JP2809871B2 - 流動床式乾燥装置 - Google Patents
流動床式乾燥装置Info
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- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
- F26B3/06—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried
- F26B3/08—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried so as to loosen them, e.g. to form a fluidised bed
- F26B3/082—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried so as to loosen them, e.g. to form a fluidised bed arrangements of devices for distributing fluidising gas, e.g. grids, nozzles
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/36—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed through which there is an essentially horizontal flow of particles
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は流動床式乾燥装置に関する。さらに詳しく
は、粉粒状物質をプロセシングするための流動床式乾燥
装置に関する。
は、粉粒状物質をプロセシングするための流動床式乾燥
装置に関する。
[従来の技術] 流動床は1つのまたはもっと多くの物質をプロセシン
グしまた動かす目的のための多くの適応において用いら
れ、また熱伝達、気体物質と同様に固体の混合を必要と
する化学反応および物理的プロセス、サイズの増大、減
少および分類プロセス、吸着−脱着、熱処理およびコー
ティングプロセスにおける適応を見いだしてきた。すべ
ての固体/気体流動床式システムは、コントロールされ
た本体で固体物質をそのシステム中で動かすためと同様
に、気体および固体物質をそのシステムへ導くための設
備を含んでいる。固体物質をプロセシングするための流
動床式システムの操作性は、多くの例において流動化さ
れている固体物質の粒子サイズ分布にかなり依存してい
る。石けん産物のようないくつかの物質は、きわめて広
い粒子サイズ分布をなし、また乾燥工程のあいだ微粉分
離を避けるための静かなハンドリングを必要とする。す
なわち、分布のために生成された粒子またはフレークの
形の石けん産物などのようないくつかの物質は、流動床
システムにおいて乾燥されるとき微粉が好ましくなく過
剰に生じ、それにより少なくともシステム操作の部分的
な遮断を必要としうる程度に破砕されがちである。この
問題点は、いっそう低い気体圧力を採用したおだやかな
条件下でシステムを作動することによって避けられるか
もしれないが、そのときは重い粒子が気体流動分布プレ
ート上に積み重なりはじめ、システムの誤動作を起こ
す。
グしまた動かす目的のための多くの適応において用いら
れ、また熱伝達、気体物質と同様に固体の混合を必要と
する化学反応および物理的プロセス、サイズの増大、減
少および分類プロセス、吸着−脱着、熱処理およびコー
ティングプロセスにおける適応を見いだしてきた。すべ
ての固体/気体流動床式システムは、コントロールされ
た本体で固体物質をそのシステム中で動かすためと同様
に、気体および固体物質をそのシステムへ導くための設
備を含んでいる。固体物質をプロセシングするための流
動床式システムの操作性は、多くの例において流動化さ
れている固体物質の粒子サイズ分布にかなり依存してい
る。石けん産物のようないくつかの物質は、きわめて広
い粒子サイズ分布をなし、また乾燥工程のあいだ微粉分
離を避けるための静かなハンドリングを必要とする。す
なわち、分布のために生成された粒子またはフレークの
形の石けん産物などのようないくつかの物質は、流動床
システムにおいて乾燥されるとき微粉が好ましくなく過
剰に生じ、それにより少なくともシステム操作の部分的
な遮断を必要としうる程度に破砕されがちである。この
問題点は、いっそう低い気体圧力を採用したおだやかな
条件下でシステムを作動することによって避けられるか
もしれないが、そのときは重い粒子が気体流動分布プレ
ート上に積み重なりはじめ、システムの誤動作を起こ
す。
流動床式システムにおける重要な要素は、そのプレー
トの幅にわたって一様のパターンに並んだいくつかの比
較的小さい孔を備えるベースまたは底部プレートであ
り、そのシステムにおいてプロセシングされる物質の流
動のために加圧気体媒体がそのプレートを通って通過す
る。その気体流動の孔は通常、プロセシングされる固体
物質の逆流を最小限にし、流動化している気体が一様に
分布するように構成されている。「ギル・プレート(GI
LL PLATE)」として知られる流動床で、デンマーク(De
nmark)、セーボルグ(Soeborg)のニロ・アトマイザー
(Niro Atomizer)社により製造された底部プレートの
1つは、底部プレートを通る気体が、流動化のための気
圧を有するだけでなく底部プレートに沿った好ましい方
向において物質を動かす力も有するように構成されてい
る。「ギル(gill)」タイプ底部プレートは、長方形の
パターンに分布し、特定の物質についての流動化および
物質輸送の必要性を満たすために要求されるような気体
の流れのための各開口孔を備える「ギル」を有するよう
に構成されている。
トの幅にわたって一様のパターンに並んだいくつかの比
較的小さい孔を備えるベースまたは底部プレートであ
り、そのシステムにおいてプロセシングされる物質の流
動のために加圧気体媒体がそのプレートを通って通過す
る。その気体流動の孔は通常、プロセシングされる固体
物質の逆流を最小限にし、流動化している気体が一様に
分布するように構成されている。「ギル・プレート(GI
LL PLATE)」として知られる流動床で、デンマーク(De
nmark)、セーボルグ(Soeborg)のニロ・アトマイザー
(Niro Atomizer)社により製造された底部プレートの
1つは、底部プレートを通る気体が、流動化のための気
圧を有するだけでなく底部プレートに沿った好ましい方
向において物質を動かす力も有するように構成されてい
る。「ギル(gill)」タイプ底部プレートは、長方形の
パターンに分布し、特定の物質についての流動化および
物質輸送の必要性を満たすために要求されるような気体
の流れのための各開口孔を備える「ギル」を有するよう
に構成されている。
熱高感度物質の乾燥のために用いられる流動床は通
常、比較的低い温度で作動するプラグ流れタイプであ
り、また物質を充分に乾燥するためにこの設備において
比較的長い物質滞在時間が要求される。このような乾燥
装置は常に、空間、気体ダクトおよび熱エネルギーの経
済性がえられるように、物質のための曲がりくねった通
路を備える折り曲げられた構成である。折り曲げられた
または曲がりくねった流れの通路を有する乾燥装置にお
いては、プロセシングされる物質はこの設備を通るとき
あちらこちらでループする。この構成は設備の作動にお
いて要求される空間および距離を最小限にするけれど
も、第6図に示すように構成された一般的な底部プレー
トを用いている折り曲げられた流動床式乾燥装置におい
て、プロセシングされているいくつかの物質が流動を停
止し隣りあうチャンバー間の方向転換部で積み重なる傾
向があるため、設備の誤動作のためにプロセシングを一
時停止することが必要となる。すなわち、一般的なプラ
グ流れの流動床は直線で囲まれた形の底部プレートに取
り付けられており、折り曲げられたプラグ流れの流動床
の方向転換部において、プロセシングされる物質の好ま
しい流動化および方向上の移送を維持するのに必要なエ
ネルギーに関して特別な考慮なしで配置されている。
常、比較的低い温度で作動するプラグ流れタイプであ
り、また物質を充分に乾燥するためにこの設備において
比較的長い物質滞在時間が要求される。このような乾燥
装置は常に、空間、気体ダクトおよび熱エネルギーの経
済性がえられるように、物質のための曲がりくねった通
路を備える折り曲げられた構成である。折り曲げられた
または曲がりくねった流れの通路を有する乾燥装置にお
いては、プロセシングされる物質はこの設備を通るとき
あちらこちらでループする。この構成は設備の作動にお
いて要求される空間および距離を最小限にするけれど
も、第6図に示すように構成された一般的な底部プレー
トを用いている折り曲げられた流動床式乾燥装置におい
て、プロセシングされているいくつかの物質が流動を停
止し隣りあうチャンバー間の方向転換部で積み重なる傾
向があるため、設備の誤動作のためにプロセシングを一
時停止することが必要となる。すなわち、一般的なプラ
グ流れの流動床は直線で囲まれた形の底部プレートに取
り付けられており、折り曲げられたプラグ流れの流動床
の方向転換部において、プロセシングされる物質の好ま
しい流動化および方向上の移送を維持するのに必要なエ
ネルギーに関して特別な考慮なしで配置されている。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、多様な粒子サイズ分布をなし容易に
デクレピテーションしうる送り込まれる物質を乾燥する
ためにとくに適した改良された流動床式乾燥装置であっ
て、最小限の微粉を有する産物を連続して生産する間、
流動化または物質の移送の不良のために操作を中断する
ことなく作動を続ける能力を有する装置を提供すること
である。
デクレピテーションしうる送り込まれる物質を乾燥する
ためにとくに適した改良された流動床式乾燥装置であっ
て、最小限の微粉を有する産物を連続して生産する間、
流動化または物質の移送の不良のために操作を中断する
ことなく作動を続ける能力を有する装置を提供すること
である。
さらなる本発明の目的は、最終的な乾燥の前に送り込
まれる物質を予乾燥するために用いられる設備において
の使用にとくに適した、改良された底部プレート構成を
提供することである。
まれる物質を予乾燥するために用いられる設備において
の使用にとくに適した、改良された底部プレート構成を
提供することである。
改良された底部プレート構成は、1つの領域から別の
領域への通常の平行な流れにおいて、どんな領域におい
ても物質が積み重ならずにすぐ隣りの底部プレートに動
かされるように、とくに底部プレートに気体の流れの孔
が定められているものである。
領域への通常の平行な流れにおいて、どんな領域におい
ても物質が積み重ならずにすぐ隣りの底部プレートに動
かされるように、とくに底部プレートに気体の流れの孔
が定められているものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は改良された流動床式乾燥装置の構成を示し、
さらに詳しくは改良された流動床のベースまたは底部プ
レートの構成を示す。ここで気体分布底部プレートのあ
るインクリメント的な領域にあるプロセシングされる物
質の各インクリメント的な体積に対して、流動床を流動
状態に維持するため、およびプレートの前記インクリメ
ント的な領域から離れて、そこから特定の方向に別な物
質が排出されるある領域に向けて特定の好ましい方向
に、プレートにある物質を微粉の最小限の損失を伴って
移送するために必要なエネルギーが与えられる。
さらに詳しくは改良された流動床のベースまたは底部プ
レートの構成を示す。ここで気体分布底部プレートのあ
るインクリメント的な領域にあるプロセシングされる物
質の各インクリメント的な体積に対して、流動床を流動
状態に維持するため、およびプレートの前記インクリメ
ント的な領域から離れて、そこから特定の方向に別な物
質が排出されるある領域に向けて特定の好ましい方向
に、プレートにある物質を微粉の最小限の損失を伴って
移送するために必要なエネルギーが与えられる。
すなわち本発明は、互いに隣接する一連のチャンバー
が長手方向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部
により接続されることによって、前記チャンバーの最初
の1つの入口端から前記一連のチャンバーの最後の1つ
の出口端に通じている曲がりくねった通路が形成されて
なるハウジングを有し、 前記各方向転換部が、前記共通の壁の一端において前
記共通の壁で仕切られた隣りあうチャンバーに向けて開
放しており、また前記チャンバーの1つの幅にわたって
分配された粉粒状物質を受け取り180°の弧状通路を経
て方向転換させ前記物質を他の前記チャンバーへ運ぶも
のであり、前記チャンバーおよび方向転換部それぞれが
少なくとも1つの底部プレートを含むベースを有し、該
底部プレートが複数の気体導入孔を有し、該気体導入孔
が各プレートにわたって分布し、また特定の方向におい
て前記チャンバーに気体を導入して粉粒状物質を流動化
させ、かつ、前記方向に動かすために方向づけられ、前
記チャンバーにおける前記各気体導入孔が、前記共通の
壁と平行な方向において前記粉粒状物質を一様に流動化
させ動かすために方向づけられ、また各方向転換部にお
ける前記気体導入孔が、前記粉粒状物質の各インクリメ
ント的な垂直カラムをそれらが前記共通の壁から離れて
いる距離に応じて受け取られ方向転換せしめられるよう
に連続的に受け取り方向転換させるために方向づけら
れ、 さらに、底部プレートそれぞれの下に加圧気体を供給
するためのプリナムチャンバーを有し、各前記プリナム
チャンバーに接続している加圧気体供給源を有する粉粒
状物質をプロセシングするための流動床式乾燥装置に関
する。
が長手方向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部
により接続されることによって、前記チャンバーの最初
の1つの入口端から前記一連のチャンバーの最後の1つ
の出口端に通じている曲がりくねった通路が形成されて
なるハウジングを有し、 前記各方向転換部が、前記共通の壁の一端において前
記共通の壁で仕切られた隣りあうチャンバーに向けて開
放しており、また前記チャンバーの1つの幅にわたって
分配された粉粒状物質を受け取り180°の弧状通路を経
て方向転換させ前記物質を他の前記チャンバーへ運ぶも
のであり、前記チャンバーおよび方向転換部それぞれが
少なくとも1つの底部プレートを含むベースを有し、該
底部プレートが複数の気体導入孔を有し、該気体導入孔
が各プレートにわたって分布し、また特定の方向におい
て前記チャンバーに気体を導入して粉粒状物質を流動化
させ、かつ、前記方向に動かすために方向づけられ、前
記チャンバーにおける前記各気体導入孔が、前記共通の
壁と平行な方向において前記粉粒状物質を一様に流動化
させ動かすために方向づけられ、また各方向転換部にお
ける前記気体導入孔が、前記粉粒状物質の各インクリメ
ント的な垂直カラムをそれらが前記共通の壁から離れて
いる距離に応じて受け取られ方向転換せしめられるよう
に連続的に受け取り方向転換させるために方向づけら
れ、 さらに、底部プレートそれぞれの下に加圧気体を供給
するためのプリナムチャンバーを有し、各前記プリナム
チャンバーに接続している加圧気体供給源を有する粉粒
状物質をプロセシングするための流動床式乾燥装置に関
する。
また好ましくは、前記チャンバーの各ベースが、前記
共通の壁に平行な横エッジと方向転換部へ開放している
各チャンバーの一端の端部エッジとを有する少なくとも
1つのプレートから構成され、また前記方向転換部のベ
ースが、ある角度で互いに交差する一対のエッジを有す
る少なくとも3つの底部プレートを含み、前記の少なく
とも3つの底部プレートが、各底部プレートの交差する
エッジが隣りの底部プレートの交差するエッジの1つに
当接するかまたは前記チャンバーの底部プレートの端部
エッジの1つに当接するように各底部プレートが挿入さ
れている流動床式乾燥装置に関する。
共通の壁に平行な横エッジと方向転換部へ開放している
各チャンバーの一端の端部エッジとを有する少なくとも
1つのプレートから構成され、また前記方向転換部のベ
ースが、ある角度で互いに交差する一対のエッジを有す
る少なくとも3つの底部プレートを含み、前記の少なく
とも3つの底部プレートが、各底部プレートの交差する
エッジが隣りの底部プレートの交差するエッジの1つに
当接するかまたは前記チャンバーの底部プレートの端部
エッジの1つに当接するように各底部プレートが挿入さ
れている流動床式乾燥装置に関する。
さらには、前記チャンバーの各ベースが前記共通の壁
に平行な横エッジと離れて配置された端部エッジとを有
する少なくとも1つの底部プレートから構成され、また
方向転換部へ開放する前記チャンバーの一端で、少なく
とも1つのチャンバーのベースの前記少なくとも1つの
プレートの端部エッジが前記共通の壁に対して斜めの角
度で前記共通の壁の一端位置から延長され前記方向転換
部の一部を横切り、また前記方向転換部の底部がある角
度で互いに交差する一対のエッジを有する少なくとも1
つの底部プレートを含み、また前記少なくとも1つの方
向転換部底部プレートがその交差するエッジにおいて前
記チャンバーの底部プレートの前記端部エッジに当接す
るように挿入されてなる流動床式乾燥装置に関する。
に平行な横エッジと離れて配置された端部エッジとを有
する少なくとも1つの底部プレートから構成され、また
方向転換部へ開放する前記チャンバーの一端で、少なく
とも1つのチャンバーのベースの前記少なくとも1つの
プレートの端部エッジが前記共通の壁に対して斜めの角
度で前記共通の壁の一端位置から延長され前記方向転換
部の一部を横切り、また前記方向転換部の底部がある角
度で互いに交差する一対のエッジを有する少なくとも1
つの底部プレートを含み、また前記少なくとも1つの方
向転換部底部プレートがその交差するエッジにおいて前
記チャンバーの底部プレートの前記端部エッジに当接す
るように挿入されてなる流動床式乾燥装置に関する。
さらに好ましくは、互いに隣接する一連のチャンバー
が長手方向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部
により接続されることによって、前記チャンバーの最初
の1つの入口端から前記一連のチャンバーの最後の1つ
の出口端に通じている曲がりくねった通路が形成されて
なるハウジングを有し、 各方向転換部が、前記共通の壁の一端において前記共
通の壁で仕切られた隣りあうチャンバーに向けて開放し
ており、また前記チャンバーの1つの幅にわたって分配
された粉粒状物質を受け取り180°の弧状通路を経て方
向転換させ前記物質を他の前記チャンバーへ運ぶもので
あり、前記チャンバーおよび方向転換部それぞれが少な
くとも1つの底部プレートを含むベースを有し、該底部
プレートが複数の気体導入孔を有し、該気体導入孔が各
プレートにわたって分布し、また特定の方向において前
記チャンバーに気体を導入して粉粒状物質を流動化さ
せ、かつ、前記方向に動かすために方向づけられ、 前記チャンバーのベースにおける前記各気体導入孔
が、前記チャンバーの1つにおける動きの方向が隣りあ
うチャンバーにおける動きの方向と逆向きになるよう
に、前記共通の壁と平行な方向に前記粉粒状物質を一様
に流動化させ、かつ、動かすために方向づけられ、 前記チャンバーの前記の隣りあうものそれぞれのベー
スが、前記の接続している方向転換部に延長され、また
前記共通の壁に対して斜めの角度で前記共通の壁の前記
一端からのびるエッジで終端し、 方向転換部の底部プレートが、ある角度で交差する一
対のエッジを有し、前記粉粒状物質を流動化させ、か
つ、前記チャンバーでの前記粉粒状物質の動きの方向に
対して実質的に垂直な方向に動かすために方向づけられ
た複数の気体導入孔を有し、前記方向転換部の底部プレ
ートが、一対の交差するエッジが前記接続している方向
転換部において前記隣りあう各チャンバーのベースの前
記エッジに当接するように差し込まれ、各底部プレート
の下に加圧気体を供給するためのプリナムチャンバーを
有し、 各前記プリナムチャンバーに接続している加圧気体供
給源を有し、 それらによって前記チャンバーから前記方向転換部へ
運ばれた前記粉粒状物質の垂直カラムが前記底部プレー
トの前記交差する各エッジを横切るたびに、各垂直カラ
ムが連続的におよび少しずつ方向転換させられるように
構成されてなる、多様な粒子サイズ分布をなす粉粒状物
質をプロセシングするための流動床式乾燥装置に関す
る。
が長手方向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部
により接続されることによって、前記チャンバーの最初
の1つの入口端から前記一連のチャンバーの最後の1つ
の出口端に通じている曲がりくねった通路が形成されて
なるハウジングを有し、 各方向転換部が、前記共通の壁の一端において前記共
通の壁で仕切られた隣りあうチャンバーに向けて開放し
ており、また前記チャンバーの1つの幅にわたって分配
された粉粒状物質を受け取り180°の弧状通路を経て方
向転換させ前記物質を他の前記チャンバーへ運ぶもので
あり、前記チャンバーおよび方向転換部それぞれが少な
くとも1つの底部プレートを含むベースを有し、該底部
プレートが複数の気体導入孔を有し、該気体導入孔が各
プレートにわたって分布し、また特定の方向において前
記チャンバーに気体を導入して粉粒状物質を流動化さ
せ、かつ、前記方向に動かすために方向づけられ、 前記チャンバーのベースにおける前記各気体導入孔
が、前記チャンバーの1つにおける動きの方向が隣りあ
うチャンバーにおける動きの方向と逆向きになるよう
に、前記共通の壁と平行な方向に前記粉粒状物質を一様
に流動化させ、かつ、動かすために方向づけられ、 前記チャンバーの前記の隣りあうものそれぞれのベー
スが、前記の接続している方向転換部に延長され、また
前記共通の壁に対して斜めの角度で前記共通の壁の前記
一端からのびるエッジで終端し、 方向転換部の底部プレートが、ある角度で交差する一
対のエッジを有し、前記粉粒状物質を流動化させ、か
つ、前記チャンバーでの前記粉粒状物質の動きの方向に
対して実質的に垂直な方向に動かすために方向づけられ
た複数の気体導入孔を有し、前記方向転換部の底部プレ
ートが、一対の交差するエッジが前記接続している方向
転換部において前記隣りあう各チャンバーのベースの前
記エッジに当接するように差し込まれ、各底部プレート
の下に加圧気体を供給するためのプリナムチャンバーを
有し、 各前記プリナムチャンバーに接続している加圧気体供
給源を有し、 それらによって前記チャンバーから前記方向転換部へ
運ばれた前記粉粒状物質の垂直カラムが前記底部プレー
トの前記交差する各エッジを横切るたびに、各垂直カラ
ムが連続的におよび少しずつ方向転換させられるように
構成されてなる、多様な粒子サイズ分布をなす粉粒状物
質をプロセシングするための流動床式乾燥装置に関す
る。
さらに好ましくは、プラグ流れの流動床式乾燥装置と
隣りあいその一端が流動床式乾燥装置の最初のチャンバ
ーの入口端へ開放している共通の壁を有するノンプラグ
流れの予乾燥チャンバーにおいて、予乾燥チャンバーの
ベースが、一対のエッジを有する底部プレートからなる
連続して接続している方向転換部にのびている。ここで
その一対のエッジの一方が共通の壁でノンプラグ流れの
予乾燥装置の底部プレートを横切り、またもう一方のエ
ッジは共通の壁でプラグ流れの乾燥装置の底部プレート
を横切る。
隣りあいその一端が流動床式乾燥装置の最初のチャンバ
ーの入口端へ開放している共通の壁を有するノンプラグ
流れの予乾燥チャンバーにおいて、予乾燥チャンバーの
ベースが、一対のエッジを有する底部プレートからなる
連続して接続している方向転換部にのびている。ここで
その一対のエッジの一方が共通の壁でノンプラグ流れの
予乾燥装置の底部プレートを横切り、またもう一方のエ
ッジは共通の壁でプラグ流れの乾燥装置の底部プレート
を横切る。
本発明およびそれにより与えられる利点は、以下の添
付の図面および好ましい具体例の詳細な説明からさらに
充分に理解されるであろう。
付の図面および好ましい具体例の詳細な説明からさらに
充分に理解されるであろう。
[作用] このように、前述した本発明の目的は、流動化および
物質の移送のために最小限の気体の流れのエネルギーを
用いている方向転換部において、連続したプロセス作動
を備え重い粒子が積み重なることを避ける底部プレート
構成を提供することによって達成される。本発明は、流
動化および物質の移送のために要求されるよりも過剰な
エネルギーの使用を避けることにより、好ましくない量
の微粉粒子の形成および飛散を避ける。
物質の移送のために最小限の気体の流れのエネルギーを
用いている方向転換部において、連続したプロセス作動
を備え重い粒子が積み重なることを避ける底部プレート
構成を提供することによって達成される。本発明は、流
動化および物質の移送のために要求されるよりも過剰な
エネルギーの使用を避けることにより、好ましくない量
の微粉粒子の形成および飛散を避ける。
[実施例] 図面は、一貫して同様の参照番号が同様かまたは似か
よった部分を表わし、第1図ならびに第2図に、一般的
に参照番号(10)で表わされ、上部ハウジング(12)お
よび下部ハウジング(14)から構成される本発明による
流動床式乾燥装置が示されている。(16)から入り(1
8)から出る送り込まれた物質は、上部ハウジング(1
2)の反対側で供給される。コンプレッサー(20)は、
導管(21)および(22)によって下部乾燥装置ハウジン
グ(14)に位置するプリナムチャンバーへ分布される加
圧気体供給源を備える。
よった部分を表わし、第1図ならびに第2図に、一般的
に参照番号(10)で表わされ、上部ハウジング(12)お
よび下部ハウジング(14)から構成される本発明による
流動床式乾燥装置が示されている。(16)から入り(1
8)から出る送り込まれた物質は、上部ハウジング(1
2)の反対側で供給される。コンプレッサー(20)は、
導管(21)および(22)によって下部乾燥装置ハウジン
グ(14)に位置するプリナムチャンバーへ分布される加
圧気体供給源を備える。
第2図は、上部ハウジング(12)の外見上のパネルお
よび装置の内部を上手く図示するために加圧気体の導管
の部分が取除かれた第1図の流動床式乾燥装置を示す。
第2図に示されるように流動床式乾燥装置の内部は、長
手方向にのびた壁(17)および(19)によって一連のチ
ャンバー(24)、(26)および(28)に分けられてい
る。壁(17)はチャンバー(24)および(26)に共通
で、これらのチャンバーは方向転換部(25)によって壁
(17)の一端で接続されている。同様に、壁(19)はチ
ャンバー(26)および(28)に共通で、これらのチャン
バーは方向転換部(27)によって壁の一端で接続されて
いる。チャンバーおよび方向転換部それぞれが流動床乾
燥装置の内部にベース(30)を備え、そのベースはプレ
ート(31)〜(34)などのような複数の底部プレートで
構成されている。
よび装置の内部を上手く図示するために加圧気体の導管
の部分が取除かれた第1図の流動床式乾燥装置を示す。
第2図に示されるように流動床式乾燥装置の内部は、長
手方向にのびた壁(17)および(19)によって一連のチ
ャンバー(24)、(26)および(28)に分けられてい
る。壁(17)はチャンバー(24)および(26)に共通
で、これらのチャンバーは方向転換部(25)によって壁
(17)の一端で接続されている。同様に、壁(19)はチ
ャンバー(26)および(28)に共通で、これらのチャン
バーは方向転換部(27)によって壁の一端で接続されて
いる。チャンバーおよび方向転換部それぞれが流動床乾
燥装置の内部にベース(30)を備え、そのベースはプレ
ート(31)〜(34)などのような複数の底部プレートで
構成されている。
各底部プレート(31)〜(34)などは、複数の気体導
入孔(39)を備えている。この孔は各底部プレートの幅
にわたりまた長さに沿って一様に分布していて、一様な
およびコントロールされた方法で下部乾燥装置ハウジン
グ(14)に位置するプリナムチャンバーから、チャンバ
ーおよび方向転換部それぞれへ加圧気体を導き、双方を
流動化させ、流動床式乾燥装置に供給される粉粒状物質
に方向性のある動き(第2図中に矢印で示される方向)
を与える。気体導入孔は、第3図に示すようにベースプ
レートに備えられてもよい。ここでベースプレート(3
1)は、複数の単方向に定められた孔(39)を備えるた
めに、スタンピングされるかまたはプレスされてベース
プレートの平面から(31a)の部分が変位せしめられて
いる。第3図にベクトルRで図示したように、孔(39)
を通って動く加圧気体は、上昇成分RLおよび方向成分RV
双方を有し、同時に上昇成分は物質を流動化させ、方向
成分は孔(39)から出てくる気体の流れを受ける物質を
動かす。
入孔(39)を備えている。この孔は各底部プレートの幅
にわたりまた長さに沿って一様に分布していて、一様な
およびコントロールされた方法で下部乾燥装置ハウジン
グ(14)に位置するプリナムチャンバーから、チャンバ
ーおよび方向転換部それぞれへ加圧気体を導き、双方を
流動化させ、流動床式乾燥装置に供給される粉粒状物質
に方向性のある動き(第2図中に矢印で示される方向)
を与える。気体導入孔は、第3図に示すようにベースプ
レートに備えられてもよい。ここでベースプレート(3
1)は、複数の単方向に定められた孔(39)を備えるた
めに、スタンピングされるかまたはプレスされてベース
プレートの平面から(31a)の部分が変位せしめられて
いる。第3図にベクトルRで図示したように、孔(39)
を通って動く加圧気体は、上昇成分RLおよび方向成分RV
双方を有し、同時に上昇成分は物質を流動化させ、方向
成分は孔(39)から出てくる気体の流れを受ける物質を
動かす。
第4図はそこに気体導入孔を備えるための別な構造を
有するベースプレート(31)を示す。第4図においてベ
ースプレート(31)は、スタンピングされるかまたはプ
レスされてベースプレート(31)の第1の平面から(31
a)の部分に全体的に変位せしめられており、このこと
によりベースプレートの変位した(31a)の部分の各末
端で開放される第1の孔(39)および第2の孔(39a)
が提供される。
有するベースプレート(31)を示す。第4図においてベ
ースプレート(31)は、スタンピングされるかまたはプ
レスされてベースプレート(31)の第1の平面から(31
a)の部分に全体的に変位せしめられており、このこと
によりベースプレートの変位した(31a)の部分の各末
端で開放される第1の孔(39)および第2の孔(39a)
が提供される。
第5図に図示されるように、流動床式乾燥装置の内部
の仕切りの壁(17)および(19)と流動床底部プレート
の配置はたとえば、入口(16)から出口(18)への曲が
りくねった通路を横切るときに粉粒状物質を乾燥するよ
うなある所望のプロセスが実施されるあいだ、チャンバ
ー(24)、方向転換部(25)、チャンバー(26)、方向
転換部(27)およびチャンバー(28)を通り矢印Sで表
わされる曲がりくねった通路において入口(16)から導
入され(18)から出される粉粒状物質に上昇および方向
上の動きを与える。
の仕切りの壁(17)および(19)と流動床底部プレート
の配置はたとえば、入口(16)から出口(18)への曲が
りくねった通路を横切るときに粉粒状物質を乾燥するよ
うなある所望のプロセスが実施されるあいだ、チャンバ
ー(24)、方向転換部(25)、チャンバー(26)、方向
転換部(27)およびチャンバー(28)を通り矢印Sで表
わされる曲がりくねった通路において入口(16)から導
入され(18)から出される粉粒状物質に上昇および方向
上の動きを与える。
第6図に流動床式乾燥装置(10)などの乾燥装置にお
ける粉粒状物質を動かすためのベースプレートおよび気
体導入孔の一般的な配置を示す。第6図において、底部
プレート(61)〜(67)などは、それぞれのプレートの
エッジに垂直な方向に粉粒状物質の方向性のある動きを
引き起こす複数の気体導入孔で構成される。流動床式乾
燥装置におけるこのような構成は、あるタイプの物質を
動かすためには充分だが、以下にさらに詳しく記載する
ように、多様な粒子サイズ分布をなし、また微粉分離を
避けるために静かなハンドリングが要求される粉粒状物
質を動かすためには充分に機能しない。第6図に示すよ
うな一般的な底部プレートの構成が直面する問題点の1
つは、そのような物質は方向転換部(25)および(27)
を通って充分に動くことができないということである。
その物質が好ましくない微粉分離をもたらさないように
するのに充分な気体圧力で乾燥装置を作動させると、そ
の物質は底部プレート(62)、(63)、(65)および
(66)における旋回領域で山になる傾向がある。
ける粉粒状物質を動かすためのベースプレートおよび気
体導入孔の一般的な配置を示す。第6図において、底部
プレート(61)〜(67)などは、それぞれのプレートの
エッジに垂直な方向に粉粒状物質の方向性のある動きを
引き起こす複数の気体導入孔で構成される。流動床式乾
燥装置におけるこのような構成は、あるタイプの物質を
動かすためには充分だが、以下にさらに詳しく記載する
ように、多様な粒子サイズ分布をなし、また微粉分離を
避けるために静かなハンドリングが要求される粉粒状物
質を動かすためには充分に機能しない。第6図に示すよ
うな一般的な底部プレートの構成が直面する問題点の1
つは、そのような物質は方向転換部(25)および(27)
を通って充分に動くことができないということである。
その物質が好ましくない微粉分離をもたらさないように
するのに充分な気体圧力で乾燥装置を作動させると、そ
の物質は底部プレート(62)、(63)、(65)および
(66)における旋回領域で山になる傾向がある。
本発明は、流動床式乾燥装置の方向転換部において底
部プレートおよび気体導入孔が特定の構成を有すること
によって実質的に改良され、その問題点を回避してい
る。
部プレートおよび気体導入孔が特定の構成を有すること
によって実質的に改良され、その問題点を回避してい
る。
第2図および第7図で示される本発明の好ましい具体
例のように、方向転換部(25)および(27)のベース
が、方向転換部(25)および(27)それぞれに開放して
いるチャンバーの底部プレート(32)および(34)また
は(35)および(37)の角度を有する延長部と分離した
三角形のベースプレート(33)または(36)とから構成
されている。底部プレート構造は、方向転換部(25)お
よび(27)双方において全く同じであり、したがって、
方向転換部(27)のベースが実質的に同じであるので方
向転換部(25)のベースを詳細に記載する。
例のように、方向転換部(25)および(27)のベース
が、方向転換部(25)および(27)それぞれに開放して
いるチャンバーの底部プレート(32)および(34)また
は(35)および(37)の角度を有する延長部と分離した
三角形のベースプレート(33)または(36)とから構成
されている。底部プレート構造は、方向転換部(25)お
よび(27)双方において全く同じであり、したがって、
方向転換部(27)のベースが実質的に同じであるので方
向転換部(25)のベースを詳細に記載する。
第2図に示すように、方向転換部(25)は、隣りあう
チャンバー(24)および(26)の壁(17)の一端で開放
している。チャンバー(24)の底部プレート(31)およ
び(32)における気体導入孔(39)は、粉粒状物質を壁
(17)に平行な方向で動かすように方向づけられてい
て、チャンバー(26)の底部プレート(34)および(3
5)における孔も、反対の方向であるがその粉粒状物質
を壁(17)に平行な方向で動かすように方向づけられて
いる。共通の壁(17)の末端をこえた方向転換部におけ
る気体導入孔(39)は、第11図に図式化するように、粉
粒状物質の各インクリメント的な垂直カラム(C1)、
(C2)などをチャンバー(24)から方向転換部(25)へ
動かすように、そして各インクリメント的な垂直カラム
が共通の壁(17)から離れている距離に応じて連続的に
各インクリメント的な垂直カラムを方向転換させるよう
に方向づけられる。
チャンバー(24)および(26)の壁(17)の一端で開放
している。チャンバー(24)の底部プレート(31)およ
び(32)における気体導入孔(39)は、粉粒状物質を壁
(17)に平行な方向で動かすように方向づけられてい
て、チャンバー(26)の底部プレート(34)および(3
5)における孔も、反対の方向であるがその粉粒状物質
を壁(17)に平行な方向で動かすように方向づけられて
いる。共通の壁(17)の末端をこえた方向転換部におけ
る気体導入孔(39)は、第11図に図式化するように、粉
粒状物質の各インクリメント的な垂直カラム(C1)、
(C2)などをチャンバー(24)から方向転換部(25)へ
動かすように、そして各インクリメント的な垂直カラム
が共通の壁(17)から離れている距離に応じて連続的に
各インクリメント的な垂直カラムを方向転換させるよう
に方向づけられる。
第7図に示される具体例において、これは共通の壁に
対して斜めの角度(θ)で共通の壁(17)の末端からの
びている各エッジ(32b)および(34b)を有する底部プ
レート(32)および(34)を形成すること、ある角度で
交差する2つのエッジ(33c)および(33d)を有する底
部プレート(33)を備えること、ならびにその底部プレ
ート(33)がエッジ(34b)および(32b)に当接するよ
うにエッジ(33c)および(33d)が差し込まれることに
よりできあがる。エッジ(34b)および(32b)は180°
より小さい包含角度、本具体例においては(θ)が135
°に等しいので実際は90°の角度、で共通の壁(17)の
末端に向かって集まっている。第11図に図式化されるよ
うに、粉粒状物質の各インクリメント的な垂直カラム
(C1)、(C2)などは、ベースプレート(32)の気体導
入孔(39)によってチャンバー(24)から方向転換部
(25)へと動かされ、底部プレート(33)における気体
導入孔により粉粒状物質の隣りあうインクリメント的な
垂直カラムが、そのカラムが当接するエッジ(32b)お
よび(33c)と交わるときに壁(17)から離れている距
離に応じて連続的に方向転換させられる。そして、その
粉粒状物質は底部プレート(33)における気体導入孔に
よって方向転換部(25)を通り各垂直カラムが当接する
エッジ(33c)および(34b)を横切るまで動かされる。
ここで各カラムは共通の壁(17)からのそれらの距離に
応じて、90°の角度を通り再び連続的に方向転換させら
れ、底部プレート(34)の気体導入孔により方向転換部
(25)からチャンバー(26)へと動かされる。
対して斜めの角度(θ)で共通の壁(17)の末端からの
びている各エッジ(32b)および(34b)を有する底部プ
レート(32)および(34)を形成すること、ある角度で
交差する2つのエッジ(33c)および(33d)を有する底
部プレート(33)を備えること、ならびにその底部プレ
ート(33)がエッジ(34b)および(32b)に当接するよ
うにエッジ(33c)および(33d)が差し込まれることに
よりできあがる。エッジ(34b)および(32b)は180°
より小さい包含角度、本具体例においては(θ)が135
°に等しいので実際は90°の角度、で共通の壁(17)の
末端に向かって集まっている。第11図に図式化されるよ
うに、粉粒状物質の各インクリメント的な垂直カラム
(C1)、(C2)などは、ベースプレート(32)の気体導
入孔(39)によってチャンバー(24)から方向転換部
(25)へと動かされ、底部プレート(33)における気体
導入孔により粉粒状物質の隣りあうインクリメント的な
垂直カラムが、そのカラムが当接するエッジ(32b)お
よび(33c)と交わるときに壁(17)から離れている距
離に応じて連続的に方向転換させられる。そして、その
粉粒状物質は底部プレート(33)における気体導入孔に
よって方向転換部(25)を通り各垂直カラムが当接する
エッジ(33c)および(34b)を横切るまで動かされる。
ここで各カラムは共通の壁(17)からのそれらの距離に
応じて、90°の角度を通り再び連続的に方向転換させら
れ、底部プレート(34)の気体導入孔により方向転換部
(25)からチャンバー(26)へと動かされる。
第2図、第7図および第11図に示される具体例におい
て、粉粒状物質はこのように、方向転換部で動かされて
2つの90°の角度を通り2度方向転換させられ隣りあう
チャンバー(26)へと運ばれることができる。
て、粉粒状物質はこのように、方向転換部で動かされて
2つの90°の角度を通り2度方向転換させられ隣りあう
チャンバー(26)へと運ばれることができる。
本発明による方向転換部の底部プレートの別な配置例
を第8図に示す。第8図において、方向転換部(25)の
ベースは、4つに分かれた底部プレート(32a)、(33
a)、(33b)および(34a)からなり、粉粒状物質をチ
ャンバー(24)から連続的に受け取って物質のインクリ
メント的な垂直カラムをそれぞれ45°で4回方向転換さ
せ、チャンバー(26)において壁(17)および(19)に
平行な動きで物質を運ぶ。方向転換部(27)のベースは
同様に4つの底部プレート(35a)、(36a)、(36b)
および(37a)を有する。
を第8図に示す。第8図において、方向転換部(25)の
ベースは、4つに分かれた底部プレート(32a)、(33
a)、(33b)および(34a)からなり、粉粒状物質をチ
ャンバー(24)から連続的に受け取って物質のインクリ
メント的な垂直カラムをそれぞれ45°で4回方向転換さ
せ、チャンバー(26)において壁(17)および(19)に
平行な動きで物質を運ぶ。方向転換部(27)のベースは
同様に4つの底部プレート(35a)、(36a)、(36b)
および(37a)を有する。
第9図はさらに別な本発明の具体例を図示している。
ここで粉粒状物質は最初のチャンバー(24)へ運ばれ、
方向転換部において方向転換しチャンバー24よりも実質
的に幅のせまい隣りあうチャンバー(26a)へ運ばれ
る。この具体例において、第7図のように各底部プレー
ト(32)および(34c)は、共通の壁に対して斜めの角
度でその共通の壁(17)からのびるエッジで輪郭形成さ
れ、また底部プレート(33)は、一対の交差するエッジ
で輪郭形成される。また底部プレート(33)は、方向転
換部のベースにおいて底部プレート(32)および(34
c)のエッジに当接するように交差するエッジに差し込
まれる。
ここで粉粒状物質は最初のチャンバー(24)へ運ばれ、
方向転換部において方向転換しチャンバー24よりも実質
的に幅のせまい隣りあうチャンバー(26a)へ運ばれ
る。この具体例において、第7図のように各底部プレー
ト(32)および(34c)は、共通の壁に対して斜めの角
度でその共通の壁(17)からのびるエッジで輪郭形成さ
れ、また底部プレート(33)は、一対の交差するエッジ
で輪郭形成される。また底部プレート(33)は、方向転
換部のベースにおいて底部プレート(32)および(34
c)のエッジに当接するように交差するエッジに差し込
まれる。
第10図に本発明のさらに別な実施例が示されている。
ここで流動床式予乾燥装置の出口のチャンバー(51)が
底部プレート(55)を有する方向転換部(54)によっ
て、流動床式乾燥装置の入口のチャンバー(57)に接続
している。ノンプラグ流れの予乾燥装置において、その
物質がプラグ流れの流動床式乾燥装置に導かれる前に物
質中に存在する液体状の主な留分が気化され、第10図に
示されるように方向転換部(54)が、予乾燥装置の出口
のチャンバー(51)から流動床式乾燥装置の入口のチャ
ンバー(57)へ予乾燥された粉粒状物質を連続して導か
せる。各底部プレート(52)および(58)が、共通の壁
に対して斜めの角度で共通の壁(59)の開放した末端か
らのびるエッジを備え、底部プレート(55)が、ある角
度で交差する一対のエッジで形成される。底部プレート
(55)は、方向転換部のベースにおいて底部プレート
(52)および(58)のエッジに当接するように交差する
エッジに差し込まれる。
ここで流動床式予乾燥装置の出口のチャンバー(51)が
底部プレート(55)を有する方向転換部(54)によっ
て、流動床式乾燥装置の入口のチャンバー(57)に接続
している。ノンプラグ流れの予乾燥装置において、その
物質がプラグ流れの流動床式乾燥装置に導かれる前に物
質中に存在する液体状の主な留分が気化され、第10図に
示されるように方向転換部(54)が、予乾燥装置の出口
のチャンバー(51)から流動床式乾燥装置の入口のチャ
ンバー(57)へ予乾燥された粉粒状物質を連続して導か
せる。各底部プレート(52)および(58)が、共通の壁
に対して斜めの角度で共通の壁(59)の開放した末端か
らのびるエッジを備え、底部プレート(55)が、ある角
度で交差する一対のエッジで形成される。底部プレート
(55)は、方向転換部のベースにおいて底部プレート
(52)および(58)のエッジに当接するように交差する
エッジに差し込まれる。
第12図に本発明のさらに別な実施例を示す。本発明は
粉粒状物質が多様な粒子サイズ分布をなし、そのような
産物が流動床の角で積み重なる傾向があり結果的にたと
えば粉末洗剤などを流動化させることが困難であるよう
なときにとくに適している。この具体例において、隣り
あうチャンバーは第7図に示すように等しい幅である。
しかしながら、方向転換部は角にずれの部分を有する底
部プレートから形成されている。すなわち、底部プレー
トの交差するエッジは角で接触するように共通の壁から
のびてはいない。そのかわりに、角からある距離を置い
てそれぞれの端または側面の壁で接触している。このこ
とにより、いくらかの気体導入孔がずれの部分に提供さ
れうるので、角において物質が積み重なる可能性がなく
円滑に方向転換させることが可能となる。市販の流動床
において、ずれの量はおよそ10センチメーターである。
粉粒状物質が多様な粒子サイズ分布をなし、そのような
産物が流動床の角で積み重なる傾向があり結果的にたと
えば粉末洗剤などを流動化させることが困難であるよう
なときにとくに適している。この具体例において、隣り
あうチャンバーは第7図に示すように等しい幅である。
しかしながら、方向転換部は角にずれの部分を有する底
部プレートから形成されている。すなわち、底部プレー
トの交差するエッジは角で接触するように共通の壁から
のびてはいない。そのかわりに、角からある距離を置い
てそれぞれの端または側面の壁で接触している。このこ
とにより、いくらかの気体導入孔がずれの部分に提供さ
れうるので、角において物質が積み重なる可能性がなく
円滑に方向転換させることが可能となる。市販の流動床
において、ずれの量はおよそ10センチメーターである。
方向転換部は、必ずしも溶接されたいくらかの底部プ
レートを有する必要はない。プレートに孔をあける新し
い技術によって、1つのプレートに好ましいくつかの方
向の気体導入孔を開けることが可能となる。したがって
方向転換部は、前記本発明のような異なる好ましい方向
に方向づけられた孔を有する1つの長方形のプレートか
らなってもよい。その異なる方向はたとえば、180°の
弧状通路を形成することができる。
レートを有する必要はない。プレートに孔をあける新し
い技術によって、1つのプレートに好ましいくつかの方
向の気体導入孔を開けることが可能となる。したがって
方向転換部は、前記本発明のような異なる好ましい方向
に方向づけられた孔を有する1つの長方形のプレートか
らなってもよい。その異なる方向はたとえば、180°の
弧状通路を形成することができる。
本発明により提供される利点は、以下の比較例および
実施例を考察することより容易に理解されるであろう。
実施例を考察することより容易に理解されるであろう。
比較例1 第1図に示されるものと同様で第6図に図式される一
般的な底部プレートのベース構成を有する流動床式乾燥
装置を、多様な粒子サイズ分布をなす石けん産物を形成
する粉粒状物質を乾燥させ水分を取り除くために作動さ
せた。物質の供給量は、1時間あたり固体45,000ポンド
であった。各ゾーンへの空気流量は1時間あたり40,000
ポンドであり、それによって気体分布底部プレートをは
さんで3インチ水柱の差圧を生じた。送り込まれる物質
はその乾燥装置を容易に満たし、まず物質の流動化およ
び動きの双方を充分にした。しかしながら、作動のおよ
そ1時間後最初のチャンバーにおいて微粉ハンドリング
システムがオーバーロードしていることが確認され、か
なりのちりが生じていることが観察された。最初のチャ
ンバーおよび方向転換部の領域における巧みなベースの
検査ののち、第6図に示されるように、大きなサイズの
重い物質の山が方向転換部内およびまわりの楕円で囲ま
れた矢印で示される位置で積み重なっており、その山は
物質がベースに沿って移送されるのをブロックし、ブロ
ックされた領域の直上の物質の流動化を停止させたこと
が分かった。それで流動床式乾燥装置の作動は終了し
た。
般的な底部プレートのベース構成を有する流動床式乾燥
装置を、多様な粒子サイズ分布をなす石けん産物を形成
する粉粒状物質を乾燥させ水分を取り除くために作動さ
せた。物質の供給量は、1時間あたり固体45,000ポンド
であった。各ゾーンへの空気流量は1時間あたり40,000
ポンドであり、それによって気体分布底部プレートをは
さんで3インチ水柱の差圧を生じた。送り込まれる物質
はその乾燥装置を容易に満たし、まず物質の流動化およ
び動きの双方を充分にした。しかしながら、作動のおよ
そ1時間後最初のチャンバーにおいて微粉ハンドリング
システムがオーバーロードしていることが確認され、か
なりのちりが生じていることが観察された。最初のチャ
ンバーおよび方向転換部の領域における巧みなベースの
検査ののち、第6図に示されるように、大きなサイズの
重い物質の山が方向転換部内およびまわりの楕円で囲ま
れた矢印で示される位置で積み重なっており、その山は
物質がベースに沿って移送されるのをブロックし、ブロ
ックされた領域の直上の物質の流動化を停止させたこと
が分かった。それで流動床式乾燥装置の作動は終了し
た。
比較例2 同じユニットを作動させる第2の試みは、固体供給量
は1時間あたり45,000ポンドのままで、空気流量はゾー
ンにつき1時間あたり25,000ポンドに変更してなされ
た。この比較的少量の空気流量で、ベースの多くの領域
において流動化は穏やかで観察されなかった。こうして
流動床式乾燥装置を作動させるこの試みは、物質の好ま
しい流動化が無くなったことにより約30分後に終了し
た。
は1時間あたり45,000ポンドのままで、空気流量はゾー
ンにつき1時間あたり25,000ポンドに変更してなされ
た。この比較的少量の空気流量で、ベースの多くの領域
において流動化は穏やかで観察されなかった。こうして
流動床式乾燥装置を作動させるこの試みは、物質の好ま
しい流動化が無くなったことにより約30分後に終了し
た。
比較例3 同じ流動床式乾燥装置を作動させる第3の試みは、ゾ
ーンにつき1時間あたり50,000ポンドの空気流量および
1時間あたり45,000ポンドの固体供給量でなされた。流
動化は乾燥装置全体にわたって達成されたが、かなり激
しかった。また、最初のチャンバーにおいて、流動化さ
れた物質の充てん密度は減少したことが示された。この
ことがベースまたは底部プレートによるという根拠は無
かった。しかしながら、追加の気流は微粉収集システム
が再びオーバーロードするにつれて微粉を増加させ、作
動は終了した。前記の比較例を考慮すると、第6図に示
される一般的な底部プレート設備を有する流動床式乾燥
装置は、前記比較例において試みられたような多様な粒
子サイズ分布をなす石けん産物のハンドリングが可能で
はないことが結論づけられた。これは、粉粒状物質を流
動化させるのに必要な気流は微粉システムがオーバーロ
ードするにつれて物質を微粉化し、その気流を過剰な微
粉の問題を避けるように減少させると、流動床式乾燥装
置の方向転換部においてそのような物質に流動化および
動きを与えるためには気圧が不充分であったからであ
る。
ーンにつき1時間あたり50,000ポンドの空気流量および
1時間あたり45,000ポンドの固体供給量でなされた。流
動化は乾燥装置全体にわたって達成されたが、かなり激
しかった。また、最初のチャンバーにおいて、流動化さ
れた物質の充てん密度は減少したことが示された。この
ことがベースまたは底部プレートによるという根拠は無
かった。しかしながら、追加の気流は微粉収集システム
が再びオーバーロードするにつれて微粉を増加させ、作
動は終了した。前記の比較例を考慮すると、第6図に示
される一般的な底部プレート設備を有する流動床式乾燥
装置は、前記比較例において試みられたような多様な粒
子サイズ分布をなす石けん産物のハンドリングが可能で
はないことが結論づけられた。これは、粉粒状物質を流
動化させるのに必要な気流は微粉システムがオーバーロ
ードするにつれて物質を微粉化し、その気流を過剰な微
粉の問題を避けるように減少させると、流動床式乾燥装
置の方向転換部においてそのような物質に流動化および
動きを与えるためには気圧が不充分であったからであ
る。
実施例1 比較例1〜3の流動床式乾燥装置のベースを変更し第
7図に示すような設備にした。変更された流動床式乾燥
装置は、物質の供給量が1時間あたり固体45,000ポンド
で、空気流量が各ゾーンで1時間あたり30,000ポンドで
あった。それにより、ベースまたは底部プレートをはさ
んで1.7インチ水柱の差圧を生じた。このような通常の
コンディションのもとで、石けん産物の流動化は、方向
転換部を含む流動床全体を通してすべての地点で一様で
あることが分かった。送り込まれる物質の粒子サイズ分
布と乾燥された産物の粒子サイズ分布とを比較すると、
乾燥されているときその物質の減少は大きくないことが
示された。さらに、微粉ハンドリングシステムに入って
いる物質の量により、主な流動床から物質の微細な粉砕
は乾燥工程の間ほとんどないことが示された。第7図に
示されるような変更された底部プレート、とくに方向転
換部(25)および(27)の構造により与えられた大きな
改良は、本実施例1に記載したような流動床式乾燥装置
の作動により明らかに確立された。
7図に示すような設備にした。変更された流動床式乾燥
装置は、物質の供給量が1時間あたり固体45,000ポンド
で、空気流量が各ゾーンで1時間あたり30,000ポンドで
あった。それにより、ベースまたは底部プレートをはさ
んで1.7インチ水柱の差圧を生じた。このような通常の
コンディションのもとで、石けん産物の流動化は、方向
転換部を含む流動床全体を通してすべての地点で一様で
あることが分かった。送り込まれる物質の粒子サイズ分
布と乾燥された産物の粒子サイズ分布とを比較すると、
乾燥されているときその物質の減少は大きくないことが
示された。さらに、微粉ハンドリングシステムに入って
いる物質の量により、主な流動床から物質の微細な粉砕
は乾燥工程の間ほとんどないことが示された。第7図に
示されるような変更された底部プレート、とくに方向転
換部(25)および(27)の構造により与えられた大きな
改良は、本実施例1に記載したような流動床式乾燥装置
の作動により明らかに確立された。
本発明は、図面で示されるような詳細な具体例に関し
て明らかにされてきたが、とくにこれらの具体例に限定
されるものではない。以前の記載は限定というよりは例
証として扱われるべきであり、ここで明らかにされてい
る流動床式乾燥装置のベースおよび底部の細部における
変更および変形は本発明の要旨および範囲からはずれる
ことなくなされるであろう。
て明らかにされてきたが、とくにこれらの具体例に限定
されるものではない。以前の記載は限定というよりは例
証として扱われるべきであり、ここで明らかにされてい
る流動床式乾燥装置のベースおよび底部の細部における
変更および変形は本発明の要旨および範囲からはずれる
ことなくなされるであろう。
[発明の効果] 本発明により多様な粒子サイズの物質を乾燥するため
にとくに適した改良された流動床式乾燥装置であって、
最小限の微粉を有する産物を連続して生産する間、流動
化または物質の移送の不良のために操作を中断すること
なく作動を続ける能力を有する装置が提供される。
にとくに適した改良された流動床式乾燥装置であって、
最小限の微粉を有する産物を連続して生産する間、流動
化または物質の移送の不良のために操作を中断すること
なく作動を続ける能力を有する装置が提供される。
さらに、本発明により最終的な乾燥の前に送り込まれ
る物質を予乾燥するために用いられる設備においての使
用にとくに適した、改良された底部プレート構成が提供
される。
る物質を予乾燥するために用いられる設備においての使
用にとくに適した、改良された底部プレート構成が提供
される。
第1図は流動床式乾燥装置の透視図、第2図は本発明に
よる第1図の流動床式乾燥装置のハウジングを取り除い
た部分の部分斜視図、第3図は底部プレートの部分断面
図、第4図は底部プレートの別な部分断面図、第5図は
第1図の乾燥装置を通る好ましい物質の流れの通路を示
す概略図、第6図は第1図の流動床式乾燥装置における
底部プレートの通常の配列を示す概略図、第7図は本発
明による底部プレートの一構成を示す概略図、第8図は
本発明による底部プレートの別な構成を示す概略図、第
9図は本発明による底部プレートのさらに別な構成を示
す概略図、第10図は本発明による底部プレートのさらに
構成を示す概略図、第11図は第2図と同様に本発明によ
る底部プレートを有する流動床式乾燥装置の作動を図示
した説明図、第12図は本発明による底部プレートのさら
に別な構成を示す概略図である。 (図面の主要符号) (10):流動床式乾燥装置 (17)、(19):壁 (24)、(26)、(28):チャンバー (25)、(27):方向転換部 (30):ベース (31)、(32)、(32a)、(33)、(33a)、(33
b)、(34)、(34a):底部プレート (32b)、(33c):エッジ (33d)、(34b)、(39):気体導入孔
よる第1図の流動床式乾燥装置のハウジングを取り除い
た部分の部分斜視図、第3図は底部プレートの部分断面
図、第4図は底部プレートの別な部分断面図、第5図は
第1図の乾燥装置を通る好ましい物質の流れの通路を示
す概略図、第6図は第1図の流動床式乾燥装置における
底部プレートの通常の配列を示す概略図、第7図は本発
明による底部プレートの一構成を示す概略図、第8図は
本発明による底部プレートの別な構成を示す概略図、第
9図は本発明による底部プレートのさらに別な構成を示
す概略図、第10図は本発明による底部プレートのさらに
構成を示す概略図、第11図は第2図と同様に本発明によ
る底部プレートを有する流動床式乾燥装置の作動を図示
した説明図、第12図は本発明による底部プレートのさら
に別な構成を示す概略図である。 (図面の主要符号) (10):流動床式乾燥装置 (17)、(19):壁 (24)、(26)、(28):チャンバー (25)、(27):方向転換部 (30):ベース (31)、(32)、(32a)、(33)、(33a)、(33
b)、(34)、(34a):底部プレート (32b)、(33c):エッジ (33d)、(34b)、(39):気体導入孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) F26B 21/00
Claims (13)
- 【請求項1】互いに隣接する一連のチャンバーが長手方
向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部により接
続されることによって、前記チャンバーの最初の1つの
入口端から前記一連のチャンバーの最後の1つの出口端
に通じている曲がりくねった通路が形成されてなるハウ
ジングを有し、 前記各方向転換部が、前記共通の壁の一端において前記
共通の壁で仕切られた隣りあうチャンバーに向けて開放
しており、また前記隣りあうチャンバーの一方の幅にわ
たって分配された粉粒状物質を受け取り180°の弧状通
路を経て方向転換させ前記物質を前記隣りあうチャンバ
ーの他方へ運ぶものであり、 前記チャンバーおよび方向転換部それぞれが少なくとも
1つの底部プレートを含むベースを有し、該底部プレー
トが複数の気体導入孔を有し、該気体導入孔が各プレー
トにわたって分布し、また特定の方向において前記チャ
ンバーに気体を導入して粉粒状物質を流動化させ、か
つ、前記方向に動かすために方向づけられ、 前記チャンバーにおける前記各気体導入孔が、前記共通
の壁と平行な方向において前記粉粒状物質を一様に流動
化させ動かすために方向づけられ、また各方向転換部に
おける前記気体導入孔が、前記粉粒状物質の各インクリ
メント的な垂直カラムをそれらが前記共通の壁から離れ
ている距離に応じて受け取られ方向転換せしめられるよ
うに連続的に受け取り方向転換させるために方向づけら
れ、 さらに、底部プレートそれぞれの下に加圧気体を供給す
るためのプリナムチャンバーを有し、 各前記プリナムチャンバーに接続している加圧気体供給
源を有する粉粒状物質をプロセシングするための流動床
式乾燥装置。 - 【請求項2】前記チャンバーの各ベースが、前記共通の
壁に平行な横エッジと方向転換部へ開放している各チャ
ンバーの一端の端部エッジとを有する少なくとも1つの
プレートから構成され、また前記方向転換部のベース
が、ある角度で互いに交差する一対のエッジを有する少
なくとも3つの底部プレートを含み、前記少なくとも3
つの底部プレートが、各底部プレートの交差するエッジ
が隣りの底部プレートの交差するエッジの1つに当接す
るかまたは前記チャンバーの底部プレートの端部エッジ
の1つに当接するように挿入されている請求項1記載の
流動床式乾燥装置。 - 【請求項3】前記少なくとも3つの底部プレートの交差
するエッジが定める角度の合計が180°である請求項2
記載の流動床式乾燥装置。 - 【請求項4】前記少なくとも3つの底部プレートの2つ
の交差するエッジによって定められる角度が90°より小
さい請求項2記載の流動床式乾燥装置。 - 【請求項5】前記少なくとも3つの底部プレートの交差
するエッジが定める角度が実質的に互いに等しい請求項
2記載の流動床式乾燥装置。 - 【請求項6】前記チャンバーの各ベースが前記共通の壁
に平行な横エッジと離れて配置された端部エッジとを有
する少なくとも1つの底部プレートから構成され、また
方向転換部へ開放する前記チャンバーの一端で、少なく
とも1つのチャンバーのベースの前記少なくとも1つの
プレートの端部エッジが前記共通の壁に対して斜めの角
度で前記共通の壁の一端位置から延長され前記方向転換
部の一部を横切り、また前記方向転換部の底部がある角
度で互いに交差する一対のエッジを有する少なくとも1
つの底部プレートを含み、また前記少なくとも1つの方
向転換部底部プレートがその交差するエッジにおいて前
記チャンバーの底部プレートの前記端部エッジに当接す
るように挿入されてなる請求項1記載の流動床式乾燥装
置。 - 【請求項7】前記方向転換部が90°未満の角度で交差す
る一対のエッジを有する複数の底部プレートを含み、ま
た前記複数の底部プレートが、それらの交差するエッジ
が別な底部プレートの交差するエッジまたは前記チャン
バーの底部プレートの前記端部エッジの1つに当接する
ように挿入されてなる請求項6記載の流動床式乾燥装
置。 - 【請求項8】前記方向転換部へ開放している各チャンバ
ーの前記少なくとも1つの底部プレートの端部エッジが
前記共通の壁に対して斜めの角度で前記共通の壁の前記
一端位置から延長され、また前記方向転換部が一対の交
差するエッジを有する底部プレートを含み、また前記方
向転換部の底部プレートが一対の交差するエッジにおい
て前記チャンバーの底部プレートの前記端部エッジに当
接するように挿入されてなる請求項6記載の流動床式乾
燥装置。 - 【請求項9】方向転換部へ開放している各チャンバーの
前記少なくとも1つの底部プレートの前記端部エッジが
180°より小さい包含角度をなして前記共通の壁の前記
一端に向けて集まる請求項6記載の流動床式乾燥装置。 - 【請求項10】互いに隣接する一連チャンバーが長手方
向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部により接
続されることによって、前記チャンバーの最初の1つの
入口端から前記一連のチャンバーの最後の1つの出口端
に通じている曲がりくねった通路が形成されてなるハウ
ジングを有し、 各方向転換部が、前記共通の壁の一端において前記共通
の壁で仕切られた隣りあうチャンバーに向けて開放して
おり、また前記隣りあうチャンバーの一方の幅にわたっ
て分配された粉粒状物質を受け取り180°の弧状通路を
経て方向転換させ前記物質を前記隣りあうチャンバーの
他方へ運ぶものであり、 前記チャンバーおよび方向転換部それぞれが少なくとも
1つの底部プレートを含むベースを有し、該底部プレー
トが複数の気体導入孔を有し、該気体導入孔が各プレー
トにわたって分布し、また特定の方向において前記チャ
ンバーに気体を導入して粉粒状物質を流動化させ、か
つ、前記方向に動かすために方向づけられ、 前記チャンバーのベースにおける前記各気体導入孔が、
前記チャンバーの1つにおける動きの方向が隣りあうチ
ャンバーにおける動きの方向と逆向きになるように、前
記共通の壁と平行な方向に前記粉粒状物質を一様に流動
化させ、かつ、動かすために方向づけられ、前記チャン
バーの前記隣りあうものそれぞれのベースが、前記接続
している方向転換部に延長され、また前記共通の壁に対
して斜めの角度で前記共通の壁の前記一端からのびるエ
ッジで終端し、 方向転換部の底部プレートが、ある角度で交差する一対
のエッジを有し、前記粉粒状物質を流動化させ、かつ、
前記チャンバーでの前記粉粒状物質の動きの方向に対し
て実質的に垂直な方向に動かすために方向づけられた複
数の気体導入孔を有し、前記方向転換部の底部プレート
が、一対の交差するエッジが前記接続している方向転換
部において前記隣りあう各チャンバーのベースの前記エ
ッジに当接するように差し込まれ、 各底部プレートの下に加圧気体を供給するためのプリナ
ムチャンバーを有し、 各前記プリナムチャンバーに接続している加圧気体供給
源を有し、 それらによって、前記チャンバーから前記方向転換部へ
運ばれた前記粉粒状物質の垂直カラムが前記底部プレー
トの前記交差する各エッジを横切るたびに、各垂直カラ
ムが連続的におよび少しずつ方向転換させられるように
構成されてなる、多様な粒子サイズ分布をなす粉粒状物
質をプロセシングするための流動床式乾燥装置。 - 【請求項11】前記隣りあう各チャンバーのベースのエ
ッジが、前記接続している方向転換部において、90°の
包含角度をなす請求項10記載の流動床式乾燥装置。 - 【請求項12】前記底部プレートの前記一対のエッジが
90°の角度で交差し、また粉粒状物質の各垂直カラムが
前記底部プレートの前記交差する各エッジを横切るたび
に、粉粒状物質の前記垂直カラムが約90°の角度を経て
実質的に方向転換させられる請求項10記載の流動床式乾
燥装置。 - 【請求項13】流動床式予乾燥装置および流動床式乾燥
装置からなる装置であって、前記予乾燥装置および前記
乾燥装置の各々がチャンバーを有し、該チャンバーが長
手方向に配置された共通の壁で仕切られ方向転換部によ
って接続され、それによって、前記予乾燥装置のチャン
バーの幅にわたって分配された粉粒状物質を受け取り18
0°の弧状通路を経て方向転換させ前記物質を前記乾燥
装置のチャンバーへ運び、前記チャンバーおよび前記方
向転換部のそれぞれが少なくとも1つの底部プレートを
含むベースを有し、該底部プレートが複数の気体導入孔
を有し、該気体導入孔が各プレートにわたって分布し、
また特定の方向において前記装置に気体を導入して粉粒
状物質を流動化させ、かつ、前記方向に動かすために方
向づけられ、 前記チャンバーのベースにおける前記各気体導入孔が、
前記乾燥装置のチャンバーにおける前記物質の動きの方
向が前記予乾燥装置のチャンバーにおける動きの方向と
反対になるように、前記共通の壁と平行な方向に前記粉
粒状物質を一様に流動化させ、かつ、動かすために方向
づけられ、 前記各チャンバーのベースの底部プレートが、前記方向
転換部に延長され、前記共通の壁に対して斜めの角度で
前記共通の壁の一端からのびるエッジで終端し、 方向転換部の底部プレートが、ある角度で交差する一対
のエッジを有し、前記粉粒状物質を流動化させ、かつ、
前記チャンバーでの前記粉粒状物質の動きの方向に対し
て実質的に垂直な方向に動かすために方向づけられた複
数の気体導入孔を有し、前記方向転換部の底部プレート
が、前記一対の交差するエッジが前記方向転換部におい
て前記ベースの底部プレートの前記エッジに当接するよ
うに差し込まれ、 各ベースの下に加圧気体を供給するためのプリナムチャ
ンバーを有し、 各プリナムチャンバーに接続している加圧気体供給源を
有し、 それによって、前記予乾燥装置のチャンバーから受け取
られた前記粉粒状物質のインクリメント的な垂直カラム
が、各垂直カラムが前記方向転換部の底部プレートの前
記の交差する各エッジを横切るとき、連続的に受け取ら
れ方向転換させられることにより構成される、広い粒子
サイズ分布をなす粉粒状物質を乾燥するための装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/442,817 US5022164A (en) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | Fluid bed dryer |
US442,817 | 1989-11-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03271688A JPH03271688A (ja) | 1991-12-03 |
JP2809871B2 true JP2809871B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=23758272
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2333468A Expired - Fee Related JP2809871B2 (ja) | 1989-11-29 | 1990-11-28 | 流動床式乾燥装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5022164A (ja) |
EP (1) | EP0430849B1 (ja) |
JP (1) | JP2809871B2 (ja) |
DE (1) | DE69020867T2 (ja) |
DK (1) | DK0430849T3 (ja) |
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US5839207A (en) * | 1995-12-22 | 1998-11-24 | Niro A/S | Fluid bed apparatus, a bed plate therefore, and a method of making a bed plate |
NZ331531A (en) | 1997-09-04 | 2000-01-28 | Toyo Engineering Corp | method for granulation and granulator |
IT1299709B1 (it) * | 1998-03-04 | 2000-04-04 | Garbuto Spa | Essiccatore a letto fluido, particolarmente per l'essiccazione del tabacco. |
EP1257352B1 (en) | 2000-02-18 | 2009-04-22 | Niro A/S | A method and apparatus for drying a pulverulent or particulate material |
KR20030046520A (ko) * | 2000-11-06 | 2003-06-12 | 캐보트 코포레이션 | 개질된 산소 환원된 밸브 금속 산화물 |
US20140102342A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-17 | Babcock & Wilcox Power Generation Group, Inc. | In-bed solids control valve with improved reliability |
KR101848698B1 (ko) | 2012-11-01 | 2018-04-13 | 자낙 라만랄 샤 | 실질적으로 건조된 고체의 제어된 농축 및 고체 회수를 위한 방법 |
Family Cites Families (13)
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BE475403A (ja) * | 1947-07-29 | |||
GB788191A (en) * | 1955-06-16 | 1957-12-23 | Svenska Flaektfabriken Ab | Apparatus for treating grain or similar materials by means of a gaseous medium |
FR1293721A (fr) * | 1961-05-16 | 1962-05-18 | Du Pont | Procédé pour la mise en contact de particules solides avec un gaz et installation pour sa mise en oeuvre |
US3401465A (en) * | 1966-12-23 | 1968-09-17 | Nat Lead Co | Means for cooling solid particulate materials with fluids |
GB1410793A (en) * | 1972-09-14 | 1975-10-22 | Vyzk Ustav Chem Zarizeni | Process and device for the continuous drying of granular materials in a fluidized bed |
US3976330A (en) * | 1975-10-01 | 1976-08-24 | International Business Machines Corporation | Transport system for semiconductor wafer multiprocessing station system |
US4352607A (en) * | 1977-03-18 | 1982-10-05 | Gca Corporation | Automatic wafer processing system and method |
DE2734608C2 (de) * | 1977-08-01 | 1982-06-03 | Bergwerksverband Gmbh, 4300 Essen | Anströmboden für Wirbelrinnen |
DD136927B1 (de) * | 1978-05-22 | 1986-03-26 | Schwermaschinenbaukomb Ernst T | Anstroemboden fuer wirbelschichtapparate |
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DK145807C (da) * | 1980-11-20 | 1983-08-29 | Niro Atomizer As | Fremgangsmaade og apparat til toerring af et partikelformet produkt |
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-
1989
- 1989-11-29 US US07/442,817 patent/US5022164A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-27 EP EP90610070A patent/EP0430849B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-27 DK DK90610070.6T patent/DK0430849T3/da active
- 1990-11-27 DE DE69020867T patent/DE69020867T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-28 JP JP2333468A patent/JP2809871B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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DE69020867D1 (de) | 1995-08-17 |
JPH03271688A (ja) | 1991-12-03 |
EP0430849A2 (en) | 1991-06-05 |
EP0430849A3 (en) | 1991-07-31 |
DE69020867T2 (de) | 1995-12-14 |
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