JP2842203B2 - チッソリフロー装置 - Google Patents
チッソリフロー装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、立上げ時のチッソガス
の消費量を少なくできるようにしたチッソリフロー装置
に関するものである。
の消費量を少なくできるようにしたチッソリフロー装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】基板に面実装された電子部品と、基板の
回路パターンとを半田付けすると共に、炉体内の加熱に
よる酸化を防ぐためチッソリフロー装置が用いられてい
る。このようなチッソリフロー装置では、炉体内（特に
高温となる部分）のチッソガス濃度を所定濃度に保持す
る必要がある。そしてチッソリフロー装置の外部には酸
素を含む空気が存在しているので、酸素濃度を下げチッ
ソガス濃度を上げるためチッソボンベなどのチッソガス
供給部から、管路を介してチッソガスを炉体内に吐出す
る必要がある。
回路パターンとを半田付けすると共に、炉体内の加熱に
よる酸化を防ぐためチッソリフロー装置が用いられてい
る。このようなチッソリフロー装置では、炉体内（特に
高温となる部分）のチッソガス濃度を所定濃度に保持す
る必要がある。そしてチッソリフロー装置の外部には酸
素を含む空気が存在しているので、酸素濃度を下げチッ
ソガス濃度を上げるためチッソボンベなどのチッソガス
供給部から、管路を介してチッソガスを炉体内に吐出す
る必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のチッソ
リフロー装置では、立上げ時にヒータへの給電開始と同
時にチッソガスを炉体内に吐出し、炉体内のチッソガス
濃度が所定濃度に達するまで待つようになっていた。
リフロー装置では、立上げ時にヒータへの給電開始と同
時にチッソガスを炉体内に吐出し、炉体内のチッソガス
濃度が所定濃度に達するまで待つようになっていた。
【０００４】しかしながらこのような構成では、チッソ
ガスの消費量が多く、チッソガスはチッソボンベなどに
蓄えられた液体チッソを気化して供給するものであり、
ランニングコストが上昇するという問題点があった。
ガスの消費量が多く、チッソガスはチッソボンベなどに
蓄えられた液体チッソを気化して供給するものであり、
ランニングコストが上昇するという問題点があった。
【０００５】そこで本発明は、チッソガスを節約するこ
とができるチッソリフロー装置を提供することを目的と
する。
とができるチッソリフロー装置を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のチッソリフロー
装置は、複数のゾーンに分割される炉体と、炉体の入口
から出口にわたって基板を搬送するコンベアと、炉体の
各ゾーンに配設されるヒータと、炉体の各ゾーンの雰囲
気温度を検出する温度センサと、炉体内にチッソガスを
吐出する管路と、炉体内の濃度を検出する濃度センサと
を備え、温度センサと濃度センサの出力を入力し、かつ
ヒータの給電状態と管路の吐出状態とを制御する制御回
路であって、立上げにあたりまずヒータにより炉体内を
加熱し、炉体内が所定温度に上昇してから、管路におけ
るチッソガスの吐出量を上昇させる制御回路を有する。
装置は、複数のゾーンに分割される炉体と、炉体の入口
から出口にわたって基板を搬送するコンベアと、炉体の
各ゾーンに配設されるヒータと、炉体の各ゾーンの雰囲
気温度を検出する温度センサと、炉体内にチッソガスを
吐出する管路と、炉体内の濃度を検出する濃度センサと
を備え、温度センサと濃度センサの出力を入力し、かつ
ヒータの給電状態と管路の吐出状態とを制御する制御回
路であって、立上げにあたりまずヒータにより炉体内を
加熱し、炉体内が所定温度に上昇してから、管路におけ
るチッソガスの吐出量を上昇させる制御回路を有する。
【０００７】
【作用】上記構成により、立上げ時に、まずヒータへの
給電が開始され、炉体内の温度が上昇する。そして温度
が所定位置に達すると、管路におけるチッソガスの吐出
量が上昇する。ここで、炉体の体積をＶ、圧力をＰ、チ
ッソガスの質量をＭ、ガス定数をＲ、絶対温度をＴとす
れば、ＰＶ＝ＭＲＴなる関係がある（気体の状態方程
式）。また炉体は外気と接しているので圧力Ｐはほぼ一
定、体積Ｖ、ガス定数Ｒも一定であるから、炉体内のチ
ッソガスの質量Ｍは絶対温度Ｔに反比例する。しかし
て、炉体内が常温であるときの炉体内のチッソガスの質
量よりも炉体内が所定温度（常温よりも高温）であると
きの炉体内のチッソガスの質量は少なくてすみ、それだ
けチッソガスの消費量を節約できる。
給電が開始され、炉体内の温度が上昇する。そして温度
が所定位置に達すると、管路におけるチッソガスの吐出
量が上昇する。ここで、炉体の体積をＶ、圧力をＰ、チ
ッソガスの質量をＭ、ガス定数をＲ、絶対温度をＴとす
れば、ＰＶ＝ＭＲＴなる関係がある（気体の状態方程
式）。また炉体は外気と接しているので圧力Ｐはほぼ一
定、体積Ｖ、ガス定数Ｒも一定であるから、炉体内のチ
ッソガスの質量Ｍは絶対温度Ｔに反比例する。しかし
て、炉体内が常温であるときの炉体内のチッソガスの質
量よりも炉体内が所定温度（常温よりも高温）であると
きの炉体内のチッソガスの質量は少なくてすみ、それだ
けチッソガスの消費量を節約できる。
【０００８】
【実施例】次に図面を参照しながら本発明の実施例を説
明する。図１は本発明の一実施例におけるチッソリフロ
ー装置の側面図である。図１中、１は炉体であり、炉体
１内は仕切壁１ａ，１ｂが設けられることにより、基板
４の上面を常温から約１５０℃まで上昇させる予熱ゾー
ンＴ１、この温度を保持する均熱ゾーンＴ２、さらに約
２２０℃程度まで上昇させるリフローゾーンＴ３に分割
される。また、１ｃは炉体１の入口、１ｄは出口であり
炉体１内は入口１ｃ、出口１ｄを介して外気に接してい
る。２は入口１ｃから出口１ｄにわたって、図１の左か
ら右へと基板４を搬送するコンベア、２ａはコンベア２
の支持板、３はコンベア２の駆動モータである。また、
Ｈ１は予熱ゾーンＴ１のヒータ、Ｆ１は予熱ゾーンＴ１
のファン、Ｍ１はファンＦ１を回転させるモータ、Ｓ１
は予熱ゾーンＴ１の雰囲気温度を検出する温度センサで
あり、同様に均熱ゾーンＴ２にはヒータＨ２、ファンＦ
２、モータＭ２、温度センサＳ２が設けられ、リフロー
ゾーンＴ３にはヒータＨ３，Ｈ４、ファンＦ３、モータ
Ｍ３、温度センサＳ３が設けられている。またＰは基板
４に搭載される電子部品、Ｓ４は最も高温となるリフロ
ーゾーンＴ３にて酸素の濃度を検出することにより、間
接的にチッソガスの濃度を調べる濃度センサである。
明する。図１は本発明の一実施例におけるチッソリフロ
ー装置の側面図である。図１中、１は炉体であり、炉体
１内は仕切壁１ａ，１ｂが設けられることにより、基板
４の上面を常温から約１５０℃まで上昇させる予熱ゾー
ンＴ１、この温度を保持する均熱ゾーンＴ２、さらに約
２２０℃程度まで上昇させるリフローゾーンＴ３に分割
される。また、１ｃは炉体１の入口、１ｄは出口であり
炉体１内は入口１ｃ、出口１ｄを介して外気に接してい
る。２は入口１ｃから出口１ｄにわたって、図１の左か
ら右へと基板４を搬送するコンベア、２ａはコンベア２
の支持板、３はコンベア２の駆動モータである。また、
Ｈ１は予熱ゾーンＴ１のヒータ、Ｆ１は予熱ゾーンＴ１
のファン、Ｍ１はファンＦ１を回転させるモータ、Ｓ１
は予熱ゾーンＴ１の雰囲気温度を検出する温度センサで
あり、同様に均熱ゾーンＴ２にはヒータＨ２、ファンＦ
２、モータＭ２、温度センサＳ２が設けられ、リフロー
ゾーンＴ３にはヒータＨ３，Ｈ４、ファンＦ３、モータ
Ｍ３、温度センサＳ３が設けられている。またＰは基板
４に搭載される電子部品、Ｓ４は最も高温となるリフロ
ーゾーンＴ３にて酸素の濃度を検出することにより、間
接的にチッソガスの濃度を調べる濃度センサである。
【０００９】またＬ１は立上げ時に炉体１のリフローゾ
ーンＴ３に規定流量のチッソガスを吐出する規定管路で
あり、Ｌ２はリフローゾーンＴ３に可変流量のチッソガ
スを吐出する調整管路、１０はチッソボンベなどのチッ
ソガス供給部である。規定管路Ｌ１のうちＲ１は圧力レ
ギュレータ、Ｖ１は第１の開閉弁であり、調整管路Ｌ２
のうちＲ２は圧力レギュレータ、Ｖ２は第２の開閉弁、
Ｖ３は調整管路Ｌ２の流量を調整するためのコントロー
ル弁である。
ーンＴ３に規定流量のチッソガスを吐出する規定管路で
あり、Ｌ２はリフローゾーンＴ３に可変流量のチッソガ
スを吐出する調整管路、１０はチッソボンベなどのチッ
ソガス供給部である。規定管路Ｌ１のうちＲ１は圧力レ
ギュレータ、Ｖ１は第１の開閉弁であり、調整管路Ｌ２
のうちＲ２は圧力レギュレータ、Ｖ２は第２の開閉弁、
Ｖ３は調整管路Ｌ２の流量を調整するためのコントロー
ル弁である。
【００１０】図２は本発明の一実施例におけるチッソリ
フロー装置のブロック図である。１４はＣＰＵなどから
なる制御回路であり、制御回路１４は濃度センサＳ４と
温度センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３の出力を入力して調整管路
Ｌ２の流量を制御するものである。１５は温度センサＳ
１，Ｓ２，Ｓ３の出力を制御回路１４が認識できるデー
タ形式に変換する温度測定回路、１６は濃度センサＳ４
の出力を制御回路１４が認識できるデータ形式に変換す
る酸素濃度測定回路である。なお本実施例では、制御回
路１４は、立上げ後酸素濃度が１０００ｐｐｍに達した
際、リフローゾーンＴ３のチッソガス濃度が所定濃度に
達したものと判定する。また制御回路１４は、温度セン
サＳ３が示す温度が所定温度θ１（１５０℃）に達した
際規定管路Ｌ１からチッソガスを吐出させる。
フロー装置のブロック図である。１４はＣＰＵなどから
なる制御回路であり、制御回路１４は濃度センサＳ４と
温度センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３の出力を入力して調整管路
Ｌ２の流量を制御するものである。１５は温度センサＳ
１，Ｓ２，Ｓ３の出力を制御回路１４が認識できるデー
タ形式に変換する温度測定回路、１６は濃度センサＳ４
の出力を制御回路１４が認識できるデータ形式に変換す
る酸素濃度測定回路である。なお本実施例では、制御回
路１４は、立上げ後酸素濃度が１０００ｐｐｍに達した
際、リフローゾーンＴ３のチッソガス濃度が所定濃度に
達したものと判定する。また制御回路１４は、温度セン
サＳ３が示す温度が所定温度θ１（１５０℃）に達した
際規定管路Ｌ１からチッソガスを吐出させる。
【００１１】また１７は制御回路１４の指令に応じて第
１の開閉弁Ｖ１、第２の開閉弁Ｖ２を開閉させる開閉弁
駆動回路、１８は制御回路１４の指令に応じてコントロ
ール弁Ｖ３の閉度を調整し、調整管路Ｌ２の流量を可変
するコントロール弁駆動回路、１９は制御回路１４が温
度測定回路１５の出力に応じて予熱ゾーンＴ１、均熱ゾ
ーンＴ２及びリフローゾーンＴ３が所定温度プロファイ
ルに沿った雰囲気温度となるようなヒータＨ１，Ｈ２，
Ｈ３，Ｈ４に印加するヒータ駆動回路である。ちなみに
リフローゾーンＴ３は、リフロー温度θ２（約２５０
℃）まで加熱される。また２０は動作状況等を表示する
ための表示部、２１は所定温度θ１の情報等を入力する
ための入力部である。
１の開閉弁Ｖ１、第２の開閉弁Ｖ２を開閉させる開閉弁
駆動回路、１８は制御回路１４の指令に応じてコントロ
ール弁Ｖ３の閉度を調整し、調整管路Ｌ２の流量を可変
するコントロール弁駆動回路、１９は制御回路１４が温
度測定回路１５の出力に応じて予熱ゾーンＴ１、均熱ゾ
ーンＴ２及びリフローゾーンＴ３が所定温度プロファイ
ルに沿った雰囲気温度となるようなヒータＨ１，Ｈ２，
Ｈ３，Ｈ４に印加するヒータ駆動回路である。ちなみに
リフローゾーンＴ３は、リフロー温度θ２（約２５０
℃）まで加熱される。また２０は動作状況等を表示する
ための表示部、２１は所定温度θ１の情報等を入力する
ための入力部である。
【００１２】本実施例におけるチッソリフロー装置は、
上記のような構成よりなり、次に図３を参照しながらそ
の動作を説明する。図３は本発明の一実施例におけるチ
ッソリフロー装置の立上げ及び立上げ後の動作を示すタ
イムチャートである。まず時刻ｔ1において立上げが開
始される。このとき制御回路１４は第１，第２の開閉弁
Ｖ１，Ｖ２を閉としチッソガスの吐出量を零とする。ま
た、ヒータＨ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４に給電し、炉体１内
の温度を上昇させる。
上記のような構成よりなり、次に図３を参照しながらそ
の動作を説明する。図３は本発明の一実施例におけるチ
ッソリフロー装置の立上げ及び立上げ後の動作を示すタ
イムチャートである。まず時刻ｔ1において立上げが開
始される。このとき制御回路１４は第１，第２の開閉弁
Ｖ１，Ｖ２を閉としチッソガスの吐出量を零とする。ま
た、ヒータＨ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４に給電し、炉体１内
の温度を上昇させる。
【００１３】時刻ｔ2にて温度センサＳ３が示す温度が
所定温度θ１に達したならば、制御回路１４は開閉弁駆
動回路１７に指示して第１の開閉弁Ｖ１のみを開とす
る。これにより炉体１内にチッソガスが吐出され濃度セ
ンサＳ４が検出する酸素濃度は低下してゆく。ここでリ
フローゾーンＴ３内の温度は常温よりもずっと高くなっ
ているので、従来に比べ少量のチッソガスを吐出するこ
とにより、酸素濃度が大気と同じ初期酸素濃度Ｃ１（２
００００ｐｐｍ）から所定値Ｃ２（１０００ｐｐｍ）ま
で低下する。
所定温度θ１に達したならば、制御回路１４は開閉弁駆
動回路１７に指示して第１の開閉弁Ｖ１のみを開とす
る。これにより炉体１内にチッソガスが吐出され濃度セ
ンサＳ４が検出する酸素濃度は低下してゆく。ここでリ
フローゾーンＴ３内の温度は常温よりもずっと高くなっ
ているので、従来に比べ少量のチッソガスを吐出するこ
とにより、酸素濃度が大気と同じ初期酸素濃度Ｃ１（２
００００ｐｐｍ）から所定値Ｃ２（１０００ｐｐｍ）ま
で低下する。
【００１４】次に時刻ｔ3にて、酸素濃度が所定値Ｃ２
となったことを制御回路１４が確認すると、制御回路１
４は開閉弁駆動回路１７に指示して第１の開閉弁Ｖ１を
閉、第２の開閉弁Ｖ２を開とする。またコントロール弁
駆動回路１８に指示して酸素濃度が所定値Ｃ２を維持す
るようにコントロール弁Ｖ３の開度を調整する。
となったことを制御回路１４が確認すると、制御回路１
４は開閉弁駆動回路１７に指示して第１の開閉弁Ｖ１を
閉、第２の開閉弁Ｖ２を開とする。またコントロール弁
駆動回路１８に指示して酸素濃度が所定値Ｃ２を維持す
るようにコントロール弁Ｖ３の開度を調整する。
【００１５】
【発明の効果】本発明のチッソリフロー装置は、入口及
び出口において外気と接すると共に、複数のゾーンに分
割される炉体と、炉体の入口から出口にわたって基板を
搬送するコンベアと、炉体の各ゾーンに配設されるヒー
タと、炉体の各ゾーンの雰囲気温度を検出する温度セン
サと、炉体内にチッソガスを吐出する管路と、炉体内の
濃度を検出する濃度センサとを備え、温度センサと濃度
センサの出力を入力し、かつヒータの給電状態と管路の
吐出状態とを制御する制御回路であって、立上げにあた
りまずヒータにより炉体内を加熱し、炉体内が所定温度
に上昇してから、管路におけるチッソガスの吐出量を上
昇させる制御回路を有するので、従来手段よりも少量の
チッソガスによりチッソガスの濃度を必要なレベルに上
げることができ、立上げ時のチッソガスの消費量を節約
できる。
び出口において外気と接すると共に、複数のゾーンに分
割される炉体と、炉体の入口から出口にわたって基板を
搬送するコンベアと、炉体の各ゾーンに配設されるヒー
タと、炉体の各ゾーンの雰囲気温度を検出する温度セン
サと、炉体内にチッソガスを吐出する管路と、炉体内の
濃度を検出する濃度センサとを備え、温度センサと濃度
センサの出力を入力し、かつヒータの給電状態と管路の
吐出状態とを制御する制御回路であって、立上げにあた
りまずヒータにより炉体内を加熱し、炉体内が所定温度
に上昇してから、管路におけるチッソガスの吐出量を上
昇させる制御回路を有するので、従来手段よりも少量の
チッソガスによりチッソガスの濃度を必要なレベルに上
げることができ、立上げ時のチッソガスの消費量を節約
できる。
【図１】本発明の一実施例におけるチッソリフロー装置
の側面図
の側面図
【図２】本発明の一実施例におけるチッソリフロー装置
のブロック図
のブロック図
【図３】本発明の一実施例におけるチッソリフロー装置
の立上げ及び立上げ後の動作を示すタイムチャート
の立上げ及び立上げ後の動作を示すタイムチャート
１ 炉体 １ｃ 入口 １ｄ 出口 ２ コンベア １４ 制御回路 Ｔ１ 予熱ゾーン Ｔ２ 均熱ゾーン Ｔ３ リフローゾーン Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４ ヒータ Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３ 温度センサ Ｌ１ 規定管路 Ｌ２ 調整管路 θ１ 所定温度
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−308186（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−208260（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−185272（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−322878（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−13949（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H05K 3/34 B23K 1/008,3/04
Claims (2)
- 【請求項１】複数のゾーンに分割される炉体と、前記炉
体の入口から出口にわたって基板を搬送するコンベア
と、前記炉体の各ゾーンに配設されるヒータと、前記炉
体の各ゾーンの雰囲気温度を検出する温度センサと、前
記炉体内にチッソガスを吐出する管路と、前記炉体内の
濃度を検出する濃度センサとを備え、 前記温度センサと前記濃度センサの出力を入力し、かつ
前記ヒータの給電状態と前記管路の吐出状態とを制御す
る制御回路であって、立上げにあたりまず前記ヒータに
より前記炉体内を加熱し、前記炉体内が所定温度に上昇
してから、前記管路におけるチッソガスの吐出量を上昇
させる制御回路を有することを特徴とするチッソリフロ
ー装置。 - 【請求項２】前記制御回路は、前記炉体内が所定温度に
達する前において前記管路におけるチッソガスの吐出量
を零とすることを特徴とする請求項１記載のチッソリフ
ロー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP633394A JP2842203B2 (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | チッソリフロー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP633394A JP2842203B2 (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | チッソリフロー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07212030A JPH07212030A (ja) | 1995-08-11 |
| JP2842203B2 true JP2842203B2 (ja) | 1998-12-24 |
Family
ID=11635445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP633394A Expired - Fee Related JP2842203B2 (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | チッソリフロー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2842203B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106695048A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-05-24 | 通富微电子股份有限公司 | 一种回流焊炉及其控制系统 |
| CN110874106B (zh) * | 2018-08-31 | 2022-09-02 | 伊利诺斯工具制品有限公司 | 用于回流焊炉的气体控制系统和方法 |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP633394A patent/JP2842203B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07212030A (ja) | 1995-08-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081023 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091023 Year of fee payment: 11 |
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