JP2806919B2 - Constant temperature bath - Google Patents

Constant temperature bath

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JP2806919B2
JP2806919B2 JP8344719A JP34471996A JP2806919B2 JP 2806919 B2 JP2806919 B2 JP 2806919B2 JP 8344719 A JP8344719 A JP 8344719A JP 34471996 A JP34471996 A JP 34471996A JP 2806919 B2 JP2806919 B2 JP 2806919B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は接着剤などを硬化さ
せる恒温槽に関し、特に、半導体チップなどの電子デバ
イス素子が基板やリードフレームあるいはパッケージに
接着剤で接着した後に加熱し接着剤を硬化させる恒温槽
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermostat for curing an adhesive or the like, and more particularly, to heating an electronic device element such as a semiconductor chip to a substrate, a lead frame or a package and then heating the adhesive to cure the adhesive. Related to thermostat.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂
を使用した接着剤などは、接着性を強化するために所定
の時間熱などを加え架橋化しなければならなかった。こ
のように接着剤を硬化処理するのに通常恒温槽が用いら
れていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, an adhesive or the like using a thermosetting resin such as an epoxy resin has to be cross-linked by applying heat or the like for a predetermined time in order to enhance the adhesiveness. As described above, a thermostat is usually used to cure the adhesive.

【0003】図9は従来の一例を示す恒温槽の断面図で
ある。この種の恒温槽が、例えば、清浄雰囲気加熱装置
として実開平1一86234号公報に開示されている。
この清浄雰囲気加熱装置は、図9に示すように、恒温槽
23は仕切壁28により二重構造に分離され、中央部に
高温クリーンな環境のクリーンチャンバー部Bとそれを
取り巻くように配置された気体クリーニング部Aと循環
室Cとで構成されている。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a thermostat showing an example of the related art. This type of constant temperature bath is disclosed, for example, in Japanese Utility Model Laid-Open Publication No. 186234/1994 as a clean atmosphere heating device.
In this clean atmosphere heating apparatus, as shown in FIG. 9, a constant temperature bath 23 is separated into a double structure by a partition wall 28, and is disposed at a central portion so as to surround a clean chamber portion B of a high temperature clean environment and the clean chamber portion B. It comprises a gas cleaning section A and a circulation chamber C.

【0004】また、気体フィルタ25は気体クリーニン
グ部Aとクリーンチャンバー部Bとの間に設けられ、仕
切壁28の下側には循環室Cが形成され、この循環室C
と気体クリーニング部Aとの間にモータ27で回転され
るファン26とクリーンチャンバー部B内にはヒータ2
4と第二ファン20とが設けられている。さらに、クリ
ーンチャンバー部Bの出口と循環室Cとの間にはその通
路を弁体を開閉するダンパ30とそのダンパ30の近く
の循環室C側には吸気口29が設けられている。そし
て、クリーンチャンバー部B側には排気口21が設けら
れている。
The gas filter 25 is provided between the gas cleaning section A and the clean chamber section B, and a circulation chamber C is formed below the partition wall 28.
A fan 26 rotated by a motor 27 between the gas cleaning section A and a heater 2 in the clean chamber section B.
4 and a second fan 20 are provided. Further, between the outlet of the clean chamber section B and the circulation chamber C, there is provided a damper 30 for opening and closing a valve body in the passage, and an intake port 29 on the circulation chamber C side near the damper 30. An exhaust port 21 is provided on the clean chamber section B side.

【0005】図10は図9の恒温槽のスタート時の動作
を説明するための図である。スタート時における図9の
恒温槽の動作は、図10に示すように、まず、循環室C
のダンパ30の弁体で吸気口29と排気口21を塞ぎ、
破線で示すガスの循環路を形成する。そして、ファン2
6が動作し加熱されていない気体は、気体フィルタ25
を通りクリーンチャンバー部Bを通過し循環室Cを経由
し再びファン26により戻され再び気体フィルタ25に
送られる。このように恒温槽23内の気体を循環させク
リーンチャンバーBの気体を清浄化する。
FIG. 10 is a diagram for explaining the operation of the constant temperature bath of FIG. 9 at the time of start. The operation of the thermostat in FIG. 9 at the start is as shown in FIG.
The intake port 29 and the exhaust port 21 are closed by the valve body of the damper 30,
A gas circulation path indicated by a broken line is formed. And fan 2
The gas that has been operated and is not heated passes through the gas filter 25.
, Passes through the clean chamber section B, passes through the circulation chamber C, is returned by the fan 26 again, and is sent to the gas filter 25 again. Thus, the gas in the clean chamber B is cleaned by circulating the gas in the thermostat 23.

【0006】図11は図9の恒温槽の気体の清浄後にお
ける動作を説明するための図である。上述した動作を一
定時間行なった後、図11に示すように、ダンパ30を
切替えて、吸気口29を循環室Cに排気口21をクリー
ンチャンバー部Bに連通させる。そして、吸気口29か
ら、例えば、不活性ガスを導入し循環室Cを経てファン
26で送風する。このとき高圧な不活性ガスが気体フィ
ルタ25に入り込まないようにファン26の回転数を落
し、少しづつ気体フィルタ25を通過させクリーンチャ
ンバー部B内に送り込み、クリーンチャンバー部Bを通
過させ排気口21から排出させる。
FIG. 11 is a view for explaining the operation of the thermostatic chamber of FIG. 9 after cleaning the gas. After performing the above-described operation for a certain period of time, as shown in FIG. 11, the damper 30 is switched so that the intake port 29 communicates with the circulation chamber C and the exhaust port 21 communicates with the clean chamber section B. Then, for example, an inert gas is introduced from the intake port 29 and is blown by the fan 26 through the circulation chamber C. At this time, the rotation speed of the fan 26 is reduced so that the high-pressure inert gas does not enter the gas filter 25, the gas passes through the gas filter 25 little by little, is sent into the clean chamber part B, passes through the clean chamber part B, and is discharged through the exhaust port 21. To be discharged from

【0007】次に、クリーンチャンバー部B内の第二フ
ァン20を動作させると同時にヒータ24を動作させク
リーンチャンバ部B内だけで清浄な気体を矢印で示すよ
うに循環させる。また、ここで、クリーンチャンバー部
B内に試料31が収納されている場合は、加熱された気
体により試料31から発生するガスも一点鎖線で示すよ
うに排気口21から排出される。なお、気体はより安価
な窒素ガスを送り込み窒素ガス雰囲気にすることもでき
ることを特徴としている。
Next, the second fan 20 in the clean chamber section B is operated, and at the same time, the heater 24 is operated to circulate a clean gas only in the clean chamber section B as indicated by an arrow. Here, when the sample 31 is stored in the clean chamber section B, the gas generated from the sample 31 by the heated gas is also exhausted from the exhaust port 21 as shown by the dashed line. Note that the gas is characterized in that a less expensive nitrogen gas can be supplied to form a nitrogen gas atmosphere.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の恒温槽
では、低い送風圧で気体を清浄化してから気体を加熱し
クリーンチャンバー内で循環し、気体フイルタに直接加
熱された気体を通過させないので、気体フィルタの寿命
が伸びるものの、長い温度上昇時間を必要とし試料のベ
ークサイクル時間が長くなるという問題がある。
In the above-mentioned conventional thermostat, the gas is heated at a low blowing pressure and then heated and circulated in the clean chamber, so that the heated gas does not pass directly through the gas filter. Although the life of the gas filter is extended, there is a problem that a long temperature rise time is required and the bake cycle time of the sample is prolonged.

【0009】また、特別な冷却機構が無く、ヒータを切
ってファン4だけでクリーンチャンバー部内を循環させ
て冷却しなければならず温度降下させるのにも時間がか
かるという欠点があり、このことはさらにベークサイク
ル時間を長くするという問題となる。
In addition, there is no special cooling mechanism, and there is a disadvantage that the heater must be turned off and the fan 4 alone circulates through the clean chamber for cooling, and it takes a long time to lower the temperature. Further, there is a problem that the bake cycle time is lengthened.

【0010】さらに、気体を清浄化するのに不活性ガス
などの気体を導入し低い風圧で循環させている上に槽体
内の圧力が低く、このため、槽体外から空気が侵入して
クリーンチャンバー部内に酸素を混入させ、これらの重
い酸素分子が抜けきれなく残留し、酸化され易い半導体
素子などの試料はこれらの残留酸素で酸化され、半導体
素子に酸化膜が厚く形成され製品として不良となる問題
がある。
Further, in order to purify the gas, an inert gas or the like is introduced and circulated at a low wind pressure, and the pressure inside the tank is low. Oxygen is mixed into the part, and these heavy oxygen molecules remain without being completely removed, and a sample such as a semiconductor element which is easily oxidized is oxidized by the residual oxygen, and a thick oxide film is formed on the semiconductor element, resulting in a defective product. There's a problem.

【0011】一方、ベーキングされる試料から発生する
多量のガスが排気されず、冷却時にこれらガスが凝固し
試料自体に再付着し後工程に多大な品質の欠陥をもたら
す。また、これら凝固した粒子が低い風圧で排気されて
いるので、気体フィルタ本来の機能であるフィルタに付
着させ除去する能力が失なわれ、クリーンチャンバー部
の壁面に付着する。壁面に付着した凝固物は再度の加熱
により蒸発し清浄度を著しく阻害するという問題があ
る。
On the other hand, a large amount of gas generated from the sample to be baked is not exhausted, and when cooled, these gases solidify and re-attach to the sample itself, causing a great quality defect in the subsequent process. In addition, since these solidified particles are exhausted at a low wind pressure, the ability of attaching and removing the gas filter, which is an original function of the gas filter, is lost, and the particles adhere to the wall surface of the clean chamber. There is a problem that the coagulated matter attached to the wall surface evaporates by reheating and significantly impairs cleanliness.

【0012】また、フィルタの目詰りを認識する手段が
無いため、フィルタの交換すべき時期を逸しそのまま使
用することにより、さらに風圧を低くし凝固物の除去が
できず壁面への凝固物の付着を助長させることになる。
Further, since there is no means for recognizing clogging of the filter, it is not possible to remove the coagulated material by further reducing the wind pressure and to remove the coagulated material by using the filter as it is when the time to replace the filter is lost. Will be encouraged.

【0013】従って、本発明の目的は、試料から発生す
るガスや残留する酸素などを完全に排出し清浄な不活性
ガス雰囲気で接着剤の硬化させるとともに硬化処理サイ
クル時間を短縮する恒温槽を提供することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a thermostatic bath in which gas generated from a sample, residual oxygen, etc. are completely discharged, the adhesive is cured in a clean inert gas atmosphere, and the curing cycle time is reduced. Is to do.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、仕切壁
により試料が収納される処理室と循環室とに仕切られる
槽本体と、前記循環室と前記処理室との間に配置される
気体フィルタと、前記循環室から前記気体フィルタを経
て前記処理室内にファンにより循環用不活性ガスを供給
する槽内循環用不活性ガス供給系統と、前記処理室内に
配置されるとともに前記ファンにより前記気体フィルタ
を介して送られる前記循環用不活性ガスを加熱する第1
のヒータと、前記槽本体内の圧力を外気の圧力より高め
に維持するために不活性ガスを供給する内圧維持用不活
性ガス供給系統と、前記槽本体内を冷却するために冷却
不活性ガスを供給する冷却用不活性ガス供給系統と、
記処理室内の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、前記気
体フィルタの前段と後段の圧力差を読み取り前記気体フ
ィルタの目詰りを監視する差圧計と、供給される前記循
環用不活性ガスおよび前記内圧維持用不活性ガスによる
前記槽本体の圧力を一定に維持しかつ前記処理室内の酸
素濃度の検知量により弁体の開閉が制御され前記処理室
内にある不純ガスや前記試料の発生するガスを排出する
第1のダンパとを備える恒温槽である。
Feature of the present invention SUMMARY OF THE INVENTION is positioned between the tank body sample by the partition wall is divided into a circulation chamber and the processing chamber to be contained, and the circulation chamber and the processing chamber A gas filter, a circulating inert gas supply system for supplying a circulating inert gas from the circulation chamber through the gas filter to the processing chamber by a fan ,
The gas filter is arranged and
Heating the inert gas for circulation sent through the first
Heater, an inert gas supply system for maintaining an internal pressure for supplying an inert gas to maintain the pressure in the tank body higher than the pressure of the outside air, and a cooling inert gas for cooling the inside of the tank body and cooling the inert gas supply system for supplying, prior to
An oxygen concentration meter for measuring the oxygen concentration in the processing chamber;
Read the pressure difference between the front and rear stages of the body filter
A differential pressure gauge for monitoring the clogging of the filter, and the supplied inert gas for circulation and the inert gas for maintaining the internal pressure.
Maintaining the pressure of the tank body to a constant and the acid in the processing chamber
A constant temperature bath including a first damper configured to control opening and closing of a valve body based on a detected amount of elemental concentration and to discharge an impurity gas in the processing chamber and a gas generated by the sample.

【0015】また、前記循環用不活性ガス供給系統に第
2のヒータを備えることが望ましい。さらに、前記第1
のダンパの弁体を収納する配管の端部を笠状に被せて連
結する外部ダクトと該外部ダクトに収納される弁体とを
具備する第2のダンパを備えることが望ましい。
In addition, the circulation inert gas supply system is
It is desirable to have two heaters. Further, the first
Cover the end of the pipe that houses the valve element of the
Connecting the external duct and the valve element housed in the external duct.
It is desirable to have a second damper provided.

【0016】本発明の他の特徴は、仕切壁により試料が
収納される処理室と循環室とに仕切られる槽本体と、前
記循環室と前記処理室との間に配置される気体フィルタ
と、前記循環室内に設けられるファンと、前記循環室か
ら前記気体フィルタを経て前記処理室内に前記ファンに
より循環用不活性ガスを供給する槽内循環用不活性ガス
供給系統と、前記循環室内に散在して配置されるととも
に前記ファンにより前記気体フィルタを介して送られる
前記循環用不活性ガスを加熱する複数の第3のヒータ
と、前記槽本体内の圧力を外気の圧力より高めに維持す
るために不活性ガスを供給する内圧維持用不活性ガス供
給系統と、前記槽本体内を冷却するために冷却不活性ガ
スを供給する冷却用不活性ガス供給系統と、前記処理室
内の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、前記気体フィル
タの前段と後段の圧力差を読み取り前記気体フィルタの
目詰りを監視する差圧計と、供給される前記循環用不活
性ガスおよび前記内圧維持用不活性ガスによる前記槽本
体の圧力を一定に維持しかつ前記処理室内の酸素濃度の
検知量により弁体の開閉が制御され前記処理室内にある
不純ガスや前記試料の発生するガスを排出する第3のダ
ンパとを備える恒温槽である。また、前記循環用不活性
ガス供給系統に第4のヒータを備えることが望ましい。
さらに、前記第3のダンパの弁体を収納する配管の端部
を笠状に被せて連結する外部ダクトと該外部ダクトに収
納される弁体とを具備する第4のダンパを備えることが
望ましい。
Another feature of the present invention is that the sample is separated by the partition wall.
A tank body divided into a processing chamber and a circulation chamber,
Gas filter arranged between the circulation chamber and the processing chamber
A fan provided in the circulation chamber;
Through the gas filter to the fan in the processing chamber
Inert gas for circulation in the tank that supplies more inert gas for circulation
A supply system, and scatteredly arranged in the circulation chamber;
Sent by the fan through the gas filter
A plurality of third heaters for heating the inert gas for circulation
To maintain the pressure in the tank body higher than the pressure of the outside air.
Supply inert gas to maintain the internal pressure.
A supply system and a cooling inert gas for cooling the inside of the tank body.
A cooling inert gas supply system for supplying heat, and the processing chamber
An oxygen concentration meter for measuring the oxygen concentration in the gas filter,
Read the pressure difference between the front and rear stages of the gas filter.
Differential pressure gauge for monitoring clogging, and the circulation inertness supplied
Tank tank made of neutral gas and inert gas for maintaining the internal pressure
Maintaining the body pressure constant and controlling the oxygen concentration in the processing chamber
The opening and closing of the valve body is controlled by the detected amount and the valve is in the processing chamber.
A third gas exhausting the impurity gas and the gas generated by the sample.
It is a thermostat provided with a vacuum chamber. In addition, the circulation inertness
It is desirable to provide a fourth heater in the gas supply system.
Further, an end of a pipe for storing the valve element of the third damper
The outer duct and the outer duct
And a fourth damper comprising a valve element to be accommodated.
desirable.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の一実施の形態における恒温
槽の断面図である。この恒温槽1は、図1に示すよう
に、恒温槽1の槽本体内を仕切壁18によって仕切られ
試料31を収納される処理室1aおよび循環室1bと、
循環室1bと処理室1aとの間に設けらる気体フィルタ
3と、気体フィルタ3と処理室1aとの間に設けられる
ヒータ2と、槽内に導入される加熱された不活性ガスま
たは冷却された不活性ガスを気体フィルタ3を介して槽
内を循環させるモータ5駆動のファン4と、導入される
槽内の不活性ガスの圧力を槽外の圧力より稍高く維持す
るように弁体の開閉を制御するダンパa17とを備えて
いる。
FIG. 1 is a sectional view of a thermostat according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the thermostat 1 includes a processing chamber 1 a in which a sample 31 is stored by partitioning the inside of the main body of the thermostat 1 by a partition wall 18 and a circulation chamber 1 b,
A gas filter 3 provided between the circulation chamber 1b and the processing chamber 1a, a heater 2 provided between the gas filter 3 and the processing chamber 1a, and a heated inert gas or cooling introduced into the tank. A fan 4 driven by a motor 5 for circulating the inert gas in the tank through a gas filter 3 and a valve body for maintaining the pressure of the inert gas in the tank to be introduced slightly higher than the pressure outside the tank. And a damper a17 for controlling the opening and closing of.

【0019】また、この恒温槽1には、ヒータ12で加
熱される不活性ガスを開閉バルブ11を介して供給する
とともに流量を調節する流量計10を具備する配管19
aと、外気が槽内に侵入を防止するために槽内圧を稍高
めに維持するために不活性ガスを開閉バルブ9を介して
供給するとともに流量計8を具備する配管19bと、槽
内の温度を下げるために冷却された不活性ガスを開閉バ
ルブ7を介して供給するとともに流量計6を具備する配
管19cとが独立して設けられている。
A piping 19 provided with a flow meter 10 for supplying an inert gas heated by a heater 12 through an opening / closing valve 11 and adjusting a flow rate to the constant temperature bath 1.
a, a pipe 19b which supplies an inert gas through an opening / closing valve 9 to maintain the inside pressure of the tank slightly higher in order to prevent outside air from entering the inside of the tank, and is provided with a flow meter 8; An inert gas cooled to lower the temperature is supplied through the on-off valve 7 and a pipe 19c provided with the flow meter 6 is provided independently.

【0020】さらに、ファン4の背圧と処理室1aの圧
力の差を読み取り気体フィルタ3の目詰り度を監視する
ためのフィルタ用差圧計13と、処理室1a内の酸素濃
度を測定する酸素濃度計14と、供給される不活性ガス
による処理室1aの圧力を一定にするために弁体の開閉
を制御するダンパa17と、ダンパa17の弁体を内蔵
する配管に隙間をもたせて笠状に被せ連結する外部ダク
ト16内に弁体を収納するダンパb15とを備えてい
る。
Further, a filter differential pressure gauge 13 for reading the difference between the back pressure of the fan 4 and the pressure of the processing chamber 1a to monitor the degree of clogging of the gas filter 3, and an oxygen for measuring the oxygen concentration in the processing chamber 1a. A concentration meter 14, a damper a17 for controlling the opening and closing of a valve body to keep the pressure of the processing chamber 1a constant by the supplied inert gas, and a pipe having a built-in valve body of the damper a17 with a gap formed in the pipe. And a damper b15 for accommodating the valve element in an external duct 16 which is connected to the valve.

【0021】不活性ガス、例えば、窒素ガスを槽内に循
環させるファン4は気体フィルタ3と対面し、気体フィ
ルタ3の大きさと略同程度であって、風圧が気体フィル
タ3に均一になるようにされている。このような構成を
とることで、循環される気体フィルタ3に吹き付けられ
る窒素ガスの気体フィルタ3面内の温度分布は、例え
ば、温度300°Cのとき±2.5°Cというように均
一に得られた。このことは局所的に気体フィルタ3が加
熱されることなく一様なフィルタ性能を維持することが
できる。
A fan 4 for circulating an inert gas, for example, nitrogen gas, in the tank faces the gas filter 3 and is substantially the same size as the gas filter 3 so that the air pressure is uniform on the gas filter 3. Has been. With such a configuration, the temperature distribution of the nitrogen gas blown to the circulating gas filter 3 on the surface of the gas filter 3 is uniform, for example, ± 2.5 ° C at a temperature of 300 ° C. Obtained. This makes it possible to maintain uniform filter performance without locally heating the gas filter 3.

【0022】図2は図1の恒温槽の槽内の不純物や酸素
濃度を低下させる動作を説明するための図である。次
に、この恒温槽における槽内の酸素濃度を低下させる動
作を説明する。まず、開閉バルブ9,11を開き流量計
8,10で不活性ガスの流量を、例えば、圧力2kg/
cm2 ,50l/minに設定し槽内に供給する。ま
た、ヒータ2とヒータ12をonすることで不活性ガス
が加熱され気体フィルタ3を介して槽内に循環される。
このとき循環する不活性ガスに含まれる試料31からの
発生ガスの発塵物は気体フィルタ3により除去される。
さらに、内圧を維持する配管19bからの不活性ガスは
ファン4の回転によりファン4の背圧が下らないように
するとともに処理室1a内の圧力を槽外圧より稍高めに
維持するように供給される。一方、ダンパa17は完全
に閉じており、処理室1aに供給される不活性ガスで薄
められ酸素濃度計14の指示値が、例えば、槽内酸素濃
度が0.1パーセントを示すまでダンパaを閉じた状態
を維持する。
FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of reducing the concentration of impurities and oxygen in the bath of the thermostatic bath of FIG. Next, an operation of lowering the oxygen concentration in the constant temperature bath will be described. First, the opening and closing valves 9 and 11 are opened, and the flow rate of the inert gas is measured by the flow meters 8 and 10, for example, at a pressure of 2 kg /
cm 2 , set to 50 l / min and supplied into the tank. When the heater 2 and the heater 12 are turned on, the inert gas is heated and circulated through the gas filter 3 into the tank.
At this time, the dust generated from the sample 31 contained in the circulating inert gas is removed by the gas filter 3.
Further, the inert gas from the pipe 19b for maintaining the internal pressure is supplied so that the back pressure of the fan 4 does not decrease due to the rotation of the fan 4 and the pressure in the processing chamber 1a is maintained slightly higher than the external pressure of the tank. . On the other hand, the damper a17 is completely closed, and the damper a is diluted with the inert gas supplied to the processing chamber 1a until the indicated value of the oximeter 14 indicates, for example, the oxygen concentration in the tank is 0.1%. Keep closed.

【0023】次に、槽内の酸素濃度が規定値以下でかつ
槽内の圧力が規定値(例えば、1.025気圧)に達し
たら、ダンパa17が半開程度開き、不活性ガスを排出
する。このとき槽内の圧力が低下しない程度に配管19
bから圧力維持用不活性ガスが供給される。なお、半開
きしたダンパa17の弁体から空気が入り込まないよう
に、外部ダクト16の隙間から空気を引き込み、この空
気をダンパa17から排出される不活性ガスとともにダ
ンパb15の弁体を介して外部ダクト16外に排出す
る。このように、ヒータ12および2で加熱された不活
性ガスが循環することと槽体内の圧力をダンパa17の
弁体の開閉の制御し槽内温度を設定温度まで上昇させ槽
体内を不活性ガスに完全に置換する。
Next, when the oxygen concentration in the tank is equal to or lower than a specified value and the pressure in the tank reaches a specified value (for example, 1.025 atm), the damper a17 is opened about halfway to discharge the inert gas. At this time, the piping
The pressure maintaining inert gas is supplied from b. In addition, air is drawn in from the gap of the external duct 16 so that air does not enter from the valve element of the damper a17 which has been opened halfway, and this air is passed through the valve element of the damper b15 together with the inert gas discharged from the damper a17. 16. Discharge outside. In this way, the inert gas heated by the heaters 12 and 2 is circulated, the pressure in the tank is controlled by opening and closing the valve of the damper a17, the temperature in the tank is raised to the set temperature, and the inert gas in the tank is increased. Completely replace with

【0024】このように、ファン4の回転数を落さずに
加熱された不活性ガスを循環させることで極めて短時間
で上昇することができた。ちなみに、実験的に行なった
ところ、温度上昇勾配が異なるものの、例えば、80°
Cから150°Cまでを約7分、150°Cから220
°Cまでを16分で上昇させることができた。
As described above, by circulating the heated inert gas without decreasing the rotation speed of the fan 4, the temperature can be increased in a very short time. By the way, when the experiment was performed, although the temperature rise gradient was different, for example, 80 °
C to 150 ° C for about 7 minutes, 150 ° C to 220
° C in 16 minutes.

【0025】図3は図1の恒温槽におけるベーキング動
作を説明するための図である。次に、恒温槽内の温度が
所定の温度に達し、酸素濃度が規定値以下の状態になっ
たときのベーキング動作を説明する。まず、上述したよ
うに、循環させるための加熱された不活性ガスと圧力維
持用の不活性ガスとを、例えば、内槽容量が0.216
立方メートルの槽内にそれぞれ圧力2kg/cm2 ,5
0l/min程度供給する。この状態で試料31はベー
キングされ、試料31から発生すらガスの発塵物は気体
フィルタ3で除去され、発塵物が除去されたガスは不活
性ガスに伴なって半開き状態のダンパa17より排出さ
れる。
FIG. 3 is a diagram for explaining the baking operation in the thermostatic chamber of FIG. Next, the baking operation when the temperature in the thermostat reaches a predetermined temperature and the oxygen concentration becomes a specified value or less will be described. First, as described above, a heated inert gas for circulating and an inert gas for maintaining a pressure are mixed with, for example, an inner tank having a capacity of 0.216.
Pressure of 2kg / cm 2 , 5 in cubic meter tank
Supply about 0 l / min. In this state, the sample 31 is baked, and even the gas dust generated from the sample 31 is removed by the gas filter 3, and the gas from which the dust is removed is discharged from the half-open damper a17 along with the inert gas. Is done.

【0026】また、ダンパa17からの排出されるガス
は外部ダクト16の隙間から入り込む空気と一緒に外部
ダクト16外に排出される。また、試料31からの発生
ガスと供給される不活性ガスが含む酸素が酸素濃度計1
4の読みが規定値以上になったら、ダンパaが閉じて槽
内の酸素濃度が規定値以下になるまで循環する不活性ガ
スで薄める。そして、槽体内圧力が規定値以下になった
らダンパaの弁体が半分開き槽内の酸素を含む発生ガス
を不活性ガスとともに外部ダクト16から排出する。
The gas discharged from the damper a17 is discharged to the outside of the external duct 16 together with the air entering through the gap of the external duct 16. Further, the oxygen contained in the generated gas from the sample 31 and the inert gas supplied is measured by the oxygen concentration meter 1.
When the reading of 4 becomes equal to or more than the specified value, the damper a is closed and diluted with the circulating inert gas until the oxygen concentration in the tank becomes equal to or less than the specified value. When the pressure in the tank becomes lower than the specified value, the valve body of the damper a is opened halfway, and the generated gas containing oxygen in the tank is discharged from the external duct 16 together with the inert gas.

【0027】図4は図1の恒温槽の槽内の温度を下降さ
せる動作を説明するための図である。次に、上述したベ
ーキング動作が完了したら、ヒータ2とヒータ12をo
ffにし、開閉バルブ7を開き流量計6を調節し冷却し
た不活性ガスを前述の流量で槽内に供給する。このとき
槽内循環用および内圧維持用の不活性ガスも前述の流量
で槽内に供給される。また、ダンパa17の弁体は全開
状態にし、槽内の発生している酸素を含むガスを排出す
る。このことにより槽内の温度が自然冷却に比べ遥に早
い時間で常温に戻るとともに発生ガスの凝固物が試料3
1や槽内の内壁に付着することがない。
FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of lowering the temperature in the constant temperature bath of FIG. Next, when the above-described baking operation is completed, the heater 2 and the heater 12 are turned off.
ff, the opening and closing valve 7 is opened, the flow meter 6 is adjusted, and the cooled inert gas is supplied into the tank at the above-mentioned flow rate. At this time, the inert gas for circulation in the tank and for maintaining the internal pressure is also supplied into the tank at the above-mentioned flow rate. Further, the valve body of the damper a17 is fully opened to discharge the gas containing oxygen generated in the tank. As a result, the temperature in the bath returned to room temperature much earlier than that of natural cooling, and the solidified product gas generated
1 and does not adhere to the inner wall of the tank.

【0028】図5は本発明の他の実施の形態における恒
温槽の断面図である。この恒温槽は、図5に示すよう
に、前述の実施の形態における恒温槽と異なる点は、ヒ
ータ2aを循環室に配置させ、仕切壁18と内槽の内壁
とでなる循環室内で回転し供給される不活性ガスを循環
室経路のヒータ2aを介して気体フィルタ3に圧送する
ように比較的小型のファン4aを配置させたことであ
る。前述の実施の形態における恒温槽と同じように、そ
の他の槽内循環用不活性ガス供給系統と内圧維持用不活
性ガス供給系統と冷却用不活性ガス供給系統を有してい
る。
FIG. 5 is a sectional view of a thermostat according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, this thermostat is different from the thermostat in the above-described embodiment in that the heater 2a is disposed in the circulation chamber, and the thermostat rotates in the circulation chamber formed by the partition wall 18 and the inner wall of the inner tank. A relatively small fan 4a is arranged so that the supplied inert gas is pressure-fed to the gas filter 3 via the heater 2a in the circulation chamber. Similar to the thermostat in the above-described embodiment, the thermostat includes other inert gas supply systems for circulation in the tank, an inert gas supply system for maintaining the internal pressure, and an inert gas supply system for cooling.

【0029】このように不活性ガスをヒータ2aを経由
して気体フィルタ3に間接的に送圧することにより前述
の気体フィルタに比べ劣化速度を遅くし、気体フィルタ
3の交換頻度が年1回であったものが0.7回となり寿
命を長くすることができた。
As described above, by indirectly sending the pressure of the inert gas to the gas filter 3 via the heater 2a, the deterioration rate is reduced as compared with the above-described gas filter, and the gas filter 3 needs to be replaced once a year. The number was 0.7 times, and the life was prolonged.

【0030】図6は図5の恒温槽の槽内の酸素濃度を低
下させる動作を説明するための図である。この恒温槽に
おける槽内の酸素濃度を低下させる動作は図2で説明し
たと同じように、槽内の酸素濃度を低下させながら槽内
の温度を設定温度まで上昇させることである。このとき
の不活性ガスの流れおよび試料31からの発生ガスの流
れならびに外部ダクト16における空気の流れは、図6
に示すように、図2と同じように挙動する。
FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of lowering the oxygen concentration in the constant temperature bath of FIG. The operation of lowering the oxygen concentration in the bath in this constant temperature bath is to raise the temperature in the bath to a set temperature while lowering the oxygen concentration in the bath, as described with reference to FIG. At this time, the flow of the inert gas, the flow of the gas generated from the sample 31, and the flow of the air in the external duct 16 are shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the behavior is the same as in FIG.

【0031】図7は図5の恒温槽におけるベーキング動
作を説明するための図である。恒温槽内の温度が所定の
温度に達し、酸素濃度が規定値以下の状態になったとき
の試料のベーキング動作は、図3で説明したように、同
じ動作を行なう。例えば、内槽容量が0.3立方メート
ルであれば、槽内循環用不活性ガスおよび内圧確保用不
活性ガスのそれぞれの供給量を常時、例えば、2kg/
cm2 、120l/minとし、ダンパa17を半開き
状態にし循環し試料31をベーキングすることである。
このときの不活性ガスの流れおよび試料31からの発生
ガスの流れならびに外部ダクト16における空気の流れ
は、図7に示すように、図3と同じように挙動する。な
お、例えば、ヒータ2aの容量がMAX5.8KW以上
であれば、不活性ガスを加熱するヒータ12をoffし
ても設定温度に維持できる。
FIG. 7 is a diagram for explaining the baking operation in the constant temperature bath of FIG. The baking operation of the sample when the temperature in the thermostat reaches the predetermined temperature and the oxygen concentration becomes equal to or lower than the specified value is the same as described with reference to FIG. For example, if the inner tank capacity is 0.3 cubic meters, the supply amounts of the inert gas for circulating in the tank and the inert gas for securing the internal pressure are always 2 kg /
cm 2 , 120 l / min, the damper a 17 was opened halfway, circulated, and the sample 31 was baked.
At this time, the flow of the inert gas, the flow of the gas generated from the sample 31, and the flow of the air in the external duct 16 behave in the same manner as in FIG. 3, as shown in FIG. Note that, for example, if the capacity of the heater 2a is MAX 5.8 KW or more, the set temperature can be maintained even if the heater 12 for heating the inert gas is turned off.

【0032】図8は図5の恒温槽の槽内の温度を下降さ
せる動作を説明するための図である。次に、上述したベ
ーキング動作が完了したら、図4で説明したように、ヒ
ータ12をoffにし、開閉バルブ7を開き流量計6を
調節し冷却した不活性ガスを前述の流量で槽内に供給す
る。このとき槽内循環用および内圧維持用の不活性ガス
も前述の流量で槽内に供給される。また、ダンパa17
は全開状態にし、槽内の発生している酸素を含むガスを
排出するとともに槽内を冷却する。このときの不活性ガ
スの流れおよび試料31からの発生ガスの流れならびに
外部ダクト16における空気の流れは、図8に示すよう
に、挙動する。
FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of lowering the temperature in the constant temperature bath of FIG. Next, when the above-described baking operation is completed, as described with reference to FIG. 4, the heater 12 is turned off, the open / close valve 7 is opened, the flow meter 6 is adjusted, and the cooled inert gas is supplied into the tank at the above-described flow rate. I do. At this time, the inert gas for circulation in the tank and for maintaining the internal pressure is also supplied into the tank at the above-mentioned flow rate. Also, the damper a17
Is fully opened to exhaust gas containing oxygen generated in the tank and cool the inside of the tank. At this time, the flow of the inert gas, the flow of the generated gas from the sample 31, and the flow of the air in the external duct 16 behave as shown in FIG.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、槽内の圧
力を槽外の圧力より高く維持するように内圧維持用の不
活性ガス供給系統と、槽内の処理室における酸素濃度を
測定する酸素濃度計を設け、不活性ガスを気体フィルタ
を介して循環させることによって、槽外から空気を巻き
込んだりリークすることも無く槽内の不純物や酸素など
を完全に除去し清浄な状態が得られるので、酸化し易い
試料でも酸化することなくベーキングができ、品質の歩
留りが向上するという効果がある。
As described above, the present invention measures the oxygen concentration in the inert gas supply system for maintaining the internal pressure and the processing chamber in the tank so that the pressure inside the tank is maintained higher than the pressure outside the tank. By installing an oxygen concentration meter and circulating an inert gas through a gas filter, impurities and oxygen in the tank can be completely removed without air entrainment or leakage from outside the tank to obtain a clean state. Therefore, even a sample that is easily oxidized can be baked without being oxidized, and the yield of quality is improved.

【0034】また、循環用不活性ガスの供給経路途中に
ヒータを設け、不活性ガスを加熱しながら供給するこ
と、および槽内を冷却するときは、冷却された不活性ガ
スを供給し、槽内の加熱時間および冷却時間を短縮する
ことによってベークサイクル時間を短くし生産性が向上
するという効果がある。
A heater is provided in the supply path of the circulating inert gas to supply the inert gas while heating it. When the inside of the tank is cooled, the cooled inert gas is supplied. By shortening the heating time and the cooling time, the bake cycle time is shortened and the productivity is improved.

【0035】さらに、槽内酸素濃度を測定する酸素濃度
計と、槽内の圧力を自動的に維持し酸素や不純物を含む
不活性ガスを排出するダンパとを設け、ファンの回転数
を落すことなく槽内を攪拌し槽内に試料から発生するガ
スが含む凝固粒子を完全に気体フィルタにより除去する
ことによって、発生ガスの凝固粒子の試料への再付着や
槽内の内壁への付着が無くなり、歩留りの向上や恒温槽
のメンテナンスに要する時間が少なくて済むという効果
がある。
Further, an oxygen concentration meter for measuring the oxygen concentration in the tank and a damper for automatically maintaining the pressure in the tank and discharging an inert gas containing oxygen and impurities are provided to reduce the rotation speed of the fan. By agitating the inside of the tank and completely removing the coagulated particles contained in the gas generated from the sample in the tank by the gas filter, the generated gas does not re-adhere to the sample or adhere to the inner wall of the tank. This has the effect of reducing the time required for improving the yield and maintaining the thermostat.

【0036】一方、気体フィルタの前段と後段との圧力
差を読み取り気体フィルタの目詰り度を監視するフィル
タ用差圧計を設けることによって、気体フィルタの交換
時期を把握でき常に正常な運転を維持し稼働率を高める
という効果がある。
On the other hand, by providing a filter pressure gauge for monitoring the degree of clogging of the gas filter by reading the pressure difference between the upstream and downstream stages of the gas filter, it is possible to ascertain the replacement time of the gas filter and to maintain normal operation at all times. This has the effect of increasing the operation rate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態における恒温槽の断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a thermostat in one embodiment of the present invention.

【図2】図1の恒温槽の槽内の不純物や酸素濃度を低下
させる動作を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining an operation of reducing the concentration of impurities and oxygen in the bath of the thermostatic bath in FIG.

【図3】図1の恒温槽におけるベーキング動作を説明す
るための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a baking operation in the constant temperature bath of FIG. 1;

【図4】図1の恒温槽の槽内の温度を下降させる動作を
説明するための図である。
FIG. 4 is a view for explaining an operation of lowering the temperature in the bath of the thermostatic bath in FIG. 1;

【図5】本発明の他の実施の形態における恒温槽の断面
図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a thermostat in another embodiment of the present invention.

【図6】図5の恒温槽の槽内の酸素濃度を低下させる動
作を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining an operation of reducing the oxygen concentration in the constant temperature bath of FIG. 5;

【図7】図5の恒温槽におけるベーキング動作を説明す
るための図である。
FIG. 7 is a view for explaining a baking operation in the constant temperature bath of FIG. 5;

【図8】図5の恒温槽の槽内の温度を下降させる動作を
説明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining an operation of lowering the temperature in the constant temperature bath of FIG.

【図9】従来の一例を示す恒温槽の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a thermostat showing an example of the related art.

【図10】図9の恒温槽のスタート時の動作を説明する
ための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining an operation at the time of starting the thermostatic bath in FIG. 9;

【図11】図9の恒温槽の気体の清浄後における動作を
説明するための図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining the operation of the thermostat in FIG. 9 after cleaning of gas.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,23 恒温槽 1a 処理室 1b,C 循環室 2,2a,12,24 ヒータ 3,25 気体フィルタ 4,4a,26 ファン 5,27 モータ 6,8,10 流量計 7,9,11 開閉バルブ 13 フィルタ用差圧計 14 酸素濃度計 15 ダンパb 16 外部ダクト 17 ダンパa 18,28 仕切壁 19a,19b,19c 配管 20 第二ファン 21 排気口 29 吸気口 30 ダンパ 31 試料 1,23 thermostat 1a processing chamber 1b, C circulation chamber 2,2a, 12,24 heater 3,25 gas filter 4,4a, 26 fan 5,27 motor 6,8,10 flow meter 7,9,11 opening / closing valve 13 Differential pressure gauge for filter 14 Oxygen concentration meter 15 Damper b 16 External duct 17 Damper a 18, 28 Partition wall 19a, 19b, 19c Pipe 20 Second fan 21 Exhaust port 29 Inlet port 30 Damper 31 Sample

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−4456(JP,A) 特開 平1−247072(JP,A) 特開 平2−271287(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) F26B 9/06 F26B 25/06────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-2-4456 (JP, A) JP-A-1-247072 (JP, A) JP-A-2-271287 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) F26B 9/06 F26B 25/06

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 仕切壁により試料が収納される処理室と
循環室とに仕切られる槽本体と、前記循環室と前記処理
室との間に配置される気体フィルタと、前記循環室から
前記気体フィルタを経て前記処理室内にファンにより循
環用不活性ガスを供給する槽内循環用不活性ガス供給系
統と、前記処理室内に配置されるとともに前記ファンに
より前記気体フィルタを介して送られる前記循環用不活
性ガスを加熱する第1のヒータと、前記槽本体内の圧力
を外気の圧力より高めに維持するために不活性ガスを供
給する内圧維持用不活性ガス供給系統と、前記槽本体内
を冷却するために冷却不活性ガスを供給する冷却用不活
性ガス供給系統と、前記処理室内の酸素濃度を測定する
酸素濃度計と、前記気体フィルタの前段と後段の圧力差
を読み取り前記気体フィルタの目詰りを監視する差圧計
、供給される前記循環用不活性ガスおよび前記内圧維
持用不活性ガスによる前記槽本体の圧力を一定に維持し
かつ前記処理室内の酸素濃度の検知量により弁体の開閉
が制御され前記処理室内にある不純ガスや前記試料の発
生するガスを排出する第1のダンパとを備えることを特
徴とする恒温槽。
1. A and tank body in which the sample is partitioned into the circulation chamber and the processing chamber to be accommodated by the partition walls, and gas filter disposed between the processing chamber and the circulation chamber, the gas from the circulation chamber and the inert gas supply system for tank to circulate and supply the circulating inert gas by the fan into the processing chamber through the filter, the fan while being disposed in the processing chamber
A first heater for heating the circulation inert gas sent through the gas filter, and an internal pressure supply for supplying an inert gas to maintain the pressure in the tank body higher than the pressure of the outside air. An inert gas supply system, a cooling inert gas supply system for supplying a cooling inert gas for cooling the inside of the tank body, and measuring an oxygen concentration in the processing chamber.
Oxygen meter and the pressure difference between the first and second stages of the gas filter
Pressure gauge that reads the gas and monitors the clogging of the gas filter
When, maintaining the pressure of the tank body by the circulation the inert gas and the internal pressure inert gas maintained supplied to the constant
Opening and closing of the valve according to the detected amount of oxygen concentration in the processing chamber
And a first damper configured to discharge the impurity gas in the processing chamber and the gas generated by the sample.
【請求項2】 前記循環用不活性ガス供給系統に第2の
ヒータを備えることを特徴とする請求項1記載の恒温
槽。
2. A second inert gas supply system for circulation,
The constant temperature bath according to claim 1, further comprising a heater .
【請求項3】 前記第1のダンパの弁体を収納する配管
の端部を笠状に被せて連結する外部ダクトと該外部ダク
トに収納される弁体とを具備する第2のダンパを備える
ことを特徴とする請求項1または請求項2記載の恒温
槽。
3. A pipe for accommodating a valve body of the first damper.
And an external duct for connecting the ends of the
The constant temperature bath according to claim 1 or 2, further comprising a second damper including a valve element housed in the chamber.
【請求項4】 仕切壁により試料が収納される処理室と
循環室とに仕切られる槽本体と、前記循環室と前記処理
室との間に配置される気体フィルタと、前記循環室内に
設けられるファンと、前記循環室から前記気体フィルタ
を経て前記処理室内に前記ファンにより循環用不活性ガ
スを供給する槽内循環用不活性ガス供給系統と、前記循
環室内に散在して配置されるとともに前記ファンにより
前記気体フィルタを介して送られる前記循環用不活性ガ
スを加熱する複数の第3のヒータと、前記槽本体内の圧
力を外気の圧力より高めに維持するために不活性ガスを
供給する内圧維持用不活性ガス供給系統と、前記槽本体
内を冷却するために冷却不活性ガスを供給する冷却用不
活性ガス供給系統と、前記処理室内の酸素濃度を 測定す
る酸素濃度計と、前記気体フィルタの前段と後段の圧力
差を読み取り前記気体フィルタの目詰りを監視する差圧
計と、供給される前記循環用不活性ガスおよび前記内圧
維持用不活性ガスによる前記槽本体の圧力を一定に維持
しかつ前記処理室内の酸素濃度の検知量により弁体の開
閉が制御され前記処理室内にある不純ガスや前記試料の
発生するガスを排出する第3のダンパとを備えることを
特徴とする恒温槽。
4. A processing chamber in which a sample is stored by a partition wall.
A tank body partitioned into a circulation chamber, the circulation chamber and the treatment
A gas filter arranged between the circulation chamber and the circulation chamber;
A fan provided, and the gas filter from the circulation chamber.
Through the fan into the processing chamber through the inert gas for circulation.
An inert gas supply system for circulation in a tank for supplying heat,
It is scatteredly arranged in the annulus and by the fan
The inert gas for circulation sent through the gas filter;
A plurality of third heaters for heating the bath, and a pressure inside the tank body.
Inert gas to maintain power above ambient pressure
An inert gas supply system for maintaining the internal pressure to be supplied, and the tank body
Cooling inert gas that supplies a cooling inert gas to cool the inside
The active gas supply system and the oxygen concentration in the processing chamber are measured.
Oxygen meter, and pressures before and after the gas filter
Differential pressure to read the difference and monitor the clogging of the gas filter
And the supplied inert gas for circulation and the internal pressure
Maintains a constant pressure in the tank body with a maintenance inert gas
And opening of the valve body based on the detected amount of oxygen concentration in the processing chamber.
Closure is controlled and impurity gas and the sample in the processing chamber are closed.
Constant temperature bath you anda third dampers for discharging the generated gas.
【請求項5】 前記循環用不活性ガス供給系統に第4の
ヒータを備えることを特徴とする請求項4記載の恒温
槽。
5. A fourth inert gas supply system for circulation is provided with a fourth inert gas.
The constant temperature bath according to claim 4, further comprising a heater .
【請求項6】 前記第3のダンパの弁体を収納する配管
の端部を笠状に被せて連結する外部ダクトと該外部ダク
トに収納される弁体とを具備する第4のダンパを備える
ことを特徴とする請求項4または請求項5記載の恒温
槽。
6. A pipe for storing a valve element of the third damper.
And an external duct for connecting the ends of the
The constant temperature bath according to claim 4 or 5 , further comprising a fourth damper including a valve element housed in the container .
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