JP2808149B2 - 溶剤系ネールエナメル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規な美爪料に関する。さらに詳しくは、
特殊なシリコーン樹脂とセルロース誘導体とを含有した
溶剤系ネールエナメルに関する。

なお本発明でいう溶剤系ネールエナメルには、ネール
エナメルの光沢、経時のもち等を向上させう目的で用い
られるベースコート、トップコート又は水を配合した乳
化エナメル等も含まれる。

［従来の技術］ 従来の溶剤系ネールエナメルはニトロセルロースとア
ルキッド系レジン、アクリル系レジン、トルエンスルホ
ンアミド系レジン、ショ糖安息香酸エステルレジン等の
レジンと可塑剤及び溶剤を主基剤とし、これに必要に応
じて顔料、染料、パール剤等が配合されている。そし
て、上記溶剤系ネールエナメルは爪への塗り易さ、光
沢、経時のもちの点で優れ、広く愛用されている。しか
し、酢酸ブチル、トルエン等の溶剤が必須成分であるこ
とから、溶剤の蒸発が非常に遅く、ネールエナメルの乾
燥性に大きな問題があった。また、皮膜形成剤はニトロ
セルロースが主骨格となっていることから、乾燥後、指
先に圧迫感を与えることが溶剤系ネールエナメルに共通
した欠点となっていた。

従来からこれらの問題を解決すべく、いろいろな研究
がなされてきた。ネールエナメルの乾燥性については、
蒸発が速い低沸点溶剤であるアセトン、メチルエチルケ
トン等を主溶剤とする工夫が行なわれている。しかし、
乾燥性は改善される反面、爪への塗り易さが劣り、均一
な塗膜ができない。また、爪のダメージが避けられない
といった背反特性が生じ問題解決に至っていない。乾燥
後の圧迫感については、特公昭62−40322「酸素ガス透
過性のあるマニキュア剤」が知られている。これは、酸
素透過性を有するシリコーン樹脂又はシリコーン系コポ
リマー樹脂を配合したもので皮膜形成性、塗布後の指先
の感触性、長期使用後の爪の損傷性がないことを特徴と
している。しかしながら、上記マニキュア剤は、光沢、
経時でのもち及び乾燥性の点で著しく劣り、マニキュア
剤として兼備すべき基本的機能に欠ける品質のものであ
った。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明者らは、このような事情に鑑み、塗りやすさ、
光沢、経時のもちに優れ、しかも乾燥速度が早く、指先
の圧迫感がないネールエナメルが得られないものかと鋭
意研究を重ねた結果、特殊なシリコーン樹脂と、セルロ
ース誘導体とを用いることにより、これらの諸特性を全
て兼備したネールエナメルが得られることを見出し本発
明を完成するに至った。

［課題を解決するための手段］ すなわち、本発明は、 平均組成式がR_aSiO_{（４−ａ）/2}（式中Ｒは、置換、
非置換の一価炭化水素基、ａは0.8≦ａ≦1.8の正数を表
す。）で示され、分子量が250〜100,000であるシリコー
ン樹脂を１〜50重量％と、 セルロース中の水酸基の一部または全てが他の有機基
で置換されたもので、セルロース、ニトロセルロースを
除くセルロース誘導体を0.5〜15.0重量％とを含有する
ことを特徴とする溶剤系ネールエナメルを提供するもの
である。

以下、本発明の構成について説明する。

本発明の溶剤系ネールエナメルに用いられるシリコー
ン樹脂は、平均組成式がRaSiO_{（４−ａ）/2} （式中Ｒは、置換、非置換の一価炭化水素基、ａは0.8
≦ａ≦1.8の正数を表す。） で示されるものであり、Ｒの具体例としては、炭素数１
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であって、
これにはメチル基、エチル基、プロピル基などのアルキ
ル基、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基等のアルケニ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロ
アルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等のア
リール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキ
ル基、クロロフェニル基、テトラクロロフェニル基、ク
ロロメチル基、ペンタフルオロブチル基、トリフルオロ
プロピル基などのハロゲン置換一価炭化水素基、その他
γ−グリシドキシ基、β−（3,4エポキシシクロヘキシ
ル）基、シアノエチル基、γ−アミノプロピル基、Ｎ−
β−（アミノエチル）γ−アミノプロピル基等が挙げら
れる。これらの中で一種又は二種以上が選択され用いら
れるが、メチル基、フェニル基のものが特に好ましい。

これらのけい素に直結した有機基は、けい素原子に対
し平均0.8〜1.8個を有し、好ましくは1.0〜1.5個であ
る。0.8未満の場合は硬く脆く、爪の屈曲に追随でき
ず、経時のもちが悪くなる。また、1.8を越えた場合は
乾燥速度が遅くなり、皮膜にべとつきがでてくる。本発
明で用いられるシリコーン樹脂の配合量は、溶剤系ネー
ルエナメル全量中１〜50重量％であり、好ましくは５〜
30重量％である。1.0重量％未満では、光沢、乾燥速
度、そして圧迫感が劣り、50.0重量％を越えると、経時
でのもちが悪くなる。

ここで示されるシリコーン樹脂は公知の方法により製
造することができる。すなわち、RbSiX_4-b（式中Ｒは前
述通り、ｂは０〜３で示される数、Ｘは加水分解可能な
基）で示されるシランを目的とするシロキサン構造に対
応する比率で配合した後、常法に従って加水分解し、つ
いで重合を進め目的とする重合物を作る。

シランの選択には、多様な組合せが考えられ、上記平
均式の範囲内であれば使用可能であるが、R₂SiX₂、RSiX
₃の組合せが特に好ましい。

本発明に用いられるシリコーン樹脂の重合度は分子量
250〜100,000の範囲であり、これ未満では乾燥速度が遅
く、これを越えるとセルロース誘導体との相溶性に乏し
く奇麗な塗膜が得られない。

なお、加水分解により生成するシラノール基（≡SiOH
基）や、アルコキシ基等の加水分解可能な基Ｘの残存も
本発明の範疇に含まれる。

本発明に用いられるセルロース誘導体はセルロース中
の水酸基の一部または全てを他の有機基で置換して得ら
れたもので、例えばメチルセルロース、エチルセルロー
ス、プロピルセルロース、ブチルセルロース、アセチル
セルロース、セルロースフタレート、ヒドロキシエチル
セルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブ
チレート、セルロースアセテートフタレート等が挙げら
れ、これらの中で特にエチルセルロース、セルロースア
セテートブチレートが好ましい。本発明に用いられるセ
ルロース誘導体の配合量は、ネールエナメル全量中0.5
〜15.0重量％であり、好ましくは1.5〜5.0重量％であ
る。0.5重量％未満または15.0重量％を越えるといずれ
も経時のもちが悪く好ましくない。

本発明で用いられる溶剤としては、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素や酢酸エチル、酢酸ｎブチル、酢
酸イソブチル等のエステル系溶剤、ブタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール系溶剤、メチルエチルメト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、セルソ
ルブ、カービトール等のエーテル系溶剤、アイソパー
Ｇ、Ｈ等の分枝飽和炭化水素等が挙げられるが、これら
に限定されるものではなく、アセトンも爪に損傷を与え
ないレベルで配合できる。これら溶剤の一種又は二種以
上を配合することができ、配合量はネールエナメル全量
中50〜85重量％が一般的である。

本発明の溶剤系ネールエナメルには、ニトロセルロー
ス、シリコーン樹脂以外の樹脂、可塑剤、顔料等を配合
することができる。

ニトロセルロースとしては、例えばニトロセルロース
RS1/4秒、ニトロセルロースRS1/2秒、ニトロセルロース
SS1/4秒、ニトロセルロースSS1/2秒、ニトロセルロース
HIG1/4秒、ニトロセルロースHIG1/2秒、ニトロセルロー
スSL−１等が挙げられる。配合量は一般的にネールエナ
メル全量中の５〜25重量％である。

シリコーン樹脂以外の樹脂としては、例えばアルキッ
ド系レジン、アクリル系レジン、トルエンスルホンアミ
ド系レジン、ショ糖安息香酸エステル系レジン糖の合成
レジン、あるいはロジン、シェラック糖の天然レジン糖
が挙げられる。配合量は一般的にネールエナメル全量中
３〜15重量％である。

可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート等のフタル酸エステル系、クエン酸トリ
ブチル、クエン酸アセチルトリブチル、クエン酸アセチ
ルトリエチル等のクエン酸エステル系等が挙げられる。
配合量は一般的にはネールエナメル全量中0.1〜8.0重量
％である。

顔料としては、例えば酸化鉄（赤）、酸化鉄（黄）、
酸化鉄（黒）、酸化チタン等の無機顔料、黄色４号、赤
色226号、赤色202号、赤色204号等の有機顔料等が挙げ
られる。配合量は一般的にネールエナメル全量中5.0重
量％以下である。

本発明の溶剤系ネールエナメルには、必要に応じて、
香料、染料、ラメ剤、薬剤、保湿剤、紫外線吸収、艶消
し剤、充填剤、界面活性剤、金属石鹸等も配合すること
ができる。もちろん、これらは本発明の効果を損なわな
い質的、量的条件下で使用されなければならない。

［発明の効果］ 本発明の溶剤系ネールエナメルは、塗りやすさ、光
沢、経時のもち、乾燥速度に優れ、しかも指先の圧迫感
が解消され、ネールエナメルの弱点を解決した画期的な
溶剤系ネールエナメルである。

［実施例］ 次に実施例によって、本発明をさらに詳細に説明す
る。本発明はこれらにより限定されるものではない。配
合量は重量％である。実施例に先立ち、本発明の効果試
験方法及び評価方法を示す。

塗りやすさ 実際の使用において官能で評価した。

光沢 実際の使用において官能で評価した。

乾燥速度 実際の使用において、塗布直後から指先で触れた時の
指紋がつかなくなるまでの時間を測定。

指先の圧迫感 実際の使用において官能で評価。

経時のもち 実際の使用において官能で評価。

実施例１、比較例１、２ 表−１に示す処方でネールエナメルを製造し、品質評
価を行った。

（製法） （４）〜（７）に（１）〜（３）及び（10）（11）を
溶解し、（８）（９）を攪拌混合し試料とした。

表−１から明らかなように実施例１は塗りやすさ、光
沢、乾燥性、指先の圧迫感、そして経時のもちなど全て
の特性で非常に優れていた。これに対し、シリコーン樹
脂、エチルセルロースを配合していない通常タイプの場
合の比較例１は乾燥速度、指先の圧迫感の点で劣り、ア
セトンを配合した比較例２は塗りやすさ、指先の圧迫感
の点で著しく劣っていることが判る。

実施例２〜４、比較例３〜12 表−２に示す処方でネールエナメルを製造し、品質評
価を行った。

表−２から明らかなように、実施例２〜４は塗りやす
さ、光沢、乾燥速度、指先の圧迫感、経時のもち等全て
の特性が優れている。比較例３はセルロース誘導体を配
合していない系であり、乾燥速度、経時のもちが劣って
いる。比較例４はシリコーン樹脂を配合していない系で
乾燥速度、指先の圧迫感が著しく劣っている。比較例５
はシリコーン樹脂の平均組成式RaSiO_{（４−ａ）/2}にお
いてａ＝0.5の場合で、膜が脆くなり経時のもちが著し
く損なわれている。比較例６はシリコーン樹脂の平均組
成式RaSiO_{（４−ａ）/2}においてａ＝2.0の場合で、乾燥
速度が低下し経時のもちが悪くなっている。シリコーン
樹脂の分子量が著しく小さい（MW＝200）場合の比較例
７は乾燥速度が非常に劣っている。逆に分子量が150,00
0の場合の比較例８は、セルロース誘導体との相溶性が
悪く、良い塗膜が得られず、それぞれの特性評価も不可
である。比較例９は、シリコーン樹脂が極度に少ない配
合の場合で、乾燥速度、指先の圧迫感等が劣る結果であ
る。比較例10はシリコーン樹脂が非常に多い場合で経時
のもちが悪くなっている。比較例11、12はセルロースア
セテートブチレートの非常に少ない配合の場合、非常に
配合の多い場合である。比較例11は乾燥速度、経時のも
ち、また比較例12は経時のもちが悪くなっている。

以上の結果から明らかなように、本発明の溶剤系ネー
ルエナメルは、塗りやすさ、光沢、乾燥速度、経時のも
ちに優れ、しかも指先の圧迫感が解消された画期的な溶
剤系ネールエナメルである。

実施例５ 透明系ネールエナメル 常法により、透明系ネールエナメルを製造した。

ニトロセルロースHIG1/4 18.0 アクリル樹脂 10.0 クエン酸アセチルトリブチル 5.0 酢酸エチル 20.0 酢酸ｎブチル 14.0 エチルアルコール 8.0 シリコーン樹脂 20.0 RaSiO_{（４−ａ）/2}、R:フェニル／メチル＝1.5（モル
比）、ａ＝1.0、MW＝3000 セルロースアセテートブチレート 5.0 実施例５の透明系ネールエナメルは、塗りやすさ、光
沢、乾燥速度、指先の圧迫感、経時のもちの全ての効果
に優れていた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 敏秀 神奈川県横浜市港北区新羽町1050番地 株式会社資生堂研究所内 (72)発明者 岡村 義夫 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越 化学工業株式会社シリコーン電子材料技 術研究所内 (72)発明者 黒崎 輝夫 東京都千代田区大手町２丁目６番１号 信越化学工業株式会社本社内 (56)参考文献 特開 昭53−96338（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−199621（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】平均組成式がR_aSiO_{（４−ａ）/2}（式中Ｒ
   は、置換、非置換の一価炭化水素基、ａは0.8≦ａ≦1.8
   の正数を表す。）で示され、分子量が250〜100,000であ
   るシリコーン樹脂を１〜50重量％と、 セルロース中の水酸基の一部または全てが他の有機基で
   置換されたもので、セルロース、ニトロセルロースを除
   くセルロース誘導体を0.5〜15.0重量％とを含有するこ
   とを特徴とする溶剤系ネールエナメル。