JP2810092B2 - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JP2810092B2
JP2810092B2 JP1069193A JP6919389A JP2810092B2 JP 2810092 B2 JP2810092 B2 JP 2810092B2 JP 1069193 A JP1069193 A JP 1069193A JP 6919389 A JP6919389 A JP 6919389A JP 2810092 B2 JP2810092 B2 JP 2810092B2
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勝 鈴木
和浩 西村
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旭化成工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規な光学情報記録媒体、さらに詳しく
は、光や熱などを用いて、光学的に情報を高速かつ高密
度に記録、再生、消去することができる、繰り返し特性
のすぐれた光学情報記録媒体に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel optical information recording medium, and more particularly, to high-speed, high-density recording, reproduction, and erasing of optical information using light or heat. The present invention relates to an optical information recording medium having excellent repetition characteristics.

従来の技術 近年、半導体レーザー光を用いて情報を繰り返し記
録、消去しうる光ディスクに対する要望が高まってきて
いる。これまで、この情報を記録及び消去しうる、いわ
ゆる書き替え可能な光ディスクとしては、光学記録層の
相変化による光学定数の差異を利用して、情報を記録す
る方式、例えばレーザー光のパワーの変調によって光学
記録層が、結晶質と非晶質との間で可逆的に相変化する
ことを利用して情報を記録、消去する方式のものが知ら
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for an optical disk capable of repeatedly recording and erasing information using a semiconductor laser beam. Heretofore, as a so-called rewritable optical disk capable of recording and erasing this information, a method of recording information by utilizing a difference in optical constant due to a phase change of an optical recording layer, for example, modulation of laser beam power. There is known a method of recording and erasing information by utilizing the fact that an optical recording layer reversibly changes phase between crystalline and amorphous.

そして、このような相変化方式の光学記録層として
は、半導体レーザーの波長領域で吸収があり、かつ融点
の比較的低いものが望まれることから、主としてカルコ
ゲン材料が用いられていることが、このものは融点が約
500℃以上であり、基板が変形しやすいので、この基板
変形を防止したり、光学記録層の酸化や変更を防止する
ために、通常該光学記録層の両側に酸化物、窒化物、炭
化物、フッ化物、硫化物、あるいはこれらの混合物から
成る耐熱保護層を設けることが行われている。
As such a phase-change type optical recording layer, it is desired that a material having absorption in a wavelength region of a semiconductor laser and having a relatively low melting point is used, and therefore, a chalcogen material is mainly used. Things have a melting point of about
Since the substrate is easily deformed at a temperature of 500 ° C. or higher, in order to prevent the deformation of the substrate or to prevent the optical recording layer from being oxidized or changed, an oxide, a nitride, a carbide, It has been practiced to provide a heat-resistant protective layer made of fluoride, sulfide, or a mixture thereof.

このような保護層を設ける場合、記録前後の反射率変
化を大きくするため、あるいは半導体レーザー光を光学
記録層へ効率よく吸収させるために、該保護層の屈折率
をn、基板側の保護層(下層)の膜厚をd1、それとは反
対側の保護層(上層)の膜厚をd3、半導体レーザー光の
波長をλとしたとき、式 の関係を満たすようにするのが光学的に有利である。
When such a protective layer is provided, the refractive index of the protective layer is set to n, and the protective layer on the substrate side is set in order to increase the change in reflectance before and after recording or to efficiently absorb the semiconductor laser light into the optical recording layer. Assuming that the thickness of the (lower) layer is d 1 , the thickness of the protective layer (upper layer) on the opposite side is d 3 , and the wavelength of the semiconductor laser light is λ, It is optically advantageous to satisfy the relationship

しかしながら、このような条件を満たそうとすると、
記録媒体自体の反射率が低く、フォーカスサーボやトラ
ッキングサーボが不安定になりやすくて、ドライブ設計
が困難になるという問題を生じる。さらに、相変化方式
では、記録・消去の際に光学記録層の冷却速度の差によ
って、非晶質あるいは結晶質にするため、保護層や光学
記録層の熱物性により、記録・消去に最適な膜厚が、光
学的に設計された膜厚とは異なったものになるという問
題も伴う。
However, if you try to meet these conditions,
There is a problem that the reflectance of the recording medium itself is low, the focus servo and the tracking servo tend to be unstable, and the drive design becomes difficult. In addition, in the phase change method, the optical recording layer is made amorphous or crystalline due to a difference in cooling rate of the optical recording layer during recording / erasing. There is also a problem that the film thickness becomes different from the optically designed film thickness.

発明が解決しようとする課題 本発明は、基板上に光学記録層を有し、この光学記録
層の両側に耐熱保護層を設けた相変化方式の光学情報記
録媒体において、情報を光学的に高速かつ高密度に記
録、再生、消去することができる、繰り返し特性のすぐ
れた光学情報記録媒体を提供することを目的としてなさ
れたものである。
The present invention is directed to a phase-change optical information recording medium having an optical recording layer on a substrate and heat-resistant protective layers on both sides of the optical recording layer. It is an object of the present invention to provide an optical information recording medium capable of recording, reproducing, and erasing at high density and having excellent repetition characteristics.

課題を解決するための手段 本発明者らは、相変化を利用した光学情報記録媒体に
おける前記した欠点を克服するために鋭意研究を重ねた
結果、光学記録層がSd−Te−Ge合金で、耐熱保護層が硫
化亜鉛を主成分とする光学情報記録媒体において、基板
側に設けられた耐熱保護層の膜厚を100〜150nmの範囲
に、その反対側に設けられた耐熱保護層の膜厚を120〜1
80nmの範囲に、光学記録層の膜厚を60〜100nmの範囲に
することにより、その目的を達成しうることを見出し、
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to overcome the above-mentioned drawbacks in the optical information recording medium using phase change, and as a result, the optical recording layer is a Sd-Te-Ge alloy, In an optical information recording medium in which the heat-resistant protective layer is mainly composed of zinc sulfide, the thickness of the heat-resistant protective layer provided on the substrate side is in the range of 100 to 150 nm, and the thickness of the heat-resistant protective layer provided on the opposite side. The 120-1
In the range of 80 nm, by setting the thickness of the optical recording layer in the range of 60 to 100 nm, it has been found that the object can be achieved,
Based on this finding, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、透明基板上に、非晶質と結晶質
間の相変化を利用して情報の記録、消去を行う光学記録
層を有し、該光学記録層の両側に耐熱保護層を設けた光
学情報記録媒体において、該光学記録層がSd−Te−Ge合
金から成り、該耐熱保護層が硫化亜鉛を主成分とし、か
つ基板側に設けられた耐熱保護層の膜厚が100〜150nm、
その反対側に設けられた耐熱保護層の膜厚が120〜180nm
及び光学記録層の膜厚が60〜100nmであることを特徴と
する光学情報記録媒体を提供するものである。
That is, the present invention has an optical recording layer for recording and erasing information by utilizing a phase change between amorphous and crystalline on a transparent substrate, and a heat-resistant protective layer on both sides of the optical recording layer. In the provided optical information recording medium, the optical recording layer is made of an Sd-Te-Ge alloy, the heat-resistant protective layer is mainly composed of zinc sulfide, and the heat-resistant protective layer provided on the substrate has a thickness of 100 to 150nm,
The thickness of the heat-resistant protective layer provided on the opposite side is 120 to 180 nm
And an optical information recording medium characterized in that the thickness of the optical recording layer is 60 to 100 nm.

第1図は本発明の光学情報記録媒体の構造の1例を示
す断面図であって、透明基板1の上に下層耐熱保護層
2、光学記録層3、上層耐熱保護層4及び紫外線硬化樹
脂層5が順次積層されている。d1、d2、d3はそれぞれ下
層耐熱保護層、光学記録層、上層耐熱保護層の厚さであ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the optical information recording medium of the present invention, in which a lower heat-resistant protective layer 2, an optical recording layer 3, an upper heat-resistant protective layer 4, and an ultraviolet curable resin are provided on a transparent substrate 1. The layers 5 are sequentially stacked. d 1 , d 2 and d 3 are the thicknesses of the lower heat-resistant protective layer, the optical recording layer and the upper heat-resistant protective layer, respectively.

本発明の光学情報記録媒体における透明基板として
は、従来、光ディスクの基板として慣用されているも
の、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなど
の樹脂やガラスなどの中から任意のものを選択して用い
ることができるが、これらの中で光学特性が良好で、機
械的強度が大きく、かつ寸法安定性に優れるポリカーボ
ネート、ポリメチルメタクリレート及びガラスなどが好
適である。また、これらの透明基板にはアドレス情報な
どの凹凸が形成されていてもよい。
As the transparent substrate in the optical information recording medium of the present invention, those conventionally used as substrates for optical discs, for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, resins and glass such as polymethyl methacrylate and the like can be used. Among them, polycarbonate, polymethyl methacrylate, glass, and the like, which have good optical properties, high mechanical strength, and excellent dimensional stability, are preferable. Further, irregularities such as address information may be formed on these transparent substrates.

本発明の光学情報記録媒体において、前記透明基板上
に設けられる、レーザー光のパワーの変調によって非晶
質と結晶質との間で可逆的に相変化する光学記録層とし
ては、Sd−Te−Geの三元系合金が用いられる。この光学
記録層の形成方法については特に制限はなく、公知の方
法、例えば蒸着、共蒸着、フラッシュ蒸着、スパッタリ
ング、反応性スパッタリング、イオンプレーティングな
どの方法を用いることができる。
In the optical information recording medium of the present invention, as the optical recording layer provided on the transparent substrate, the phase of which changes reversibly between amorphous and crystalline by modulating the power of laser light, Sd-Te- A ternary alloy of Ge is used. The method for forming the optical recording layer is not particularly limited, and a known method, for example, a method such as evaporation, co-evaporation, flash evaporation, sputtering, reactive sputtering, or ion plating can be used.

また、本発明の光学情報記録媒体においては、前記光
学記録層の両側に、基板の変形を防止したり、光学記録
層の酸化や変形を防止するために、硫化亜鉛を主成分と
する耐熱保護層が設けられる。この耐熱保護層の形成方
法については特に制限はなく、これまで常用されている
方法、例えば蒸着法、スパッタリグ法、イオンプレーテ
ィング法などを任意に用いることができる。
Further, in the optical information recording medium of the present invention, on both sides of the optical recording layer, in order to prevent deformation of the substrate or to prevent oxidation or deformation of the optical recording layer, heat protection mainly comprising zinc sulfide is adopted. A layer is provided. The method for forming the heat-resistant protective layer is not particularly limited, and any method conventionally used, for example, a vapor deposition method, a sputter rig method, an ion plating method, or the like can be arbitrarily used.

本発明の光学情報記録媒体においては、前記各層の膜
厚を所定の範囲に制御することが必要である。すなわ
ち、基板側に設けられた耐熱保護層の膜厚を100〜150nm
の範囲に、その反対側に設けられた耐熱保護層の膜厚を
120〜180nmの範囲に、光学記録層の膜厚を60〜100nmの
範囲にすることが必要である。
In the optical information recording medium of the present invention, it is necessary to control the thickness of each of the layers within a predetermined range. That is, the thickness of the heat-resistant protective layer provided on the substrate side is 100 to 150 nm.
The thickness of the heat-resistant protective layer provided on the opposite side
It is necessary that the thickness of the optical recording layer be in the range of 60 to 100 nm in the range of 120 to 180 nm.

すなわち、光学記録層に用いられるSd−Te−Ge合金及
び耐熱保護層に用いられる硫化亜鉛の屈折率をそれぞれ
約4及び2.3、半導体レーザー光の波長を830nm、光学記
録層の膜厚を80nmとしたとき、該光学記録層が非晶質の
場合、基板側に設けられた耐熱保護層(下層)の膜厚d1
及びその反対側に設けられた耐熱保護層(上層)の膜厚
d3と、光学情報記録媒体の反射率との関係は第2図のグ
ラフに示すようになる。
That is, the refractive index of the Sd-Te-Ge alloy used for the optical recording layer and the refractive index of zinc sulfide used for the heat-resistant protective layer are about 4 and 2.3, respectively, the wavelength of the semiconductor laser light is 830 nm, and the film thickness of the optical recording layer is 80 nm. Then, if the optical recording layer is amorphous, the thickness d 1 of the heat-resistant protective layer (lower layer) provided on the substrate side
And the thickness of the heat-resistant protective layer (upper layer) provided on the opposite side
and d 3, the relationship between the reflectance of the optical information recording medium is as shown in the graph of Figure 2.

前記したように、反射率が低いところでは、フォーカ
スサーボやトラッキングサーボが不安定になるので、光
学情報記録媒体の反射率は10%以上であることが望まし
いが、そのようにするためには、第2図から下層保護層
膜厚d1は50nm以下、若しくは100nm以上であることが必
要なことが分る。しかし、記録の際、光学記録層が500
℃以上の高温となるため、d1が50nm以下の領域では、耐
熱保護層自体が変形を生じ、前に記録したデーターが消
去できなくなる、いわゆる消し残りを生じ、耐熱保護層
の役割を果たさななる。
As described above, where the reflectivity is low, the focus servo and tracking servo become unstable. Therefore, it is desirable that the reflectivity of the optical information recording medium is 10% or more. lower protective layer thickness d 1 from the second figure 50nm or less, or it is found that is necessary is 100nm or more. However, when recording, the optical recording layer is 500
In the region where d 1 is 50 nm or less, the heat-resistant protective layer itself is deformed, so that the previously recorded data cannot be erased. Become.

また、第3図は、光学記録層が結晶質になった場合
(屈折率約6)における、下層保護層膜厚d1及び上層保
護層膜厚d3と光学記録層の半導体レーザー吸収効率(η
c)との関係を示すグラフであるが、下層保護層膜厚d1
が100nmより厚い領域では膜厚が厚くなるのに従い、吸
収効率が小さくなり、記録感度が低下するので、吸収効
率が50%を下回らないようにするには、下層保護層膜厚
d1を150nm以下にすることが必要である。以上の結果か
ら、下層保護層膜厚d1は100〜150nmの範囲で選ぶことが
必要になる。
FIG. 3 shows the lower protective layer thickness d 1 and the upper protective layer thickness d 3 and the semiconductor laser absorption efficiency of the optical recording layer when the optical recording layer becomes crystalline (refractive index: about 6). η
3C is a graph showing the relationship with c), and shows the lower protective layer thickness d 1.
When the film thickness is larger than 100 nm, as the film thickness increases, the absorption efficiency decreases and the recording sensitivity decreases. To prevent the absorption efficiency from falling below 50%, the thickness of the lower protective layer is required.
It is necessary to set d 1 to 150 nm or less. From the above results, the lower protective layer thickness d 1 may be necessary to choose a range of 100 to 150 nm.

他方、上層の耐熱保護層も、膜厚d3が100nm以下で
は、熱変形を生じ好ましくない。第4図は、光学記録層
が非質晶の場合(屈折率約4)における、下層保護層膜
厚d1及び上層保護層膜厚d3と、光学記録層の半導体レー
ザーの吸収効率(ηa)との関係をグラフに示したもの
であるが、この第4図から分かるように、上層保護層膜
厚d3が100nm以上の領域においては、膜厚が厚くなるほ
ど、吸収効率がよくなる半面、消去感度は低下する。し
たがって、吸収効率が70%を下回らないためには、上層
保護層膜厚d3は120nm以上であることが必要である。ま
た、上層保護層膜厚d3が厚くなるほど、記録時の光学記
録層の冷却速度は高くなる半面、昇温には大きなエネル
ギーを必要とするので、上層保護層膜厚が厚すぎると、
むしろ記録感度が低下する。したがって、上層保護層膜
厚d3は180nm以下であることが必要である。
On the other hand, the upper layer of the heat-resistant protective layer, a thickness d 3 is 100nm or less is undesirable cause thermal deformation. FIG. 4 shows the lower protective layer thickness d 1 and the upper protective layer thickness d 3 and the absorption efficiency (ηa) of the semiconductor laser in the optical recording layer when the optical recording layer is amorphous (refractive index: about 4). As can be seen from FIG. 4, in the region where the upper protective layer thickness d 3 is 100 nm or more, the absorption efficiency increases as the thickness increases, Erasure sensitivity is reduced. Therefore, in order absorption efficiency does not fall below 70%, the upper protective layer thickness d 3 is required to be 120nm or more. Further, as the upper protective layer thickness d 3 becomes thicker, the cooling rate becomes higher half of the recording time of the optical recording layer, since the heating requires a large energy, the upper protective layer thickness is too thick,
Rather, the recording sensitivity decreases. Thus, the upper protective layer thickness d 3 is required to be 180nm or less.

一方、光学記録層は約80nm近傍で最大の反射率差をと
り、それより薄くなるに従い記録感度はよくなるもの
の、消去感度の低下及び反射率差の低下を招き、また厚
くなるに従い消去感度はよくなるが、記録感度が急激に
低下する。したがって、光学記録層膜厚d3は60〜100nm
の範囲で選ぶことが必要である。
On the other hand, the optical recording layer has a maximum reflectance difference in the vicinity of about 80 nm, and the recording sensitivity is improved as the optical recording layer becomes thinner, but the erasure sensitivity and the reflectance difference are reduced as the thickness becomes thinner. However, the recording sensitivity sharply decreases. Accordingly, the optical recording layer thickness d 3 is 60~100nm
It is necessary to choose within the range.

発明の効果 本発明によると相変化型書き替え可能光学情報記録媒
体において、光学記録層及び耐熱保護層の膜厚を特定す
ることにより、記録・消去感度を高め、かつ繰り返し特
性を大幅に向上させることができる。
Effects of the Invention According to the present invention, in a phase-change rewritable optical information recording medium, by specifying the film thicknesses of an optical recording layer and a heat-resistant protective layer, recording / erasing sensitivity is increased, and repetition characteristics are significantly improved. be able to.

実施例 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はこれらの例によってなんら限定されるもの
ではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例 あらかじめ1.6μmピッチの溝が設けられている直径
3.5インチのポリカーボネート基板上に、下層の耐熱保
護層として硫化亜鉛をRFスパッタ法により成膜したの
ち、その上にDCスパッタ法を用い、光学記録層としてSd
−Te−Ge合金を成膜し、次いでその上に、上層の耐熱保
護層として、硫化亜鉛の膜をRFスパッタ法により成膜し
た。また、この上に上層保護層の変形を抑制するため、
厚さ3〜10μm程度の紫外線硬化樹脂層を設けた。
Example: Diameter provided with 1.6 μm pitch grooves in advance
On a 3.5-inch polycarbonate substrate, zinc sulfide was deposited as a lower heat-resistant protective layer by RF sputtering, and then DC sputtering was used.
A -Te-Ge alloy was formed, and then a zinc sulfide film was formed thereon as an upper heat-resistant protective layer by an RF sputtering method. In addition, in order to suppress the deformation of the upper protective layer thereon,
An ultraviolet curable resin layer having a thickness of about 3 to 10 μm was provided.

なお、各層の膜厚は、光学記録層を80nm、下層保護層
を120nm、上層保護層を160nmとした、このようにして、
第1図に示す構造のディスクを作成した。
The thickness of each layer was 80 nm for the optical recording layer, 120 nm for the lower protective layer, and 160 nm for the upper protective layer.
A disc having the structure shown in FIG. 1 was produced.

このようにして得られたディスクを用い、線速度7.5m
/s、記録周波数3.1MHz、ピット長1.2μmの条件のもの
で、記録・消去特性を調べた。記録レーザーパワーとC/
N比及び消去比との関係を第5図にグラフで示す。ここ
で消去比とは、記録した際のC/N比と消去した際のC/N比
との差である。第5図から分かるように、50dB以上のC/
N比及び30dB以上の消去比が、広いパワー範囲で得ら
れ、良好な記録・消去特定を示した。
Using the disk obtained in this way, a linear velocity of 7.5 m
Recording / erasing characteristics were examined under the conditions of / s, a recording frequency of 3.1 MHz, and a pit length of 1.2 μm. Recording laser power and C /
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the N ratio and the erase ratio. Here, the erasing ratio is a difference between the C / N ratio at the time of recording and the C / N ratio at the time of erasing. As can be seen from FIG. 5, the C /
N ratio and erase ratio of 30 dB or more were obtained in a wide power range, and good recording and erasure identification was shown.

次に、これと同じディスクを用い、繰り返し特性を調
べた。繰り返し回数とC/N比及び消去比との関係をグラ
フとして第6図に示す。この第6図から分かるように繰
り返し回数が105回まで、C/N比及び消去比ともに変化せ
ず、安定した初期の特性が維持されている。
Next, using the same disk, the repetition characteristics were examined. FIG. 6 is a graph showing the relationship between the number of repetitions and the C / N ratio and the erase ratio. This up to the sixth number of repetitions As can be seen from FIG. 10 five times, without changing both C / N ratio and erase ratio, stable initial properties are maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の光学情報記録媒体の1例の層構造を示
す図、第2図は上層保護層膜厚及び下層保護層膜厚と光
学情報記録媒体の反射率との関係を示すグラフ、第3図
は上層保護層膜厚及び下層保護層膜厚と光学情報記録媒
体の光学記録層が結晶状態の吸収率との関係を示すグラ
フ、第4図は上層保護層膜厚及び下層保護層膜厚と光学
情報記録媒体の光学記録層が非晶質状態の吸収率との関
係を示すグラフ、第5図及び第6図は、それぞれ本発明
の光学情報記録媒体の1例の記録・消去特性及び繰り返
し特性を示すグラフである。 第1図において、符号1は基板、2は下層耐熱保護層、
3は光学記録層、4は上層耐熱保護層、5は紫外線硬化
樹脂層である。
FIG. 1 is a diagram showing a layer structure of an example of an optical information recording medium of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the upper protective layer thickness and the lower protective layer thickness and the absorptivity of the optical recording layer of the optical information recording medium in a crystalline state, and FIG. 4 is a graph showing the upper protective layer thickness and the lower protective layer. FIGS. 5 and 6 are graphs showing the relationship between the layer thickness and the absorptance of the optical recording layer of the optical information recording medium when the optical recording layer is in an amorphous state. 5 is a graph showing erasing characteristics and repetition characteristics. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate, 2 denotes a lower heat-resistant protective layer,
Reference numeral 3 denotes an optical recording layer, 4 denotes an upper heat-resistant protective layer, and 5 denotes an ultraviolet curable resin layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−20449(JP,A) 特開 昭61−137784(JP,A) 特開 昭62−204449(JP,A) 特開 昭63−317939(JP,A) 特開 昭63−100632(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/24──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-62-20449 (JP, A) JP-A-61-137784 (JP, A) JP-A-62-204449 (JP, A) JP-A-63-204 317939 (JP, A) JP-A-63-100632 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G11B 7/24

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明基板上に、非晶質と結晶質間の相変化
を利用して情報の記録、消去を行う光学記録層を有し、
該光学記録層の両側に耐熱保護層を設けた光学情報記録
媒体において、該光学記録層がSb−Te−Ge合金から成
り、該耐熱保護層が硫化亜鉛を主成分とし、かつ基板側
に設けられた耐熱保護層の膜厚が100〜150nm、その反対
側に設けられた耐熱保護層の膜厚が120〜180nm及び光学
記録層の膜厚が60〜100nmであることを特徴とする光学
情報記録媒体。
1. An optical recording layer for recording and erasing information on a transparent substrate by utilizing a phase change between amorphous and crystalline,
In an optical information recording medium provided with a heat-resistant protective layer on both sides of the optical recording layer, the optical recording layer is made of an Sb-Te-Ge alloy, the heat-resistant protective layer is mainly composed of zinc sulfide, and is provided on the substrate side. The optical information, wherein the thickness of the heat-resistant protective layer provided is 100 to 150 nm, the thickness of the heat-resistant protective layer provided on the opposite side is 120 to 180 nm, and the thickness of the optical recording layer is 60 to 100 nm. recoding media.
JP1069193A 1989-03-23 1989-03-23 Optical information recording medium Expired - Fee Related JP2810092B2 (en)

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