塗布性不良) (4) フッ素含有量 フッ素化合物を白金触媒を用いて、酸素で充満した燃
焼フラス中で燃焼させた後、吸収剤に吸収させる。これ
に、アルフッソン溶液を加え1時間静置後、波長620nm
の吸光度を測定し、あらかじめ作成した検量線よりフッ
素含有を求める方法(アリザリンコンプレキソン法)で
測定した。
×: Many coating defects. (Poor coating properties) (4) Fluorine content A fluorine compound is burned in a combustion flask filled with oxygen using a platinum catalyst and then absorbed by an absorbent. To this, Alfson solution was added and allowed to stand for 1 hour.
Was measured by a method (Alizarin complexone method) for determining fluorine content from a calibration curve prepared in advance.

(5) 離型性 被覆層上に下記組成のフォトレジストを塗布し、乾燥
して0.7mm厚みのフォトレジスト層を形成させ、保護層
として、支持体層と同じフィルムを加圧積層し、フォト
レジストフィルムを得た。次に、保護層を剥離し、該フ
ォトレジスト層上に50μmの銅箔を120℃のホットロー
ルで圧着積層し、支持体層とフォトレジスト層の剥離力
をJIS−K−6854に準じて(180゜剥離)測定した。判定
基準は、剥離力が500g未満を離型性が良好、500g以上を
離型性が不良とした。
(5) Releasability A photoresist having the following composition is applied on the coating layer and dried to form a photoresist layer having a thickness of 0.7 mm. As a protective layer, the same film as the support layer is laminated under pressure. A resist film was obtained. Next, the protective layer was peeled off, and a 50 μm copper foil was laminated on the photoresist layer by pressure bonding with a hot roll at 120 ° C., and the peeling force between the support layer and the photoresist layer was determined according to JIS-K-6854 ( 180 ° peeling). The criterion was that the releasability was good when the peeling force was less than 500 g, and the releasability was poor when the peeling force was 500 g or more.

(フォトレジストの組成) ・メチルメタクリラート−アクリロニトリル−アクリル
化グリシジルアクリラート共重合体(モル比90:5:5) 95重量部 ・メチルメタクリラート−2−ヒドロキシエチルアクリ
ラート共重合体(モル比90:10) 75重量部 ・トリエチレングリコールアセタート 26重量部 ・tert−ブチルアントラキノン 14重量部 ・2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチ
ルフェノール) 35重量部 ・エチルバイオレット 2.5重量部 ・メチルエチルケトン 800重量部 (6) フォトレジスト層の塗設性 上記(5)のフォトレジストを用いて、被覆層上に塗
設したレジスト層表面の塗布状態を肉視にて判定し、上
記(3)と同一基準で評価した。
(Composition of photoresist) ・ Methyl methacrylate-acrylonitrile-acrylated glycidyl acrylate copolymer (molar ratio 90: 5: 5) 95 parts by weight ・ Methyl methacrylate-2-hydroxyethyl acrylate copolymer (molar ratio) 90:10) 75 parts by weight ・ Triethylene glycol acetate 26 parts by weight ・ tert-butylanthraquinone 14 parts by weight ・ 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) 35 parts by weight ・ Ethyl violet 2.5 parts by weight Part: methyl ethyl ketone 800 parts by weight (6) Coating property of photoresist layer Using the photoresist of (5) above, the coating state of the surface of the resist layer applied on the coating layer is visually determined, and The evaluation was performed using the same criteria as in 3).

[発明の作用] 本発明は、ポリエステルフィルム上に、水分散性フッ
素含有重合体樹脂を用いて、特定のフッ素含有量を有す
る被覆層を形成したので、次のような優れた効果を得る
ことができた。
[Function of the Invention] The present invention provides a coating layer having a specific fluorine content on a polyester film by using a water-dispersible fluorine-containing polymer resin, thereby obtaining the following excellent effects. Was completed.

[発明の効果] (1) フォトレジストフィルムの保護層あるいは支持
体層としてフォトレジスト層への転着物質がなく、離型
性と易滑性が共に優れている。
[Effects of the Invention] (1) There is no transfer material to the photoresist layer as a protective layer or a support layer of the photoresist film, and both the releasability and the slipperiness are excellent.

(2) 広範囲のフォトレジストに対し優れた離型性を
保持するので、印刷回路等の生産性向上が計られる。
(2) Since excellent releasability is maintained for a wide range of photoresists, productivity of printed circuits and the like can be improved.

(3) 易滑性に優れているので、フォトレジストフィ
ルムの製造工程で巻き取り性や巻姿、後加工での取り扱
い性に優れている。
(3) Since it is excellent in slipperiness, it is excellent in winding property, winding form, and handleability in post-processing in a photoresist film manufacturing process.

[実施例] 本発明を以下の実施例、比較例を用いて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described with reference to the following Examples and Comparative Examples.
The present invention is not limited to these.

実施例1 常法によって製造されたポリエチレンテレフタレート
のホモポリマーチップ(固有粘度=0.62、融点:259℃)
を180℃で2時間減圧乾燥(3mmHg)した。このチップを
280℃で圧縮比3.8のスクリューを有した押出機に共給し
T型口金から溶融押出し、静電印加法を用いて表面温度
20℃の冷却ドラムに巻きつけて冷却固化せしめ、未延伸
フィルムとした後、得られたフィルムを90℃でロール延
伸によって縦方向に3.3倍延伸し、表面にコロナ放電処
理を施した後、次に、水分散性フッ素含有重合体樹脂と
してフッ素含有量32重量%のアクリル系フッ素樹脂“MF
A"−7(松本油脂製薬(株)製)を濃度3.0重量%に均
一分散させた水系塗材を、前記一軸延伸フィルムの片面
にメタリングバー方式で塗布した後、該塗布層を乾燥し
つつ100℃で、横方向に3.6倍延伸し、横方向に2%弛緩
しつつ210℃で15秒間熱処理して、被覆層0.08μmが積
層された厚さ38μmのフォトレジストフィルムの基材を
得た。かくして得られた基材の特性は第1表に示したと
おりで易滑性が良好なものであった。このフィルムを支
持体層とした時のフォトレジストフィルムの特性は第1
表に示したとおりで、離型性に優れているものであっ
た。
Example 1 A homopolymer chip of polyethylene terephthalate produced by a conventional method (intrinsic viscosity = 0.62, melting point: 259 ° C.)
Was dried under reduced pressure (3 mmHg) at 180 ° C. for 2 hours. This chip
Coextruded at 280 ° C with a screw having a compression ratio of 3.8, melt-extruded from a T-type die, and applied a surface temperature using an electrostatic application method.
After being wound around a cooling drum at 20 ° C. to be cooled and solidified to form an unstretched film, the obtained film is stretched 3.3 times in the longitudinal direction by roll stretching at 90 ° C., and the surface is subjected to a corona discharge treatment. Acrylic fluororesin "MF with a fluorine content of 32% by weight as a water-dispersible fluorine-containing polymer resin" MF
An aqueous coating material in which A "-7 (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd.) was uniformly dispersed at a concentration of 3.0% by weight was applied to one surface of the uniaxially stretched film by a metaling bar method, and the applied layer was dried. The film was stretched 3.6 times in the transverse direction at 100 ° C, and heat-treated at 210 ° C for 15 seconds while relaxing 2% in the transverse direction to obtain a 38 µm thick photoresist film base material with a coating layer 0.08 µm laminated. The properties of the base material thus obtained were as good as those shown in Table 1. The characteristics of the photoresist film when this film was used as a support layer were as follows.
As shown in the table, the releasability was excellent.

実施例2,3 比較例1,2 実施例1と同じ原料を使用し、水分散性フッ素含有重
合体樹脂のフッ素含量、被覆層厚みを変えたほかは実施
例1に基づいてフォトレジストフィルムの基材を得た。
これらの特性を第1表に示した。第1表にみる如く、フ
ォトレジストフィルムが本発明の範囲にある場合(実施
例2,3)は、離型性、易滑性に優れたフォトレジストフ
ィルムを得ることができるが、本発明の範囲外にある場
合(比較例1,2)では、離型性、易滑性が共に優れたフ
ォトレジストフィルムを得ることができないことが判
る。
Examples 2 and 3 Comparative Examples 1 and 2 The same procedure as in Example 1 was repeated except that the fluorine content of the water-dispersible fluorine-containing polymer resin and the thickness of the coating layer were changed. A substrate was obtained.
These properties are shown in Table 1. As shown in Table 1, when the photoresist film is within the scope of the present invention (Examples 2 and 3), a photoresist film excellent in mold release properties and slipperiness can be obtained. When it is out of the range (Comparative Examples 1 and 2), it can be seen that a photoresist film excellent in both releasing property and lubricity cannot be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−227140(JP,A) 特開 昭62−253138(JP,A) 特開 昭62−42160(JP,A) 特開 昭59−202457(JP,A) 特開 昭49−105523(JP,A) 特表 昭55−501072(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03F 7/00 - 7/18──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-62-227140 (JP, A) JP-A-62-253138 (JP, A) JP-A-62-42160 (JP, A) JP-A-59-227 202457 (JP, A) JP-A-49-105523 (JP, A) JP-T-55-501072 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G03F 7/00-7 / 18

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ポリエステルフィルムの少なくとも片面
に、パーフルオロアルキル基を有するビニル重合体単量
体を主成分として得られる水分散性フッ素含有重合体樹
脂からなる被覆層を設け、更に該被覆層上にフォトレジ
スト層を設けてなるフォトレジストフィルムであって、
該被覆層はフッ素含有量が5〜50重量%で、かつ、ASTM
−D−1894−63により測定したときに0.40〜0.52の易滑
性を有するものであることを特徴とするフォトレジスト
フィルム。
1. A coating layer comprising a water-dispersible fluorine-containing polymer resin obtained by using a vinyl polymer monomer having a perfluoroalkyl group as a main component on at least one surface of a polyester film. A photoresist film provided with a photoresist layer,
The coating layer has a fluorine content of 5 to 50% by weight and an ASTM
-A photoresist film having a slipperiness of 0.40 to 0.52 as measured by D-1894-63.
【請求項2】該フォトレジストフィルムが、一方向に延
伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に被覆
層を設けた後、前記方向と直角方向に延伸されたフィル
ムの該被覆層上にフォトレジスト層を設けてなるもので
あることを特徴とする請求項(1)記載のフォトレジス
トフィルム。
2. The method according to claim 1, wherein the photoresist film is provided with a coating layer on at least one surface of a polyester film stretched in one direction, and then a photoresist layer is formed on the coating layer of the film stretched in a direction perpendicular to the direction. The photoresist film according to claim 1, wherein the photoresist film is provided.
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