JP2818972B2 - ヒドロキシベンジルホスホネートの製造方法 - Google Patents
ヒドロキシベンジルホスホネートの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4056—Esters of arylalkanephosphonic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はアルキル置換ヒドロキシベンジルホスホネー
トの一段階(ワンステップ)製造方法及び幾つかの新規
ヒドロキシベンジルホスホネートに関する。
トの一段階(ワンステップ)製造方法及び幾つかの新規
ヒドロキシベンジルホスホネートに関する。
多段階方法によるアルキル置換ヒドロキシベンジルホ
スホネートの製造は知られている。かように二段階方法
は英国特許第939,776号明細書及び米国特許第3,006,945
及び3,281,505号明細書に記載されており、そこでは第
一段階でo,o−ジ置換フェノールをホルムアルデヒド及
び塩酸と反応させて対応するベンジルクロライドを生じ
させ、その単離後、第二段階でそれをトリアルキルホス
フィットと反応させて3,5−ジアルキル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホネートを生じさせている。方法は更に
米国特許第3,268,630から知られており、そこでは第一
段階でフェノール化合物から対応するベンジルアルコー
ルを製造し、次いでトリフェニルホスフィットとの反応
そして続くアルコールでのエステル交換により3,5−ジ
アルキル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートを生じ
させる。更に3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネートの二つの製造方法が米国特許第3,790,64
8及び3,787,540号明細書に記載されており、その一つで
は、フェノール化合物とホルムアルデヒド及び第二アミ
ンからマンニッヒ塩基を製造し、次いでジアルキルホス
フィットと反応させて最終化合物を生じさせており、一
方、二つ目の方法ではホルムアルデヒド、二硫化炭素及
び第二アミンを用いてフェノール化合物からジチオウレ
タンを製造し、次いで第二段階においてジアルキルホス
フィットで最終化合物を生じさせる反応が行なわれる。
スホネートの製造は知られている。かように二段階方法
は英国特許第939,776号明細書及び米国特許第3,006,945
及び3,281,505号明細書に記載されており、そこでは第
一段階でo,o−ジ置換フェノールをホルムアルデヒド及
び塩酸と反応させて対応するベンジルクロライドを生じ
させ、その単離後、第二段階でそれをトリアルキルホス
フィットと反応させて3,5−ジアルキル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホネートを生じさせている。方法は更に
米国特許第3,268,630から知られており、そこでは第一
段階でフェノール化合物から対応するベンジルアルコー
ルを製造し、次いでトリフェニルホスフィットとの反応
そして続くアルコールでのエステル交換により3,5−ジ
アルキル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートを生じ
させる。更に3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネートの二つの製造方法が米国特許第3,790,64
8及び3,787,540号明細書に記載されており、その一つで
は、フェノール化合物とホルムアルデヒド及び第二アミ
ンからマンニッヒ塩基を製造し、次いでジアルキルホス
フィットと反応させて最終化合物を生じさせており、一
方、二つ目の方法ではホルムアルデヒド、二硫化炭素及
び第二アミンを用いてフェノール化合物からジチオウレ
タンを製造し、次いで第二段階においてジアルキルホス
フィットで最終化合物を生じさせる反応が行なわれる。
これらの方法は不満足である。一方で、第一段階での
反応生成物は単離されなければならず、それは時間及び
物質の点で浪費を意味し、それにおいて分離された副生
成物もまた処理されなければならない。他方で、プロセ
ス第二段階用の出発物質としても使用されるこれら中間
体は、ある場合不安定であるか又は工業的に容易に製造
することができない。
反応生成物は単離されなければならず、それは時間及び
物質の点で浪費を意味し、それにおいて分離された副生
成物もまた処理されなければならない。他方で、プロセ
ス第二段階用の出発物質としても使用されるこれら中間
体は、ある場合不安定であるか又は工業的に容易に製造
することができない。
驚ろくべきことに、結果として中間体の安定性及び製
造性の問題が無くなり経費も少なくなるヒドロキシベン
ジルホスホネートの一段階製造方法が今になって見出さ
れた。
造性の問題が無くなり経費も少なくなるヒドロキシベン
ジルホスホネートの一段階製造方法が今になって見出さ
れた。
本発明は、式II (式中、R1ないしR3は下記の意味を表す。) で表わされるフェノールを、0〜200℃の温度でホルア
ルアルデヒドもしくはパラホルムアルデヒド、次式III NR4R5R6 III (式中、R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
し、R5及びR6は互に独立して水素原子又は炭素原子数1
ないし4のアルキル基を表す。) で表されるアミン及び次式IV (式中、R7及びR8は下記の意味を表し、R9はR7及びR8に
与えられた意味を表す。) で表わされるホスフィットと反応させることからなる一
般式I (式中、 R1は水素原子又はメチル基を表し、 R2及びR3は互に独立して炭素原子数1ないし18のアル
キル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フ
ェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基
又はハロゲン原子を表し、R2は加えて水素原子も表し、
そして R7及びR8は互に独立して炭素原子数1ないし18のアル
キル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし18のアルキ
ルフェニル基を表す。) で表される化合物の製造方法に関する。
ルアルデヒドもしくはパラホルムアルデヒド、次式III NR4R5R6 III (式中、R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
し、R5及びR6は互に独立して水素原子又は炭素原子数1
ないし4のアルキル基を表す。) で表されるアミン及び次式IV (式中、R7及びR8は下記の意味を表し、R9はR7及びR8に
与えられた意味を表す。) で表わされるホスフィットと反応させることからなる一
般式I (式中、 R1は水素原子又はメチル基を表し、 R2及びR3は互に独立して炭素原子数1ないし18のアル
キル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フ
ェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基
又はハロゲン原子を表し、R2は加えて水素原子も表し、
そして R7及びR8は互に独立して炭素原子数1ないし18のアル
キル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし18のアルキ
ルフェニル基を表す。) で表される化合物の製造方法に関する。
R4,R5及びR6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そしてR2,R3,R7,R8及びR9が炭素原子数1ないし1
8のアルキル基を表す場合、これらはこの場合、直鎖状
の又は枝分れ状のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、第二ブチル基及び第三ブチル基を表す。
R2,R3,R7,R8及びR9は更に直鎖状の又は枝分れ状のペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基
及びオクタデシル基を表す。
表し、そしてR2,R3,R7,R8及びR9が炭素原子数1ないし1
8のアルキル基を表す場合、これらはこの場合、直鎖状
の又は枝分れ状のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、第二ブチル基及び第三ブチル基を表す。
R2,R3,R7,R8及びR9は更に直鎖状の又は枝分れ状のペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基
及びオクタデシル基を表す。
R2及びR3が炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
を表す場合、それらは例えばシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基又はシクロオクチル基で
あり、シクロヘキシル基が好ましい。
を表す場合、それらは例えばシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基又はシクロオクチル基で
あり、シクロヘキシル基が好ましい。
R2及びR3が炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基を表す場合、それらは例えばベンジル基、1−又は2
−フェネチル基、3−フェニルプロピル基、α,α−ジ
メチルベンジル基又は2−フェニルイソプロピル基であ
るが、ベンジル基が好ましい。
基を表す場合、それらは例えばベンジル基、1−又は2
−フェネチル基、3−フェニルプロピル基、α,α−ジ
メチルベンジル基又は2−フェニルイソプロピル基であ
るが、ベンジル基が好ましい。
R2及びR3がハロゲン原子を表す場合、それらは例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で、好
ましくは塩素原子である。
フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で、好
ましくは塩素原子である。
R7,R8及びR9が炭素原子数7ないし18のアルキルフェ
ニル基を表す場合、それらは例えば1個又はそれ以上
の、好ましくは1ないし3個の、特には1又は2個の炭
素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル
基であるが、単純なアルキル−置換フェニル基が好まし
い;炭素原子数1ないし12のアルキル基は例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、直鎖状の又は枝分れ状のノニル基又はドデシル基で
ある。
ニル基を表す場合、それらは例えば1個又はそれ以上
の、好ましくは1ないし3個の、特には1又は2個の炭
素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル
基であるが、単純なアルキル−置換フェニル基が好まし
い;炭素原子数1ないし12のアルキル基は例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、直鎖状の又は枝分れ状のノニル基又はドデシル基で
ある。
R1が水素原子又はメチル基、好ましくは水素原子を表
し、R2がシクロヘキシル基、メチル基、又は第三ブチル
基を表し、そしてR3がシクロヘキシル基を表す一般式I
で表される化合物(式I aで表される化合物)は新規で
ある。従って本発明はこれらの一般式I aで表される化
合物にも関する。式I aで表される化合物の例はジエチ
ル3,5−ジ−シクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル
ホスホネートである。
し、R2がシクロヘキシル基、メチル基、又は第三ブチル
基を表し、そしてR3がシクロヘキシル基を表す一般式I
で表される化合物(式I aで表される化合物)は新規で
ある。従って本発明はこれらの一般式I aで表される化
合物にも関する。式I aで表される化合物の例はジエチ
ル3,5−ジ−シクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル
ホスホネートである。
R1が水素原子を表す式IIで表わされるフェノールは本
発明方法において好ましく使用される。
発明方法において好ましく使用される。
R2及びR3が互に独立して炭素原子数1ないし18のアル
キル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基
を表すが、特に好ましくは炭素原子数1ないし4のアル
キル基又はシクロヘキシル基を、そしてとりわけ好まし
くはメチル基、第三ブチル基又はシクロヘキシル基を表
し、そしてR2が更に水素原子を表す式IIで表されるフェ
ノールを用いるのもまた好ましい。
キル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基
を表すが、特に好ましくは炭素原子数1ないし4のアル
キル基又はシクロヘキシル基を、そしてとりわけ好まし
くはメチル基、第三ブチル基又はシクロヘキシル基を表
し、そしてR2が更に水素原子を表す式IIで表されるフェ
ノールを用いるのもまた好ましい。
興味深きは、基R2及びR3がフェノール性水酸基に対し
てオルト−位に存在する式IIで表されるフェノールであ
る。R2及びR3は水素原子と異なるのが好ましい。
てオルト−位に存在する式IIで表されるフェノールであ
る。R2及びR3は水素原子と異なるのが好ましい。
R2及びR3が第三ブチル基を表す式IIで表されるフェノ
ールは特に興味深い。
ールは特に興味深い。
式Iで表される化合物において、 はOH基に対してp−位に存在するのが好ましい。
本発明方法において適当な形態で用いられるホルムア
ルデヒドは例えば水溶液中のホルムアルデヒド又はパラ
ホルムアルデヒドであり、パラホルムアルデヒドが好ま
しい。
ルデヒドは例えば水溶液中のホルムアルデヒド又はパラ
ホルムアルデヒドであり、パラホルムアルデヒドが好ま
しい。
本発明方法において用いられる式IIIで表されるアミ
ンは、好ましくはR4がメチル基、エチル基、プロピル基
又はブチル基を表し、R5が水素原子、メチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基を表し、そしてR6が水素原
子を表すものである。
ンは、好ましくはR4がメチル基、エチル基、プロピル基
又はブチル基を表し、R5が水素原子、メチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基を表し、そしてR6が水素原
子を表すものである。
用いられる特に好ましい式IIIで表されるアミンは、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン及
びジブチルアミンである。
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン及
びジブチルアミンである。
R7,R8及びR9が互に独立して炭素原子数1ないし4の
アルキル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし9のア
ルキルフェニル基、特にはメチル基、エチル基又はフェ
ニル基を表すIVで表されるホスフィットもまた本発明方
法に好ましく用いられる。
アルキル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし9のア
ルキルフェニル基、特にはメチル基、エチル基又はフェ
ニル基を表すIVで表されるホスフィットもまた本発明方
法に好ましく用いられる。
R1が3−位にあって水素原子を表し、R2及びR3が2−
及び6−位にあって第三ブチル基を表す式IIで表される
フェノールは、本発明方法において、溶媒の存在又は不
存在下、特には不存在下で、パラホルムアルデヒド;R4
及びR5がメチル基を表し、R6が水素原子を表す式IIIで
表されるアミン;及びR7,R8及びR9がエチル基を表わす
式IVで表されるホスフィット;と非常に好ましく反応す
る。
及び6−位にあって第三ブチル基を表す式IIで表される
フェノールは、本発明方法において、溶媒の存在又は不
存在下、特には不存在下で、パラホルムアルデヒド;R4
及びR5がメチル基を表し、R6が水素原子を表す式IIIで
表されるアミン;及びR7,R8及びR9がエチル基を表わす
式IVで表されるホスフィット;と非常に好ましく反応す
る。
本発明方法が溶媒中で行なわれる場合、適当は溶媒は
特に非極性の非プロトン性溶媒、例えば芳香族又は脂肪
族炭化水素例えばトルエン及びリグロイン、極性プロト
ン性溶媒、例えば一価又は多価アルコール又はエーテル
例えばメタノール及びメチルセロソルブ、極性非プロト
ン性溶媒例えばジメチルホルムアルデヒド又はDMSO、或
は非極性非プロトン性溶媒と極性非プロトン性溶媒であ
る。極性非プロトン性溶媒、特にジメチルホルムアミド
が溶媒として好ましく用いられる。
特に非極性の非プロトン性溶媒、例えば芳香族又は脂肪
族炭化水素例えばトルエン及びリグロイン、極性プロト
ン性溶媒、例えば一価又は多価アルコール又はエーテル
例えばメタノール及びメチルセロソルブ、極性非プロト
ン性溶媒例えばジメチルホルムアルデヒド又はDMSO、或
は非極性非プロトン性溶媒と極性非プロトン性溶媒であ
る。極性非プロトン性溶媒、特にジメチルホルムアミド
が溶媒として好ましく用いられる。
本発明方法は溶媒無しで特に好ましく行なわれる。
式II,III及びIVで表される化合物及びホルムアルデヒ
ドが適当な形態で互に反応する反応温度は、特にこれら
の化合物に、そして反応が溶媒で行なわれるか無溶媒で
行なわれるかに依存する。本発明方法は0〜200℃、好
ましく80〜150℃、特には80〜120℃の温度で行なわれ
る。
ドが適当な形態で互に反応する反応温度は、特にこれら
の化合物に、そして反応が溶媒で行なわれるか無溶媒で
行なわれるかに依存する。本発明方法は0〜200℃、好
ましく80〜150℃、特には80〜120℃の温度で行なわれ
る。
特定のフェノール又はホスフィットに依存して、反応
時間は例えば1ないし12時間の範囲で変化する。
時間は例えば1ないし12時間の範囲で変化する。
式II及びIVで表される出発物質及びホルムアルデヒド
成分は約等モル量で都合良く反応する。しかしながら式
IVで表される化合物及びホルムアルデヒド成分は、フェ
ノール:ホルムアルデヒド:ホスフィットが1:3:4の比
となるまで過剰に用いることもできる。
成分は約等モル量で都合良く反応する。しかしながら式
IVで表される化合物及びホルムアルデヒド成分は、フェ
ノール:ホルムアルデヒド:ホスフィットが1:3:4の比
となるまで過剰に用いることもできる。
用いられる式IIIで表されるアミンの量は、式IIで表
されるフェノールに対して一般的に1〜250モル%、好
ましくは25〜125モル%、特には40〜125モル%である。
されるフェノールに対して一般的に1〜250モル%、好
ましくは25〜125モル%、特には40〜125モル%である。
反応生成物はそれ自体公知の方法で後処理される。使
用する系に依存して、例えば次の後処理方法を用いるこ
とができる: −減圧蒸留による反応中に生成した水を含む揮発成分の
除去。
用する系に依存して、例えば次の後処理方法を用いるこ
とができる: −減圧蒸留による反応中に生成した水を含む揮発成分の
除去。
−例えばヘキサン、ヘプタン、トルエン、酢酸エチル又
はメチレンクロライドのような水−非混和性有機溶媒で
の抽出、水での1又はそれ以上の回数の洗浄及び続く乾
燥分離有機相の蒸発。
はメチレンクロライドのような水−非混和性有機溶媒で
の抽出、水での1又はそれ以上の回数の洗浄及び続く乾
燥分離有機相の蒸発。
生成物にもよるが、他の可能な連続精製方法、例えば
再結晶又はクロマトグラフ的方法を使用することもでき
る。
再結晶又はクロマトグラフ的方法を使用することもでき
る。
本発明方法により製造される化合物は、例えば米国特
許第3,280,070号、同3,281,505号及び同3,367,870号明
細書に記載されている多様な有機モノマー及びポリマー
のための熱−酸化及び/又は光誘導劣化に対する安定剤
として著しく適している。
許第3,280,070号、同3,281,505号及び同3,367,870号明
細書に記載されている多様な有機モノマー及びポリマー
のための熱−酸化及び/又は光誘導劣化に対する安定剤
として著しく適している。
以下、実施例で本発明をより詳細に説明する。その中
の及び残りの記述中の「部」及び「%」は特記しない限
り重量による。
の及び残りの記述中の「部」及び「%」は特記しない限
り重量による。
実施例1:溶液中のジエチル3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジルホスホネートの製造 2,6−ジ−第三ブチルフェノール20.63g(100ミリモ
ル)、パラホルムアルデヒド5.22g(174ミリモル)、33
%エタノール性ジメチルアミン61g(45ミリモル)及び
N,N−ジメチルホルムアミドを、還流凝縮器及び撹拌機
を備えたスルホン化フラスコ中で1時間、窒素ガス下で
50℃に加熱する。この場合物にトリエチルホスフィット
33.23g(200ミリモル)を加える。それを還流下105℃の
反応温度で加熱する;最終生成物への転化は82%(HPL
C)である。後処理:抽出(水/メチルシクロヘキサ
ン)及び再結晶(メチルシクロヘキサン)。
ヒドロキシベンジルホスホネートの製造 2,6−ジ−第三ブチルフェノール20.63g(100ミリモ
ル)、パラホルムアルデヒド5.22g(174ミリモル)、33
%エタノール性ジメチルアミン61g(45ミリモル)及び
N,N−ジメチルホルムアミドを、還流凝縮器及び撹拌機
を備えたスルホン化フラスコ中で1時間、窒素ガス下で
50℃に加熱する。この場合物にトリエチルホスフィット
33.23g(200ミリモル)を加える。それを還流下105℃の
反応温度で加熱する;最終生成物への転化は82%(HPL
C)である。後処理:抽出(水/メチルシクロヘキサ
ン)及び再結晶(メチルシクロヘキサン)。
収量:23.0g(65%)、融点120℃、純度(HPLC):98%。
微量分析: C H P 計算値: 64.02 9.33 8.69% 実測値: 64.26 9.53 8.7 % 実施例2 アミンとしてジメチルアミンの代わりにシブチルアミ
ンを用い、また溶媒としてDMF/トルエンの1:1混合物20m
lを用いて実施例1の如く操作する:実施例1における
のと同じ生成物が88%の転化率(HPLC)で得られる。後
処理(水/トルエンでの抽出及びリグロインからの再結
晶)後、27.2g(79%)の生成物が得られる。融点120
℃、純度(HPLC):98%。
ンを用い、また溶媒としてDMF/トルエンの1:1混合物20m
lを用いて実施例1の如く操作する:実施例1における
のと同じ生成物が88%の転化率(HPLC)で得られる。後
処理(水/トルエンでの抽出及びリグロインからの再結
晶)後、27.2g(79%)の生成物が得られる。融点120
℃、純度(HPLC):98%。
実施例3:ジエチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスフォネート(無溶媒)の製造 HTMP(ヒドロキシメチルピペリジン)3.2g、パラホル
ムアルデヒド52.3g及び2,6−ジ第三ブチルフェノール20
6.3gを不活性にし、そして初め減圧下60℃で、底にある
出口、隔壁、インペラ撹拌機及びガス導入用のサブレベ
ルエアロックを備えた二重被覆(doublc−jacketed)フ
ラスコ中に入れる。この温度でジメチルアミン52gを入
れ、その混合物を85℃で1時間撹拌する。トリエチルホ
スフィット332gの添加を行ない、その後反応混合物を11
5℃に4時間保つ。後処理:減圧下でのトリエチルホス
フィットとジメチルアミンの蒸留及び残渣のリグロイン
からの結晶化で融点114℃の生成物320g(90%)が得ら
れる。
ベンジルホスフォネート(無溶媒)の製造 HTMP(ヒドロキシメチルピペリジン)3.2g、パラホル
ムアルデヒド52.3g及び2,6−ジ第三ブチルフェノール20
6.3gを不活性にし、そして初め減圧下60℃で、底にある
出口、隔壁、インペラ撹拌機及びガス導入用のサブレベ
ルエアロックを備えた二重被覆(doublc−jacketed)フ
ラスコ中に入れる。この温度でジメチルアミン52gを入
れ、その混合物を85℃で1時間撹拌する。トリエチルホ
スフィット332gの添加を行ない、その後反応混合物を11
5℃に4時間保つ。後処理:減圧下でのトリエチルホス
フィットとジメチルアミンの蒸留及び残渣のリグロイン
からの結晶化で融点114℃の生成物320g(90%)が得ら
れる。
実施例4:ジエチル3,5−ジ−シクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホネートの製造 フェノールとして2,6−ジ−第三ブチルフェノールの
代わりに2,6−ジシクロヘキシルフェノールを用い、実
施例1のように操作する。76%転化(HPLC)が達成され
る。後処理(水/メチルシクロヘキサン)での抽出及び
メチルシクロヘキサンからの再結晶)後、生成物16.6g
(42%)が得られる。融点120℃、純度(HPLC):96%。
ロキシベンジルホスホネートの製造 フェノールとして2,6−ジ−第三ブチルフェノールの
代わりに2,6−ジシクロヘキシルフェノールを用い、実
施例1のように操作する。76%転化(HPLC)が達成され
る。後処理(水/メチルシクロヘキサン)での抽出及び
メチルシクロヘキサンからの再結晶)後、生成物16.6g
(42%)が得られる。融点120℃、純度(HPLC):96%。
微量分析 C H P 計算値: 67.62 9.13 7.58% 実測値: 68.45 9.17 7.8 % 実施例5:ジフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホネートの製造 溶液(エタノール)を省き、ジメチルアミンの代わり
にジプロピルアミン8.1gを、そしてトリエチルホスフィ
ットの代わりにトリフェニルホスフィット55gを用いて
実施例1の操作を繰り返す:後処理(水/ヘキサンでの
抽出及びヘキサンからの再結晶)後、生成物24.3g(54
%)が得られる。融点130℃、純度(HPLC):98%。
シベンジルホスホネートの製造 溶液(エタノール)を省き、ジメチルアミンの代わり
にジプロピルアミン8.1gを、そしてトリエチルホスフィ
ットの代わりにトリフェニルホスフィット55gを用いて
実施例1の操作を繰り返す:後処理(水/ヘキサンでの
抽出及びヘキサンからの再結晶)後、生成物24.3g(54
%)が得られる。融点130℃、純度(HPLC):98%。
微量分析: C H P 計算値: 71.66 7.35 6.84% 実測値: 71.75 7.46 6.9 % 実施例6:ジメチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリメチルホスフィット
22.3gに換えて実施例5の如く操作する。後処理(水/
メチルシクロヘキサンでの抽出及びイソプロパノールか
らの再結晶)後、生成物19.2g(59%)が得られる。融
点155℃、純度(HPLC):85%。
ベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリメチルホスフィット
22.3gに換えて実施例5の如く操作する。後処理(水/
メチルシクロヘキサンでの抽出及びイソプロパノールか
らの再結晶)後、生成物19.2g(59%)が得られる。融
点155℃、純度(HPLC):85%。
微量分析: C H P 計算値: 62.18 8.90 9.43% 実測値: 61.57 8.81 9.4 % 実施例7:ジエチル3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネートの製造 2,6−ジ第三ブチルフェノールを2,6−ジメチルフェノ
ール12.2gに換えて実施例1の如く操作する。82%(HPL
C)の転化が達成される。後処理(水/メチルシクロヘ
キサンでの抽出及びシリカゲルクロマトグラフィー)
後、生成物13.8g(51%)が得られる。融点65℃、純度
(HPLC):98%。
ジルホスホネートの製造 2,6−ジ第三ブチルフェノールを2,6−ジメチルフェノ
ール12.2gに換えて実施例1の如く操作する。82%(HPL
C)の転化が達成される。後処理(水/メチルシクロヘ
キサンでの抽出及びシリカゲルクロマトグラフィー)
後、生成物13.8g(51%)が得られる。融点65℃、純度
(HPLC):98%。
微量分析 C H P 計算値: 57.35 7.77 11.38% 実測値: 57.36 7.79 11.3 % 実施例8:ジイソプロピル2,6−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリイソプロピルホスフ
ィット28.2gに換えて実施例5の如く操作する。95%(H
PLC)の転化が達成される。後処理(水/ヘキサンでの
抽出及びヘキサンからの再結晶)後、生成物21.1g(55
%)が得られる。融点100℃、純度(HPLC):97%。
ロキシベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリイソプロピルホスフ
ィット28.2gに換えて実施例5の如く操作する。95%(H
PLC)の転化が達成される。後処理(水/ヘキサンでの
抽出及びヘキサンからの再結晶)後、生成物21.1g(55
%)が得られる。融点100℃、純度(HPLC):97%。
微量分析 C H P 計算値: 65.60 9.70 8.06% 実測値: 65.67 9.74 8.0 % 実施例9:ジイソプロピル2,6−ジシクロヘキシル−4−
ヒドロキシベンジルホスホネートの製造 2,6−ジシクロヘキシルフェノール25.84g(100ミリモ
ル)、パラホルムアルデヒド5.22g(175ミリモル)、ジ
プロピルアミン8.1g及びトリイソプロピルホスフィット
50g(240ミリモル)を実施例1と同様に処置する:72%
(HPLC)の転化が達成される。後処理(水/ヘキサンで
の抽出及びヘキサンからの再結晶)後、生成物13.7g(3
1%)が得られる。融点143℃、純度(HPLC):96%。
ヒドロキシベンジルホスホネートの製造 2,6−ジシクロヘキシルフェノール25.84g(100ミリモ
ル)、パラホルムアルデヒド5.22g(175ミリモル)、ジ
プロピルアミン8.1g及びトリイソプロピルホスフィット
50g(240ミリモル)を実施例1と同様に処置する:72%
(HPLC)の転化が達成される。後処理(水/ヘキサンで
の抽出及びヘキサンからの再結晶)後、生成物13.7g(3
1%)が得られる。融点143℃、純度(HPLC):96%。
微量分析 C H P 計算値: 68.78 9.47 7.09% 実測値: 69.09 9.54 7.1 % 実施例10:ジブチル2,6−ジシクロヘキシル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホネートの製造 トリイソプロピルホスフィットをトリブチルホスフィ
ット46.3gに換えて実施例9の如く操作する。後処理
(水、2N−HCl/ヘキサンでの抽出)後、液体生成物44g
(99%)が得られる。純度(HPCL):74%。
キシベンジルホスホネートの製造 トリイソプロピルホスフィットをトリブチルホスフィ
ット46.3gに換えて実施例9の如く操作する。後処理
(水、2N−HCl/ヘキサンでの抽出)後、液体生成物44g
(99%)が得られる。純度(HPCL):74%。
実施例11:ジエチル2−シクロヘキシル−6−メチル−
4−ヒドロキシベンジルホスホネートの製造 2,6−ジ第三ブチルフェノールを2−シクロヘキシル
−6−メチルフェノール19.0gに換えて実施例1の如く
操作する。69%(HPLC)の転化が達成される。後処理
(水/メチルシクロヘキサンでの抽出及びメチルシクロ
ヘキサンからの再結晶)後、生成物7.0g(20%)が得ら
れる。融点73℃、純度(HPCL):96%。
4−ヒドロキシベンジルホスホネートの製造 2,6−ジ第三ブチルフェノールを2−シクロヘキシル
−6−メチルフェノール19.0gに換えて実施例1の如く
操作する。69%(HPLC)の転化が達成される。後処理
(水/メチルシクロヘキサンでの抽出及びメチルシクロ
ヘキサンからの再結晶)後、生成物7.0g(20%)が得ら
れる。融点73℃、純度(HPCL):96%。
微量分析 C H P 計算値: 63.51 8.59 9.10% 実測値: 63.86 8.71 9.0 % 実施例12:ジイソオクチル2,4−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホネート(異性体混合物) トリフェニルホスフィットをトリイソオクチルホスフ
ィット(異性体混合物)に換えて実施例5の如く操作す
る。後処理(水/酢酸エチルでの抽出及びシリカゲルク
ロマトグラフィー)後、生成物12.8g(64%)が得られ
る。純度(HPLC):96%異性体混合物。
ロキシベンジルホスホネート(異性体混合物) トリフェニルホスフィットをトリイソオクチルホスフ
ィット(異性体混合物)に換えて実施例5の如く操作す
る。後処理(水/酢酸エチルでの抽出及びシリカゲルク
ロマトグラフィー)後、生成物12.8g(64%)が得られ
る。純度(HPLC):96%異性体混合物。
微量分析 C H P 計算値: 70.95 10.95 5.90% 実測値: 70.43 11.41 5.8 % 実施例13:ジイソデシル2,4−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホネート(異性体混合物)の製造 トリフェニルホスフィットをトリイソデシルホスフィ
ット(異性体混合物)59.3gに換えて実施例5と同様に
操作する。後処理(水/酢酸エチルでの抽出及びシリカ
ゲルクロマトグラフィー)後、生成物33.8g(58%)が
得られる。純度(HPLC):96%異性体混合物。
キシベンジルホスホネート(異性体混合物)の製造 トリフェニルホスフィットをトリイソデシルホスフィ
ット(異性体混合物)59.3gに換えて実施例5と同様に
操作する。後処理(水/酢酸エチルでの抽出及びシリカ
ゲルクロマトグラフィー)後、生成物33.8g(58%)が
得られる。純度(HPLC):96%異性体混合物。
微量分析 C H 計算値: 72.37 11.28% 実測値: 72.10 11.7 % 実施例14:ジドデシル2,6−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリドデシルホスフィッ
ト117.4gに換えて実施例5の如く操作する。後処理(水
/酢酸エチルでの抽出及びシリカゲルクロマトグラフィ
ー)後、生成物46g(72%)が得られる。純度(HPL
C):〜75%。
シベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリドデシルホスフィッ
ト117.4gに換えて実施例5の如く操作する。後処理(水
/酢酸エチルでの抽出及びシリカゲルクロマトグラフィ
ー)後、生成物46g(72%)が得られる。純度(HPL
C):〜75%。
微量分析 C H 計算値: 73.54 11.55% 実測値: 74.27 12.6 % 実施例15:ジオクタデシル2,6−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリオクタデシルホスフ
ィット98.6gに換えて実施例5の如く操作する。後処理
(水/酢酸エチルでの抽出及びシリカゲルクロマトグラ
フィー)後、生成物59g(73%)が得られる。純度(HPL
C):〜98%。
ロキシベンジルホスホネートの製造 トリフェニルホスフィットをトリオクタデシルホスフ
ィット98.6gに換えて実施例5の如く操作する。後処理
(水/酢酸エチルでの抽出及びシリカゲルクロマトグラ
フィー)後、生成物59g(73%)が得られる。純度(HPL
C):〜98%。
微量分析 C H 計算値: 76.07 12.14% 実測値: 77.87 12.92%
フロントページの続き (72)発明者 ロゲール マルティン スイス国,1723 マルリー,ボイス デ ュ ローレ 8 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 9/40 CA(STN)
Claims (13)
- 【請求項1】次式II (式中、R1ないしR3は下記の意味を表す。) で表わされるフェノールを、0〜200℃の温度でホルア
ルアルデヒドもしくはパラホルムアルデヒド、次式III NR4R5R6 III (式中、R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
し、R5及びR6は互に独立して水素原子又は炭素原子数1
ないし4のアルキル基を表す。) で表されるアミン及び次式IV (式中、R7及びR8は下記の意味を表し、R9はR7及びR8に
与えられた意味を表す。) で表わされるホスフィットと反応させることからなる一
般式I (式中、 R1は水素原子又はメチル基を表し、 R2及びR3は互に独立して炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェ
ニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基又
はハロゲン原子を表し、R2は加えて水素原子も表し、そ
して R7及びR8は互に独立して炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし18のアルキル
フェニル基を表す。) で表される化合物の製造方法。 - 【請求項2】R1が水素原子を表す請求項1記載の方法。
- 【請求項3】R2及びR3が互に独立して炭素原子数1ない
し18のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は
ベンジル基を表し、そしてR2が加えて水素原子も表す請
求項1記載の方法。 - 【請求項4】R2及びR3がフェノール性水酸基のオルト−
位に存在する請求項1記載の方法。 - 【請求項5】式IIIで表されるアミンにおいてR4がメチ
ル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を表し、R5が
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル
基を表わし、そしてR6が水素原子を表す請求項1記載の
方法。 - 【請求項6】R7,R8及びR9が互に独立して炭素原子数1
ないし4のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数7な
いし9のアルキルフェニル基を表す請求項1記載の方
法。 - 【請求項7】R7,R8及びR9が互に独立して炭素原子数18
のアルキル基又は炭素原子数15のアルキルフェニル基を
表す請求項1記載の方法。 - 【請求項8】R1が3−位で水素原子を表し、R2及びR3が
2−及び6−位で第三ブチル基を表わす式IIで表わされ
るフェノールを、パラホルムアルデヒド、R4及びR5がメ
チル基を表し、R6が水素原子を表す式IIIで表わされる
アミン、及びR7,R8及びR9がエチル基を表わす式IVで表
わされるホスフィットと反応させる請求項1記載の方
法。 - 【請求項9】溶媒中で行なわれる請求項1記載の方法。
- 【請求項10】溶媒無しで行なわれる請求項1記載の方
法。 - 【請求項11】式IIで表されるフェノール:ホルムアル
デヒド:式IVで表されるホスフィットの比が1:1:1ない
し1:3:4である請求項1記載の方法。 - 【請求項12】使用される式IIIで表されるアミンの量
が式IIで表されるフェノールに対し1〜250モル%であ
る請求項1記載の方法。 - 【請求項13】一般式I a (式中、 R1は水素原子を表し、 R2はメチル基、第三ブチル基又はシクロヘキシル基を表
し、そして R7及びR8は互に独立して炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし18のアルキル
フェニル基を表す。) で表される化合物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH427189 | 1989-11-29 | ||
CH4271/89-9 | 1989-11-29 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP (1) | JP2818972B2 (ja) |
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KR100418260B1 (ko) * | 2001-08-10 | 2004-02-11 | 미원상사주식회사 | 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시 벤질알코올의 제조방법 |
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US3006945A (en) * | 1960-09-01 | 1961-10-31 | Ethyl Corp | Preparation of organic compounds |
US3268630A (en) * | 1963-02-25 | 1966-08-23 | Geigy Chem Corp | Preparation of hydroxyphenyl alkane phosphonates |
US3281505A (en) * | 1963-09-12 | 1966-10-25 | Geigy Chem Corp | Dialkylhydroxyethanephosphonates and dialkylhydroxybenzylphosphonates |
CH542248A (de) * | 1971-02-17 | 1973-09-30 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Benzylphosphonaten |
CH560227A5 (ja) * | 1971-05-12 | 1975-03-27 | Ciba Geigy Ag | |
US3962377A (en) * | 1973-09-25 | 1976-06-08 | Ciba-Geigy Corporation | 2,3,5-Trialkyl-4-hydroxybenzylphosphonates and phosphinates |
EP0002042B1 (de) * | 1977-11-16 | 1980-10-29 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diamino-1,3,5-triazinylstilbenverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung als optische Aufheller |
DE3030365A1 (de) * | 1980-08-11 | 1982-03-25 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Hydroxynaphthylmethanphosphon- und phosphinsaeuren, ihre ester sowie verfahren zu deren herstellung |
-
1990
- 1990-11-20 DE DE59009533T patent/DE59009533D1/de not_active Expired - Fee Related
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- 1990-11-21 US US07/616,549 patent/US5157141A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-29 JP JP2333441A patent/JP2818972B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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DE59009533D1 (de) | 1995-09-21 |
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