JP2842569B1 - 集塵方法及びその装置 - Google Patents
集塵方法及びその装置Info
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- JP2842569B1 JP2842569B1 JP844598A JP844598A JP2842569B1 JP 2842569 B1 JP2842569 B1 JP 2842569B1 JP 844598 A JP844598 A JP 844598A JP 844598 A JP844598 A JP 844598A JP 2842569 B1 JP2842569 B1 JP 2842569B1
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- gas
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Abstract
【要約】
【課題】 通常の集塵装置では捕集不能な微細な粒子を
捕集可能とする集塵方法及びその装置を提供すること。 【解決手段】 前段液接触装置で高温ガスを飽和状態と
し、その飽和状態の高温ガスを後段液接触装置により高
温の水スプレーと低温の水スプレーとにより洗浄し、そ
の洗浄後の高温及び低温ガスを混合室で混合して強制的
に冷却して白煙状態とし、水滴に微粒子を包み込み、そ
の水滴を捕集して集塵している。
捕集可能とする集塵方法及びその装置を提供すること。 【解決手段】 前段液接触装置で高温ガスを飽和状態と
し、その飽和状態の高温ガスを後段液接触装置により高
温の水スプレーと低温の水スプレーとにより洗浄し、そ
の洗浄後の高温及び低温ガスを混合室で混合して強制的
に冷却して白煙状態とし、水滴に微粒子を包み込み、そ
の水滴を捕集して集塵している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高温飽和状態のガ
スを強制冷却して水滴を発生させ、水滴が微粒子を包容
する集塵方法及び装置に関する。
スを強制冷却して水滴を発生させ、水滴が微粒子を包容
する集塵方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】集塵装置としては、電気集塵装置、サイ
クロン式集塵機で知られる遠心力集塵装置、バグフィル
タで知られるろ過式集塵装置、さらに洗浄集塵装置があ
り、洗浄集塵装置は、洗浄液と含塵ガスを接触させるこ
とにより、含塵ガス中の粒子を捕集するものとして知ら
れている。
クロン式集塵機で知られる遠心力集塵装置、バグフィル
タで知られるろ過式集塵装置、さらに洗浄集塵装置があ
り、洗浄集塵装置は、洗浄液と含塵ガスを接触させるこ
とにより、含塵ガス中の粒子を捕集するものとして知ら
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の種々の集塵装置
のなかで、本発明は洗浄集塵装置に属するものである
が、その構造上捕集出来る粒子径に限界があり、数ミク
ロン以下の微細な粒子の捕集は困難である。
のなかで、本発明は洗浄集塵装置に属するものである
が、その構造上捕集出来る粒子径に限界があり、数ミク
ロン以下の微細な粒子の捕集は困難である。
【０００４】一方、高温状態で飽和しているガスに微細
な粉塵が含まれているとき、そのガスを強制冷却して水
滴を発生させると、その水滴が微粒子を包み込むように
大きな直径の水滴に成長することは知られている。
な粉塵が含まれているとき、そのガスを強制冷却して水
滴を発生させると、その水滴が微粒子を包み込むように
大きな直径の水滴に成長することは知られている。
【０００５】したがって、本発明は、その性質を利用し
て、通常の集塵装置では捕集不能な微細な粒子を捕集可
能とする集塵方法及び装置を提供することを目的として
いる。
て、通常の集塵装置では捕集不能な微細な粒子を捕集可
能とする集塵方法及び装置を提供することを目的として
いる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、 高温
ガスを前段の液接触装置で循還する水と接触させてほぼ
飽和状態にして、後段の液接触装置に流入させ、後段の
液接触装置は充填層を備え、その充填層の下方から上方
に前記飽和状態のガスを流入して充填層で循環する水と
接触させて洗浄し、その循環水は水ポンプの下流で２分
割され、一方の水は冷却器を通過して冷却されてから複
数の第１のスプレーノズルで充填層に散布され、他方の
水は冷却器をバイパスして複数の第２のスプレーノズル
で充填層に散布され、充填層の上方に設けられた混合室
で温度が異なる飽和状態のガスを混合させてガス中の微
粒子を包み込む水滴とし、混合室の下流に設けられた水
滴捕集機で前記水滴を捕集することを特徴とする集塵方
法を提供している。
ガスを前段の液接触装置で循還する水と接触させてほぼ
飽和状態にして、後段の液接触装置に流入させ、後段の
液接触装置は充填層を備え、その充填層の下方から上方
に前記飽和状態のガスを流入して充填層で循環する水と
接触させて洗浄し、その循環水は水ポンプの下流で２分
割され、一方の水は冷却器を通過して冷却されてから複
数の第１のスプレーノズルで充填層に散布され、他方の
水は冷却器をバイパスして複数の第２のスプレーノズル
で充填層に散布され、充填層の上方に設けられた混合室
で温度が異なる飽和状態のガスを混合させてガス中の微
粒子を包み込む水滴とし、混合室の下流に設けられた水
滴捕集機で前記水滴を捕集することを特徴とする集塵方
法を提供している。
【０００７】また、本発明によれば、前記他方の水の通
路又は他方の水の通路と冷却器の下流との間の何れか或
は双方に開閉弁が設けられており、これらの弁を調整し
て前記温度の異なる２種類の飽和ガスの低い温度のガス
１に対する高い温度ガス量が、乾きガスで換算して０．
２５〜０．５であるようにされることが好ましい。
路又は他方の水の通路と冷却器の下流との間の何れか或
は双方に開閉弁が設けられており、これらの弁を調整し
て前記温度の異なる２種類の飽和ガスの低い温度のガス
１に対する高い温度ガス量が、乾きガスで換算して０．
２５〜０．５であるようにされることが好ましい。
【０００８】また、本発明によれば、高温ガスの流入通
路、水の循環通路、第１の水ポンプ及びガスの接続通路
を有する前段液接触装置と前記接続通路で接続された後
段液接触装置とで構成されており、その後段液接触装置
は充填層で下部の水タンクと上部の混合室に区分されて
おり、水タンクの底部には第２の水ポンプに接続された
水通路が設けられ、その水ポンプの下流は冷却器を介し
て混合室に設けられた複数の第１のスプレーノズルに接
続され、水ポンプの下流から分割されたバイパス通路は
第１の開閉弁を介して混合室に設けられた複数の第２の
スプレーノズルに接続され、前記第１の開閉弁の上流側
と前記冷却器の下流側との間に第２の開閉弁を設け、前
記混合室は水滴を捕集する水滴捕集機に接続されてい
る。
路、水の循環通路、第１の水ポンプ及びガスの接続通路
を有する前段液接触装置と前記接続通路で接続された後
段液接触装置とで構成されており、その後段液接触装置
は充填層で下部の水タンクと上部の混合室に区分されて
おり、水タンクの底部には第２の水ポンプに接続された
水通路が設けられ、その水ポンプの下流は冷却器を介し
て混合室に設けられた複数の第１のスプレーノズルに接
続され、水ポンプの下流から分割されたバイパス通路は
第１の開閉弁を介して混合室に設けられた複数の第２の
スプレーノズルに接続され、前記第１の開閉弁の上流側
と前記冷却器の下流側との間に第２の開閉弁を設け、前
記混合室は水滴を捕集する水滴捕集機に接続されてい
る。
【０００９】そして、前記混合室に第１のスプレーノズ
ルと第２のスプレーノズルとを区画するセパレータが設
けられていることが望ましい。
ルと第２のスプレーノズルとを区画するセパレータが設
けられていることが望ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。
実施の形態を説明する。
【００１１】図１において、前段液接触装置１の上部に
はガス通路２１が設けられ、下部側面には循環水通路２
が取り付けられ、その循環水通路２には第１の水ポンプ
２ａが介装され、第１の水ポンプ２ａの下流は前段液接
触装置に設けられている充填層２２の上部から散水する
ノズル２３に接続されている。
はガス通路２１が設けられ、下部側面には循環水通路２
が取り付けられ、その循環水通路２には第１の水ポンプ
２ａが介装され、第１の水ポンプ２ａの下流は前段液接
触装置に設けられている充填層２２の上部から散水する
ノズル２３に接続されている。
【００１２】また、充填層２２の下方に設けられた接続
通路２３ａは後段液接触装置３の充填層４の下方から上
方にガスを供給するよう構成され、後段液接触装置３の
底部に設けられた水通路７には第２の水ポンプ７ａが介
装され、水ポンプ７ａの下流は２つの通路に分岐され、
一方の通路９は冷却器１０を介装してノズルホルダ１１
に接続され、バイパス通路１３は開閉弁１４を介してノ
ズルホルダ１６に接続され、開閉弁１５は２つの通路間
を開閉するよう設けられている。
通路２３ａは後段液接触装置３の充填層４の下方から上
方にガスを供給するよう構成され、後段液接触装置３の
底部に設けられた水通路７には第２の水ポンプ７ａが介
装され、水ポンプ７ａの下流は２つの通路に分岐され、
一方の通路９は冷却器１０を介装してノズルホルダ１１
に接続され、バイパス通路１３は開閉弁１４を介してノ
ズルホルダ１６に接続され、開閉弁１５は２つの通路間
を開閉するよう設けられている。
【００１３】そして、図２を参照して、ノズルホルダ１
１には２列の複数（図示の例は各列３個）第１のスプレ
イノズル１２が取り付けられ、ノズルホルダ１６には複
数（図示の例は３個）の第２のスプレイノズル１７が取
り付けられ、各列のノズル間にはセパレータ１８が設け
られている。ここで、符号Ｗは水、１９は混合室、２０
は水滴捕集機に接続される排出通路をそれぞれ示してい
る。
１には２列の複数（図示の例は各列３個）第１のスプレ
イノズル１２が取り付けられ、ノズルホルダ１６には複
数（図示の例は３個）の第２のスプレイノズル１７が取
り付けられ、各列のノズル間にはセパレータ１８が設け
られている。ここで、符号Ｗは水、１９は混合室、２０
は水滴捕集機に接続される排出通路をそれぞれ示してい
る。
【００１４】以下作用について説明する。
【００１５】高温ガスがガス通路２１から前段液接触装
置１に供給されるとポンプ２ａで循環しノズル２３から
散布される水と充填層２２で接触して飽和状態となり、
接続通路２３で後段液接触装置３に供給される。
置１に供給されるとポンプ２ａで循環しノズル２３から
散布される水と充填層２２で接触して飽和状態となり、
接続通路２３で後段液接触装置３に供給される。
【００１６】前段液接触装置１は主たる目的が高温ガス
の温度を下げ、以後の操作を容易にするためであり、集
塵の機能につては必ずしも完全でない。
の温度を下げ、以後の操作を容易にするためであり、集
塵の機能につては必ずしも完全でない。
【００１７】そこで、後段液接触装置３に流入したガス
は充填層４を下から上に上昇し、第２のポンプ７Ａによ
り循環する水と充填層４で接触して洗浄される。
は充填層４を下から上に上昇し、第２のポンプ７Ａによ
り循環する水と充填層４で接触して洗浄される。
【００１８】その際、水は一方の通路９では冷却器１０
で冷却され、バイパス通路１３ではそのままノズルに供
給されるため、第１のノズル１２からは温度が低いスプ
レーＳ１、第２のノズル１７からは温度が高いスプレー
Ｓ２が充填層４に散水されるので、異なった温度で飽和
したガスが混合室１９で混合すると激しく白煙（水滴）
が発生してガス中の微粒子を包み込む水滴となり、混合
室１９に設けられている排出通路２０から図示しない水
滴捕集機に流入する。
で冷却され、バイパス通路１３ではそのままノズルに供
給されるため、第１のノズル１２からは温度が低いスプ
レーＳ１、第２のノズル１７からは温度が高いスプレー
Ｓ２が充填層４に散水されるので、異なった温度で飽和
したガスが混合室１９で混合すると激しく白煙（水滴）
が発生してガス中の微粒子を包み込む水滴となり、混合
室１９に設けられている排出通路２０から図示しない水
滴捕集機に流入する。
【００１９】なお、開閉弁１４、１５によりバイパス通
路１３の循環水温度を調節することができ、スプレーノ
ズル１２と１７との配列、高さが適正であればセパレー
タ１８は必ずしも必要でない。また、白煙の発生には、
温度の高いガスと低いガスとの混合比率にも最適点があ
り、通常では、低い温度のガス１に対し高い温度のガス
量を、乾きガス換算で０．２５〜０．５程度にするのが
望ましい。
路１３の循環水温度を調節することができ、スプレーノ
ズル１２と１７との配列、高さが適正であればセパレー
タ１８は必ずしも必要でない。また、白煙の発生には、
温度の高いガスと低いガスとの混合比率にも最適点があ
り、通常では、低い温度のガス１に対し高い温度のガス
量を、乾きガス換算で０．２５〜０．５程度にするのが
望ましい。
【００２０】スプレーノズル１２と１７との数量比を上
記の低温ガスと高温ガスとの最適比率に合わせておけ
ば、調整が容易である。
記の低温ガスと高温ガスとの最適比率に合わせておけ
ば、調整が容易である。
【００２１】また、開閉弁１４、１５は１５だけを用
い、１４を省略することが出来る。
い、１４を省略することが出来る。
【００２２】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されており、
高温ガスを水に接触させて、湿式で集塵する場合、飽和
状態にある高温ガスを利用して、それを飽和状態にある
低温ガスと混合して強制的に冷却して水滴を発生させ、
その水滴が微粒子を包み込むように直径が大である水滴
に成長し、その水滴を捕集して集塵するため、通常では
捕集不能な微細菜粒子を捕集出来、装置も簡単であり、
操作も容易である。
高温ガスを水に接触させて、湿式で集塵する場合、飽和
状態にある高温ガスを利用して、それを飽和状態にある
低温ガスと混合して強制的に冷却して水滴を発生させ、
その水滴が微粒子を包み込むように直径が大である水滴
に成長し、その水滴を捕集して集塵するため、通常では
捕集不能な微細菜粒子を捕集出来、装置も簡単であり、
操作も容易である。
【図１】本発明の一実施の形態を示す全体構成模式図。
【図２】図１のスプレーノズルの配置例を示す平面図。
１・・・前段液接触装置 ２・・・水通路 ２ａ・・・第１の水ポンプ ３・・・後段液接触装置 ４、２２・・・充填層 ７ａ・・・第２の水ポンプ １０・・・冷却器 １２・・・第１のスプレーノズル １４、１５・・・開閉弁 １７・・・第２のスプレーノズル
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 47/06
Claims (5)
- 【請求項１】 高温ガスを前段の液接触装置で循還する
水と接触させてほぼ飽和状態にして、後段の液接触装置
に流入させ、後段の液接触装置は充填層を備え、その充
填層の下方から上方に前記飽和状態のガスを流入して充
填層で循環する水と接触させて洗浄し、その循環水は水
ポンプの下流で２分割され、一方の水は冷却器を通過し
て冷却されてから複数の第１のスプレーノズルで充填層
に散布され、他方の水は冷却器をバイパスして複数の第
２のスプレーノズルで充填層に散布され、充填層の上方
に設けられた混合室で温度が異なる飽和状態のガスを混
合させてガス中の微粒子を包み込む水滴とし、混合室の
下流に設けられた水滴捕集機で前記水滴を捕集すること
を特徴とする集塵方法。 - 【請求項２】 前記他方の水の通路又は他方の水の通路
と冷却器の下流との間の何れか或は双方に開閉弁が設け
られている請求項１記載の集塵方法。 - 【請求項３】 前記温度の異なる２種類の飽和ガスの低
い温度のガス１に対する高い温度のガス量が、乾きガス
で換算して０．２５〜０．５である請求項１、２の何れ
かに記載の集塵方法。 - 【請求項４】 高温ガスの流入通路、水の循環通路、第
１の水ポンプ及びガスの接続通路を有する前段液接触装
置と前記接続通路で接続された後段液接触装置とで構成
されており、その後段液接触装置は充填層で下部の水タ
ンクと上部の混合室に区分されており、水タンクの底部
には第２の水ポンプに接続された水通路が設けられ、そ
の水ポンプの下流は冷却器を介して混合室に設けられた
複数の第１のスプレーノズルに接続され、水ポンプの下
流から分割されたバイパス通路は第１の開閉弁を介して
混合室に設けられた複数の第２のスプレーノズルに接続
され、前記第１の開閉弁の上流側と前記冷却器の下流側
との間に第２の開閉弁を設け、前記混合室は水滴を捕集
する水滴捕集機に接続されていることを特徴とする集塵
装置。 - 【請求項５】 前記混合室に第１のスプレーノズルと第
２のスプレーノズルとを区画するセパレータが設けられ
ている請求項４記載の集塵装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP844598A JP2842569B1 (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 集塵方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP844598A JP2842569B1 (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 集塵方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2842569B1 true JP2842569B1 (ja) | 1999-01-06 |
| JPH11197432A JPH11197432A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11693333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP844598A Expired - Lifetime JP2842569B1 (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 集塵方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2842569B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115301026A (zh) * | 2022-08-10 | 2022-11-08 | 安徽建工集团股份有限公司总承包分公司 | 一种吊挂式除尘系统及吊挂除尘方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104075440A (zh) * | 2014-07-29 | 2014-10-01 | 广西众昌树脂有限公司 | 热风设备 |
| CN105214418B (zh) * | 2015-10-22 | 2017-03-01 | 秦皇岛首创思泰意达环保科技有限公司 | 行车抓斗卸料耐低温抑尘系统 |
| CN105413417B (zh) * | 2015-11-10 | 2018-03-13 | 唐山宝翔化工产品有限公司 | 2‑萘酚生产过程中的烟气治理方法 |
| KR102374527B1 (ko) * | 2021-07-23 | 2022-03-16 | 주식회사 삼원카본써큘레이션 | 패킹이 구비된 스크러버에서의 플러딩을 활용한 배가스 처리 장치 |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP844598A patent/JP2842569B1/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115301026A (zh) * | 2022-08-10 | 2022-11-08 | 安徽建工集团股份有限公司总承包分公司 | 一种吊挂式除尘系统及吊挂除尘方法 |
| CN115301026B (zh) * | 2022-08-10 | 2023-06-23 | 安徽建工集团股份有限公司总承包分公司 | 一种吊挂式除尘系统及吊挂除尘方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11197432A (ja) | 1999-07-27 |
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